TWI727562B - 裝載埠 - Google Patents

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TWI727562B
TWI727562B TW108147441A TW108147441A TWI727562B TW I727562 B TWI727562 B TW I727562B TW 108147441 A TW108147441 A TW 108147441A TW 108147441 A TW108147441 A TW 108147441A TW I727562 B TWI727562 B TW I727562B
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鈴木淳志
谷山育志
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日商昕芙旎雅股份有限公司
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Abstract

提供使FOUP連接於框體之時，可以使周邊空間保持潔淨的裝載埠。
其具備：基座(41)，其係構成使搬運空間(9)與外部空間隔離之壁部之一部分；開口部(92)，其係被設置在基座(41)；和門部(81)，其係能夠進行開口部(92)之開關，和進行蓋體固定於用以收容收容物之容器及解除固定而從容器拆下及安裝蓋體；和第1密封構件(94)，其係密封基座和容器之間，門部(81)之容器側之端面(81c)之至少一部分較第1密封構件(94)之容器側之端部更位於搬運空間(9)側。

Description

裝載埠
本發明係關於不會使搬運中之晶圓曝露於外氣而可以使晶圓搬運室內之氣體循環的裝載埠。
以往，藉由對作為基板之晶圓施予各種處理工程，來進行半導體之製造。近年來，隨著越來越朝向元件之高積體化或電路之微細化，晶圓周邊要求高的潔淨度以使晶圓表面不會產生微粒或水分之附著。而且，為了使晶圓表面氧化等之表面性質狀態不會產生變化，也進行使晶圓周邊成為惰性氣體的氮氣氛圍，或使成為真空狀態。
為了適切地維持如此之晶圓周邊的氛圍，晶圓被放入稱為FOUP(Front-Opening Unified Pod)之密閉式之儲存傳送盒之內部進行管理，在該內部填充氮氣。而且，為了在對晶圓進行處理之處理裝置，和FOUP之間進行晶圓之接收，利用EFEM(Equipment Front End Module)。EFEM構成在框體之內部略封閉的晶圓搬運室，並且在其相向壁面之一方具備有當作與FOUP之間的介面部發揮功能的裝載埠(Load Port)，並且在另一方連接 屬於處理裝置之一部分的裝載鎖定室。在晶圓搬運室內，設置有用以搬運晶圓之晶圓搬運裝置，使用該晶圓搬運裝置，在與裝載埠連接之FOUP和裝載鎖定室之間進行晶圓之取放。
作為裝載埠，例如專利文獻1所示般，採用在封閉門部之狀態下門部較框體突出至FOUP側突出的構成。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2014-112631號公報
但是，在專利文獻1所記載之裝載埠中，為了連接當使FOUP接近框體時，FOUP和從框體突出之門部接觸。有由於該接觸使得碎片飛散，且EFEM之周邊空間被污染之問題。
因此，該發明係為了解決上述般之課題而創作岀，其目的在於提供於使FOUP連接於框體之時，可以將周邊空間保持潔淨的裝載埠。
與第1發明有關之裝載埠具備：
基座，其係構成使搬運空間與外部空間隔離之壁部的一部分；
開口部，其係被設置在上述基座；
門部，其係能夠進行上述開口部之開關，和進行蓋體對用以收容收容物之容器的固定及固定之解除固定而從上述容器拆下及安裝上述蓋體；及
第1密封構件，其係密封上述基座和上述容器之間，
上述門部之上述容器側之端面之至少一部分較上述第1密封構件之上述容器側之端部更位於上述搬運空間側。
在該裝載埠中，即使容器之蓋體膨脹至基座側，因將容器安裝於開口部時，門部之容器側之端面較第1密封構件之容器側之端部更位於搬運空間側，故蓋體與門部不會接觸。依此，防止蓋體接觸於門部而使碎片飛散之情形，且可以將裝載埠之周邊空間保持潔淨。再者，可以降低先前附著於門部之塵埃由於接觸之衝擊而被揚起，或由於接觸之衝擊導致容器搖晃，而使得容器底部之塵埃飛散或收容物之位置偏移的情形。
與第2發明有關之裝載埠具備：
挾具單元，其係在上述容器被安裝於上述開口部之狀態下，將上述容器推壓至上述基座側，
上述門部之上述容器側之端面之至少一部分，較藉由被上述挾具單元挾持之上述容器被推壓至上述基座側之上述第1密封構件之上述容器側之端部，更位於上述搬運空 間側。
在該裝載埠中，門部之容器側之端面之至少一部分較被挾持，且被推壓至基座側之第1密封構件之容器側之端部更位於搬運空間側。因此，在將容器安裝於開口部之狀態下，可以確實地防止蓋體和門部接觸。
與第3發明有關之裝載埠具有與上述容器相向，且上述門部之端面之一部分朝上述搬運空間側凹陷的凹部。
在該裝載埠中，即使容器之蓋體膨脹至基座側，亦可以確實地防止蓋體與門部之接觸。
與第4發明有關之裝載埠中，上述凹部之形狀與提高上述容器內之壓力而導致膨脹之上述蓋體之膨脹面對應。
在該裝載埠中，藉由凹部之形狀與由於提高容器內之壓力而導致膨脹之蓋體的膨脹面對應，即使蓋體以各種形狀膨脹，亦可以確實地防止蓋體和門部接觸。
與第5發明有關之裝載埠
具備密封上述基座和上述門部之間的第2密封構件，
上述門部之上述容器側之端面的全部較上述第1密封構件之上述容器側之端部更位於上述搬運空間側。
在該裝載埠中，門部之容器側之端面的全部較第1密封構件之容器側之端部更位於搬運空間側。因此，可以更防止蓋體和門部之接觸，而維持藉由第2密封構件進行的基座和門部之間的密封。
與第6發明有關之裝載埠具備：
第2密封構件，其係密封上述基座和上述門部之間；
密閉空間，其係在經由上述第1密封構件使上述容器與上述開口部抵接之狀態時，藉由上述基座、上述第1密封構件、上述第2密封構件、上述蓋體及上述門部構成；
第1氣體注入部，其係對上述密閉空間注入氣體；及
第1氣體排岀部，其係對上述密閉空間進行排氣。
在該裝載埠中，具備在經由第1密封構件使容器與開口部抵接之狀態時，即是容器被安裝於開口部之時，將氣體注入容器和門部之間的密閉空間之第1氣體注入部，和排岀密閉空間之氣體的第1氣體排岀部。依此，在容器被安裝於開口部之狀態下，可以除去容器和門部之間的大氣而填充(沖洗)氮氣。因此，可以防止存在於容器和門部之間使晶圓氧化等，包含可能使晶圓之性質特性產生變化之氧、水分、微粒之大氣，於開啟門部時流入搬運空間及容器之內部的情形。換言之，於開啟容器之蓋體而使密閉空間開啟之前，可以排除密閉空間之氧、水分、微粒。依此，於蓋體開啟時，氧等不會漏岀至容器內或搬運空間，可以將容器內及搬運空間維持在所期待之環境條件。
在第1發明中，即使容器之蓋體膨脹至基座側，因將容器安裝於開口部時，門部之容器側之端面亦較 第1密封構件之容器側之端部更位於搬運空間側，故蓋體與門部不會接觸。依此，防止蓋體接觸於門部而使得碎片飛散之情形，且可以將裝載埠之周邊空間保持潔淨。再者，可以降低先前附著於門部之塵埃由於接觸之衝擊而被揚起，或由於接觸之衝擊導致容器搖晃，而使得容器底部之塵埃飛散或收容物之位置偏移的情形。
