JP2021057608A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
Description
LED等の半導体発光素子の小型化・大電流化に伴い、半導体発光素子を備える半導体発光装置等の半導体装置に要求される信頼性の要求レベルがますます高まってきている。
以下、本開示の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。なお、以下に説明する実施の形態は、いずれも本開示の一具体例を示すものである。従って、以下の実施の形態で示される、数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置位置および接続形態、並びに、工程および工程の順序などは、一例であって本開示を限定する主旨ではない。よって、以下の実施の形態における構成要素のうち、本開示の最上位概念を示す独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。
[半導体装置]
まず、実施の形態1に係る半導体装置1の構成について図1を用いて説明する。図1は、実施の形態1に係る半導体装置1の断面図である。
次に、実施の形態1に係る半導体装置1の製造方法について図面に基づいて説明する。
まず、図3A〜図3Bに示すフローにより、半導体素子10の半導体積層構造11を形成する。図3A〜図3Bは、半導体素子10の半導体積層構造11を形成するためのフローを示す図である。
次に、図4A〜図4Iに示すフローにより、半導体素子10の第1電極(第1p側電極12、第1n側電極13)を形成する。図4A〜図4Iは、半導体素子10の第1電極を形成するためのフローを示す図である。
次に、図5A〜図5Dに示すフローにより、半導体素子10に金属バンプ30を形成する。図5A〜図5Dは、半導体素子10に金属バンプ30を形成するためのフローを示す図である。
次に、図6A〜図6Bに示すフローにより、金属バンプ30を介して半導体素子10を実装基板20にフリップチップボンディングにより実装する。図6A〜図6Bは、金属バンプ30を介して半導体素子10を実装基板20に実装するフローを示す図である。
次に、実施の形態1に係る半導体装置1の効果の検証を行ったので、比較例の半導体装置100と比較しながら、以下、この検証結果について説明する。比較例の半導体装置100は、図29Bに示される半導体装置と同様の構成であり、金属バンプ130の硬度が高くなっている。
C=Rz/2+1−A*B*k・・・(式5)
次に、実施の形態2に係る半導体装置1Aについて、図18および図19を用いて説明する。図18は、実施の形態2に係る半導体装置1Aの断面図である。図19は、同半導体装置1Aの金属バンプ30Aの拡大断面図と、同金属バンプ30Aにおける結晶粒径の高さ位置依存性を示す図である。図19において、縦軸は、金属バンプ30Aの高さを示しており、横軸は、金属バンプ30Aの結晶粒径を示している。
次に、実施の形態3に係る半導体装置1Bについて、図24および図25を用いて説明する。図24は、実施の形態3に係る半導体装置1Bの断面図である。図25は、同半導体装置1Bの金属バンプ30Bの拡大断面図と、同金属バンプ30Bにおける結晶粒径の高さ位置依存性を示す図である。図25において、縦軸は、金属バンプ30Bの高さを示しており、横軸は、金属バンプ30Bの結晶粒径を示している。
以上、本開示に係る半導体装置について、実施の形態1〜3に基づいて説明したが、本開示は、上記の各実施の形態に限定されるものではない。
10 半導体素子
11 半導体積層構造
11a 基板
11b n型半導体層
11c 活性層
11d p型半導体層
12 第1p側電極
12a 反射電極
12b、13b バリア電極
12c、13c シード層
12d、13d カバー電極
12S シード膜
13 第1n側電極
13a オーミックコンタクト層
14 酸化膜
15、16、24 レジスト
16a、24a 開口部
20 実装基板
21 基板
22 第2p側電極
23 第2n側電極
30、30A、30B、30C 金属バンプ
30X、30Y、30Z 金めっき膜
30R、30AR、30BR 仮想バンプ
31、31A 第1の層
31a 遷移領域
32、32A 第2の層
33 第3の層
34 第4の層
35 第5の層
40 保持用金属管
50 金属ステージ
60 シェアセンサ
Claims (13)
- 実装基板と、
金属バンプを介して前記実装基板に配置された半導体素子とを備え、
前記半導体素子は、半導体積層構造および第1電極を有し、
前記実装基板は、第2電極を有し、
前記第1電極は、バリア電極を含む積層構造で構成され、
前記バリア電極と厚み方向においてオーバーラップする位置に配置された前記金属バンプは、前記第2電極に接する第2の層と、前記第2電極とは反対側に位置する第1の層と、前記第1の層と前記第2の層の間に位置する遷移領域とを含む単一に形成された部材であり、
前記第2の層を構成する結晶の平均結晶粒径は、前記第1の層を構成する結晶の平均結晶粒径よりも大きく、
前記遷移領域の平均結晶粒径は、前記第1の層側から前記第2の層側にかけて、前記第1の層の平均結晶粒径から前記第2の層の平均結晶粒径に近付き、
前記第1の層は、前記第2電極から離間している
半導体装置。 - 前記半導体積層構造は、基板と、前記基板側から順に積層された、第1導電型半導体層、活性層および第2導電型半導体層とを有する
請求項1に記載の半導体装置。 - 実装基板と、
金からなる金属バンプを介して前記実装基板に配置された発光ダイオードチップとを備え、
前記発光ダイオードチップは、基板と、前記基板側から順に積層された第1導電型半導体層、活性層および第2導電型半導体層を有する半導体積層構造と、前記第2導電型半導体層に接して配置された第1電極とを有し、
前記実装基板は、セラミックからなる基板と第2電極とを有し、
前記金属バンプは、前記第2電極に接する第2の層と、前記第2電極とは反対側に位置する第1の層とを有し、
前記第2の層を構成する結晶の平均結晶粒径は、前記第1の層を構成する結晶の平均結晶粒径よりも大きく、
前記第1の層は、前記第2電極から離間し、
前記第1の層の水平方向の平均結晶粒径をr11、前記第1の層の高さ方向の平均結晶粒径をr12、前記第2の層の水平方向の平均結晶粒径をr21、前記第2の層の高さ方向の平均結晶粒径をr22としたとき、
r11<r12、r21>r22、r12/r11<r22/r21の関係式を満たす
半導体装置。 - 実装基板と、
金からなる金属バンプを介して前記実装基板に配置された発光ダイオードチップとを備え、
