TWI728344B - 描繪裝置以及描繪方法 - Google Patents

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Abstract

本發明係提供一種能於資訊區域描繪必要的資訊之描繪裝置以及描繪方法。將已以向量形式記述的圖案資料PD轉換成光柵形式，並進一步接受已基於基板S的歪曲之修正處理，藉此生成修正後描繪資料HD。於修正後描繪資料HD合成有用以顯示曝光資訊之指定文字資料RD並生成最終描繪資料DD。在曝光單元3中，依據最終描繪資料DD將經過調變的雷射光照射至基板S並進行描繪處理。以侷限在已以最大預定文字數將用以顯示曝光資訊之資訊區域分割後的分割區域的尺寸之方式，將候補文字的文字字型予以點陣圖轉換並作為文字資料CD預先準備。將作為曝光資訊被指定的指定文字與已準備的文字資料CD置換並合成至資訊區域。

Description

描繪裝置以及描繪方法
本發明係有關於一種描繪裝置以及描繪方法，係依據描繪資料對形成有感光體之印刷基板、半導體基板、玻璃基板等(以下單純稱為「基板」)照射光線，藉此於該基板描繪圖案(pattern)。
已知有一種曝光裝置，係對形成有阻劑(resist)等感光體之基板掃描並照射雷射光，藉此連續性地進行局部性的曝光並對該基板描繪期望的電路圖案。由於此種曝光裝置無須使用遮罩而是依據描繪資料照射經過調變的雷射光藉此直接地對基板描繪電路圖案，因此作為直接描繪裝置(直繪裝置)而廣為人知(參照例如專利文獻1、2)。
[先前技術文獻] [專利文獻] 專利文獻1：日本特開2010-204421號公報。 專利文獻2：日本特開2016-31502號公報。
[發明所欲解決之課題]
在未使用遮罩之直接描繪裝置中，能針對用以進行處理之每一個基板較為容易地將批次號碼以及／或者曝光的日期等曝光資訊埋入至描繪資料並作為圖案的一部分顯示於基板上。亦即，在使用同一個遮罩對複數個基板反覆地進行總括性曝光之以往的曝光裝置中，難以曝光批次號碼等基板固有的資訊；相對於此，在直接描繪裝置中，能較容易地曝光此種基板固有的資訊。
典型而言，以直接描繪裝置曝光電路圖案時，在設計部門作成電路圖案的圖案資料，在製造部門進行圖案資料的排版等並生成最後的描繪資料且進行描繪處理。在設計部門作成圖案資料時，由於不明瞭要記述何種曝光資訊，因此僅預先確保用以顯示曝光資訊之資訊區域。接著，在製造部門即將進行曝光前對該資訊區域記述曝光資訊。然而，在製造部門記述的曝光資訊的資訊量多之情形中，會產生無法完全地於確保的資訊區域記述曝光資訊之問題。
本發明係有鑑於上述課題而研創，目的在於提供一種能於資訊區域描繪必要的資訊之描繪裝置以及描繪方法。 [用以解決課題的手段]
為了解決上述課題，方案一的發明為一種描繪裝置，係用以依據描繪資料對形成有感光體的基板照射光線，藉此對前述基板描繪圖案；前述描繪裝置係具備有：轉換部，係取得與前述圖案對應之圖案資料，將前述圖案資料轉換成光柵(raster)形式並生成初期描繪資料；文字資料作成部，係以侷限在已以最大預定文字數將作為用以於前述圖案顯示資訊之區域而預先設定的資訊區域分割後的分割區域的尺寸之方式，將記述至前述資訊區域之候補文字的文字字型予以點陣圖(bitmap)轉換並取得文字資料；指定部，係指定記述至前述圖案之文字；以及合成部，係將與前述指定部所指定的指定文字對應之前述文字資料合成至前述初期描繪資料中的前述資訊區域並生成最終描繪資料。
此外，方案二的發明的描繪裝置為在方案一的發明的描繪裝置中，其中前述文字資料作成部係取得已使前述候補文字的文字字型旋轉90°、180°以及270°的文字資料。
此外，方案三的發明的描繪裝置為在方案一的發明的描繪裝置中，其中進一步具備有：修正部，係因應前述基板的歪曲修正前述初期描繪資料；前述合成部係因應前述基板的歪曲修正前述初期描繪資料中的前述資訊區域的位置，且無須修正地將與前述指定文字對應之前述文字資料合成。
此外，方案四的發明的描繪裝置為在方案一至方案三中任一方案的發明的描繪裝置中，前述合成部係在前述指定文字的文字數比前述最大預定文字數還少時，將與前述指定文字對應之前述文字資料合成至前述資訊區域的左端、右端或者中央。
此外，方案五的發明的描繪裝置為在方案一至方案三中的任一方案的發明的描繪裝置中，其中前述合成部係在前述指定文字的文字數與前述最大預定文字數不同時，將與前述指定文字對應之前述文字資料放大或者縮小並合成至前述資訊區域。
此外，方案六的發明的描繪裝置為在方案三的發明的描繪裝置中，其中前述合成部係無須修正地將已將二維碼(two-dimensional code)予以點陣圖轉換的碼資料合成至前述資訊區域，前述二維碼係用以顯示包含有前述指定文字之資訊。
