JP2007027718A - リソグラフィ装置又はその一部を較正又は検定する方法及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置又はその一部を検定又は較正する方法において、チョーベネットの判定基準などの所定の客観的判定基準を使用して、視野毎に、又は基板毎に個々に測定ポイントが除外される。
【選択図】図2
Description
複数の測定値を含んだ第1のデータ・セットを生成するために、リソグラフィ装置の性能を表すパラメータの値を、複数の異なる位置で、複数回にわたって測定し、且つ/又はリソグラフィ装置の複数の設定値で測定するステップと、
第1のデータ・セットのサブセットである第2のデータ・セットを生成するステップであって、前記第1のデータ・セットのうちの前記第2のデータ・セットに包含するためのデータ値を選択する所定の判定基準を使用して生成するステップと、
第2のデータ・セットから較正値を引き出すために所定の統計的プロセスを使用するステップとを含む方法が提供される。
複数の測定値を含んだ第1のデータ・セットを生成するために、リソグラフィ装置の性能を表すパラメータの値を、複数の異なる位置で、複数回にわたって測定し、且つ/又はリソグラフィ装置の複数の異なる設定値で測定するステップと、
第1のデータ・セットのサブセットである第2のデータ・セットを生成するステップであって、前記第1のデータ・セットのうちの前記第2のデータ・セットに包含するためのデータ値を選択する所定の判定基準を使用して生成するステップと、
第2のデータ・セットから較正値を引き出すために所定の統計的プロセスを使用するステップと
によってリソグラフィ装置を較正するステップと、
リソグラフィ装置のパラメータを調整するために、較正値を使用して第2の基板にデバイス・パターンを転送するステップとを含む方法が提供される。
複数の測定値を含んだ第1のデータ・セットを生成するために、前記部分の所望の品質を表すパラメータの値を、複数の異なる位置で測定し、且つ/又は複数回にわたって測定するステップと、
第1のデータ・セットのサブセットである第2のデータ・セットを生成するステップであって、前記第1のデータ・セットのうちの前記第2のデータ・セットに包含するためのデータ値を選択する所定の判定基準を使用して生成するステップと、
第2のデータ・セットから検定値を引き出すために所定の統計的プロセスを使用するステップであって、前記部分を使用する是非を検定値に基づいて判断することができるステップとを含む方法が提供される。
− 放射ビームB(たとえばUV放射又はDUV放射)を条件付けるようになされた照明システム(イルミネータ)IL
− パターニング・デバイス(たとえばマスク)MAを支持するように構築された、特定のパラメータに従って該パターニング・デバイスを正確に位置決めするようになされた第1のポジショナPMに接続された支持構造(たとえばマスク・テーブル)MT
− 基板(たとえばレジスト被覆ウェハ)Wを保持するように構築された、特定のパラメータに従って該基板を正確に位置決めするようになされた第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(たとえばウェハ・テーブル)WT
− パターニング・デバイスMAによって放射ビームBに付与されたパターンを基板Wの目標部分C(たとえば1つ又は複数のダイが含まれている)に投影するようになされた投影システム(たとえば屈折投影レンズ系)PS
を備えている。
1.ステップ・モード:マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTが基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターン全体が目標部分Cに1回で投影される(即ち単一静止露光)。次に、基板テーブルWTがX方向及び/又はY方向にシフトされ、異なる目標部分Cが露光される。ステップ・モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一静止露光で画像化される目標部分Cのサイズが制限される。
2.走査モード:放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影されている間、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTが同期走査される(即ち単一動的露光)。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの倍率(縮小率)及び画像反転特性によって決まる。走査モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一動的露光における目標部分の幅(非走査方向の幅)が制限され、また、走査運動の長さによって目標部分の高さ(走査方向の高さ)が決まる。