在第2發明中，門部之容器側之端面之至少一部分較被挾持，且被推壓至基座側之第1密封構件之容器側之端部更位於搬運空間側。因此，在將容器安裝於開口部之狀態下，可以確實地防止蓋體和門部接觸。
在第3發明中，即使容器之蓋體膨脹至基座側，亦可以確實地防止蓋體與門部之接觸。
在第4發明中，藉由凹部之形狀與由於提高容器內之壓力而導致膨脹之蓋體之膨脹面對應，即使蓋體以各種形狀膨脹，亦可以確實地防止蓋體和門部接觸。
在第5發明中，門部之容器側之端面的全部較第1密封構件之容器側之端部更位於搬運空間側。因此，可以更防止蓋體和門部之接觸，而維持藉由第2密封構件進行的基座和門部之間的密封。
在第6發明中，具有在經由第1密封構件使容器與開口部抵接之狀態時，即是容器被安裝於開口部之時，將氣體注入容器和門部之間的密閉空間之第1氣體注入部，和排岀密閉空間之氣體的第1氣體排岀部。依此，在容器被安裝於開口部之狀態下，可以除去容器和門部之 間的大氣而填充(沖洗)氮氣。因此，可以防止存在於容器和門部之間使晶圓氧化等，包含可能使晶圓之性質特性產生變化之氧、水分、微粒之大氣，於開啟門部時流入搬運空間及容器之內部的情形。換言之，於開啟容器之蓋體而使密閉空間開啟之前，可以排除密閉空間之氧、水分、微粒。依此，於蓋體開啟時，氧等不會漏出至容器內或搬運空間，可以將容器內及搬運空間維持在所期待之環境條件。
3‧‧‧框體
7‧‧‧FOUP(容器)
9‧‧‧搬運空間
41‧‧‧基座
50‧‧‧挾具單元(挾具)
72‧‧‧蓋體
81‧‧‧門部(門)
87‧‧‧第1氣體注入噴嘴(第1氣體注入部)
88‧‧‧第1氣體排岀噴嘴(第1氣體排岀部)
92‧‧‧開口部
94‧‧‧O型環(第1密封構件)
96‧‧‧O型環(第2密封構件)
Sd‧‧‧密閉空間
圖1為示意性表示與本發明之實施型態有關之EFEM和處理裝置之關係的俯視圖。
圖2為表示拆下EFEM之側面壁之狀態的側面圖。
圖3為使EFEM之一部分破裂而表示的斜視圖。
圖4為表示EFEM之循環路中之氣流的示意圖。
圖5為圖1所示之裝載埠之斜視圖。
圖6為圖1所示之裝載埠之前視圖。
圖7為圖1所示之裝載埠之後視圖。
圖8為圖1所示之裝載埠之側剖面圖。
圖9為表示門部和第1密封構件之關係的部分放大剖面圖。
圖10為表示從圖8之狀態使FOUP移動至框體側之狀態的側剖面圖。
圖11為表示藉由密封構件被密閉之密閉空間的部份放大剖面圖。
圖12為表示從圖10之狀態使門部與FOUP之蓋部同時從開口部間隔開之狀態的側剖面圖。
圖13為表示從圖12之狀態使門部與FOUP之蓋部同時移動至下方之狀態的側剖面圖。
圖14為放大表示構成EFEM之視窗單元和門部的重要部位放大斜視圖。
圖15為放大表示圖14之A-A剖面的重要部位放大剖面圖。
圖16表示設置在視窗單元之挾具的重要部位放大前視圖。
圖17為表示控制部和各壓力計及各閥之連接狀態的方塊圖。
圖18為表示將FOUP連接於EFEM而使連通的程序之流程圖。
圖19(a)係表示挾具單元之變形例的剖面圖，(b)為表示(a)之挾持狀態的前視圖。
圖20(a)係表示解除圖19之挾具之狀態的剖面圖，(b)為表示(a)之支撐片的放大剖面圖。
圖21(a)為表示解除挾具之狀態的放大俯視圖，(b)為表示動作途中之挾具的放大俯視圖，(c)為使成為挾持之狀態的放大俯視圖。
圖22(a)為表示在搬運空間側具有凹陷的凹陷部之變 形例之門部的剖面圖，(b)為表示在搬運空間側具有弓狀地凹陷之彎曲面的變形例之門部的剖面圖。
圖23(a)為表示在搬運空間側具有凹陷的凹陷部之變形例之門部的剖面圖，(b)為表示在搬運空間側具有弓狀地凹陷之彎曲面的又一變形例之門部的剖面圖。
圖24為表示於壓力P1高於P2之時變形例中之氣體的流路之圖示。
圖25為表示於壓力P1低於P2之時變形例中之氣體的流路之圖示。
圖26為表示控制部和各壓力計及各閥之變形例之連接狀態的方塊圖。
以下，根據附件圖面說明本發明之實施型態。
圖1係使與本發明之實施型態有關之EFEM1，和藉由去除與此連接之處理裝置6之天板等，可觀看到內部，示意性地表示該些EFEM1和處理裝置6之關係的俯視圖。再者，圖2係藉由去除EFEM1之側面之壁部而可觀看到內部之側面圖。如該些圖1及2所示般，EFEM1係由在特定之收授位置間進行晶圓W之搬運的晶圓搬運裝置2，和被設置成包圍該晶圓搬運裝置2之箱型之框體3，和被連接於框體3之前側面之壁部(前面壁31)之外側的複數(在圖中為3個)之裝載埠4，和控制手段5 所構成。
在此，在本發明中，將由框體3觀看連接裝載埠4之側的方向定義為前方，將與前面壁31相向之背面壁32側之方向定義為後方，而且將與前後方向及垂直方向正交之方向定義成側方。即是，3個裝載埠4被配置成在側方排列。
再者，EFEM1係如圖1所示般，成為與背面壁32之外側鄰接而可以連接構成處理裝置6之一部分的裝載鎖定室61。藉由開啟被設置在EFEM1和裝載鎖定室61之間的門扉1a，能夠使成為EFEM1內和裝載鎖定室61連通之狀態。雖然處理裝置6可以使用各式各樣者，但是一般與裝載鎖定室61鄰接而設置有搬運室62，而且成為與搬運室62鄰接，而設置有對晶圓W進行處理之複數(在圖中為3個)之處理單元63~63的構成。在搬運室62、裝載鎖定室61或處理單元63~63之間，分別設置有門扉62a、63a~63a。藉由開啟此，可以使各個之間連通。再者，使用被設置在搬運室62內之搬運機械人64能夠在裝載鎖定室61及處理單元63~63之間使晶圓W移動。
晶圓搬運裝置2係如圖2所示般，由載置晶圓W而搬運之拾取器的機械臂部2a，和具有用以由下方支撐該機械臂2a，且使機械臂部動作之驅動機構及升降機構之基座部2b構成。基座部2b係經由支撐部21及導軌22被支撐於框體3之前面壁31。而且，晶圓搬運裝置 2係可以沿著框體3內之寬度方向的導軌22而移動。成為能夠藉由控制手段5控制晶圓搬運裝置2之動作，將被收容在載置於在側方排列之各裝載埠4之FOUP(容器)7之晶圓(收容物)W搬運至裝載鎖定室61，及將在各處理單元63~63進行處理之後之晶圓W再次搬運至FOUP7內。
框體3包含包圍晶圓搬運裝置2之四方的前面壁31、背面壁32、側面壁33、34，和天井壁35、底壁36還有支撐上述框體壁31~35之支柱37a~37d而構成。在被設置於前面壁31之開口部92安裝有裝載埠4。在被設置於前面壁32之矩形狀之開口32a連接裝載鎖定室61。框體3具有搬運空間9和後述之氣體回饋路10，形成包含該些之略密閉空間CS(參照圖4)。並且，雖然上述各構件被精密地安裝成在構件間不會產生流岀內部氣體的間隙，但是即使構成在構件間設置密封構件，而且提高框體3內之氣密性亦可。再者，被設置在背面壁32之開口32a具有驅動機構1b，成為能夠藉由在上下驅動一般被稱為閘閥之門扉1a(參照圖3)而封閉。並且，雖然省略圖示及說明，但是也在側面壁33、34設置開口，一方成為連接有用於晶圓W之位置調整的校準器，另一方成為通常時被封閉之維修用的開口。