此外，方案七的發明為一種描繪方法，係用以依據描繪資料對形成有感光體的基板照射光線，藉此對前述基板描繪圖案；前述描繪方法係包含有：轉換工序，係取得與前述圖案對應之圖案資料，將前述圖案資料轉換成光柵形式並生成初期描繪資料；文字資料作成工序，係以侷限在已以最大預定文字數將作為用以於前述圖案顯示資訊之區域而預先設定的資訊區域分割後的分割區域的尺寸之方式，將記述至前述資訊區域之候補文字的文字字型予以點陣圖轉換並取得文字資料；指定工序，係指定記述至前述圖案之文字；以及合成工序，係將與前述指定工序所指定的指定文字對應之前述文字資料合成至前述初期描繪資料中的前述資訊區域並生成最終描繪資料。
此外，方案八的發明的描繪方法為在方案七的發明的描繪方法中，其中在前述文字資料作成工序中，取得已使前述候補文字的文字字型旋轉90°、180°以及270°的文字資料。
此外，方案九的發明的描繪方法為在方案七的發明的描繪方法中，其中進一步具備有：修正工序，係因應前述基板的歪曲修正前述初期描繪資料；在前述合成工序中，因應前述基板的歪曲修正前述初期描繪資料中的前述資訊區域的位置，且無須修正地將與前述指定文字對應之前述文字資料合成。
此外，方案十的發明的描繪方法為在方案七至方案九中任一方案的發明的描繪方法中，在前述合成工序中，在前述指定文字的文字數比前述最大預定文字數還少時，將與前述指定文字對應之前述文字資料合成至前述資訊區域的左端、右端或者中央。
此外，方案十一的發明的描繪方法為在方案七至方案九中的任一方案的發明的描繪方法中，其中在前述合成工序中，在前述指定文字的文字數與前述最大預定文字數不同時，將與前述指定文字對應之前述文字資料放大或者縮小並合成至前述資訊區域。
此外，方案十二的發明的描繪方法為在方案九的發明的描繪方法中，其中在前述合成工序中，無須修正地將已將二維碼予以點陣圖轉換的碼資料合成至前述資訊區域，前述二維碼係用以顯示包含有前述指定文字之資訊。 [發明功效]
依據方案一至方案六的發明，由於以侷限在已以最大預定文字數將作為用以顯示資訊之區域而預先設定的資訊區域分割後的分割區域的尺寸之方式，將記述至資訊區域之候補文字的文字字型予以點陣圖轉換並取得文字資料，且將與所指定的指定文字對應之文字資料合成至資訊區域，因此不論預先設定的資訊區域為何種尺寸，皆能於資訊區域描繪需要的資訊。
此外，依據方案二的發明，由於取得已使候補文字的文字字型旋轉90°、180°以及270°的文字資料，因此即使在排版作業時使圖案資料旋轉並配置之情形中，亦能迅速地將文字資料合成至資訊區域。
此外，依據方案三的發明，由於因應基板的歪曲修正資訊區域的位置，且無須修正地將與指定文字對應之文字資料合成，因此能在後續的工序中適當地讀取資訊。
依據方案七至方案十二的發明，由於以侷限在已以最大預定文字數將作為用以顯示資訊之區域而預先設定的資訊區域分割後的分割區域的尺寸之方式，將記述至資訊區域之候補文字的文字字型予以點陣圖轉換並取得文字資料，且將與所指定的指定文字對應之文字資料合成至資訊區域，因此不論預先設定的資訊區域為何種尺寸，皆能於資訊區域描繪需要的資訊。
此外，依據方案八的發明，由於取得已使候補文字的文字字型旋轉90°、180°以及270°的文字資料，因此即使在排版作業時使圖案資料旋轉並配置之情形中，亦能迅速地將文字資料合成至資訊區域。
此外，依據方案九的發明，由於因應基板的歪曲修正資訊區域的位置，且無須修正地將與指定文字對應之文字資料合成，因此能在後續的工序中適當地讀取資訊。
以下，參照圖式詳細地說明本發明的實施形態。
(第一實施形態) 圖1係用以顯示本發明的描繪裝置1的概略構成之圖。描繪裝置1係一種直接描繪裝置，相對性地掃描並照射曝光用的雷射光，藉此對印刷基板等基板S依序地進行局部性的曝光，並於基板S上描繪期望的電路圖案。此外，在圖1以及後續的各圖中，為了容易理解，因應需要誇張或者簡略地描繪各部的尺寸以及數量。
描繪裝置1係具備有資料處理單元2以及曝光單元3作為主要的構成要素，資料處理單元2係生成描繪資料，曝光單元3係依據描繪資料對基板S進行描繪(曝光)。此外，資料處理單元2與曝光單元3係可一體性地設置，但只要能雙向地進行資料通訊則亦可物理性地分開設置。此外，與描繪裝置1獨立地設置圖案設計裝置4。
圖案設計裝置4係下述裝置：用以在設計部門中設計形成於基板S上的電路圖案。圖案設計裝置4係由例如CAD(computer-aided design；電腦輔助設計)系統所構成。設計部門的擔當者係使用圖案設計裝置4設計電路圖案。藉由此操作，在圖案設計裝置4中作成圖案資料PD，圖案資料PD係電路圖案的設計資料。圖案資料PD係已以向量形式記述的資料。
描繪裝置1係在製造部門中藉由描繪處理於基板S上形成電路圖案。描繪裝置1的資料處理單元2係下述裝置：依據圖案設計裝置4所作成的圖案資料PD，生成用以傳遞至曝光單元3之最終描繪資料DD。圖案資料PD係以向量形式被記述，曝光單元3係依據光柵資料進行描繪處理。因此，資料處理單元2係至少需要進行用以將向量形式的圖案資料PD轉換成光柵形式的最終描繪資料DD之處理。此外，本實施形態的資料處理單元2係依據成為描繪處理的對象之基板S的歪曲進行資料修正，且亦進行用以將所指定的曝光資訊合成至描繪資料之處理。