3.その他のモード:プログラム可能パターニング・デバイスを保持するべくマスク・テーブルMTが基本的に静止状態に維持され、放射ビームに付与されたパターンが目標部分Cに投影されている間、基板テーブルWTが移動又は走査される。このモードでは、通常、パルス放射源が使用され、走査中、基板テーブルWTが移動する毎に、或いは連続する放射パルスと放射パルスの間に、必要に応じてプログラム可能パターニング・デバイスが更新される。この動作モードは、上で参照したタイプのプログラム可能ミラー・アレイなどのプログラム可能パターニング・デバイスを利用しているマスクレス・リソグラフィに容易に適用することができる。
であることが仮定されている。この誤差は、定義によって、
で表すことができる。
「平均からの逸脱が生じる確率が1/2nより小さい場合、一連のn個の測値からその特定の測値が除外される。」
− 最初に、個々の格子ポイントiの特定のウェハj毎に偏心率ei、jが計算され、
− 次に、チョーベネットの判定基準が適用され、偏心率が客観的統計的基準を超えている、つまりei、j>ecである変動性の大きい領域の個々のウェハ・ポイントが除外される。
その結果、信頼性の高いウェハ・ポイントのみが含まれている第3のデータ・セットDS3が得られる。したがって、n枚の試験ウェハの一部又はすべてに対して、それぞれm個未満のポイントが存在しているが、失われるポイントが個々のウェハで同じであってはならない。除外する測値が多すぎる場合、すべての測定が繰り返される。
− 有効検定領域の百分率[%]を基板j毎に計算する。この領域は、ステップS4で除外されたデータ・ポイントを参照することによって決定される。
− それまでと同じ統計的判定基準を使用し、且つ、異なるパラメータ、つまり有効領域の百分率を適用して、適合しない1つ又は複数の基板を除外する。
− 最初に、個々の視野ポイントiの特定の視野j毎に偏心率ei、jが計算され、
− 次に、チョーベネットの判定基準が適用され、偏心率が客観的統計的基準を超えている、つまりei、j>ecである変動性の大きい領域の個々の視野ポイントが除外される。
− 有効検定領域の百分率[%]を視野j毎に計算する。この領域は、上で説明したように、視野毎に測値を除外することによって決定される。
− 同じ統計的判定基準を使用し、且つ、異なるパラメータ、つまりej>ecである有効領域の百分率を適用して、適合しない1つ又は複数の視野を除外する。
− 適合しない1つ又は複数の視野を除外した後、新しい平均及び新しい標準偏差(及び誤差)を視野ポイント毎に再計算し、フィルタリングされた新しい検定マップを特性化する。
− 単一ポイント(部分視野)を除外する(すべての視野が維持されるが、特定の視野の特定のポイントから部分的に除外される)
− 視野を除外する(孤立値が極端に多い視野のみが完全に除外される)
− 単一ポイントの除外と視野の除外を組み合わせる
B 放射ビーム
BD ビーム引渡しシステム
C 基板の目標部分
CO コンデンサ
DS1〜DS5 データ・セット
IF 位置センサ
IL 照明システム(イルミネータ)
IN インテグレータ
MA パターニング・デバイス(マスク)
MT 支持構造(マスク・テーブル)
M1、M2 マスク・アライメント・マーク
PM 第1のポジショナ
PS 投影システム
PW 第2のポジショナ
P1、P2 基板アライメント・マーク
SO 放射源
S1〜S7 ステップ
W 基板
WT 基板テーブル
Claims (25)
- リソグラフィ装置を較正する方法であって、
複数の測定値を含んだ第1のデータ・セットを生成するために、前記リソグラフィ装置の性能を表すパラメータの値を、複数の異なる位置で、複数回にわたって測定し、且つ/又は前記リソグラフィ装置の複数の設定値で測定するステップと、
前記第1のデータ・セットのサブセットである第2のデータ・セットを生成するステップであって、前記第1のデータ・セットのうちの前記第2のデータ・セットに包含するためのデータ値を選択する所定の判定基準を使用して生成するステップと、
前記第2のデータ・セットから較正値を引き出すために所定の統計的プロセスを使用するステップとを含む方法。 - 前記パラメータが、1つ又は複数の次元におけるオーバレイ性能及び集束性能のうちのいずれかを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記複数の測値が、基板の領域全体に間隔を隔てて配置された異なる位置で獲得される、請求項1に記載の方法。
