JP5134944B2

JP5134944B2 - 描画装置及び描画方法

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Publication number: JP5134944B2
Application number: JP2007336619A
Authority: JP
Inventors: 仁砂押
Original assignee: Nuflare Technology Inc
Current assignee: Nuflare Technology Inc
Priority date: 2007-12-27
Filing date: 2007-12-27
Publication date: 2013-01-30
Anticipated expiration: 2027-12-27
Also published as: US20090168044A1; US8653487B2; KR20090071462A; JP2009158776A; KR100996993B1

Description

本発明は、描画装置及び描画方法に係り、例えば、電子ビームを用いて試料にパターンを描画する描画装置及び方法に関する。

半導体デバイスの微細化の進展を担うリソグラフィ技術は半導体製造プロセスのなかでも唯一パターンを生成する極めて重要なプロセスである。近年、ＬＳＩの高集積化に伴い、半導体デバイスに要求される回路線幅は年々微細化されてきている。これらの半導体デバイスへ所望の回路パターンを形成するためには、高精度の原画パターン（レチクル或いはマスクともいう。）が必要となる。ここで、電子線（電子ビーム）描画技術は本質的に優れた解像性を有しており、高精度の原画パターンの生産に用いられる。

図７は、可変成形型電子線描画装置の動作を説明するための概念図である。
可変成形型電子線（ＥＢ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎｂｅａｍ）描画装置は、以下のように動作する。まず、第１のアパーチャ４１０には、電子線３３０を成形するための矩形例えば長方形の開口４１１が形成されている。また、第２のアパーチャ４２０には、開口４１１を通過した電子線３３０を所望の矩形形状に成形するための可変成形開口４２１が形成されている。荷電粒子ソース４３０から照射され、開口４１１を通過した電子線３３０は、偏向器により偏向される。そして、可変成形開口４２１の一部を通過して、ステージ上に搭載されたレジスト材が塗布された試料に照射される。ステージは、描画中、所定の一方向（例えば、Ｘ方向とする）に連続的に移動している。このように、開口４１１と可変成形開口４２１との両方を通過できる矩形形状が、試料３４０の描画領域に描画される。開口４１１と可変成形開口４２１との両方を通過させ、任意形状を作成する方式を可変成形方式という。

ここで、試料となるマスクの本来の半導体製造用のチップ領域の外側には、マスク自体を識別するための識別（ＩＤ）図形が描画される。例えば、バーコードパターンで描画される（例えば、特許文献１参照）。そして、マスクを描画する際には、本来の半導体製造のためのパターンと共に、上述したマスク自体を識別するためのＩＤ図形を同時に描画する。そして、従来、このＩＤ図形を描画するために、予めＣＡＤなどを利用してＩＤ図形を示す図形データを作成していた。そして、描画装置で描画可能にするために、このＩＤ用の図形データも本来の半導体製造用のパターンデータと同じフォーマットで作成されていた。しかし、ＩＤ図形は、マスク固有のものであり、マスク毎に異なっている。そのため、ＩＤ用の図形データは、マスク毎にその都度作成しなければならず手間がかかるといった問題があった。また、ＩＤ図形は、予めＣＡＤなどを利用して作成されるため描画直前の情報や実際の描画日時などの情報等を記述することができない。しかしながら、ユーザ側としては、マスクにできるだけ描画直前の情報をＩＤ図形として描画しておきたいという要望が強かった。
特開２００１−９２１１０号公報

上述したように、マスクにできるだけ描画直前の情報をＩＤ図形として描画しておきたいという要望が強かった。しかしながら、ＩＤ図形を示す図形データを半導体製造用のパターンデータと同様に、別途外部装置等で事前に作成しておかなければならず、描画直前情報等を盛り込むことが困難であった。