資料處理單元2係由典型的電腦系統所構成。亦即，資料處理單元2係具備有：CPU(Central Processing Unit；中央處理器)(未圖示)，係用以進行各種運算處理之電路；ROM(Read Only Memory) (未圖示)，係用以記憶基本程式之讀出專用的記憶體；RAM(Random Access Memory；隨機存取記憶體) (未圖示)，係用以記憶各種資訊之讀寫自如的記憶體；以及磁碟95，係預先記憶有控制用軟體以及資料等。此外，於資料處理單元2設置有：輸入部(例如鍵盤、滑鼠等)，係用以輸入各種命令以及參數；以及顯示部(例如顯示器等)，係用以顯示運算處理結果等。
如圖1所示，資料處理單元2係具備有資料轉換部21、資料修正部22、資料合成部23、文字資料作成部24以及二維碼資料生成部25。這些資料轉換部21、資料修正部22、資料合成部23、文字資料作成部24以及二維碼資料生成部25係藉由資料處理單元2的CPU執行預定的處理程式所實現之功能處理部，針對這些功能處理部所執行的處理的內容係進一步於後面詳述。此外，資料轉換部21、資料修正部22、資料合成部23、文字資料作成部24以及二維碼資料生成部25亦可分別作為專用的電路元件而構成。
描繪裝置1的曝光單元3係下述裝置：依循資料處理單元2所生成的最終描繪資料DD對基板S進行描繪處理。曝光單元3係具備有：載台(stage)32，係載置基板S；光學頭33，係對基板S的被描繪面照射雷射光；拍攝部34，係拍攝基板S的被描繪面；以及描繪控制器31，係控制各部的動作。
載台32係平板狀的保持板。於載台32的上表面分散地設置有複數個吸附孔。複數個吸附孔係連接至真空泵，並在已將基板S載置於載台32的上表面之狀態下使真空泵作動，藉此能將基板S吸附保持於載台32的上表面。於載置於載台32之基板S的被描繪面貼附有銅箔，並進一步於銅箔上形成有阻劑等感光體。
載台32係可藉由未圖示的驅動機構在水平面內沿著主掃描方向移動以及沿著與主掃描方向垂直的副掃描方向移動。此外，載台32係構成為可在水平面內移動。藉此，能使已載置於載台32的基板S相對於光學頭33相對性地移動，並使從光學頭33照射的雷射光在基板S的被描繪面上於主掃描方向以及副掃描方向掃描。
光學頭33係例如具備有DMD(Digital Mirror Device；數位反射元件)等調變機構33a。調變機構33a係依循最終描繪資料DD調變從未圖示的光源(例如LED(Light Emitting Diode；發光二極體)光源)射出的雷射光。光學頭33係對基板S的被描繪面照射已藉由調變機構33a調變的雷射光。更具體而言，描繪控制器31係依據已以光柵形式記述的最終描繪資料DD針對每個像素控制調變機構33a並調整雷射光的照射。接著，一邊從光學頭33射出雷射光，一邊使載台32移動並使雷射光在基板S的被描繪面上於主掃描方向掃描，藉此已接受基於最終描繪資料DD的調變之雷射光係沿著基板S的主掃描方向照射。當雷射光沿著主掃描方向掃描並結束一條線分的描繪時，載台32係於副掃描方向移動，雷射光再次沿著主掃描方向掃描。反復此動作，藉此於基板S的被描繪面形成有依循了最終描繪資料DD的圖案。此外，從光學頭33照射的雷射光的種類以及波長並未特別限定，能因應形成在基板S的感光體的種類而適當地設定。
拍攝部34係例如由CCD(Charge Coupled Device；電荷耦合元件)照相機等所構成。拍攝部34係拍攝已載置於載台32之基板S的被描繪面所設置的對準標記(alignment mark)。被拍攝部34拍攝的基板S的對準標記的影像係作為用以顯示基板S的歪曲資訊之對準資料AD被供給至資料處理單元2。此外，設置於基板S的對準標記係只要能明確地特定拍攝影像中的位置則無特別限定。例如，對準標記係可為設置於基板S的貫通孔，亦可為印刷於基板S上的十字標記等。
接著，說明對基板S描繪圖案之處理順序。圖2係用以顯示描繪圖案之處理順序之流程圖。首先，設計部門的擔當者係藉由圖案設計裝置4作成圖案資料PD(步驟S1)。設計部門的擔當者係使用由CAD系統等所構成的圖案設計裝置4設計應於基板S曝光的電路圖案。圖案設計裝置4係作成已以向量形式記述經過設計的電路圖案之圖案資料PD。
圖4係用以示意性地顯示已記述電路圖案的圖案資料PD的一例之圖。於圖案資料PD設定有電路的圖案以及資訊區域7，資訊區域7係作為用以顯示曝光資訊之區域。於資訊區域7完全未記述有圖案。在設計部門設計電路圖案之階段中，由於不明暸顯示何種曝光資訊，因此確保適當大小的資訊區域7。圖案設計裝置4所作成的圖案資料PD係被供給至描繪裝置1。在藉由LAN(Local Area Network；區域網路)線路等連接圖案設計裝置4與描繪裝置1之情形中，亦可藉由資料通訊將圖案資料PD從圖案設計裝置4發送至描繪裝置1。或者，在未連接圖案設計裝置4與描繪裝置1之情形中，亦可將圖案資料PD紀錄至紀錄媒體並傳遞至描繪裝置1。
