JP2020013042A - 描画装置および描画方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、本発明に係る描画装置1の概略構成を示す図である。この描画装置1は、露光用のレーザー光を相対的に走査しつつ照射することによってプリント基板等の基板Sに局所的な露光を順次に行い、基板S上に所望の回路パターンを描画する直接描画装置である。なお、図1および以降の各図においては、理解容易のため、必要に応じて各部の寸法や数を誇張または簡略化して描いている。
次に、本発明の第2実施形態について説明する。第2実施形態の描画装置の全体構成は第1実施形態と同じである。また、第2実施形態における描画装置の処理内容についても第1実施形態と概ね同様である。第2実施形態が第1実施形態と相違するのは、指定文字の文字数が最大予定文字数と異なるときに文字幅を変更している点である。すなわち、第1実施形態では指定文字の文字数が最大予定文字数よりも少ない場合に文字列の配置を指定していたのに代えて、第2実施形態においては文字列の文字幅を変更しているのである。
以上、本発明の実施の形態について説明したが、この発明はその趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、上記実施形態では主として情報領域7に指定文字データRDを合成する例について説明したが、全体の露光情報を表示するための情報領域8に指定文字データRDを合成する場合であっても同様に行うことができる。
2 データ処理ユニット
3 露光ユニット
4 パターン設計装置
21 データ変換部
22 データ補正部
23 データ合成部
24 文字データ作成部
25 二次元コードデータ生成部
29 指定部
31 描画コントローラ
32 ステージ
33 光学ヘッド
34 撮像部
AD アライメントデータ
CD 文字データ
DD 最終描画データ
HD 補正後描画データ
ID 初期描画データ
MD 面付けデータ
PD パターンデータ
QD 二次元コードデータ
RD 指定文字データ
S 基板
Claims (12)
- 感光体が形成された基板に描画データに基づいて光を照射することによって前記基板にパターンを描画する描画装置であって、
前記パターンに対応するパターンデータを取得し、前記パターンデータをラスター形式に変換して初期描画データを生成する変換部と、
前記パターンに情報を表示するための領域として予め設定された情報領域を最大予定文字数で分割した分割領域のサイズに収まるように、前記情報領域に記述する候補文字の文字フォントをビットマップ変換して文字データを取得する文字データ作成部と、
前記パターンに記述する文字を指定する指定部と、
前記指定部にて指定された指定文字に対応する前記文字データを前記初期描画データにおける前記情報領域に合成して最終描画データを生成する合成部と、
を備えることを特徴とする描画装置。 - 請求項1記載の描画装置において、
前記文字データ作成部は、前記候補文字の文字フォントを90°,180°および270°回転させた文字データを取得することを特徴とする描画装置。 - 請求項1または請求項2記載の描画装置において、
前記基板の歪みに応じて前記初期描画データを補正する補正部をさらに備え、
前記合成部は、前記基板の歪みに応じて前記初期描画データにおける前記情報領域の位置を補正するとともに、前記指定文字に対応する前記文字データを補正することなく合成することを特徴とする描画装置。 - 請求項1から請求項3のいずれかに記載の描画装置において、
前記合成部は、前記指定文字の文字数が前記最大予定文字数よりも少ないときには、前記指定文字に対応する前記文字データを前記情報領域の左端、右端、または、中央に合成することを特徴とする描画装置。 - 請求項1から請求項3のいずれかに記載の描画装置において、
前記合成部は、前記指定文字の文字数が前記最大予定文字数と異なるときには、前記指定文字に対応する前記文字データを拡大または縮小して前記情報領域に合成することを特徴とする描画装置。 - 請求項3記載の描画装置において、
前記合成部は、前記指定文字を含む情報を表示する二次元コードをビットマップ変換したコードデータを補正することなく前記情報領域に合成することを特徴とする描画装置。 - 感光体が形成された基板に描画データに基づいて光を照射することによって前記基板にパターンを描画する描画方法であって、
前記パターンに対応するパターンデータを取得し、前記パターンデータをラスター形式に変換して初期描画データを生成する変換工程と、
前記パターンに情報を表示するための領域として予め設定された情報領域を最大予定文字数で分割した分割領域のサイズに収まるように、前記情報領域に記述する候補文字の文字フォントをビットマップ変換して文字データを取得する文字データ作成工程と、
前記パターンに記述する文字を指定する指定工程と、
前記指定工程にて指定された指定文字に対応する前記文字データを前記初期描画データにおける前記情報領域に合成して最終描画データを生成する合成工程と、
を備えることを特徴とする描画方法。 - 請求項7記載の描画方法において、
前記文字データ作成工程では、前記候補文字の文字フォントを90°,180°および270°回転させた文字データを取得することを特徴とする描画方法。 - 請求項7または請求項8記載の描画方法において、
前記基板の歪みに応じて前記初期描画データを補正する補正工程をさらに備え、
前記合成工程では、前記基板の歪みに応じて前記初期描画データにおける前記情報領域の位置を補正するとともに、前記指定文字に対応する前記文字データを補正することなく合成することを特徴とする描画方法。 - 請求項7から請求項9のいずれかに記載の描画方法において、
前記合成工程では、前記指定文字の文字数が前記最大予定文字数よりも少ないときには、前記指定文字に対応する前記文字データを前記情報領域の左端、右端、または、中央に合成することを特徴とする描画方法。 - 請求項7から請求項9のいずれかに記載の描画方法において、
前記合成工程では、前記指定文字の文字数が前記最大予定文字数と異なるときには、前記指定文字に対応する前記文字データを拡大または縮小して前記情報領域に合成することを特徴とする描画方法。 - 請求項9記載の描画方法において、
前記合成工程では、前記指定文字を含む情報を表示する二次元コードをビットマップ変換したコードデータを補正することなく前記情報領域に合成することを特徴とする描画方法。
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