JP2020006367A5 - スピンコーティング装置 - Google Patents
スピンコーティング装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020006367A5 JP2020006367A5 JP2019127553A JP2019127553A JP2020006367A5 JP 2020006367 A5 JP2020006367 A5 JP 2020006367A5 JP 2019127553 A JP2019127553 A JP 2019127553A JP 2019127553 A JP2019127553 A JP 2019127553A JP 2020006367 A5 JP2020006367 A5 JP 2020006367A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- base plate
- spin chuck
- spin
- spin coating
- substrate material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 title claims 9
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 2
- 230000001360 synchronised Effects 0.000 claims 2
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 claims 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 1
Claims (7)
- スピンコーティング装置であって、
ベースプレートおよび複数のロッキングピンを含むベースプレートアセンブリと、
基板材料が配置されるように構成されたスピンチャックであって、前記基板材料は上面および下面を含み、前記上面はフィルム形成物質でコーティングされるように構成された面であり、前記スピンチャックは、前記ベースプレートアセンブリの複数の前記ロッキングピンに対応する複数のキースロットを含む、スピンチャックと、
前記ベースプレートアセンブリの複数の前記ロッキングピンが前記スピンチャックの複数の前記キースロットと係合することで前記ベースプレートを前記スピンチャックと係合させるように構成されたアクチュエータ機構であって、前記ベースプレートが前記スピンチャックと同期して回転するように構成されており、前記ベースプレートが前記スピンチャックと係合している状態でも、前記ベースプレートが前記スピンチャックの完全に下にある、アクチュエータ機構と、
前記ベースプレートが前記スピンチャックと係合している状態では、前記ベースプレートの下にあり、前記基板材料の前記下面およびその縁部に最適露出していない、クリーニングノズルと、
前記ベースプレートと係合し、前記スピンチャックと共に前記ベースプレートが同期回転中に前記ベースプレートと同期して共回転するように構成された蓋であって、前記蓋と前記ベースプレートとの係合および前記同期回転は、前記基板材料の前記上面全体に前記フィルム形成物質を分配するための低タービュランス環境を可能にする、蓋と、
を含み、
前記アクチュエータ機構はさらに、
前記ベースプレートからの前記蓋の離脱に応答して、前記ベースプレートの複数の前記ロッキングピンを前記スピンチャック複数の前記キースロットから離脱させて前記スピンチャックを前記ベースプレートから解放するように構成され、
前記ベースプレートの下降は係止点に進み、前記クリーニングノズルが前記基板材料の前記下面およびその前記縁部に最適に露出されるように、前記ベースプレート下にある前記クリーニングノズルの一部が、前記ベースプレートの穴を通過し、前記ベースプレートから完全に外に出るように構成される、
スピンコーティング装置。 - 前記基板材料は半導体ウェハである、請求項1に記載のスピンコーティング装置。
- 前記アクチュエータ機構がエアシリンダと関連付けられ、前記エアシリンダは、
前記スピンチャックへの上方への前記ベースプレートの移動に基づいて前記ベースプレートと前記スピンチャックとの係合を可能にするように加圧され、
前記スピンチャックからの前記ベースプレートの離脱を可能にするために圧力を解放する、ように構成される、
請求項1に記載のスピンコーティング装置。 - 前記スピンチャックは、その回転軸として機能するように構成されたスピンドルチューブと関連している、請求項3に記載のスピンコーティング装置。
- 前記フィルム形成物質はフォトレジスト材料である、請求項1に記載のスピンコーティング装置。
- 前記クリーニングノズルが、エッジビード除去(Edge Bead Removal)(EBR)ノズルである、請求項1に記載のスピンコーティング装置。
- 前記スピンドルチューブの周りのスリーブは、前記スピンチャックへの上方への前記ベースプレートの移動を可能にするために、前記エアシリンダを通る加圧に基づいて持ち上げられるように構成される、請求項4に記載のスピンコーティング装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201862695826P | 2018-07-09 | 2018-07-09 | |
US62/695826 | 2018-07-09 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020006367A JP2020006367A (ja) | 2020-01-16 |
JP2020006367A5 true JP2020006367A5 (ja) | 2020-10-01 |
JP6895488B2 JP6895488B2 (ja) | 2021-06-30 |
Family
ID=67145529
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019127553A Active JP6895488B2 (ja) | 2018-07-09 | 2019-07-09 | スピンコーティング装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US10679844B2 (ja) |
EP (1) | EP3594748B1 (ja) |
JP (1) | JP6895488B2 (ja) |
KR (1) | KR102269900B1 (ja) |
CN (1) | CN110703561B (ja) |
CA (1) | CA3048529C (ja) |
TW (1) | TWI725473B (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI726728B (zh) * | 2020-05-22 | 2021-05-01 | 辛耘企業股份有限公司 | 晶圓清洗裝置 |
KR102573825B1 (ko) | 2023-05-15 | 2023-09-04 | 주식회사 기술공작소바다 | 이비알 장치 |
Family Cites Families (42)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5234499A (en) * | 1990-06-26 | 1993-08-10 | Dainippon Screen Mgf. Co., Ltd. | Spin coating apparatus |
JP2862754B2 (ja) * | 1993-04-19 | 1999-03-03 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置及び回転部材 |