裝載埠4具備門部81，該門部81與被設置在FOUP7之蓋體72連結一起移動，FOUP7對略封閉空間CS開啟。在FOUP7內於上下方向設置多數載置部，依此可以收容多數之晶圓W。再者，在FOUP7內通常填充 氮，並且藉由控制手段5之控制經由裝載埠4也能夠將FOUP7內之氛圍置換成氮氣。
控制手段5係當作被設置在較框體3之天井壁35上方之位於天板38之間的上部空間US的控制器單元而被構成。再者，控制手段5進行晶圓搬運裝置2之驅動控制、藉由裝載埠4進行的FOUP7之氮氣置換控制、門扉1a、門部81之開關控制及在框體3內中之氮氣循環控制等。控制手段5係藉由具備CPU、記憶體及介面之通常的微處理器等構成，在記憶體儲存有事先處理所需之程式，CPU逐次取出所需之程式而實行，且與周邊硬體資源協同作用而實現所期待的功能。並且，針對氮氣循環控制於後敘述。
略封閉空間CS係如圖4所示般藉由區隔構件8被區隔成晶圓搬運裝置2驅動之空間的搬運空間9，和氣體歸還路10。搬運空間9和氣體歸還路10僅在搬運空間9之上部延伸於寬度方向而被設置的氣體送出口11和在搬運空間9之下部延伸於寬度方向而被設置的氣體吸引口12連通。而且，藉由氣體送出口11和氣體吸引口12係在搬運空間9內使產生下降氣流，且藉由在氣體歸還路10內使上升氣體產生，在略封閉空間CS內形成在圖4中以箭號所示之循環路Ci，且成為氣體循環。並且，在本實施型態中，雖然使惰性氣體之氮氣在該略封閉空間CS循環，但是循環之氣體並不限定此，亦可以使用其他之氣體。
接著，詳細說明氣體歸還路10之構成。如圖4所示般，氣體歸還路10係藉由底壁36、背面壁32、天井壁35及區隔構件8被封閉之空間。再者，氣體歸還路10被設置成用以使在搬運空間9之下部中從氣體吸引口12吸引之氣體歸還至搬運空間9上部之氣體送出口11。
在歸還路10之背面側上部，連接有將氮氣導入至略封閉空間CS內之氣體供給手段(第3氣體注入部)16。氣體供給手段16能夠根據來自控制手段5之命令，控制氮氣之供給和供給之停止。因此，於氮氣之一部分流岀至略封閉空間CS之外部時，藉由供給氣體供給手段16流岀量的氮氣，可以將略封閉空間CS中之氮氣氛圍保持一定。再者，在背面側下部連接有排岀略封閉空間CS中之氣體的氣體排岀手段(第3氣體排岀部)17。氣體排岀手段17係根據來自控制手段5之命令而動作，且藉由開啟無圖示之快門，能夠使被設置在略封閉空間CS之內部和外部之氣體排岀目的地連通。而且，依據與藉由上述氣體供給手段16進行的氮氣供給併用，能夠將略封閉空間CS置換成氮氣氛圍。並且，在本案實施型態中，因將使循環路Ci循環之氣體設為氮氣，故氣體供給手段16供給氮氣，但是於使其他氣體循環之時，氣體供給手段16供給其循環之氣體。
再者，在氣體送出口11設置有由作為第1送風手段之風扇13a和過濾器13b構成之風扇過濾器單元13(FFU13)。風扇過濾器單元13係除去在略封閉空間CS 內循環之氣體內所含之微粒，並且藉由朝搬運空間9內往下方送風，使搬運空間9內產生下降氣流。並且，FFU13藉由與區隔構件8連結，且在水平方向延伸之支撐構件18被支撐。
另外，在氣體吸引口12連接有化學過濾器14，搬運空間9內之氣體經由化學過濾器14而流入氣體歸還路10。如上述般，使晶圓搬運裝置2(參照圖2)經由支撐部21及導軌22而支撐於框體3之前面壁31。因此，氣體吸引口12不會干涉晶圓搬運裝置2，能成為朝上方大開口。再者，如上述般，因氣體吸引口12被設置成在寬度方向延伸，故同樣藉由在寬度方向延伸設置之導軌22於晶圓搬運裝置2之驅動時，即使產生微粒，亦能夠有效果地吸引該微粒。而且，藉由在氣體吸引口12設置化學過濾器14，能夠去除在處理裝置6(參照圖1)中之處理等產生，且流入搬運空間9內之分子狀污染物質。而且，在較氣體歸還路10內之化學過濾器14更背面側，橫跨寬度方向設置有作為第2送風手段的風扇15(參照圖4)。藉由該風扇15朝向氣體歸還路10之下游側，即是圖4之上方進行送風，在氣體吸引口12中產生氣體之吸引力，並且將通過化學過濾器14之氣體送岀至上方，且在氣體歸還路10內產生上升氣流。
而且，藉由上述FFU13之風扇13a及風扇15，略封閉空間CS內之氣體在搬運空間9內下降，且在氣體歸還路10內上升，依此進行循環。由於氣體送岀口 11朝向下方開口，故氣體藉由FFU13朝向下方被送岀。氣體吸引口12由於朝向上方開口，故不會擾亂藉由FFU13所產生之下降氣流，可以如此地朝向下方吸引氣體，且藉由該些可以製作岀圓滑的氣流。並且，藉由在搬運空間9內產生下降氣流，除去附著於晶圓W上部之微粒，並且防止微粒在搬運空間9內浮游之情形。
接著，使用圖4說明在構成上述般之EFEM1內，使氮氣循環之氮氣循環控制之動作。
首先，作為初期階段，藉由控制手段5將氣體排岀至氣體排岀手段17，邊以氣體供給手段16對略封閉空間CS內供給氮氣，將處於大氣氛圍之EFEM1之略封閉空間CS沖洗成氮氣氛圍。在該階段之後，於控制手段5係於循環路Ci內之氮氣漏岀至外部之時，因應其洩漏量而進行對氣體供給手段16供給氮氣。
而且，如此一來在成為氮氣氛圍之略封閉空間CS，藉由控制手段5使FFU13之風扇13a及風扇15驅動，使在循環路Ci內產生氣體之循環。此時，由於FFU13之過濾器13b及化學過濾器14去除循環之氣體中之微粒及分子狀污染物質，故搬運空間9內常成為產生潔淨之氮氣的下降氣流之狀態。
在成為如此之狀態之EFEM1中，使被載置於裝載埠4被沖洗成氮氣氛圍之FOUP7和搬運空間9連通，進行晶圓W之取放。此時，搬運空間9和FOUP7皆為相同的氮氣氛圍，搬運空間9內之氮氣也被維持潔淨。 因此，無須將FOUP7內對搬運空間9內設成正壓以使微粒或分子狀污染物質不會進入FOUP7內，可以抑制沖洗至FOUP7內的氮氣之消耗量。
圖5、6、7分別表示裝載埠4之斜視圖、從前方觀看之時的前視圖、從後方觀看之時的背面圖。以下，使用該些圖面，說明裝載埠4之構成。並且，該些圖面表示拆下位於載置台44之下方的外部蓋42(參照圖3)，使內部構造之一部分露出之狀態。
裝載埠4被設置成從腳輪及安裝設置腳之腳部45之後方使基座41垂直豎立，且從基座41之大約60%左右之高度位置朝向前方設置有水平基部43。而且，在該水平基部43之上部設置有用以載置FOUP7(參照圖2)之載置台44。
FOUP7係如圖8示意性表示般，由本體71和蓋體72構成，該本體71具備有用以收容晶圓W(參照圖2)之內部空間Sf，該蓋體72係對應成為晶圓W之搬出搬入口且被設置在本體71之一面的開口71a進行開關。FOUP7正確地被載置於載置台44之時，蓋體72與基座41相向。為了在蓋體72之內部收納開關蓋體72之後述連結手段82(參照圖7)等，形成有空間Sc(參照圖11)。
返回圖5~7，在載置台44上設置有用以進行FOUP7之定位的定位銷44a，並且設置有用以對載置台44進行FOUP7之固定的鎖定爪44b。藉由鎖定爪44b進行鎖定動作，可以一面與定位銷44a協同作用一面將FOUP7 引導至適當之位置一面予以固定，且藉由進行解除鎖定動作，可以成為使FOUP7能夠離開載置台44之狀態。而且，載置台44係在載置FOUP7之狀態下，能夠藉由載置台驅動部(無圖示)在前後方向移動。