前記発光ダイオードチップは、基板と、前記基板側から順に積層された第1導電型半導体層、活性層および第2導電型半導体層を有する半導体積層構造と、前記第2導電型半導体層に接して配置された第1電極とを有し、
前記実装基板は、セラミックからなる基板と第2電極とを有し、
前記金属バンプは、前記第2電極に接する第2の層と、前記第2電極とは反対側に位置する第1の層とを有し、
前記第2の層を構成する結晶の平均結晶粒径は、前記第1の層を構成する結晶の平均結晶粒径よりも大きく、
前記第1の層は、前記第2電極から離間し、
前記第1の層と前記第2の層との界面の最大高さ粗さは、前記第1の層の平均結晶粒径以上である
半導体装置。 - 前記第2の層の平均結晶粒径は、前記界面の最大高さ粗さ以上である
請求項4に記載の半導体装置。 - 前記半導体素子、前記実装基板および前記金属バンプにおける前記実装基板に対して垂直な方向の断面において、
前記金属バンプの断面積をSとし、前記金属バンプの高さをHとしたとき、
前記第2電極に接する前記第2の層と前記第2電極との接合部である第2の接合部の幅は、S/Hよりも長い
請求項1〜5のいずれか1項に記載の半導体装置。 - 前記第1の層は、前記S/Hよりも短い幅を有する
請求項6に記載の半導体装置。 - 前記第2の層と前記第2電極との接合界面は一体化している
請求項1〜7のいずれか1項に記載の半導体装置 - 前記第1電極は、前記第2導電型半導体層に接して配置され、前記活性層からの光を反射する金属膜を含む
請求項1〜8のいずれか1項に記載の半導体装置。 - 前記バリア電極は、Tiからなる
請求項1〜9のいずれか1項に記載の半導体装置。 - 前記実装基板はAlNの焼結体からなるセラミック基板である
請求項1〜10のいずれか1項に記載の半導体装置。 - 前記第2の層は、少なくとも1μmの厚みがある
請求項1〜11のいずれか1項に記載の半導体装置。 - 前記第2電極は、前記金属バンプと接する金からなる表面層を含む少なくとも2層からなり、
前記表面層の厚さをA、
前記表面層の平均結晶粒径をB、
前記第2の層の厚さをC、
前記第2の層と前記第1の層との界面の最大高さ粗さをRzとしたとき、
C>Rz/2+1−A*B/8の関係式を満たす
請求項3〜5のいずれか1項に記載の半導体装置。
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JP2023070990A (ja) * | 2021-11-10 | 2023-05-22 | ヌヴォトンテクノロジージャパン株式会社 | 半導体発光素子、発光モジュール、及び発光モジュールの製造方法 |
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Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011009429A (ja) * | 2009-06-25 | 2011-01-13 | Panasonic Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2014038886A (ja) * | 2012-08-10 | 2014-02-27 | Toshiba Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2014154749A (ja) * | 2013-02-12 | 2014-08-25 | Olympus Corp | 基板、半導体装置、撮像装置および基板の製造方法 |
US20150061115A1 (en) * | 2013-08-29 | 2015-03-05 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. | Interconnect structure and manufacturing method thereof |
JP2017073520A (ja) * | 2015-10-09 | 2017-04-13 | 新光電気工業株式会社 | 配線基板、半導体装置及び配線基板の製造方法 |
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---|---|---|---|---|
JPS63276247A (ja) * | 1987-05-08 | 1988-11-14 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JPH065606A (ja) * | 1992-06-16 | 1994-01-14 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JPH065609A (ja) * | 1992-06-17 | 1994-01-14 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | バンプ形成方法 |
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JP2000340595A (ja) * | 1999-05-31 | 2000-12-08 | Matsushita Electronics Industry Corp | 金バンプおよびその形成方法 |
JP2002118137A (ja) | 2000-07-31 | 2002-04-19 | Nichia Chem Ind Ltd | 半導体発光素子チップとそのバンプ形成方法及びその半導体発光素子チップを用いたディスプレイとセグメント表示部 |
JP2002134546A (ja) * | 2000-10-30 | 2002-05-10 | New Japan Radio Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JP3912044B2 (ja) * | 2001-06-06 | 2007-05-09 | 豊田合成株式会社 | Iii族窒化物系化合物半導体発光素子の製造方法 |
JP3746719B2 (ja) * | 2002-03-19 | 2006-02-15 | オリンパス株式会社 | フリップチップ実装方法 |
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JP4258367B2 (ja) * | 2003-12-18 | 2009-04-30 | 株式会社日立製作所 | 光部品搭載用パッケージ及びその製造方法 |