JP2002263558A (ja) * | 1994-11-29 | 2002-09-17 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 塗布方法 |
US5985031A (en) * | 1996-06-21 | 1999-11-16 | Micron Technology, Inc. | Spin coating spindle and chuck assembly |
SG103277A1 (en) * | 1996-09-24 | 2004-04-29 | Tokyo Electron Ltd | Method and apparatus for cleaning treatment |
US6114254A (en) | 1996-10-15 | 2000-09-05 | Micron Technology, Inc. | Method for removing contaminants from a semiconductor wafer |
US5913979A (en) | 1997-01-08 | 1999-06-22 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd | Method for removing spin-on-glass at wafer edge |
US5916631A (en) | 1997-05-30 | 1999-06-29 | The Fairchild Corporation | Method and apparatus for spin-coating chemicals |
US5908661A (en) | 1997-05-30 | 1999-06-01 | The Fairchild Corporation | Apparatus and method for spin coating substrates |
US5913631A (en) | 1998-01-30 | 1999-06-22 | Landry; Tina M. | Cosmetic applicator |
JP2000183014A (ja) | 1998-12-14 | 2000-06-30 | Sony Corp | 基板洗浄装置 |
JP2000331975A (ja) | 1999-05-19 | 2000-11-30 | Ebara Corp | ウエハ洗浄装置 |
US6516815B1 (en) | 1999-07-09 | 2003-02-11 | Applied Materials, Inc. | Edge bead removal/spin rinse dry (EBR/SRD) module |
US6309981B1 (en) | 1999-10-01 | 2001-10-30 | Novellus Systems, Inc. | Edge bevel removal of copper from silicon wafers |
US6453916B1 (en) | 2000-06-09 | 2002-09-24 | Advanced Micro Devices, Inc. | Low angle solvent dispense nozzle design for front-side edge bead removal in photolithography resist process |
DE10030431A1 (de) | 2000-06-21 | 2002-01-10 | Karl Suess Kg Praez Sgeraete F | Verfahren und Vorrichtung zum Reinigen und/oder Bonden von Substraten |
US6495312B1 (en) | 2001-02-01 | 2002-12-17 | Lsi Logic Corporation | Method and apparatus for removing photoresist edge beads from thin film substrates |
EP1233441A1 (en) | 2001-02-19 | 2002-08-21 | Infineon Technologies SC300 GmbH & Co. KG | Arrangement and a method for reducing contamination with particles on a substrate in a process tool |
US6786996B2 (en) | 2001-10-16 | 2004-09-07 | Applied Materials Inc. | Apparatus and method for edge bead removal |
US7247209B2 (en) | 2003-06-12 | 2007-07-24 | National Semiconductor Corporation | Dual outlet nozzle for the combined edge bead removal and backside wash of spin coated wafers |
KR100549265B1 (ko) | 2003-06-25 | 2006-02-03 | 동부아남반도체 주식회사 | 에지 비드 제거 장치 |
JP2005123218A (ja) | 2003-10-14 | 2005-05-12 | Nikon Corp | ウエハの洗浄・乾燥方法、ウエハの乾燥方法、ウエハの洗浄・乾燥装置、ウエハの乾燥装置、cmp研磨方法、cmp研磨装置、及び半導体デバイスの製造方法 |
JP2006073565A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Tokyo Electron Ltd | 塗布処理方法及び塗布処理装置 |
KR20060072500A (ko) | 2004-12-23 | 2006-06-28 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 반도체 소자의 제조를 위한 도금 공정의 에지 비드 제거장치 |
US7691559B2 (en) | 2005-06-30 | 2010-04-06 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Immersion lithography edge bead removal |
US7673582B2 (en) * | 2006-09-30 | 2010-03-09 | Tokyo Electron Limited | Apparatus and method for removing an edge bead of a spin-coated layer |
JP4985082B2 (ja) * | 2007-05-07 | 2012-07-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布膜形成装置、塗布膜形成装置の使用方法及び記憶媒体 |
TWI348934B (en) * | 2007-08-30 | 2011-09-21 | Lam Res Ag | Apparatus for wet treatment of plate-like articles |
US20090211602A1 (en) | 2008-02-22 | 2009-08-27 | Tokyo Electron Limited | System and Method For Removing Edge-Bead Material |
JP5058085B2 (ja) * | 2008-07-02 | 2012-10-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板洗浄装置 |