そこで、本発明は、かかる問題点を克服し、予め図形データを作成しておかなくてもＩＤ図形を描画可能な描画装置および方法を提供することを目的とする。

本発明の一態様の描画装置は、
試料の識別情報を示す識別図形の形状を特定させる文字情報を入力し、文字情報に基づいて識別図形の描画データを生成する生成部と、
試料に描画されるパターンの描画データを入力し、パターンの描画データと識別図形の描画データとを合成する合成部と、
合成された描画データを基に、試料にパターンと識別図形とを描画する描画部と、
を備えたことを特徴とする。

かかる構成により、図形データではなく、文字情報で描画装置に入力することができる。そのため、外部装置等で予め図形データを作成しておく必要を無くすことができる。さらに、文字情報で良いので装置のオペレータが描画直前の情報を打ち込むこともできる。

特に、文字情報として、パターンの描画データを描画装置に入力した日時情報と描画処理を開始した日時とのうち少なくとも１つを含むと好適である。

そして、さらに、文字情報として、試料自体を識別する情報と描画データ名称と描画装置の識別情報とパターンを描画する日時と描画装置のオペレータ名とのうち少なくとも１つを含むと好適である。

また、描画装置は、さらに、試料に描画されるパターンの枠情報を入力し、文字情報とパターンの枠情報とに基づいて識別図形がパターンと重なるかどうかを検証する検証部を備えると好適である。

本発明の一態様の描画方法は、
試料の識別情報を示す識別図形の形状を特定させる文字情報を入力し、文字情報に基づいて識別図形の描画データを生成する工程と、
試料に描画されるパターンの描画データを入力し、パターンの描画データと識別図形の描画データとを合成する工程と、
合成された描画データを基に、試料にパターンと識別図形とを描画する工程と、
を備え、
前記文字情報として、前記パターンの描画データを前記描画装置に入力した日時情報と描画処理を開始した日時とのうち少なくとも１つを含み、
前記文字情報として、前記試料自体を識別する情報と前記描画データ名称と前記描画装置の識別情報と前記パターンを描画する日時と前記描画装置のオペレータ名とのうち少なくとも１つを含み、
前記描画装置は、さらに、前記試料に描画されるパターンの枠情報を入力し、前記文字情報と前記パターンの枠情報とに基づいて前記識別図形が前記パターンと重なるかどうかを検証する工程を備えたことを特徴とする。

本発明によれば、予め図形データを作成しておかなくても試料自体を識別する識別図形（ＩＤ図形）を描画することができる。さらに、描画直前の情報をも描画することが可能となる。

以下、各実施の形態では、荷電粒子ビームの一例として、電子ビームを用いた構成について説明する。但し、荷電粒子ビームは、電子ビームに限るものではなく、イオンビーム等の荷電粒子を用いたビームでも構わない。また、荷電粒子ビーム描画装置の一例として、特に、可変成形型の電子ビーム描画装置について説明する。以下、電子ビーム描画装置を一例として説明するが、これに限るものではなく、レーザマスク描画装置についても同様に当てはめることができる。