接著，製造部門的擔當者係使用描繪裝置1的資料處理單元2進行圖案資料PD的排版作業(步驟S2)。所謂排版係考慮對於基板S的曝光來配置複數個圖案資料PD之作業。亦即，典型而言，並非是僅對一個基板S曝光一個電路圖案，而是於一個基板S形成有複數個電路圖案。在排版作業中，決定曝光至一個基板S的複數個圖案資料PD的配置。製造部門的擔當者係一邊確認資料處理單元2的顯示部的顯示內容，一邊從輸入部輸入適當的命令以及參數並進行排版作業。
圖5係用以顯示圖案資料PD的排版的一例之圖。在圖5中，雖然為了圖式的便利性排版了六個圖案資料PD，但並未限定於此，能排版適當數量(例如八個或十六個)的圖案資料PD。將配置有複數個圖案資料PD的排版作為排版資料MD。複數個圖案資料PD係無須配置於相同的方向，亦可如圖5所示般配合處理的需要使圖案資料PD旋轉90°、180°或者270°來配置。亦於配置於排版資料MD的各個圖案資料PD確保有資訊區域7。此外，亦於排版資料MD設定有資訊區域8作為用以顯示整體的曝光資訊之區域。
此外，製造部門的擔當者係與排版作業並行地進行曝光資訊的指定(步驟S3)。作為曝光資訊，能指定與曝光處理關連之適當的資訊，例如能指定曝光的序列號碼、基板S的批次號碼、描繪裝置1的機械號碼、進行曝光處理之日期、伸縮率、光量以及擔當者的姓名等。此外，在步驟S3中僅進行曝光資訊的指定，在此階段中不進行朝資訊區域7、8記述曝光資訊。
製造部門的擔當者係從指定部29指定曝光資訊。在擔當者進行指定之情形中，能使用資料處理單元2的輸入部作為指定部29。此外，亦可自動地指定例如日期等作為曝光資訊，以取代擔當者的指定。在此情形中，指定部29係成為藉由資料處理單元2的CPU執行處理程式所實現之功能處理部。
接著，資料轉換部21係進行資料轉換處理(步驟S4)。資料轉換部21係將已排版了複數個圖案資料PD之排版資料MD轉換成光柵形式並生成初期描繪資料ID。亦即，資料轉換部21係取得圖案設計裝置4所作成的向量形式的圖案資料PD，並將圖案資料PD的資料形式轉換成光柵形式的初期描繪資料ID。資料形式轉換處理係可利用公知的柵格化(rasterize)技術。
由於初期描繪資料ID係已轉換過排版資料MD的資料形式，因此初期描繪資料ID的內容係與排版資料MD相同(圖5)。因此，於初期描繪資料ID亦包含有用以顯示曝光資訊之資訊區域7、8。
在生成初期描繪資料ID後，依據成為描繪處理的對象之基板S的歪曲進行初期描繪資料ID的修正處理(步驟S5)。成為處理對象之基板S係載置於曝光單元3的載台32。於基板S的被描繪面貼附有銅箔，並進一步於銅箔上形成有阻劑等感光體。在進行描繪裝置1所為的曝光處理之前，對基板S施予了幾個處理工序的處理(例如感光體的塗布工序等)，在此過程中大多會於基板S產生歪曲。
藉由拍攝部34拍攝已載置於載台32之基板S的被描繪面所設置的複數個對準標記。當於基板S產生歪曲時，複數個對準標記的位置係從基準位置偏離。亦即，檢測對準標記的位置偏離，藉此能判定於基板S產生歪曲。當對準標記的位置偏離的程度愈大，基板S的歪曲愈大。藉由拍攝部34所拍攝的基板S的對準標記的影像係作為對準資料AD傳遞至資料處理單元2。
資料處理單元2的資料修正部22係依據對準資料AD，以遵循設計於基板S描繪圖案之方式進行初期描繪資料ID的修正處理。具體而言，資料修正部22係從對準資料AD檢測對準標記的位置偏離，藉此解析基板S的歪曲。接著，資料修正部22係以整合至基板S的歪曲之方式修正初期描繪資料ID並生成修正後描繪資料HD。例如，在基於對準資料AD之解析的結果已判明基板S歪曲成梯形狀時，資料修正部22係以初期描繪資料ID變成梯形狀之方式進行修正處理。
接著，資料合成部23係將曝光資訊的資料合成至修正後描繪資料HD(步驟S6)。在步驟S3所指定的曝光資訊的文字列係作為點陣圖形式的指定文字資料RD被合成至修正後描繪資料HD。此外，亦從曝光資訊生成二維碼，屬於此二維碼的點陣圖資料之二維碼資料QD亦被合成至修正後描繪資料HD。能使用例如資料矩陣碼作為二維碼。資料合成部23係將點陣圖形式的指定文字資料RD以及二維碼資料QD合成至修正後描繪資料HD的資訊區域7、8並生成最終描繪資料DD。此外，針對指定文字資料RD以及二維碼資料QD的合成係於後面詳述。
在生成最終描繪資料DD後，描繪裝置1的曝光單元3係依據最終描繪資料DD進行描繪處理(步驟S7)。資料合成部23所生成的光柵形式的最終描繪資料DD係被傳遞至曝光單元3的描繪控制器31。描繪控制器31係依據最終描繪資料DD控制調變機構33a，並控制載台32的驅動機構，一邊從光學頭33照射雷射光一邊使載台32移動並使雷射光在基板S的被描繪面上掃描。依循最終描繪資料DD使經過調變的雷射光在基板S的被描繪面上掃描，藉此該被掃描面的感光體係依循最終描繪資料DD被曝光。於該感光體曝光有最終描繪資料DD的圖案並曝光有曝光資訊的文字列以及二維碼。
