JP2017068002A - 補正情報生成装置、描画装置、補正情報生成方法および描画方法 - Google Patents
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Abstract
Description
9 基板
12 ステージ移動機構
13 光源部
31,31a 補正情報生成装置
32 描画データ補正部
93 対象目印
94 対象目印群
95 隣接領域
96 対象目印列
141 空間光変調器
311 設計位置記憶部
312 測定位置取得部
313 繰り返し制御部
314 補正情報生成部
315 対象目印列取得部
S11〜S18,S21〜S27 ステップ
Claims (8)
- 基板上の目印の位置情報に基づいて、前記基板に描画する画像の描画データの補正に利用される補正情報を生成する補正情報生成装置であって、
基板上において縦方向および横方向に格子状に配置された複数の対象目印である対象目印群の設計位置を記憶する設計位置記憶部と、
前記対象目印群を撮影した画像である測定画像において、一の対象目印である注目目印の測定位置を取得し、前記注目目印から前記縦方向または前記横方向に所定の距離だけ離れた位置である隣接中心位置を中心とする所定の大きさの隣接領域に注目し、前記隣接領域に含まれる目印を前記注目目印に隣接する隣接目印として抽出し、前記隣接目印の測定位置を取得する測定位置取得部と、
前記測定取得部を制御することにより、前記測定画像上の全対象目印の測定位置が取得されるまで、前記隣接目印を新たな注目目印として、前記新たな注目目印に隣接する新たな隣接目印の測定位置の取得を繰り返す繰り返し制御部と、
前記測定画像上の前記全対象目印の前記測定位置を前記対象目印群の前記設計位置に対応付け、対応する測定位置と設計位置との差に基づいて、描画データの補正に利用される補正情報を生成する補正情報生成部と、
を備えることを特徴とする補正情報生成装置。 - 請求項1に記載の補正情報生成装置であって、
前記測定位置取得部により、前記対象目印群のうち前記縦方向および前記横方向の一方の方向において最も端に位置する一の対象目印が前記注目目印とされ、
前記対象目印群を、それぞれが前記縦方向および前記横方向の他方の方向において前記対象目印群の全長に亘って延びる複数の対象目印列の集合とし、前記繰り返し制御部により前記測定取得部が制御されることにより、前記注目目印を含む対象目印列の測定位置が最初に取得され、既に測定位置が取得された対象目印列と前記一方の方向において隣接する対象目印列の測定位置が順に取得されることを特徴とする補正情報生成装置。 - 基板上の目印の位置情報に基づいて、前記基板に描画する画像の描画データの補正に利用される補正情報を生成する補正情報生成装置であって、
基板上において縦方向および横方向に格子状に配置された複数の対象目印である対象目印群の設計位置を記憶する設計位置記憶部と、
前記対象目印群を撮影した画像である測定画像において、前記対象目印群のうち前記縦方向および前記横方向の一方の方向において最も端に位置する一の対象目印である注目目印の測定位置を取得し、前記注目目印から前記縦方向および前記横方向の他方の方向に所定の距離だけ離れた位置である隣接中心位置を中心とする所定の大きさの隣接領域に注目し、前記隣接領域に含まれる目印を前記注目目印に隣接する隣接目印として抽出し、前記隣接目印の測定位置を取得する測定位置取得部と、
前記測定位置取得部を制御することにより、前記注目目印を含むとともに前記他方の方向において前記対象目印群の全長に亘って延びる注目対象目印列において、前記隣接目印を新たな注目目印として、前記新たな注目目印と前記他方の方向に隣接する新たな隣接目印の測定位置の取得を繰り返し、前記注目対象目印列の全対象目印の測定位置を取得する対象目印列取得部と、
前記対象目印列取得部を制御することにより、前記測定画像上の全対象目印の測定位置が取得されるまで、前記対象目印群から既に測定位置が取得された対象目印列を除いた未取得対象目印群のうち、前記一方の方向において最も端に位置する一の対象目印である次の注目目印の測定位置を取得し、前記次の注目目印を含む次の注目対象目印列の全対象目印の測定位置の取得を繰り返す繰り返し制御部と、
前記測定画像上の前記全対象目印の前記測定位置を前記対象目印群の前記設計位置に対応付け、対応する測定位置と設計位置との差に基づいて、描画データの補正に利用される補正情報を生成する補正情報生成部と、
を備えることを特徴とする補正情報生成装置。 - 基板上に画像を描画する描画装置であって、
光源部と、
請求項1ないし3のいずれかに記載の補正情報生成装置と、