実施の形態１．
図１は、実施の形態１における描画装置の構成を示す概念図である。
図１において、描画装置１００は、描画部１５０と制御部１６０を備えている。描画装置１００は、荷電粒子ビーム描画装置の一例である。描画装置１００は、試料１０１に所定のパターンを描画する。描画部１５０は、描画室１０３と描画室１０３の上部に配置された電子鏡筒１０２を備えている。電子鏡筒１０２内には、電子銃２０１、照明レンズ２０２、第１のアパーチャ２０３、投影レンズ２０４、偏向器２０５、第２のアパーチャ２０６、対物レンズ２０７、及び偏向器２０８を有している。そして、描画室１０３内には、ＸＹステージ１０５が配置され、ＸＹステージ１０５上に描画対象となる試料１０１が配置される。試料１０１として、例えば、半導体装置が形成されるウェハにパターンを転写する露光用のマスクが含まれる。また、このマスクは、例えば、まだ何もパターンが形成されていないマスクブランクスが含まれる。制御部１６０は、描画データ処理部１１０、偏向制御回路１１２、デジタルアナログ変換器（ＤＡＣ）１１４，１１６、制御計算機１２０、キーボード（Ｋ／Ｂ）１２２、モニタ１２４、メモリ１２６、インターフェース（Ｉ／Ｆ）回路１２８、及び磁気ディスク装置１４０，１４２を有している。描画データ処理部１１０、偏向制御回路１１２、制御計算機１２０、Ｋ／Ｂ１２２、モニタ１２４、メモリ１２６、Ｉ／Ｆ回路１２８、及び磁気ディスク装置１４０，１４２は、互いに図示しないバスにより接続されている。また、偏向制御回路１１２には、ＤＡＣ１１４，１１６が接続されている。制御計算機１２０内には、ジョブ（ＪＯＢ）ファイル解釈部１０、識別（ＩＤ）描画データ生成部１２、描画データ合成部１４、検証部１６、及び座標／サイズ修正部１８が配置されている。ここで、図１では、制御計算機１２０内のＪＯＢファイル解釈部１０、ＩＤ描画データ生成部１２、描画データ合成部１４、検証部１６、及び座標／サイズ修正部１８といった各機能の処理をソフトウェアにより実施させても構わない。或いは、ＪＯＢファイル解釈部１０、ＩＤ描画データ生成部１２、描画データ合成部１４、検証部１６、及び座標／サイズ修正部１８といった各機能は、電気的な回路によるハードウェアにより構成されても構わない。或いは、電気的な回路によるハードウェアとソフトウェアとの組合せにより実施させても構わない。或いは、かかるハードウェアとファームウェアとの組合せでも構わない。また、ソフトウェアにより、或いはソフトウェアとの組合せにより実施させる場合には、制御計算機１２０に入力される情報或いは演算処理中及び処理後の各情報はその都度メモリ１２６に記憶される。図１では、本実施の形態１を説明する上で必要な構成部分以外については記載を省略している。描画装置１００にとって、通常、必要なその他の構成が含まれても構わないことは言うまでもない。

電子ビーム描画を行なうにあたり、まず、半導体集積回路のレイアウトが設計され、パターンレイアウトが定義されたレイアウトデータ（設計データ）が生成される。そして、外部の変換装置でかかるレイアウトデータが変換され、描画装置１００に入力可能な描画データ（チップ描画データ）が生成される。そして、試料に所定のパターンを描画するためのチップ描画データは、記憶部の一例となる磁気ディスク装置１４０に格納される。また、描画処理を行なうにあたって、その処理命令内容がＪＯＢファイルとして、作成される。そして、ＪＯＢファイルは、Ｉ／Ｆ回路１２８を介して、記憶部の一例となる磁気ディスク装置１４２に格納される。或いは、オペレータが入力手段となるＫ／Ｂ１２２からファイル内容を入力して、そして作成されたファイルを磁気ディスク装置１４２に格納してもよい。そして、ＪＯＢファイルには、今回描画する試料（マスク）を識別するための識別情報が文字情報（ＩＤ文字情報）として、定義される。また、ＪＯＢファイルの内容は、モニタ１２４に表示することができ、オペレータが入力手段となるＫ／Ｂ１２２から情報の入力、削除或いは修正等を行なうことができる。また、ＪＯＢファイルには、チップ描画データを描画するチップ枠の情報（サイズ、位置）も定義されると好適である。

図２は、実施の形態１における描画方法の要部工程について示すフローチャート図である。
図２において、実施の形態１における描画方法は、ＪＯＢファイル解釈工程（Ｓ１０２）、ＩＤ描画データ生成工程（Ｓ１０４）、描画データ合成工程（Ｓ１０６）、検証工程（Ｓ１０８）、座標／サイズ修正工程（Ｓ１１０）、描画データ処理工程（Ｓ１１２）及び描画工程（Ｓ１１４）という一連の工程を実施する。