- 前記複数の測値が、複数の異なる基板を使用して獲得される、請求項1に記載の方法。
- 前記複数の測値が、前記複数の基板の個々の基板上で獲得された複数の測値を含む、請求項4に記載の方法。
- 前記所定の判定基準が個々の基板の個々の測値を選択又は除外するために個々に適用され、次に、第2の判定基準が個々の基板の測値の複数のグループに集合的に適用され、それによりそのグループのすべての測値が選択又は除外される、請求項5に記載の方法。
- 前記第2の所定の判定基準が、閾値に対する前記所定の判定基準によって除外された個々のグループの測値の割合の比較を含む、請求項6に記載の方法。
- 前記複数のグループの各々が、対応する基板のすべての測値を含む、請求項6に記載の方法。
- 前記複数のグループの各々が、対応する基板の視野のすべての測値を含む、請求項6に記載の方法。
- 前記所定の判定基準がチョーベネットの判定基準又はパースの判定基準である、請求項1に記載の方法。
- 前記所定の判定基準が絶対閾値である、請求項1に記載の方法。
- パターニング・デバイスから基板へパターンを転送するようになされたリソグラフィ装置を使用したデバイス製造方法であって、
複数の測定値を含んだ第1のデータ・セットを生成するために、前記リソグラフィ装置の性能を表すパラメータの値を、複数の異なる位置で、複数回にわたって測定し、且つ/又は前記リソグラフィ装置の複数の異なる設定値で測定するステップと、
前記第1のデータ・セットのサブセットである第2のデータ・セットを生成するステップであって、前記第1のデータ・セットのうちの前記第2のデータ・セットに包含するためのデータ値を選択する所定の判定基準を使用して生成するステップと、
前記第2のデータ・セットから較正値を引き出すために所定の統計的プロセスを使用するステップ
とによって前記リソグラフィ装置を較正するステップと、
前記リソグラフィ装置のパラメータを調整するために、前記較正値を使用して第2の基板にデバイス・パターンを転送するステップとを含む方法。 - リソグラフィ装置の一部を検定する方法であって、
複数の測定値を含んだ第1のデータ・セットを生成するために、前記部分の所望の品質を表すパラメータの値を、複数の異なる位置で測定し、且つ/又は複数回にわたって測定するステップと、
前記第1のデータ・セットのサブセットである第2のデータ・セットを生成するステップであって、前記第1のデータ・セットのうちの前記第2のデータ・セットに包含するためのデータ値を選択する所定の判定基準を使用して生成するステップと、
前記第2のデータ・セットから検定値を引き出すために所定の統計的プロセスを使用するステップであって、前記部分を使用する是非を前記検定値に基づいて判断することができるステップとを含む方法。 - 前記複数の測値が、基板の領域全体に間隔を隔てて配置された異なる位置で獲得される、請求項13に記載の方法。
- 前記複数の測値が、複数の異なる基板を使用して獲得される、請求項13に記載の方法。
- 前記複数の測値が、前記複数の基板の個々の基板上で獲得された複数の測値を含む、請求項15に記載の方法。
- 前記所定の判定基準が個々の基板の個々の測値を選択又は除外するために個々に適用され、次に、第2の判定基準が個々の基板の測値の複数のグループに集合的に適用され、それによりそのグループのすべての測値が選択又は除外される、請求項16に記載の方法。
- 前記第2の所定の判定基準が、閾値に対する前記所定の判定基準によって除外された個々のグループの測値の割合の比較を含む、請求項17に記載の方法。
- 前記複数のグループの各々が、対応する基板のすべての測値を含む、請求項17に記載の方法。
- 前記複数のグループの各々が、対応する基板の視野のすべての測値を含む、請求項17に記載の方法。
- 前記所定の判定基準がチョーベネットの判定基準又はパースの判定基準である、請求項13に記載の方法。
- 前記所定の判定基準が絶対閾値である、請求項13に記載の方法。
- 前記部分が基板ホルダであり、前記パラメータが前記基板ホルダの平面度である、請求項13に記載の方法。
- 前記部分が投影システムであり、前記パラメータが修正不能誤差である、請求項13に記載の方法。
- 前記部分が基準基板ホルダであり、前記パラメータが前記基準基板の平面度である、請求項13に記載の方法。
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