再者，在載置台44於兩處分別設置有對FOUP7內供給氣體之第2氣體注入噴嘴(第2氣體注入部)44c，和從FOUP7內排岀氣體之第2氣體排岀噴嘴(第2氣體排岀部)44d。第2氣體注入噴嘴44c，和第2氣體排岀噴嘴44d通常位於較載置台44之上面下方，於使用之時，於上方進岀而分別與具備FOUP7所具備之氣體供給閥73和氣體排岀閥74(參照圖8)連結。
於使用時，第2氣體注入噴嘴44c之一端與FOUP7之內部連通，另一端配設有第2注入閥44e。同樣，第2氣體排岀噴嘴44d之一端與FOUP7之內部連通，另一端配設有第2氣體排岀閥44f。而且，經由氣體供給閥73而從第2氣體注入噴嘴44c對FOUP7之內部空間Sf供給乾燥氮氣等之氣體，且經由氣體排岀閥74而從第2氣體排岀噴嘴44d排岀內部空間Sf之氣體，依此能夠進行氣體沖洗。再者，藉由使氣體供給量較氣體排岀量多，可以使成為相對於外部或框體3之內部空間Se(參照圖2)之壓力提高內部空間Sf之壓力的正壓設定。藉由提高FOUP7內(內部空間Sf)之壓力，如圖11所示般，蓋體72之表面較抵接面71b更朝向門部81鼓岀。
構成裝載埠4之基座41構成使搬運空間9與 外部空間隔離之前面壁31之一部分。如圖5所示般，基座41係由在兩側方豎立之支柱41a、41a；藉由該些支撐的基座本體41b；和被安裝於略矩形狀地在該基座本體41b開啟之窗部41c上的視窗單元90構成。在此，在本發明中所稱的略矩形係指藉由將具備四邊之長方形當作基本形狀，並且藉由使四偶角成為圓弧而滑順連接的形狀。在基座本體41b之後面之外周附近，設置有當作被形成矩形框狀之彈性材的墊片47(參照圖7)。墊片47係藉由氣體透過少之橡膠材料而形成。
視窗單元90係被設置在於與上述FOUP7之蓋體72(參照圖8)相向之位置。視窗單元90係如後面敘述般，由於設置有略矩形狀之開口部92(參照圖14)，可以經由開口部92開啟框體3之內部空間Se。而且，裝載埠4具備有用以開關被構成能夠安裝FOUP7之視窗單元90之開關機構80。
如圖6所示般，開關機構80具備：用以對開口部92進行開關之門部81；用以支撐此之支撐框架83；經由滑動支撐手段84使該支撐框架83能夠在前後方向支撐之可動塊85；和將該可動塊85支撐成能夠對基座本體41b在上下方向移動之導軌86。
支撐框架83係如圖8所示般，支撐門部81之後部下方，設成朝向下方延伸之後，通過被設置在基座本體41b之縫隙狀之插通孔41d而朝向基座本體41b之前方而突岀之略曲柄狀的形狀。而且，用以支撐該支撐框架 83之滑動支撐手段84、可動塊85及滑動軌86被設置在基座本體41b之前方。即是，用以使門部81移動之驅動處位於框體3之外側，萬一在該些部分產生微粒之時，藉由將插通孔41d縮小成縫隙狀，能夠抑制微粒進入至框體3內。
以下，針對開關機構80之門部81予以詳細敘述。如圖8所示般，門部81設置有在FOUP7被安裝於視窗單元90之時，對FOUP7和門部81之間注入氣體之第1氣體注入噴嘴(第1氣體注入部)87，和將FOUP7和門部81之間之氣體排岀的第1氣體排岀噴嘴(第1氣體排岀部)88。第1氣體注入噴嘴87之一端延伸至門部81之外表面，在另一端部配置有第1氣體注入閥87a。同樣，第1氣體排出噴嘴88之一端延伸至門部81之外表面，在另一端部配置有第1氣體排岀閥88a。依此，如後述般，藉由挾持操作使門部81和蓋體72成為一體之狀態，第1氣體注入噴嘴87與密封空間Sd(參照圖11)連通而供給乾燥氮氣等之氣體，且第1氣體排岀噴嘴88與密封空間Sd連通而排岀氣體，依此能夠進行氣體沖洗。並且，第1氣體排岀噴嘴88在途中分歧而配置均壓閥89，且亦當作使密閉空間Sd和搬運空間9成為均壓的均壓用之噴嘴使用。
圖9為表示門部81和O型環(第1密封構件)94之關係的圖8之部分放大剖面圖。如圖9所示般，門部81之FOUP7側之端面81c位於較O型環94之FOUP7側端部僅以所期待之尺寸L2靠搬運空間9側。如 此一來，門部81之FOUP7側之端面81c的全部較O型環94之FOUP7側端部靠搬運空間9側。因此，可以確實地防止蓋體72和門部81之接觸，且維持藉由O型環96進行的基座41和門部81之間的密封。並且，在圖中，以假想線L1表示O型環94之FOUP7側端部之位置。尺寸L2係例如0.1mm以上3mm以下。
而且，用以進行使門部81朝前後方向移動及朝上下方向移動之致動器(無圖示)被設置在每個方向，對該些供給來自控制部Cp之驅動指令，可以使門部81在前後方向及上下方向移動。
再者，在基座本體41b之前方，設置有朝較水平基部43之正下方更下側延伸之蓋體46(參照圖8)，在該蓋體46之內部覆蓋支撐框架83、滑動支撐手段84、可動塊85及滑軌86，成為密閉狀態。因此，雖然在基座本體41b形成有插通孔41d，但是透過該部分，框體3(參照圖3)內之氣體不會流岀至外側。在蓋體46之內側設置有第1氣體注入噴嘴87之下端、第1氣體注入閥87a、第1氣體排岀噴嘴88及第1氣體排岀閥88a。
門部81具備吸附FOUP7之蓋體71的吸附部79(參照圖6)，和對FOUP7之蓋體72進行開關的閂鎖操作，或用以進行蓋體72之保持的連結手段82(參照圖7)。門部81進行蓋體71之固定及固定之解除，能夠從FOUP7拆下蓋體72及安裝。在連結手段82中，藉由進行蓋體72之開鎖動作使成為能夠開啟蓋體72之狀態，同時 可以成為蓋體72與門部81連結而成為一體化的狀態。再者，與此相反，可以解除蓋體72和門部81之連結，並且將蓋體72安裝於本體71使成為封閉狀態。
在此，使用圖14，針對上述視窗單元90之詳細構成進行說明。視窗單元90係由窗框部91、當作被安裝於窗框部之彈性材的O型環94、96、當作用以經由O型環94使FOUP7對窗框部91密接之引入手段的挾具單元50構成。
窗框部91構成在內側形成有略矩形狀之開口部92的框形狀。由於窗框部91係構成上述基座41(參照圖5)之一部分以作為視窗單元90之構成要素，故開口部92可以稱為開啟當作框體3之壁面的前面壁31。在窗框部91之前面配設有O型環94以環繞開口部92之周緣附近。在窗框部91之後面配設有O型環96以環繞開口部92之周緣附近。
開口部92大於FOUP7之蓋體72(參照圖8)之外周些許，蓋體72能夠通過開口部92移動。再者，在將FOUP7載置於載置台44之狀態下，構成蓋體72之周圍的本體71之前面當作抵接面71b，經由O型環94而與窗框部91之前面抵接。依此，FOUP7被安裝於視窗單元90之時，O型環94密封開口部92(基座41)之周緣和FOUP7之間(參照圖15)。
再者，上述門部81經由O型環(第2密封構件)96而抵接於窗框部91之後面。依此，O型環96密封 開口部92之周緣和門部81之間。具體而言，抵接鍔狀地被設置在門部81之外周的薄壁部81a。此時，被形成在薄壁部81a之內側的厚壁部81b被形成較開口部92小，依此通過開口部92而朝向前方突出。
返回圖14，挾具單元50係在窗框部91之兩側部91之兩側部於上下方向間隔開而被配置的合計4處。各挾具單元50大概由卡合片51和使卡合片51動作之汽缸52所構成，在FOUP7被安裝於視窗單元90之狀態下，將FOUP7推壓至基座41側。