Ｓ（ステップ）１０２において、ＪＯＢファイル解釈工程として、ＪＯＢファイル解釈部１０は、磁気ディスク装置１４２からＪＯＢファイルを読み出す。そして、ＪＯＢファイル解釈部１０は、ＪＯＢファイルの内容を解釈すると共に、ＩＤ文字情報の有無を確認する。

図３は、実施の形態１におけるＪＯＢファイルの一例を示す図である。
図３において、ＪＯＢファイル２０には、「ＬＡＹＯＵＴＮＡＭＥ」で表示されるレイアウト名が定義される。図３において、レイアウト名は、例えば「ＡＡＡＡ」と入力される。さらに、「ＩＤ０」で表示されるＩＤ文字情報０として、試料１０１自体を識別する情報が定義される。図３において、試料１０１自体を識別する情報は、例えば、シリアル番号が用いられ、例えば、「１２３４５６」で表示される。これは描画装置１００が自動で発生させても良いし、オペレータがＫ／Ｂ１２２から打ち込んでも構わない。さらに、「ＩＤ１」で表示されるＩＤ文字情報１として、描画データを描画装置１００に入力した日時が定義される。図３において、入力日時は、例えば「ＩＮＰＵＴＤＡＴＥ」で表示される。入力日時は、描画装置１００内の制御部１６０が搭載している時計機能から自動入力されると好適である。もちろん、オペレータがＫ／Ｂ１２２から入力日時を打ち込んでも構わない。さらに、「ＩＤ２」で表示されるＩＤ文字情報２として、入力した描画装置１００のシリアル番号とマスク基板の種類と描画後のプロセスとして使用するＰＥＢ装置のシリアル番号と現像装置のシリアル番号が定義される。図３において、描画装置１００のシリアル番号（識別情報）は、例えば「ＷＲＩＴＥＲ＿１２３」で表示される。マスク基板の種類は、例えば「ＥＵＶＰＬＡＴＥ」で表示される。ＰＥＢ装置のシリアル番号は、例えば「ＰＥＢ＿３３」で表示される。現像装置のシリアル番号は、例えば「ＤＺＶ＿１１」で表示される。さらに、「ＩＤ３」で表示されるＩＤ文字情報３として、上述した「ＡＡＡＡ」で定義されたレイアウト名（描画データの名称）が自動入力される。さらに、「ＩＤ４」で表示されるＩＤ文字情報４として、実際に描画処理を開始した描画日時が定義される。図３において、描画日時は、例えば「ＷＲＩＴＥＤＡＴＥ」で表示される。描画日時は、描画装置１００内の制御部１６０が搭載している時計機能から自動入力されると好適である。もちろん、オペレータがＫ／Ｂ１２２から入力日時を打ち込んでも構わない。さらに、「ＩＤ５」で表示されるＩＤ文字情報５として、対象マスクを描画する描画装置１００のオペレータ名が定義される。図３において、オペレータ名は、例えば「ＯＰＥＲＡＴＥＲ」で表示される。オペレータ名は、例えば、オペレータがＫ／Ｂ１２２から打ち込めばよい。もちろん事前にわかっていれば予め定義しておいても構わない。さらに、「ＭＡＳＫＳＩＺＥ」で表示されるマスクサイズが定義される。図３において、マスクサイズは、例えば「６」と入力される。さらに、「ＤＯＳＥ」で表示される描画する際に照射するドーズ量が定義される。ドーズ量は、例えば「１０」と入力される。さらに、「ＩＤ＿ＤＩＭＥＮＳＩＯＮ」で表示されるＩＤ文字情報として、ＩＤ文字情報を図形化して描画する際のＩＤ図形の規格が定義される。図３において、ＩＤ図形の規格は、例えば「ＱＲ」で表示される。さらに、「ＩＤ＿ＳＩＺＥ」で表示されるＩＤ文字情報として、ＩＤ図形のサイズが定義される。図３において、ＩＤ図形のサイズは、例えば「２５」で表示される。さらに、「ＩＤ＿Ｘ」で表示されるＩＤ文字情報として、ＩＤ図形の基準位置のＸ座標が定義される。図３において、ＩＤ図形の基準位置のＸ座標は、例えば「−７００００」で表示される。さらに、「ＩＤ＿Ｙ」で表示されるＩＤ文字情報として、ＩＤ図形の基準位置のＹ座標が定義される。図３において、ＩＤ図形の基準位置のＹ座標は、例えば「−７００００」で表示される。さらに、「ＣＨＩＰ１＿ＳＩＺＥ」で表示されるチップ枠情報として、本来の描画されるチップパターンのサイズ（チップ枠サイズ）が定義される。図３において、チップ枠サイズは、例えば「１００００」で表示される。さらに、「ＣＨＩＰ１＿Ｘ」で表示されるチップ枠情報として、本来の描画されるチップパターンの基準位置（チップ枠の基準位置）のＸ座標が定義される。図３において、チップパターンの基準位置のＸ座標は、例えば「−５００００」で表示される。さらに、「ＣＨＩＰ１＿Ｙ」で表示されるチップ枠情報として、描画されるチップパターンの基準位置のＹ座標が定義される。図３において、チップパターンの基準位置のＹ座標は、例えば「−５００００」で表示される。その他、ＪＯＢファイル２０には、「ＣＤ＿ＣＯＲＲＥＣＴＩＯＮ」で表示されるＣＤ寸法の補正を行なうかどうかの有無等が定義される。