之後，對從描繪裝置1取出的基板S施予顯影處理，去除感光體的曝光部分或者非曝光部分。接著，蝕刻已去除感光體之區域的銅箔，於基板S上形成有期望的電路圖案。在這些顯影工序以及蝕刻工序中，讀取並利用於基板S所顯示的曝光資訊。
接著，進一步接著說明曝光資訊的資料的生成以及合成。圖3係用以顯示生成以及合成曝光資訊的資料之處理順序之流程圖。在資料處理單元2的資料處理之前，預先準備文字資料(步驟S61)。用以顯示曝光資訊之資訊區域7(或者資訊區域8)的大小係預先制定。資料處理單元2的文字資料作成部24係計算已以最大預定文字數將資訊區域7分割後的分割區域的大小。所謂「最大預定文字數」係指可記述於資訊區域7之最大的文字數。最大預定文字數係可預先設定被儲存於資料處理單元2的記憶部，亦可從資料處理單元2的輸入部輸入。
圖6係用以示意性地顯示資訊區域的分割之圖。在圖6的例子中，最大預定文字數係被設定成「6」。文字資料作成部24係計算已以最大預定文字數「6」將資訊區域7的寬度(X尺寸)分割後的分割區域71的寬度X1。此外，文字資料作成部24係將資訊區域7的高度(Y尺寸)作為分割區域71的高度Y1。分割區域71的寬度X1以及高度Y1係成為記述至資訊區域7之文字的寬度以及高度。
文字資料作成部24係將作為曝光資訊記述至資訊區域7之候補文字的文字字型配合分割區域71的尺寸並予以點陣圖轉換。亦即，以記述至資訊區域7之候補文字侷限於寬度X1以及高度Y1的分割區域71之方式將該候補文字的文字字型的資料予以點陣圖轉換。所謂「候補文字」係指可記述至資訊區域7之文字，例如為大寫以及小寫的英文、數字、日文假名文字、日文漢字等。在日本以外的國家使用描繪裝置1之情形中，候補文字亦可為該國家的文字(例如韓文等)。
在已以最大預定文字數將資訊區域7分割後的分割區域71的尺寸較大之情形中，文字資料作成部24係將候補文字的文字字型的資料放大並作為點陣圖資料。反之，在分割區域71的尺寸較小之情形中，文字資料作成部24係將候補文字的文字字型的資料縮小並作為點陣圖資料。此時，在將文字字型的資料放大或者縮小後的結果導致字形吝亂之情形中，文字資料作成部24亦可將文字字型予以整形並作為點陣圖資料。
此外，文字資料作成部24亦將已使各個候補文字的文字字型以90°單位旋轉的資料予以點陣圖轉換。亦即，文字資料作成部24係將已使各個候補文字的文字字型旋轉90°、180°以及270°後的文字字型作為點陣圖資料。
圖7係用以顯示已使候補文字的文字字型以90°單位旋轉的例子之圖。圖7中的(a)係顯示無旋轉的文字字型。圖7中的(b)、(c)、(d)係分別顯示已使文字字型旋轉90°、180°、270°的文字字型。文字資料作成部24係作成已將圖7中的(a)至(d)所示的文字字型侷限於分割區域71之方式所作成的點陣圖資料的文字資料CD。藉由文字資料作成部24所作成的候補文字的點陣圖形式的文字資料CD係儲存至資料處理單元2的磁碟95等的記憶部。各個候補文字的文字資料CD係與該候補文字的文字碼(例如美國資訊交換標準碼(ASCII code))賦予關聯並儲存至磁碟95。
在圖2的步驟S3中指定曝光資訊後，指定文字係被置換成文字資料CD(步驟S62)。所謂「指定文字」係指包含於被指定部29指定的文字列而作為曝光資訊之文字。例如，在指定批次番號「CM00011」作為曝光資訊時，「C」、「M」、三個「0」以及兩個「1」係分別成為指定文字。各個指定文字係與該指定文字的文字碼賦予關聯並與被儲存於磁碟95的文字資料CD置換且生成指定文字資料RD。指定文字資料RD係選擇儲存於磁碟95的文字資料CD的一部分之資料，且為點陣圖形式的資料。
接著，資料合成部23係依據基板S的歪曲修正資訊區域7的位置(步驟S63)。如上所述，於藉由描繪裝置1進行曝光處理之階段中的基板S產生歪曲之情形很多，藉由拍攝部34拍攝已載置於載台32之基板S的被描繪面，藉此取得用以顯示歪曲資訊之對準資料AD。在圖2的步驟S5中，資料修正部22係依據對準資料AD進行初期描繪資料ID的修正處理。
在步驟S63中，資料合成部23係依據對準資料AD修正資訊區域7的位置。圖8係用以說明資訊區域7的位置修正之圖。在步驟S5中，資料修正部22係以整合至基板S的歪曲之方式修正初期描繪資料ID並生成修正後描繪資料HD。圖8係顯示修正後描繪資料HD的一部分(相當於一個圖案資料PD之部分)。如同圖所示，以整合至基板S的歪曲之方式，藉由初期描繪資料ID所表現的影像係被修正成歪曲。藉由初期描繪資料ID所表現的影像被修正成歪曲，藉此亦需要使資訊區域7的位置移動。
在步驟S63中，因應藉由修正後描繪資料HD所表現的影像的歪曲，資料合成部23係使資訊區域7從圖8中虛線所示的位置移動至圖8中實線所示的位置。更精確地說，從藉由修正後描繪資料HD所表現的影像的歪曲計算資訊區域7的移動方向以及移動量，並依循計算結果使資訊區域7的左下角的座標移動。藉此，變成適合於藉由修正後描繪資料HD所表現的影像的歪曲，亦即資訊區域7被修正至適合於基板S的歪曲之適當的位置。然而，雖然因應藉由修正後描繪資料HD所表現的影像的歪曲修正資訊區域7的位置，但是未修正資訊區域7的形狀。