EP2023412A1 (en) * | 2006-05-02 | 2009-02-11 | Mitsubishi Chemical Corporation | Semiconductor light-emitting device |
JP2008262993A (ja) * | 2007-04-10 | 2008-10-30 | Nikon Corp | 表示装置 |
JP5622137B2 (ja) * | 2007-10-29 | 2014-11-12 | デクセリアルズ株式会社 | 電気的接続体及びその製造方法 |
US8368100B2 (en) * | 2007-11-14 | 2013-02-05 | Cree, Inc. | Semiconductor light emitting diodes having reflective structures and methods of fabricating same |
US20100252855A1 (en) | 2007-11-15 | 2010-10-07 | Hidenori Kamei | Semiconductor light-emitting device |
JP2009218495A (ja) | 2008-03-12 | 2009-09-24 | Mitsubishi Chemicals Corp | 半導体発光素子および半導体発光装置 |
JP5375041B2 (ja) * | 2008-11-13 | 2013-12-25 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置およびその製造方法 |
CN102484081A (zh) * | 2009-07-02 | 2012-05-30 | 弗利普芯片国际有限公司 | 用于垂直柱互连的方法和结构 |
US9583678B2 (en) * | 2009-09-18 | 2017-02-28 | Soraa, Inc. | High-performance LED fabrication |
JP5507197B2 (ja) * | 2009-10-23 | 2014-05-28 | スタンレー電気株式会社 | 光半導体素子、光半導体素子の製造方法及び光半導体装置の製造方法 |
JP2011181576A (ja) | 2010-02-26 | 2011-09-15 | Citizen Holdings Co Ltd | 半導体発光素子及びそれを用いた半導体発光装置 |
JP5226047B2 (ja) | 2010-08-26 | 2013-07-03 | シャープ株式会社 | 半導体発光素子の実装方法 |
US20150037917A1 (en) | 2012-04-24 | 2015-02-05 | Panasonic Corporation | Method for manufacturing light-emitting element |
US9673132B2 (en) * | 2012-04-27 | 2017-06-06 | Taiwan Semiconductor Manufacting Company, Ltd. | Interconnection structure with confinement layer |
WO2014024108A1 (en) | 2012-08-07 | 2014-02-13 | Koninklijke Philips N.V. | Led package and manufacturing method |
CN105190858B (zh) * | 2013-04-25 | 2018-11-06 | 富士电机株式会社 | 半导体装置及半导体装置的制造方法 |
JP6414391B2 (ja) * | 2013-04-30 | 2018-10-31 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置の製造方法 |
FR3009428B1 (fr) * | 2013-08-05 | 2015-08-07 | Commissariat Energie Atomique | Procede de fabrication d'une structure semi-conductrice avec collage temporaire via des couches metalliques |
KR102282141B1 (ko) * | 2014-09-02 | 2021-07-28 | 삼성전자주식회사 | 반도체 발광소자 |
US10074594B2 (en) * | 2015-04-17 | 2018-09-11 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. | Semiconductor structure and manufacturing method thereof |
CN107533984B (zh) * | 2015-07-01 | 2020-07-10 | 三菱电机株式会社 | 半导体装置以及半导体装置的制造方法 |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011009429A (ja) * | 2009-06-25 | 2011-01-13 | Panasonic Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2014038886A (ja) * | 2012-08-10 | 2014-02-27 | Toshiba Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2014154749A (ja) * | 2013-02-12 | 2014-08-25 | Olympus Corp | 基板、半導体装置、撮像装置および基板の製造方法 |
US20150061115A1 (en) * | 2013-08-29 | 2015-03-05 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. | Interconnect structure and manufacturing method thereof |
JP2017073520A (ja) * | 2015-10-09 | 2017-04-13 | 新光電気工業株式会社 | 配線基板、半導体装置及び配線基板の製造方法 |
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