Ｓ１０４において、ＩＤ描画データ生成工程として、ＩＤ描画データ生成部１２は、マスクの識別情報を示すＩＤ図形の形状を特定させるＪＯＢファイル２０内のＩＤ文字情報を入力し、ＩＤ文字情報に基づいてＩＤ図形の描画データ（ＩＤ描画データ）を生成する。ＩＤ描画データ生成部１２は、ＩＤ文字情報に基づいて、チップ描画データと同じフォーマットでＩＤ図形のＩＤ描画データを生成する。

図４は、実施の形態１におけるＩＤ図形の一例を示す図である。
図４では、“ＱＲコード”（登録商標）でＩＤ図形３０を生成した例を示している。しかしながら、ＩＤ図形の規格は、“ＱＲコード”（登録商標）に限定されるものではない。

図５は、実施の形態１におけるＩＤ図形の他の一例を示す図である。
図５では、“バーコード”でＩＤ図形３２を生成した例を示している。その他の規格として、例えば、“ＰＤＦ４１７”、“ＤａｔａＭａｔｒｉｘ”、“Ｍａｘｉ”、或いは“Ｃｏｄｅ”といった既存の規格でも構わない。ＩＤ図形は、１次元の図形でも、２次元の図形でも構わない。生成されたＩＤ描画データで描画されるＩＤ図形で上述したマスクの識別情報が格納されていればよい。

Ｓ１０６において、描画データ合成工程として、描画データ合成部１４は、磁気ディスク装置１４０からチップ描画データを読み出す。また、生成されたＩＤ描画データを入力し、両データを合成する。

Ｓ１０８において、検証工程として、検証部１６は、チップ描画データが示すチップパターンとＩＤ描画データが示すＩＤ図形とが重なるかどうかを検証する。
図６は、実施の形態１における検証内容を説明するための概念図である。
図６（ａ）では、試料１０１のチップ枠４０にＩＤ図形４２が重なっている状態を示している。この場合には、検証部１６は、検証結果としてＮＧと判定する。そして、Ｓ１１０へと進む。他方、図６（ｂ）では、試料１０１のチップ枠４０にＩＤ図形４４が重なっていない状態を示している。この場合には、検証部１６は、検証結果としてＯＫと判定する。そして、Ｓ１１２へと進む。この重なり検証は、合成した描画データに基づいて行なえばよい。その他の手法として、検証部１６は、ＪＯＢファイル２０に定義されたチップ枠サイズとチップ枠の基準位置とＩＤ図形の基準位置とＩＤ図形のサイズからチップパターンとＩＤ図形とが重なるかどうかを検証しても構わない。