構成挾具單元50之汽缸52具備傳動軸53，被安裝在窗框部91之後方，具有通過被設置在窗框部91之孔部而朝向前方能夠進退的傳動軸53。在傳動軸53之前端安裝有卡合片51之基端51a，前端51b從該基端51a朝向傳動軸53之外周方向延伸。再者，在傳動軸53之外周沿著軸方向形成扭轉相位90°之引導溝53a，在其內部，被固定在窗框部91側之引導銷54從半徑方向被插入。因此，隨著汽缸52之進退動作，引導溝53a藉由引導銷54被導引，傳動軸53繞軸中心旋轉90°。
而且，如圖16所示般，成為於卡合片51與傳動軸53皆突岀至前方之時，前端51b朝向上方向，於成為拉至後方的狀態之時，前端51b朝向內側之FOUP7的方向。藉由挾持操作，卡合片51係藉由前端51b朝向內側，能夠與較FOUP7更突出至側方的鍔部71c卡合。一面保持如此卡合之狀態，一面藉由汽缸52使傳動軸53 更被拉入。依此，能夠成為使FOUP7之抵接面71b對O型環94更緊密密接的挾持狀態。藉由如此之挾具單元50在4處動作，使O型環94之變形量均勻，可以更提高密封性。即使在挾持狀態中，門部81之FOUP7側之端部81c較藉由FOUP7之抵接面71b被推壓至基座41側之O型環94之FOUP7側端部，更位於搬運空間9側。
再者，於使卡合片51移動至前方之時，藉由使前端51b朝向上側，由正面觀看時成為不干涉鍔部71c的位置。如此一來，可以使FOUP7與載置台44同時移動。並且，於使前端51b移動至前方之時，僅以盡量不干涉鍔部71c即可，前端51b並不限定於上方向，即使設定成為下方向或外側方向亦可。
如上述般構成的裝載埠4係藉由圖5所示之控制部Cp，各部被給予驅動指令，依此進行動作。再者，如圖17所示般，控制部Ct之輸入側，連接於測量密閉空間Sd之壓力的壓力計，和測量FOUP7之內部空間Sf之壓力的壓力計，和測量框體3之內部空間Se之壓力的壓力計。同樣控制部Ct之輸入側被連接於測量密閉空間Sd之濕度的濕度計，和測量FOUP7之內部空間Sf之濕度的濕度計，和測量框體3之內部空間Se之濕度的濕度計。用以測量氧濃度之控制部Ct之輸入側被連接於測量密閉空間Sd之氧濃度的氧(濃度)計，和測量FOUP7之內部空間Sf之氧濃度的氧(濃度)計，和測量框體3之內部空間Se之氧濃度的氧(濃度)計。關於流量，控制部Ct之輸 入側係被連接於測量第1氣體注入噴嘴87之流量的流量計，和測量第2氣體注入噴嘴44c之流量的流量計，和測量第3氣體注入噴嘴16之流量的流量計。
控制部Ct之輸出側經流量控制部Cf而連接於第1氣體注入閥87a、第1氣體排岀閥88a、第2氣體注入閥44e、第2氣體排岀閥44f、第3氣體注入閥、第3氣體排岀閥、氣體供給手段16、氣體排岀手段17及均壓閥89，經由驅動控制部Cd連接於挾具單元50、連結手段82及吸附部79。控制部Ct被設置在EFEM1，內藏有各種記憶體或受理使用者之操作輸入的控制器。流量控制部Cf、驅動控制部Cd被設置在EFFM1之控制器內。
以下，使用圖8~12說明使用本實施型態之裝載埠4之時的動作例進行說明。並且，在初期狀態下各閥被關閉。
圖8表示將FOUP7載置在載置台44上，且從基座41間隔開之狀態。在該狀態中，由於在構成視窗單元90之窗框部91(參照圖14)之後面，經由O型環96抵接門部81，故在窗框部91和門部81之間不會產生間隙，可以取得高的密封性。因此，即使在以氮氣等填滿框體3之內部空間Se之狀態，亦可以抑制氣體朝外部之流岀，氣體從外部朝內部空間Se流入。
如圖18所示般，在步驟S1中，FOUP7藉由鎖定爪44b(參照圖5)之鎖定動作，和定位銷44a之定位作用，使對載置台44成為適切的位置而被固定。
而且，載置台44具備之第2氣體注入噴嘴44c和第2氣體排岀噴嘴44d突出至上方，分別連接於FOUP7所具備的氣體供給閥73和氣體排岀閥74。之後，在步驟S2中，藉由開啟第2氣體注入閥44e，新鮮的乾燥氮氣由第2注入噴嘴44c通過氣體供給閥73而被供給。同時藉由開啟第2氣體排岀閥44f，將至此蓄積於內部空間Sf之氣體通過氣體排岀閥74而藉由第2氣體排岀噴嘴44d排岀。如此一來，藉由進行氣體沖洗，以氮氣填滿內部空間Sf，同時使成為壓力較框體3之內部空間Se高的狀態。並且，朝FOUP7內填充氮氣持續至該流程結束為止。
接著，在步驟S3中，如圖10所示般，使載置台44朝向後方移動，且使FOUP7之抵接面71b抵接於窗框部91。此時，門部81之端面81c較O型環94之FOUP7側端部僅以特定之尺寸L2更位於搬運空間9側。因此，即使FOUP7之蓋體72隆起至門部81側，當使FOUP7接觸於視窗單元90時，FOUP7之抵接面71b抵接於O型環94，且蓋體72不會接觸於門部81之端面81c(參照圖11)。因此，O型環96和門部81之間的密封確實地被維持。如此一來，因使抵接面71b經由O型環94而與窗框部91抵接，門部81經由O型環96而與窗框部91抵接，故形成密封空間Sd。在形成密閉空間Sd之基座41、O型環94、96、蓋體71及門部81，加上開口部92、第1氣體注入噴嘴87及第1氣體排岀噴嘴88，而構 成門開關系統。
於使載置台44移動之時，事先藉由構成挾具單元50之汽缸52，使卡合片51(參照圖14)朝向前方突出，使成為前端51b朝向上方向之狀態而不會干涉FOUP7。
之後，在步驟S4中，挾持FOUP7而固定於視窗單元90。具體而言，藉由構成挾具單元50之汽缸52，將卡合片51朝向後方拉入，且使成為前端51b朝向內側之狀態而與FOUP7之鍔部71c卡合。而且，藉由拉入前端51b使FOUP7之抵接面71b密接於O型環94，且使成為提高密封性之狀態。將該些一連串的動作稱為挾持操作。此時，如圖11所示般，在蓋體72和門部81之間形成空間Sg，經由安裝連結手段82之安裝孔75與蓋體之內部空間Sc連通。該空間Sg和空間Sc形成在FOUP7和門部81之間被密封之密封空間Sd。
而且，在步驟S5中，藉由使被設置在門部81之連結手段82(參照圖7)動作，能夠使蓋體72成為解鎖狀態而從本體71拆下，並且成為門部81經由吸附部79一體性地保持門部蓋體72之狀態。
在步驟S6中，藉由開啟第1氣體注入閥87a，氮氣藉由第1氣體注入噴嘴87被供給至密閉空間Sd。同時，藉由開啟第1氣體排出閥88a，將至此蓄積於密閉空間Sd之氣體(大氣)藉由第1氣體排岀噴嘴88排岀。而且，於經過特定時間後，藉由關閉第1氣體注入閥 87a和第1氣體排岀閥88a，對密閉空間Sd填充氣體。並且，即使重覆藉由第1氣體注入噴嘴87對密封空間Sd注入氣體之氣體注入動作，和藉由第1氣體排岀噴嘴88對密閉空間Sd排岀氣體之排岀動作亦可。在此，大氣包含使晶圓W氧化等，可能會使晶圓W之性質特性變化的氧、水分、微粒等。再者，排岀蓄積於密閉空間Sd之氣體(大氣)係指不僅排岀存在於FOUP7和門部81之間的大氣，也排岀存在於蓋體72之內部的大氣，可以填充氣體之意。
在步驟S7中，使FOUP7之內部空間Sf和密閉空間Sd成為均壓。具體而言，將挾持操作後之內部空間Sf之壓力設為P1，將密閉空間Sd之壓力設為P2之時，控制成使P1和P2接近。
