JP2007013168A - リソグラフィ装置の基板整列 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板W上に、幾何学的基準から整列マークが入りそうなウインドウの位置を定めa、このウインドウの中で整列マークの位置を測定しb、整列マークの実測位置とウインドウの位置の間の関係を決めc、この関係をデータベースに記憶しd、基板Wを整列マークの実測位置を使って整列するe。後の基板の整列のためにこれらを繰返すが、マーク位置測定の前に、ウインドウの位置を一つ以上の先行整列について記憶した上記関係を使って修正する。先行整列の結果を記憶し、それに多様なデータ処理が行えるので、高精度、高信頼性の整列が得られ、異なる処理装置間に相互運用の可能性が拡がる。
【選択図】図7
Description
− この製造装置によって処理すべき物体のパラメータを検出する工程、
− この物体の検出したパラメータをデータベースに記憶する工程、および
− この記憶したパラメータから診断情報を誘導する工程を含む方法が提供される。
1.ステップモードでは、放射線ビームに与えた全パターンを目標部分C上に一度に(即ち、単一静的露光で)投影する間、マスクテーブルMTまたは“マスク支持体”および基板テーブルWTまたは“基板支持体”を本質的に固定して保持する。次に基板テーブルWTまたは“基板支持体”をXおよび/またはY方向に移動して異なる目標部分Cを露光できるようにする。ステップモードでは、露光領域の最大サイズが単一静的露光で結像する目標部分Cのサイズを制限する。
2.走査モードでは、放射線ビームの与えたパターンを目標部分C上に投影(即ち、単一動的露光)しながら、マスクテーブルMTまたは“マスク支持体”および基板テーブルWTまたは“基板支持体”を同期して走査する。マスクテーブルMTまたは“マスク支持体”に対する基板テーブルWTまたは“基板支持体”の速度および方向は、投影システムPSの(縮)倍率および像反転特性によって決るかも知れない。走査モードでは、露光領域の最大サイズが単一動的露光での目標部分の幅(非走査方向の)を制限し、一方走査運動の長さが目標部分の高さ(走査方向の)を決める。
3.もう一つのモードでは、プログラム可能パターニング装置を保持するマスクテーブルMTまたは“マスク支持体”を本質的に固定し、放射線ビームに与えたパターンを目標部分C上に投影しながら、基板テーブルWTまたは“基板支持体”を動かしまたは走査する。このモードでは、一般的にパルス化した放射線源を使用し、プログラム可能パターニング装置を基板テーブルWTまたは“基板支持体”の各運動後または走査中の連続する放射線パルスの間に必要に応じて更新する。この作動モードは、上に言及した型式のプログラム可能ミラーアレイのような、プログラム可能パターニング装置を利用するマスクレス・リソグラフィに容易に適用できる。
上に説明した使用モードの組合せおよび/または変形または全く異なった使用モードも使ってよい。
AM1 整列マーク
AM2 整列マーク
CEN 中心
DB データベース
E 幾何学的基準、エッジ
W 基板、物体
WIN ウインドウ
WIN1 ウインドウ
WIN2 ウインドウ
Claims (31)
- リソグラフィ装置で基板を整列するための方法であって、
a)この基板の幾何学的基準から基板上のウインドウの位置を決め、該ウインドウが中にこの基板の整列マークを予想できる領域を示す工程、
b)このウインドウの中のこの整列マークの位置を測定する工程、
c)この整列マークの実測位置とこのウインドウの位置の間の関係を決める工程、
d)この基板についてこの整列マークの実測位置とこのウインドウの位置の間の関係をデータベースに記憶する工程、
e)この整列マークの実測位置を使ってこの基板を整列する工程、および
f)この基板の後の整列のためにa)ないしe)を繰返す工程を含み、b)の前にこのウインドウの位置を、少なくとも一つの先行整列についてこのデータベースに記憶したこの整列マークの実測位置とこのウインドウの位置の間の関係を使って修正する方法。 - 請求項1に記載の方法に於いて、a)が上記基板のエッジを検出する工程および幾何学的アルゴリズムでこのエッジに関する上記ウインドウの位置を決める工程を含む方法。
- 請求項1に記載の方法に於いて、c)が上記整列マークの実測位置と上記ウインドウの中心の位置の間のオフセットを決める工程を含む方法。
- 請求項3に記載の方法に於いて、d)が上記オフセットを上記データベースに記憶する工程を含む方法。
- 請求項1に記載の方法に於いて、c)を繰返すとき、c)での上記ウインドウの位置がa)で決めた上記ウインドウの位置を含む方法。
- 請求項1に記載の方法に於いて、c)を繰返すとき、c)での上記ウインドウの位置がb)の前に修正した修正位置を含む方法。
- 請求項1に記載の方法に於いて、d)が更に上記データベースで上記関係を、上記基板を識別するための基板標識に関係付ける工程を含む方法。
- 請求項1による方法に於いて、上記整列マークの実測位置と上記ウインドウの位置の間の関係が上記整列マークの実測位置と上記ウインドウの位置の間のオフセットを含み、およびf)が上記基板の少なくとも二つの先行整列について上記データベースに記憶したオフセットを平均化する工程を含む方法。