Ｓ１１０において、座標／サイズ修正工程として、座標／サイズ修正部１８は、チップ枠４０にＩＤ図形４２が重なっている場合に、ＪＯＢファイル２０に定義されたＩＤ図形の基準位置或いはＩＤ図形のサイズを修正する。そして、ＪＯＢファイル２０のデータの修正後は、Ｓ１０４に戻る。そして、上述したＳ１０４〜Ｓ１０８の各工程を繰り返し、図６（ｂ）に示すようにチップ枠４０にＩＤ図形４４が重ならないように自動修正する。

Ｓ１１２において、描画データ処理工程として、描画データ処理部１１０は、合成された描画データを基に、さらに、複数段の変換処理の末に描画装置１００内のフォーマットのデータに変換する。

Ｓ１１４において、描画工程として、合成された描画データを基に処理が完了したデータを用いて、描画部１５０が試料１０１にチップパターンとＩＤ図形とを描画する。具体的には、以下のように動作する。

また、照射部の一例となる電子銃２０１から出た電子ビーム２００は、照明レンズ２０２により矩形例えば長方形の穴を持つ第１のアパーチャ２０３全体を照明する。ここで、電子ビーム２００をまず矩形例えば長方形に成形する。そして、第１のアパーチャ２０３を通過した第１のアパーチャ像の電子ビーム２００は、投影レンズ２０４により第２のアパーチャ２０６上に投影される。かかる第２のアパーチャ２０６上での第１のアパーチャ像の位置は、偏向器２０５によって偏向制御され、ビーム形状と寸法を変化させることができる。ここで、偏向器２０５は、ＤＡＣ１１４を介して偏向制御回路１１２によって制御される。その結果、電子ビーム２００は成形される。そして、第２のアパーチャ２０６を通過した第２のアパーチャ像の電子ビーム２００は、対物レンズ２０７により焦点を合わせ、偏向器２０８により偏向される。ここで、偏向器２０８は、ＤＡＣ１１６を介して偏向制御回路１１２によって制御される。また、偏向制御回路１１２は、描画データ処理部１１０で処理されたデータに従って出力された制御信号により制御される。その結果、電子ビーム２００は、連続移動するＸＹステージ１０５上の試料１０１の所望する位置に照射される。

以上のように、実施の形態１によれば、描画装置１００内で文字情報から試料１０１を識別するためのＩＤ描画データに変換する。そして、変換後は、そのまま、ＩＤ図形を描画することができる。よって、描画データを予め作成しておかなくても文字情報を描画装置１００に入力すればよい。そのため、描画直前の情報をＩＤ文字情報として盛り込むことができる。

以上の説明において、「〜部」或いは「〜工程」と記載したものは、コンピュータで動作可能なプログラムにより構成することができる。或いは、ソフトウェアとなるプログラムだけではなく、ハードウェアとソフトウェアとの組合せにより実施させても構わない。或いは、ハードウェアとファームウェアとの組合せでも構わない。また、プログラムにより構成される場合、プログラムは、磁気ディスク装置、磁気テープ装置、ＦＤ、ＣＤ、ＤＶＤ、ＭＯ或いはＲＯＭ等の読み取り可能な記録媒体に記録される。例えば、プログラムは、メモリ１２６に記憶される。或いは、別途、これらの記録媒体の少なくとも１つが制御計算機１２０或いは描画データ処理部１１０等に接続されればよい。或いは、制御計算機１２０或いは描画データ処理部１１０内部に搭載されていればよい。