KR101040289B1 (ko) | 2009-06-19 | 2011-06-10 | 한양대학교 산학협력단 | 반도체 후면 세정을 위한 메가소닉 세정 시스템 |
KR101258002B1 (ko) * | 2010-03-31 | 2013-04-24 | 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 | 기판처리장치 및 기판처리방법 |
JP5242635B2 (ja) * | 2010-06-29 | 2013-07-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布方法および塗布装置 |
US8657963B2 (en) | 2011-09-22 | 2014-02-25 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | In-situ backside cleaning of semiconductor substrate |
JP6048043B2 (ja) | 2012-09-28 | 2016-12-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板洗浄方法、基板洗浄装置及び真空処理システム |
JP6020271B2 (ja) * | 2013-03-18 | 2016-11-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 液処理装置 |
US9821348B2 (en) | 2013-10-22 | 2017-11-21 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Method and apparatus for water edge exposure and backside cleaning |
US20160372317A1 (en) | 2014-03-06 | 2016-12-22 | Imt Co., Ltd | Device and method for cleaning backside or edge of wafer |
CN105304522A (zh) | 2014-07-29 | 2016-02-03 | 盛美半导体设备(上海)有限公司 | 硅片背面清洗装置 |
US10155252B2 (en) | 2015-04-30 | 2018-12-18 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Semiconductor apparatus and washing method |
JP2017098295A (ja) * | 2015-11-18 | 2017-06-01 | トヨタ自動車株式会社 | 半導体装置の製造装置及び製造方法 |
JP6737670B2 (ja) * | 2016-09-16 | 2020-08-12 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理方法、基板処理装置 |
-
2019
- 2019-06-28 EP EP19183277.3A patent/EP3594748B1/en active Active
- 2019-07-02 US US16/459,613 patent/US10679844B2/en active Active
- 2019-07-02 CA CA3048529A patent/CA3048529C/en active Active
- 2019-07-04 KR KR1020190080551A patent/KR102269900B1/ko active IP Right Grant
- 2019-07-09 TW TW108124089A patent/TWI725473B/zh active
- 2019-07-09 JP JP2019127553A patent/JP6895488B2/ja active Active
- 2019-07-09 CN CN201910616900.1A patent/CN110703561B/zh active Active
-
2020
- 2020-05-04 US US16/865,433 patent/US11239070B2/en active Active
- 2020-05-04 US US16/865,438 patent/US11495451B2/en active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2020006367A5 (ja) | スピンコーティング装置 | |
US20090191720A1 (en) | Coating process and equipment for reduced resist consumption | |
WO2015126425A1 (en) | Cover plate for defect control in spin coating | |
TW201316427A (zh) | 晶圓狀物件之液體處理方法與設備 | |
US10262880B2 (en) | Cover plate for wind mark control in spin coating process | |
US11239070B2 (en) | Optimal exposure of a bottom surface of a substrate material and/or edges thereof for cleaning in a spin coating device | |
KR20210041094A (ko) | 자기 조립 단분자층 코팅을 사용함으로써 금속 오염을 방지하기 위한 방법 및 시스템 | |
WO2019105405A1 (zh) | 涂胶装置及方法 | |
TWI710409B (zh) | 塗佈基板的方法及塗佈系統 | |
JP2017502328A (ja) | 表面上に堆積パターンを形成する方法 | |
JP2021044487A (ja) | スピンコーティング装置におけるクリーニングのための、基板材料の底部表面および/またはその縁部の最適露出 | |
JP5169162B2 (ja) | 着色フォトレジストの塗布方法及び塗布装置 | |
TW201432818A (zh) | 用於進行金屬剝離之方法 | |
JP2010176079A (ja) | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置のマスク保護方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | |
CN218446373U (zh) | 涂胶装置及光阻涂布设备 | |
JP2018182150A (ja) | ノズルの待機方法、及び塗布装置 | |
KR20070014576A (ko) | 에지 비드 제거 장치 | |
KR200357133Y1 (ko) | 스핀 코터 | |
JP6114486B1 (ja) | 印刷装置とその印刷方法 | |
TW201739631A (zh) | 凸型圖案的著色輔助裝置及其操作方法 | |
JPS63169727A (ja) | 塗布装置 | |
JP2007273568A (ja) | 基板処理装置、基板処理方法、及び基板の製造方法 | |
JPH04144120A (ja) | 回転塗布装置のクリーニング方法 | |
KR20070069455A (ko) | 웨이퍼의 에지 비드 제거장치 | |
KR20080032353A (ko) | 턴 테이블용 고정 블럭 |