該壓力調整係藉由密閉空間Sd及FOUP7之壓力計檢測的壓力，調整第1氣體注入噴嘴87和第1氣體排岀噴嘴88之流量。但是，即使壓力調整不使用壓力計進行亦可。具體而言，即使從第1氣體注入噴嘴87及第1氣體排岀噴嘴88之流量推測第2氣體注入噴嘴44d及第2氣體排岀噴嘴44d之流量推測壓力，而根據該推測壓力進行壓力調整亦可。此時，因即使不使用壓力計亦可以較進行壓力調整，故可以刪減成本。於推測壓力之時，即使考慮藉由氧濃度計的到達氧濃度或藉由濕度計的到達濕度而推測亦可。
壓力之調整以各種方向進行。若事先決定所 使用之FOUP時，因決定使用之FOUP7之內部空間Sf或FOUP7之蓋體體積，故可以大概推測密閉空間Sd之體積。於是，能夠在特定時間對密閉空間Sd填充特定流量之氣體，依此也能夠將密閉空間Sd之壓力P2壓力調整成特定壓力。此時，為了進行壓力調整，即使不使用壓力計、氧濃度計、濕度計亦可。
在此，雖然敘述壓力P2之調整方法，但是該些亦可以用於調整壓力P1及P3。再者，壓力調整不僅流量之調整，即使以藉由均壓閥之調整及流量和均壓閥之組合來進行亦可。將該些壓力調整所使用之機構總稱為壓力調整手段。
在步驟S8中，如圖12所示般，門部81及蓋體72與支撐框架83一起朝向後方移動。如此一來，使FOUP7之蓋體72從本體71間隔開而開啟內部空間Sf，並且使門部81從開口部92間隔開而開啟框體3(內部空間Se)。此時，由於FOUP7之抵接面71b經由O型環94而密接於視窗單元90，故能夠抑制氣體在框體3及FOUP7和外部之間的流岀或流入。
再者，由於FOUP7之壓力變高，故產生從FOUP7之內部空間Sf朝向框體3內的氣流。因此，抑制微粒等從框體3進入至FOUP7內，能夠使FOUP7保持潔淨。並且，為了防止微粒進入，也以經第2氣體注入噴嘴44c持續性地供給低流量之氣體為佳。之後，結束壓力調整。
接著，在步驟S9中，如圖13所示般，門部81及蓋體72與支撐框架83一起朝向下方移動。如此一來，可以使作為FOUP7之搬出搬入口之開口71a的後方大開啟，能夠在FOUP7和EFFM1之間進行晶圓W之移動。如此一來，由於用以使門部81移動的機構全部藉由蓋部46被覆蓋，故能夠抑制框體3內之氣體漏出至外部。
如上述般，雖然說明開啟FOUP7之開口71a之時的動作，但是於封閉FOUP7之開口71a之時，若進行與上述相反之動作即可。但是，在門開關系統之運用上，於封閉FOUP7之開口71a之時，於內部空間Sf內之壓力或氧濃度等不會有問題之水準時，可以省略S6或S7之步驟。
藉由重覆進行如此之動作，O型環94、96在蓋體72或門部81之間重覆彈接，也有產生新的微粒之情形。如此之微粒於開啟蓋體72或門部81之時，藉由在框體3之內部形成的向下流被移動至下方。因此，不會有附著於晶圓W表面之情形，能夠將晶圓W表面維持潔淨之狀態。
[本實施型態之裝載埠之特徵]
本實施型態之裝載埠4具有以下之特徵。
在本實施型態之裝載埠4中，即使FOUP7之蓋體72膨脹於基座41側，於將FOUP7安裝於開口部92 之時，因門部81之FOUP7側之端面較第1密封構件94之FOUP7側之端部更位於搬運空間9側，故蓋體72和門部81不會接觸。依此，防止蓋體72接觸於門部81而使碎片飛散之情形，且可以將裝載埠4之周邊空間保持潔淨。再者，可以降低先前附著於門部81之塵埃由於接觸之衝擊而被揚起，或由於接觸之衝擊導致FOUP7搖晃，而使得FOUP7底部之塵埃飛散或收容物之位置偏移的情形。
在本實施型態之裝載埠4中，門部81之FOUP7側之端面之至少一部分較被挾持，且被推壓至基座41側之第1密封構件94之FOUP7側之端部更位於搬運空間9側。因此，在FOUP7安裝於開口部之狀態下，可以確實地防止蓋體72和門部81接觸。
在本實施型態之裝載埠4中，即使FOUP7之蓋體72膨脹至基座41側，亦可以確實地防止蓋體72與門部81之接觸。
[本實施型態之門開關系統之特徵]
本實施型態之門開關系統具有以下之特徵。
本實施型態之門開關系統或裝載埠4中，具備在經由第1密封構件94使FOUP7與開口部92抵接之狀態時，即是FOUP7被安裝於開口部92時，對FOUP7和門部81之間的密閉空間Sd注入氣體之第1氣體注入噴嘴87，和排岀密閉空間Sd之氣體的第1氣體排岀噴嘴 88。依此，在FOUP7被安裝於開口部92之狀態下，可以除去FOUP7和門部81之間的大氣而填充(沖洗)氮氣。因此，可以防止存在於FOUP7和門部81之間使晶圓W氧化等，包含可能使晶圓之性質特性產生變化之氧、水分、微粒等之大氣，於開啟門部81時流入搬運空間9及FOUP7之內部的情形。換言之，於開啟FOUP7之蓋體72而使密閉空間Sd開啟之前，可以排除密閉空間Sd之氧、水分、微粒。依此，於蓋體72之開啟時氧等不會漏岀至FOUP7和搬運空間9，可以維持FOUP7內及搬運空間Sd之潔淨度。
在本實施型態之門開關系統中，重覆藉由第1氣體注入噴嘴87進行的氣體注入動作，和藉由第1氣體排岀噴嘴88進行的氣體排岀動作，可以確實去除存在於FOUP7和門部81之間的大氣並且填充氣體。
在本實施型態之門開關系統中，當解除蓋體72對FOUP7之固定時，有FOUP7之內部空間Sf和密閉空間Sd連通之情形。此時，P1與P2之壓力差大時，由於在FOUP7和密閉空間Sd之間的氣體之流量變大，故堆積於FOUP7底部之微粒揚起，有污染晶圓W之虞。於是，藉由控制成P1和P2接近，減少在FOUP7和密閉空間Sd之間移動之氣體的量，且藉由抑制微粒之飛散，可以防止晶圓W之污染。
在具備本實施型態之門開關系統之裝載埠4中，於開啟開口部92之時，確實地拆下FOUP7之蓋體 72，並且由於封閉開口部92之時安裝蓋體72，故可以迅速地進行各操作。
以上，雖然針對本發明之實施型態根據圖面進行說明，但是應被認為具體構成並不限定於該些實施型態。本發明之範圍並非上述實施型態之說明而係以申請專利範圍來表示，又包含與申請專利範圍均等之含意及在其範圍內所進行的變更。
在上述實施型態中，在圖18之步驟S6中，第1氣體注入噴嘴87對密閉空間Sd供給氮氣，且第1氣體排岀噴嘴88從密閉空間Sd排岀氣體，依此進行氣體沖洗。但是，並不限定於此，即使第1氣體排岀噴嘴88進行負壓排氣亦可。具體而言，藉由第1氣體排岀噴嘴88吸引存在於密閉空間Sd之大氣而使成為負壓之後，第1氣體注入噴嘴87供給氮氣。依此，可以有效率地對密閉空間Sd填充氣體。
在上述實施型態中，在EFEM1設置控制部Ct、流量控制部Cf、驅動控制部Cd。但是，並不限定於此，即使在裝載埠4設置控制部Ct、流量控制部Cf、驅動控制部Cd之一部分或所有亦可。在此時之裝載埠4設置接收來自EFEM1之控制器等之上位電腦的訊號之接收部。各控制部被設置在裝載埠4之時，如圖26所示般，控制部Ct之輸入側被連接於密閉空間Sd及FOUP7之內部空間Sf之壓力計、濕度計、氧計，並且被連接於第1氣體注入噴嘴及第2氣體注入噴嘴之流量計。