接著，資料合成部23係依據指定文字的配置決定指定文字資料RD的曝光位置(步驟S64)。圖9係用以顯示資訊區域7中的指定文字的配置的一例之圖。在指定文字的文字數比最大預定文字數還少之情形中，資訊區域7變成有多餘。在此種情形中，在圖2的步驟S3中進行曝光資訊的指定時，亦指定曝光資訊中針對文字列(亦即指定文字的文字列)的配置。文字列的配置係例如指定成「靠左」、「中央」、「靠右」。
在指定文字的文字列被指定成配置於「靠左」之情形中，如圖9中的(a)所示，資料合成部23係以資訊區域7的左端變成起點之方式決定指定文字資料RD的曝光位置。藉此，指定文字的文字列係從資訊區域7的左端被記述。
在指定文字的文字列被指定成配置於「中央」之情形中，如圖9中的(b)所示，資料合成部23係以將已從資訊區域7的寬度減去指定文字資料RD的寬度的值設定成二分之一的值相加至資訊區域7的左端後的位置成為起點之方式決定指定文字資料RD的曝光位置。藉此，指定文字的文字列係被記述至資訊區域7的中央。
在指定文字的文字列被指定成配置於「靠右」之情形中，如圖9中的(c)所示，資料合成部23係以將已從資訊區域7的寬度減去指定文字資料RD的寬度的值相加至資訊區域7的左端後的位置成為起點之方式決定指定文字資料RD的曝光位置。藉此，以資訊區域7的右端變成終點之方式記述指定文字的文字列。
此外，二維碼資料生成部25係生成二維碼資料QD(步驟S65)。在本實施形態中，除了記述指定文字的文字列之外，還記述用以顯示包含有該指定文字的曝光資訊之二維碼。二維碼資料生成部25係將用以顯示包含有指定文字的曝光資訊之二維碼予以點陣圖轉換並生成二維碼資料QD。
接著，資料合成部23係將指定文字資料RD以及二維碼資料QD合成至資訊區域7(步驟S66)。資料合成部23係將指定文字資料RD合成至修正後描繪資料HD中的位置修正完畢的資訊區域7。修正後描繪資料HD係光柵形式的資料，指定文字資料RD係點陣圖形式的資料。點陣圖影像係光柵圖像(raster image)的一種，可將點陣圖形式的指定文字資料RD合成至光柵形式的修正後掃描資料HD。
資料合成部23係將指定文字資料RD合成至資訊區域7。此時，雖然將指定文字資料RD合成至已因應基板S的歪曲修正初期描繪資料ID之修正後描繪資料HD，然而資料合成部23係不修正地將指定文字資料RD本體予以合成。亦即，如上所述，雖然因應基板S的歪曲修正資訊區域7的位置(步驟S63)，然而無須進行指定文字資料RD的修正，而是將指定文字資料RD合成至資訊區域7。此種構成的原因在於：包含有指定文字之曝光資訊係在後續的工序(例如顯影工序、蝕刻工序、檢查工序等)中被讀取且被利用，而當配合基板S的歪曲曝光資訊亦歪曲時，在後續的工序中將變得無法讀取曝光資訊。
此外，亦有在步驟S2的排版處理時使資料圖案PD旋轉90°、180°或者270°配置之 情形(參照圖5)，此情形的資訊區域7亦變成旋轉90°、180°或者270°配置。資料合成部23係在資訊區域7旋轉90°、180°或者270°配置之情形中，將由已90°、180°或者270°旋轉的文字字型(參照圖7中的(b)至(d))的文字資料CD所構成的指定文字資料RD合成至資訊區域7。只要為此種構成，即使在圖案資料PD已被旋轉配置之情形中，亦能在適合圖案資料PD的旋轉角度的方向合成指定文字資料RD。
再者，在指定文字的文字列的配置被指定成「靠左」、「中央」、「靠右」之情形中，資料合成部23係將指定文字資料RD合成至資訊區域7的左端、中央或者右端(參照圖9中的(a)至(c))。
此外，資料合成部23亦與指定文字資料RD配合並合成二維碼資料QD。二維碼資料QD亦為點陣圖形式的資料。因此，可將點陣圖形式的二維碼資料QD合成至光柵形式的修正後描繪資料HD。與指定文字資料RD同樣地，資料合成部23亦針對二維碼資料QD不進行修正地予以合成。藉此，不論基板S是否歪曲，指定文字資料RD以及二維碼資料QD係不會歪曲地被曝光，且能在後續的工序中確實地讀取包含有指定文字以及二維碼之曝光資訊。
圖11係用以顯示已於基板S曝光有指定文字以及二維碼的例子之圖。曝光單元3係依據已合成有指定文字資料RD以及二維碼資料QD之最終描繪資料DD進行描繪處理，藉此於基板S上的預定位置曝光有曝光資訊的指定文字以及二維碼。這些指定文字以及二維碼係在後續的工序中被目視或者被光學性地讀取並作為描繪處理時的曝光資訊而被利用。
在第一實施形態中，以侷限在已以最大預定文字數將資訊區域7分割後的分割區域71的尺寸之方式，將候補文字的文字字型予以點陣圖轉換並作為文字資料CD預先準備。接著，由於將作為曝光資訊被指定的指定文字與為了適合於分割區域71而預先準備的文字資料CD置換並合成至資訊區域7，因此不論描繪處理前所設定的資訊區域7為何種尺寸，皆能於資訊區域7描繪必要的資訊。此外，在作為曝光資訊被指定的指定文字的文字數比最大預定文字數還多之情形中，由於會有已曝光的文字變得無法在後續的工序被讀取的可能性，因此產生錯誤。