- 請求項8に記載の方法に於いて、平均化する前に、上記基板の少なくとも二つの先行整列について上記データベースに記憶したオフセットに重み係数を掛け、この平均化をこの重み係数を掛けたオフセットについて行う方法。
- 請求項9に記載の方法に於いて、上記重み係数が複数の整列後に最終値の方へ増加する方法。
- 請求項10に記載の方法に於いて、上記最終値が0.5と0.7の間にある方法。
- 請求項8に記載の方法であって、更に、
少なくとも二つの基板について、この少なくとも二つの基板の各々について上記記憶したオフセットと上記平均したオフセットとの間の差を決める工程、および
この少なくとも二つの基板の各々について上記記憶したオフセットと上記平均したオフセットとの間の差の平均を決めることによって上記リソグラフィ装置のドリフト誤差を決める工程
によって上記リソグラフィ装置のドリフト誤差を決める工程を含む方法。 - リソグラフィ装置のドリフト誤差を決めるための方法であって、
a)少なくとも二つの基板の幾何学的基準からこれらの基板の各々上のウインドウの位置を決め、このウインドウが中にこの基板の整列マークを予想できるできる領域を示す工程、
b)これらの基板の各々についてこのウインドウの中のこの整列マークの位置を測定する工程、
c)これらの基板の各々についてこの整列マークの実測位置とこのウインドウの位置の間の関係を決める工程、
d)これらの基板の各々についてこの整列マークの実測位置とこのウインドウの位置の間の関係をデータベースに記憶する工程、
e)a)ないしd)を少なくとも一度繰返す工程、
f)これらの基板(W)の各々についてd)で記憶した関係を平均化する工程、
g)少なくとも二つの基板(W)の各々について、記憶した関係と平均化した関係の間の差を決める工程、および
h)g)で決めた差の平均値を決めることによってこのリソグラフィのドリフト誤差を決める工程を含む方法。 - 請求項13に記載の方法に於いて、a)ないしd)を繰返すとき、b)の繰返しを別のリソグラフィ装置に行って、次に先のb)を行う方法。
- リソグラフィ装置で基板を整列するための方法であって、
a)この基板の幾何学的基準からこの基板上の少なくとも二つのウインドウのそれぞれの位置を決め、これらのウインドウが中にこの基板の整列マークを予想できる領域を示す工程、
b)これらのウインドウの各々の中のこのそれぞれの整列マークの位置を測定する工程、
c)これらの整列マークの各々について、このそれぞれの整列マークの実測位置とこのそれぞれのウインドウの予想する整列マーク位置の間の差を決める工程、
d)これらの差の合計が減るであろう、この基板の位置を決める工程、および
e)この基板をこの決めた位置へ運ぶ工程を含む方法。 - 複数の物体を処理するための製造装置を診断するための方法であって、
この製造装置によって処理すべき物体のパラメータを検出する工程、
この物体の検出したパラメータをデータベースに記憶する工程、および
この記憶したパラメータから診断情報を誘導する工程を含む方法。 - 請求項16に記載の方法に於いて、上記記憶したパラメータから診断情報を誘導する工程が、複数の物体について記憶したパラメータから診断情報を誘導する工程を含む方法。
- 請求項16に記載の方法に於いて、上記記憶したパラメータから診断情報を誘導する工程が、少なくとも二つの製造装置について記憶したパラメータから診断情報を誘導する工程を含む方法。
- 請求項16に記載の方法に於いて、上記記憶したパラメータから診断情報を誘導する工程が、同じ物体の複数の処理について記憶したパラメータから診断情報を誘導する工程を含む方法。
- 請求項16に記載の方法に於いて、上記製造装置が、リソグラフィ装置、基板ハンドラ、および基板エッチング機械の少なくとも一つを含む方法。
- 請求項16に記載の方法に於いて、上記物体が基板を含む方法。
- 請求項21に記載の方法に於いて、上記パラメータが上記基板の整列データを含む方法。
- 請求項22に記載の方法に於いて、上記整列データが、中に整列マークを予想できるウインドウの位置に対するこの整列マークの位置を含む方法。
- コンピュータで実行すると、請求項1に記載の方法を実施するためのプログラム命令を含むコンピュータプログラム。
- コンピュータで実行すると、請求項13に記載の方法を実施するためのプログラム命令を含むコンピュータプログラム。
- コンピュータで実行すると、請求項15に記載の方法を実施するためのプログラム命令を含むコンピュータプログラム。
- コンピュータで実行すると、請求項16に記載の方法を実施するためのプログラム命令を含むコンピュータプログラム。
- 請求項1に記載の方法を実施するためのプログラム命令を含み、少なくとも一つのリソグラフィ装置におよび上記データベースに機能するように接続してあるデータ処理装置。
- 請求項13に記載の方法を実施するためのプログラム命令を含み、少なくとも一つのリソグラフィ装置におよび上記データベースに機能するように接続してあるデータ処理装置。
- 請求項15に記載の方法を実施するためのプログラム命令を含み、少なくとも一つのリソグラフィ装置におよびデータベースに機能するように接続してあるデータ処理装置。
- 請求項16に記載の方法を実施するためのプログラム命令を含み、少なくとも一つのリソグラフィ装置におよび前記データベースに機能するように接続してあるデータ処理装置。
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