在上述實施型態中，在圖18之步驟7中，使內部空間Sf之壓力P1和密閉空間Sd之壓力P2接近。但是，並不限定於此，即使將搬運空間9內之壓力設為P3，控制成使P1和P2和P3接近亦可。具體而言，即使配合P1、P2、P3中之任一個，而調整剩下之兩個壓力亦可。此時，若調整成P2、P3之壓力接近於密閉空間Sd、FOUP內部空間Sf、框體內部空間Se中，體積最大之框體內部空間Se之壓力P1時，則可以縮短壓力調整時間。 再者，即使將P1、P2、P3控制成接近於特定之壓力值亦可。當門部81開啟開口部92時，FOUP7內之空間Sf和密閉空間Sd和搬運空間9連通。此時，假設各空間之壓力差大時，由於在各空間之間移動之氣體之流量變大，故有存在於各空間之微粒揚起之虞。於是，藉由控制成P1和P2和P3接近，減少在FOUP7和密閉空間Sd和搬運空間9之間移動之氣體的量，且藉由抑制微粒之飛散，可以防止各空間之污染。
再者，即使在步驟S7不使P1和P2接近，控制成P1、P2、P3依序變高亦可。藉由控制成壓力P1、P2、P3依序變高，可以縮小FOUP7內之空間Sf和密閉空間Sd和搬運空間9中之相鄰空間的壓力差。依此，於門部81開啟開口部92而使各空間連通之時，比起相鄰之空間之壓力差變大之時，可以縮小在各空間之間移動之氣體的流量。因此，減少在FOUP7和密閉空間Sd和搬運空間9之間移動之氣體的量，且藉由抑制微粒之飛散可以防止 各空間之污染。
在上述實施型態中，採用晶圓搬運所使用之FOUP7當作容器。但是，作為晶圓收容容器並不限定於此，即使採用MAC(Multi Application Carrier)、H-MAC(Horizontal-MAC)、FOSB(Front Open Shipping Box)等亦可。再者，容器並不限定於晶圓收容容器，亦可以適用於收容在填充惰性氣體之狀態下被搬運之電子零件般之收容物的密閉容器。
在上述實施型態中，裝載埠被安裝於EFEM。但是，亦可以將具備有搬運室之分類器或製程裝置本身當作搬運室，也適用於在製程裝置本身安裝裝載埠之裝置，上述分類器係用以進行被載置於裝載埠之容器內之收容物的重新排列或更換被載置於其他裝載埠之容器之收容物。
在上述實施型態中，雖然採用具有汽缸52之挾具單元50，但是並不限定於此。如圖19(a)所示般，被設置在窗框部91之挾具單元100具有支撐片101、可旋轉地支撐於支撐片101之棒狀的旋轉體103，和驅動旋轉體103之馬達106。支撐片101係從窗框部91朝向前方延伸，且支撐成在其中空部102可使旋轉體103旋動(參照圖20(b))。旋轉體103具有從上端部及軸方向之中央部突出之推壓片107(參照圖19(b))。在推壓片107之前端形成推壓突起108(參照圖21)，經由該推壓突起108挾持FOUP7之鍔部71c。被埋設於水平基部43之馬達106與旋轉體103之下端部連結，且使旋轉體103繞軸周圍旋 轉。
如圖20(a)所示般，在解除挾持之狀態下，推壓片107與窗框部91垂直地朝向水平方向前方向延伸(一併參照圖21(a))。藉由從該狀態馬達106使旋轉體103旋轉驅動，如圖21(b)所示般，推壓片107繞旋轉體103之軸周圍旋轉。而且，藉由使旋轉體103旋轉，推壓片107經由推壓突起108推壓鍔部71c而挾持FOUP7(一併參照圖19(b))。並且，作為使旋轉體103旋轉之驅動部即使使用空氣驅動式之凸輪等來取代馬達106亦可。
藉由採用上述構成之挾具單元100，由於使挾具單元100之前後方向之厚度變薄，同時可以將挾具單元100配置在外部空間側，故可以防止與在搬運空間9內運轉之晶圓搬運裝置2的干涉。
在上述實施型態中，門部81之FOUP7側之端面81c之全體較O型環94之FOUP7側端部更位於搬運空間9側。但是，若門部81之FOUP7側之端面81c之至少一部分較O型環94之FOUP7側端部更位於搬運空間9側即可。
如圖22(a)所示般，在門部81之FOUP7側(前方側)之端面110，形成有朝搬運空間9側凹陷之凹陷部111。該凹陷部111之底面112較表示O型環94之FOUP7側端部之位置的假想線L1更位於搬運空間9側。換言之，門部81之FOUP7側之端面110之至少一部分(底面112)較第1密封構件94之FOUP7側之端部更位於 搬運空間9側。依此，可以取得與上述實施型態相同之效果。端面110之至少一部分主要係指門部81之中央部附近或中央部周邊區域。再者，端面110之概念不包含進行蓋體72對FOUP7的固定及解除固定的閂鎖機構、用以固定蓋體72和門部81之吸附部79或用以將蓋體72定位在門部81之定位銷(無圖示)。另一方面，被形成在端面110之外周的外周面113由於FOUP7及蓋體72之種類或製造時之精度誤差較假想線L1更位於FOUP7側。並且，由於FOUP7之抵接面71b較蓋體72更位於搬運空間9側，故抵接面71b抵接於O型環94而可以形成密閉空間Sd。
如圖22(b)所示般，在門部81之FOUP7側(前方側)之端面116，形成有朝搬運空間9側凹陷之彎曲面117。該彎曲面117較表示O型環94之FOUP7側端部之位置的假想線L1更位於搬運空間9側。換言之，門部81之FOUP7側之端面116之大部分較第1密封構件94之FOUP7側之端部更位於搬運空間9側。依此，可以取得與上述實施型態相同之效果。另一方面，被形成在端面116之外周的外周面113由於製造時之精度誤差較假想線L1更位於FOUP7側。並且，FOUP7之一部分(蓋體72)朝向搬運空間9側彎曲。再者，由於FOUP7之抵接面71b較蓋體72之外周部更位於搬運空間9側，故抵接面71b抵接於O型環94而可以形成密閉空間Sd。如此一來，藉由彎曲面117之形狀與提升FOUP7之壓力而導致膨脹之膨脹面118對應，即使FOUP7以各種形狀膨脹，亦可以確 實地防止FOUP7和門部81接觸。
作為圖22(a)之變形例，如圖23(a)所示般，即使採用在門部81之端面110形成凹陷部111，另外外周面113較假想線L2更位於搬運空間9側之構成亦可。即是，本變形例係門部81之端面110的全部較第1密封構件94之FOUP7側之端部更位於搬運空間9側。依此，即使蓋體72突出於搬運空間9側，亦可以防止蓋體72和門部81之干涉，並且使抵接面71b與密封構件94抵接。
作為圖22(b)之變形例，如圖23(b)所示般，即使採用在門部81形成彎曲面117，另外外周面113較假想線L2更位於搬運空間9側之構成亦可。即是，本變形例係門部81之端面110的全部較第1密封構件94之FOUP7側之端部更位於搬運空間9側。依此，即使具有膨脹面118蓋體72突出於搬運空間9側，亦可以防止蓋體72和門部81之干涉，並且使抵接面71b與密封構件94抵接。
有藉由門部81，從FOUP7拆下膨脹之蓋體72之後，蓋體72之膨脹回到原來之狀態的情形。此時，如圖23(a)及圖23(b)所示般，當門部81之端面110的全部較第1密封構件94更位於搬運空間9時，由於閂鎖機構或吸附部之種類不同，有無法適當地進行蓋體72對FOUP7的固定及蓋體73安裝至FOUP7之情形。因此，即使使進行上述動作之位置，較進行蓋體72對FOUP7的固定解除及從FOUP7拆下蓋體72之位置，僅以特定距離更 靠FOUP7側之位置上進行亦可。該特定距離係依據蓋體72之膨脹率、閂鎖機構或吸附部之種類而適當設定。
在上述實施型態中，雖然使用分別獨立之第1氣體注入噴嘴87、第2氣體排岀噴嘴88、第2氣體注入噴嘴44c及第2氣體排岀噴嘴44d而進行壓力調整，但是並不限定於此。