此外，亦準備已使候補文字的文字字型以90°單位旋轉的點陣圖資料作為文字資料CD。因此，即使在圖案資料PD的排版作業時已使圖案資料PD旋轉並配置之情形中，亦能迅速地將指定文字資料RD合成至資訊區域7。
再者，雖然資訊區域7的位置係因應基板S的歪曲進行修正，然而指定文字資料RD係不修正地合成至資訊區域7。因此，曝光資訊的指定文字不會歪曲地被曝光至基板S的適當的位置，且可在後續的工序中適當地讀取曝光資訊。
(第二實施形態) 接著，說明本發明的第二實施形態。第二實施形態的描繪裝置的整體構成係與第一實施形態相同。此外，第二實施形態的描繪裝置的處理內容亦與第一實施形態大略相同。與第一實施形態的差異點在於，第二實施形態係在指定文字的文字數與最大預定文字數不同時變更文字寬度。亦即，取代在第一實施形態中指定文字的文字數比最大預定文字數還少時指定文字列的配置，在第二實施形態中係變更文字列的文字寬度。
在第二實施形態中，不進行圖3的步驟S64的處理。取而代之的是，資料合成部23係變更指定文字資料RD的各個指定文字的文字寬度。圖10係用以顯示指定文字的文字寬度的變更的一例之圖。在指定文字的文字數與最大預定文字數不同之情形中，資訊區域7變得不足或者多餘。在此種情形中，資料合成部23係將用以構成指定文字資料RD之各個指定文字的文字資料放大或者縮小。
如圖10中的(a)所示，在指定文字的文字數比最大預定文字數還少之情形中，資料合成部23係將用以構成指定文字資料RD之各個指定文字的文字資料放大。此時，以放大後的指定文字資料RD適合於資訊區域7的尺寸之方式放大各個指定文字的文字資料。
另一方面，如圖10中的(b)所示，在指定文字的文字數比最大預定文字數還多之情形中，資料合成部23係將用以構成指定文字資料RD之各個指定文字的文字資料縮小。此時，以縮小後的指定文字資料RD適合於資訊區域7的尺寸之方式縮小各個指定文字的文字資料。
接著，在步驟S66中，資料合成部23係將已被放大或者縮小的指定文字資料RD合成至資訊區域7。藉此，指定文字不會過度或者不足地被曝光至資訊區域7。此外，除了變更文字寬度以取代文字列的配置指定之外，第二實施形態的其餘部分係與第一實施形態相同。
(變化例) 以上，雖然已說明本發明的實施形態，但在未逸離本發明的精神範圍內，本發明除了上述實施形態之外亦可進行各種變更。例如，在上述實施形態中雖然主要說明將指定文字資料RD合成至資訊區域7之例子，但即使在將指定文字資料RD合成至用以顯示整體的曝光資訊之資訊區域8之情形中，亦同樣能進行。
此外，在上述實施形態中，雖然在點陣圖形式的文字資料CD作成時亦將已使文字字型旋轉90°、180°以及270°的文字字型予以點陣圖轉換，但除此之外亦可將已使文字字型以其他不同角度旋轉的文字字型的點陣圖資料作為文字資料CD來準備。文字字型的旋轉角度的種類愈多，則可對應的圖案資料PD的佈置角度的變化則愈變得豐富，但文字資料CD的容量也愈變大。
此外，在上述實施形態中，雖然因應基板S的歪曲修正資訊區域7的位置，但是根據後續的工序中的曝光資訊的讀取態樣，資訊區域7的位置修正並不是必須的。例如，在後續的工序中僅藉由作業者的目視來讀取曝光資訊時，則資訊區域7的位置不定一需要修正。
(產業可利用性) 本發明的技術係能適當地應用於用以依據描繪資料對印刷基板、半導體基板等照射光線藉此直接對該基板描繪圖案以及曝光資訊之描繪裝置以及描繪方法。
1‧‧‧描繪裝置 2‧‧‧資料處理單元 3‧‧‧曝光單元 4‧‧‧圖案設計裝置 7、8‧‧‧資訊區域 21‧‧‧資料轉換部 22‧‧‧資料修正部 23‧‧‧資料合成部 24‧‧‧文字資料作成部 25‧‧‧二維碼資料生成部 29‧‧‧指定部 31‧‧‧描繪控制器 32‧‧‧載台 33‧‧‧光學頭 33a‧‧‧調變機構 34‧‧‧拍攝部 71‧‧‧分割區域 95‧‧‧磁碟 AD‧‧‧對準資料 CD‧‧‧文字資料 DD‧‧‧最終描繪資料 HD‧‧‧修正後描繪資料 ID‧‧‧初期描繪資料 MD‧‧‧排版資料 PD‧‧‧圖案資料 QD‧‧‧二維碼資料 RD‧‧‧指定文字資料 S‧‧‧基板 X1‧‧‧寬度 Y1‧‧‧高度
圖1係用以顯示本發明的描繪裝置的概略構成之圖。 圖2係用以顯示描繪圖案之處理順序之流程圖。 圖3係用以顯示生成以及合成曝光資訊的資料之處理順序之流程圖。 圖4係用以示意性地顯示已記述電路圖案的圖案資料的一例之圖。 圖5係用以顯示圖案資料的排版的一例之圖。 圖6係用以示意性地顯示資訊區域的分割之圖。 圖7係用以顯示已使候補文字的文字字型以90°單位旋轉的例子之圖。 圖8係用以說明資訊區域的位置修正之圖。 圖9係用以顯示資訊區域中的指定文字的配置的一例之圖。 圖10係用以顯示指定文字的文字寬度的變更的一例之圖。 圖11係用以顯示已於基板曝光有指定文字以及二維碼的例子之圖。