前記補正情報生成装置により生成された補正情報を利用して基板に描画する画像の描画データを補正する描画データ補正部と、
前記描画データ補正部により補正された描画データに基づいて前記光源部からの光を変調する光変調部と、
前記光変調部により変調された光を前記基板上にて走査する走査機構と、
を備えることを特徴とする描画装置。 - 基板上の目印の位置情報に基づいて、前記基板に描画する画像の描画データの補正に利用される補正情報を生成する補正情報生成方法であって、
a)基板上において縦方向および横方向に格子状に配置された複数の対象目印である対象目印群の設計位置を準備する工程と、
b)前記対象目印群を撮影した画像である測定画像において、一の対象目印である注目目印の測定位置を取得する工程と、
c)前記注目目印から前記縦方向または前記横方向に所定の距離だけ離れた位置である隣接中心位置を中心とする所定の大きさの隣接領域に注目し、前記隣接領域に含まれる目印を前記注目目印に隣接する隣接目印として抽出し、前記隣接目印の測定位置を取得する工程と、
d)前記測定画像上の全対象目印の測定位置が取得されるまで、前記c)工程にて測定位置が取得された前記隣接目印を新たな注目目印として前記c)工程を繰り返し、前記新たな注目目印に隣接する新たな隣接目印の測定位置を取得する工程と、
e)前記d)工程にて取得された前記測定画像上の前記全対象目印の前記測定位置を前記対象目印群の前記設計位置に対応付け、対応する測定位置と設計位置との差に基づいて、描画データの補正に利用される補正情報を生成する工程と、
を備えることを特徴とする補正情報生成方法。 - 請求項5に記載の補正情報生成方法であって、
前記b)工程では、前記対象目印群のうち前記縦方向および前記横方向の一方の方向において最も端に位置する一の対象目印が前記注目目印とされ、
前記c)工程および前記d)工程では、前記対象目印群を、それぞれが前記縦方向および前記横方向の他方の方向において前記対象目印群の全長に亘って延びる複数の対象目印列の集合とし、前記b)工程にて選択された前記注目目印を含む対象目印列の測定位置が最初に取得され、既に測定位置が取得された対象目印列と前記一方の方向において隣接する対象目印列の測定位置が順に取得されることを特徴とする補正情報生成方法。 - 基板上の目印の位置情報に基づいて、前記基板に描画する画像の描画データの補正に利用される補正情報を生成する補正情報生成方法であって、
a)基板上において縦方向および横方向に格子状に配置された複数の対象目印である対象目印群の設計位置を準備する工程と、
b)前記対象目印群を撮影した画像である測定画像において、前記対象目印群のうち前記縦方向および前記横方向の一方の方向において最も端に位置する一の対象目印である注目目印の測定位置を取得する工程と、
c)前記注目目印から前記縦方向および前記横方向の他方の方向に所定の距離だけ離れた位置である隣接中心位置を中心とする所定の大きさの隣接領域に注目し、前記隣接領域に含まれる目印を前記注目目印に隣接する隣接目印として抽出し、前記隣接目印の測定位置を取得する工程と、
d)前記注目目印を含むとともに前記他方の方向において前記対象目印群の全長に亘って延びる注目対象目印列において、前記c)工程にて測定位置が取得された前記隣接目印を新たな注目目印として前記c)工程を繰り返し、前記新たな注目目印に隣接する新たな隣接目印の測定位置の取得を繰り返し、前記注目対象目印列の全対象目印の測定位置を取得する工程と、
e)前記測定画像上の全対象目印の測定位置が取得されるまで、前記対象目印群から既に測定位置が取得された対象目印列を除いた未取得対象目印群のうち、前記一方の方向において最も端に位置する一の対象目印である次の注目目印の測定位置を取得し、前記次の注目目印について前記c)工程および前記d)工程を行って前記次の注目目印を含む次の注目対象目印列の全対象目印の測定位置の取得を繰り返す工程と、
f)前記e)工程にて取得された前記測定画像上の前記全対象目印の前記測定位置を前記対象目印群の前記設計位置に対応付け、対応する測定位置と設計位置との差に基づいて、描画データの補正に利用される補正情報を生成する工程と、
を備えることを特徴とする補正情報生成方法。 - 基板上に画像を描画する描画方法であって、
請求項5ないし7のいずれかに記載の補正情報生成方法により補正情報を取得する工程と、
前記補正情報を利用して基板に描画する画像の描画データを補正する工程と、
補正された描画データに基づいて変調された光を基板上にて走査する工程と、
を備えることを特徴とする描画方法。
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