如圖24及圖25所示般，供給氣體之第1供給噴嘴120與第2氣體注入噴嘴44c合流。經由中間噴嘴121連結第2氣體排岀噴嘴44d和第1氣體注入噴嘴87。再者，經由連接噴嘴122連結第2氣體注入噴嘴44c和第2氣體排岀噴嘴88。中間噴嘴121係在途中與第2供給噴嘴123合流。
如圖24所示般，當壓力P1高於P2時，開啟第1閥125和第2閥126，且封閉第3閥127至第6閥130。因此，從第1供給噴嘴120被供給之氣體經由第2氣體注入噴嘴44c而流入FOUP7。從FOUP7被排岀之氣體從第2氣體排岀噴嘴44d經由第2閥126在中間噴嘴121內流動。而且，經由第1氣體注入噴嘴87被供給至密閉空間Sd之氣體從第2氣體排岀噴嘴88被排岀，依連接噴嘴122、第2氣體注入噴嘴44c之順序流動。在第2氣體注入噴嘴44c與從供給噴嘴120重新被供給之氣體合流。藉由氣體在上述流路流動，使FOUP7之壓力P1和密閉空間Sd內之壓力P2接近。
如圖25所示般，當壓力P1低於P2時，開啟 第4閥128和第5閥129，且封閉第1閥125至第3閥127及第6閥130。因此，透過第4閥128而從第2供給噴嘴123被供給之氣體經由中間噴嘴121及第1氣體注入噴嘴87而流入密閉空間Sd。從密閉空間Sd排岀之氣體依第2氣體排岀噴嘴88、連接噴嘴122之順序流動，經由第2氣體注入噴嘴44c而流入FOUP7。從FOUP7被排岀之氣體從第2氣體排岀噴嘴44d經由第5閥129而被吐岀至外部。藉由氣體在上述流路流動，使FOUP7之壓力P1和密閉空間Sd內之壓力P2接近。並且，於調整壓力P1和P3之時，僅使被配置設在搬運空間9之第3閥127開啟。依此，可以經由第2氣體注入噴嘴44c和連接噴嘴122通過FOUP7和搬運空間9而成為均壓。
在上述實施型態中，雖然惰性氣體以氮為例，但並不限定於此，可以使用乾燥氣體、氬氣等之所期待的氣體。
在上述實施型態中，雖然第1密封構件94、第2密封構件96以O型環為例，但並不限定於此，若為擔保密封性(封閉性)之構件即可。
再者，作為密封構件即使配置藉由流體之導入或排岀而膨脹或收縮之中空密封構件以取代O型環亦可。於第1密封構件94使用該中空密封構件之時，使FOUP7抵接於基座41之後，使中空密封構件膨脹，依此可以取得FOUP7和基座41之密接性。而且，為了更提高密接性，中空密封構件之膨脹以在藉由挾具單元50進行 的挾持後進行為佳。此時，依據藉由挾持而作用的力，和藉由中空密封構件之膨脹而作用的力，擠壓中空密封構件，可以提高密封性。
4‧‧‧裝載埠
9‧‧‧搬運空間
81‧‧‧門部(門)
81a‧‧‧薄壁部
81c‧‧‧端面
90‧‧‧視窗單元
91‧‧‧窗框部
92‧‧‧開口部
94‧‧‧O型環(第1密封構件)
96‧‧‧O型環(第2密封構件)

Claims (10)

  1. 一種裝載埠，具備：
    基座，其係構成使搬運空間與外部空間隔離之壁部的一部分；
    開口部，其係被設置在上述基座；
    門部，其係能夠進行上述開口部之開關，和進行蓋體對收容有收容物之容器的固定及固定之解除；
    第1密封構件，其係密封上述基座和上述容器之間；及
    第1氣體注入部，其係對被形成在上述蓋體和上述門部之間的空間注入氣體，
    上述氣體經由上述門部被注入至上述空間。
  2. 一種裝載埠，具備：
    基座，其係構成使搬運空間與外部空間隔離之壁部的一部分；
    開口部，其係被設置在上述基座；
    門部，其係能夠進行上述開口部之開關，和進行蓋體對收容有收容物之容器的固定及固定之解除；
    第1密封構件，其係密封上述基座和上述容器之間；及
    第1氣體排出部，其係從被形成在上述蓋體和上述門部之間的空間排氣，
    上述第1氣體排出部經由上述門部從上述空間排出。
  3. 如請求項1或2所記載之裝載埠，其中
    具備：
    第2密封構件，其係密封上述基座和上述門部之間；
    上述空間係在經由上述第1密封構件而使上述容器與上述開口部抵接之狀態時，藉由上述第1密封構件、上述第2密封構件、上述蓋體及上述門部構成的密閉空間。
  4. 如請求項3所記載之裝載埠，其中
    上述門部之上述容器側之端面之至少一部分較上述第1密封構件之上述容器側之端部更位於上述搬運空間側，以使上述蓋體和上述門部不會接觸。
  5. 如請求項1或2所記載之裝載埠，其中
    上述門部之上述容器側之端面的全部較上述第1密封構件之上述容器側之端部更位於上述搬運空間側。
  6. 如請求項1或2所記載之裝載埠，其中
    具有挾具單元，其係在上述容器被安裝於上述開口部之狀態下，將上述容器推壓至上述基座側，
    上述門部之上述容器側之端面之至少一部分，較藉由被上述挾具單元挾持之上述容器被推壓至上述基座側之上述第1密封構件之上述容器側之端部，更位於上述搬運空間側。
  7. 一種裝載埠，具備：
    基座，其係構成使搬運空間與外部空間隔離之壁部的一部分；
    開口部，其係被設置在上述基座；
    門部，其係能夠進行上述開口部之開關，和進行蓋體對收容有收容物之容器的固定及固定之解除；
    第1密封構件，其係密封上述基座和上述容器之間；
    第2密封構件，其係密封上述基座和上述門部之間；
    密閉空間，其係在經由上述第1密封構件而使上述容器與上述開口部抵接之狀態時，藉由上述第1密封構件、上述第2密封構件、上述蓋體及上述門部構成；
    第1氣體注入部，其係對上述密閉空間注入氣體；及
    第1氣體排岀部，其係對上述密閉空間進行排氣，
    上述氣體經由上述門部被注入至上述空間。
  8. 一種裝載埠，具備：
    基座，其係構成使搬運空間與外部空間隔離之壁部的一部分；
    開口部，其係被設置在上述基座；
    門部，其係能夠進行上述開口部之開關，和進行蓋體對收容有收容物之容器的固定及固定之解除；
    第1密封構件，其係密封上述基座和上述容器之間；
    第2密封構件，其係密封上述基座和上述門部之間；
    密閉空間，其係在經由上述第1密封構件而使上述容器與上述開口部抵接之狀態時，藉由上述第1密封構件、上述第2密封構件、上述蓋體及上述門部構成；
    第1氣體注入部，其係對上述密閉空間注入氣體；及
    第1氣體排岀部，其係對上述密閉空間進行排氣，
    上述第1氣體排出部係經由上述門部從上述空間排 氣。
  9. 如請求項7或8所記載之裝載埠，其中
    上述門部之上述容器側之端面之至少一部分較上述第1密封構件之上述容器側之端部更位於上述搬運空間側，以使上述蓋體和上述門部不會接觸。
  10. 如請求項7或8所記載之裝載埠，其中
    具有挾具單元，其係在上述容器被安裝於上述開口部之狀態下，將上述容器推壓至上述基座側，
    上述門部之上述容器側之端面之至少一部分，較藉由被上述挾具單元挾持之上述容器被推壓至上述基座側之上述第1密封構件之上述容器側之端部，更位於上述搬運空間側。
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