1‧‧‧描繪裝置
2‧‧‧資料處理單元
3‧‧‧曝光單元
4‧‧‧圖案設計裝置
21‧‧‧資料轉換部
22‧‧‧資料修正部
23‧‧‧資料合成部
24‧‧‧文字資料作成部
25‧‧‧二維碼資料生成部
29‧‧‧指定部
31‧‧‧描繪控制器
32‧‧‧載台
33‧‧‧光學頭
33a‧‧‧調變機構
34‧‧‧拍攝部
95‧‧‧磁碟
AD‧‧‧對準資料
CD‧‧‧文字資料
DD‧‧‧最終描繪資料
HD‧‧‧修正後描繪資料
ID‧‧‧初期描繪資料
MD‧‧‧排版資料
PD‧‧‧圖案資料
QD‧‧‧二維碼資料
RD‧‧‧指定文字資料
S‧‧‧基板

Claims (14)

  1. 一種描繪裝置，係用以依據描繪資料對形成有感光體的基板照射光線，藉此對前述基板描繪圖案；前述描繪裝置係具備有：轉換部，係取得與前述圖案對應之圖案資料，將前述圖案資料轉換成光柵形式並生成初期描繪資料；文字資料作成部，係以各文字侷限在已以最大預定文字數將作為用以於前述圖案顯示資訊之區域而預先設定的資訊區域分割後的分割區域的尺寸之方式，將記述至前述資訊區域之候補文字的文字字型予以點陣圖轉換並取得前述候補文字的文字資料；指定部，係指定記述至前述圖案之文字；以及合成部，係將與前述指定部所指定的指定文字對應之前述文字資料合成至前述初期描繪資料中的前述資訊區域並生成最終描繪資料。
  2. 如請求項1所記載之描繪裝置，其中前述文字資料作成部係取得已使前述候補文字的文字字型旋轉90°、180°以及270°的文字資料。
  3. 如請求項1所記載之描繪裝置，其中進一步具備有：修正部，係因應前述基板的歪曲修正前述初期描繪資料；前述合成部係因應前述基板的歪曲修正前述初期描繪資料中的前述資訊區域的位置，且無須修正地將與前述指定文字對應之前述文字資料合成。
  4. 如請求項1至3中任一項所記載之描繪裝置，其中前述合成部係在前述指定文字的文字數比前述最大預定文字數還少時，將與前述指定文字對應之前述文字資料合成至前述資訊區域的左端、右端或者中央。
  5. 如請求項1至3中任一項所記載之描繪裝置，其中前述合成部係在前述指定文字的文字數與前述最大預定文字數不同時，將與前 述指定文字對應之前述文字資料放大或者縮小並合成至前述資訊區域。
  6. 如請求項3所記載之描繪裝置，其中前述合成部係無須修正地將已將二維碼予以點陣圖轉換的碼資料合成至前述資訊區域，前述二維碼係用以顯示包含有前述指定文字之資訊。
  7. 如請求項1所記載之描繪裝置，其中前述文字資料作成部係以各文字侷限在已以前述最大預定文字數將前述資訊區域沿寬度方向分割後的分割區域的尺寸之方式，將前述候補文字的文字字型予以點陣圖轉換。
  8. 一種描繪方法，係用以依據描繪資料對形成有感光體的基板照射光線，藉此對前述基板描繪圖案；前述描繪方法係包含有：轉換工序，係取得與前述圖案對應之圖案資料，將前述圖案資料轉換成光柵形式並生成初期描繪資料；文字資料作成工序，係以各文字侷限在已以最大預定文字數將作為用以於前述圖案顯示資訊之區域而預先設定的資訊區域分割後的分割區域的尺寸之方式，將記述至前述資訊區域之候補文字的文字字型予以點陣圖轉換並取得前述候補文字的文字資料；指定工序，係指定記述至前述圖案之文字；以及合成工序，係將與前述指定工序所指定的指定文字對應之前述文字資料合成至前述初期描繪資料中的前述資訊區域並生成最終描繪資料。
  9. 如請求項8所記載之描繪方法，其中在前述文字資料作成工序中，取得已使前述候補文字的文字字型旋轉90°、180°以及270°的文字資料。
  10. 如請求項8所記載之描繪方法，其中進一步具備有：修正工序，係因應前述基板的歪曲修正前述初期描繪資料； 在前述合成工序中，因應前述基板的歪曲修正前述初期描繪資料中的前述資訊區域的位置，且無須修正地將與前述指定文字對應之前述文字資料合成。
  11. 如請求項8至10中任一項所記載之描繪方法，其中在前述合成工序中，在前述指定文字的文字數比前述最大預定文字數還少時，將與前述指定文字對應之前述文字資料合成至前述資訊區域的左端、右端或者中央。
  12. 如請求項8至10中任一項所記載之描繪方法，其中在前述合成工序中，在前述指定文字的文字數與前述最大預定文字數不同時，將與前述指定文字對應之前述文字資料放大或者縮小並合成至前述資訊區域。
  13. 如請求項10所記載之描繪方法，其中在前述合成工序中，無須修正地將已將二維碼予以點陣圖轉換的碼資料合成至前述資訊區域，前述二維碼係用以顯示包含有前述指定文字之資訊。
  14. 如請求項8所記載之描繪方法，其中在前述文字資料作成工序中，以各文字侷限在已以前述最大預定文字數將前述資訊區域沿寬度方向分割後的分割區域的尺寸之方式，將前述候補文字的文字字型予以點陣圖轉換。
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