以上、具体例を参照しつつ実施の形態について説明した。しかし、本発明は、これらの具体例に限定されるものではない。

また、装置構成や制御手法等、本発明の説明に直接必要しない部分等については記載を省略したが、必要とされる装置構成や制御手法を適宜選択して用いることができる。例えば、描画装置１００を制御する制御部構成については、記載を省略したが、必要とされる制御部構成を適宜選択して用いることは言うまでもない。

その他、本発明の要素を具備し、当業者が適宜設計変更しうる全ての描画方法及び装置は、本発明の範囲に包含される。

実施の形態１における描画装置の構成を示す概念図である。実施の形態１における描画方法の要部工程について示すフローチャート図である。実施の形態１におけるＪＯＢファイルの一例を示す図である。実施の形態１におけるＩＤ図形の一例を示す図である。実施の形態１におけるＩＤ図形の他の一例を示す図である。実施の形態１における検証内容を説明するための概念図である。従来の可変成形型電子線描画装置の動作を説明するための概念図である。

符号の説明

１０ＪＯＢファイル解釈部
１２ＩＤ描画データ生成部
１４描画データ合成部
１６検証部
１８座標／サイズ修正部
２０ＪＯＢファイル
３０，３２，４２，４４ＩＤ図形
４０チップ枠
１００描画装置
１０１，３４０試料
１０２電子鏡筒
１０３描画室
１０５ＸＹステージ
１１０描画データ処理部
１１２偏向制御回路
１１４，１１６ＤＡＣ
１２０制御計算機
１２２Ｋ／Ｂ
１２４モニタ
１２６メモリ
１２８Ｉ／Ｆ回路
１４０，１４２磁気ディスク装置
１５０描画部
１６０制御部
２００電子ビーム
２０１電子銃
２０２照明レンズ
２０３，４１０第１のアパーチャ
２０４投影レンズ
２０５，２０８偏向器
２０６，４２０第２のアパーチャ
２０７対物レンズ
３３０電子線
４１１開口
４２１可変成形開口
４３０荷電粒子ソース

Claims

試料の識別情報を示す識別図形の形状を特定させる文字情報を入力し、前記文字情報に基づいて前記識別図形の描画データを生成する生成部と、
前記試料に描画されるパターンの描画データを入力し、前記パターンの描画データと前記識別図形の描画データとを合成する合成部と、
合成された描画データを基に、前記試料に前記パターンと前記識別図形とを描画する描画部と、
を備え、
前記文字情報として、前記パターンの描画データを前記描画装置に入力した日時情報と描画処理を開始した日時とのうち少なくとも１つを含み、
前記文字情報として、前記試料自体を識別する情報と前記描画データ名称と前記描画装置の識別情報と前記パターンを描画する日時と前記描画装置のオペレータ名とのうち少なくとも１つを含み、
前記描画装置は、さらに、前記試料に描画されるパターンの枠情報を入力し、前記文字情報と前記パターンの枠情報とに基づいて前記識別図形が前記パターンと重なるかどうかを検証する検証部を備えたことを特徴とする描画装置。
試料の識別情報を示す識別図形の形状を特定させる文字情報を入力し、前記文字情報に基づいて前記識別図形の描画データを生成する工程と、
前記試料に描画されるパターンの描画データを入力し、前記パターンの描画データと前記識別図形の描画データとを合成する工程と、
合成された描画データを基に、前記試料に前記パターンと前記識別図形とを描画する工程と、
を備え、
前記文字情報として、前記パターンの描画データを前記描画装置に入力した日時情報と描画処理を開始した日時とのうち少なくとも１つを含み、
前記文字情報として、前記試料自体を識別する情報と前記描画データ名称と前記描画装置の識別情報と前記パターンを描画する日時と前記描画装置のオペレータ名とのうち少なくとも１つを含み、
前記描画装置は、さらに、前記試料に描画されるパターンの枠情報を入力し、前記文字情報と前記パターンの枠情報とに基づいて前記識別図形が前記パターンと重なるかどうかを検証する工程を備えたことを特徴とする描画方法。