CN218446373U - 涂胶装置及光阻涂布设备 - Google Patents

Abstract

本申请公开一种涂胶装置及光阻涂布设备，所述涂胶装置包括罩体、设置在所述罩体内且可旋转设置的承载盘；所述涂胶装置还包括设置在所述承载盘下方的防溢盖、自下向上穿过所述防溢盖的清洗喷头，所述清洗喷头的位置可调节且所述清洗喷头设置为至少两个。采用本申请涂胶装置及光阻涂布设备，能够对安置在所述承载盘上的晶圆背面边缘进行有效清洗，避免光阻残留；并能满足不同规格尺寸的晶圆与不同类型光阻的生产需求，有助于提高光阻涂布质量与生产效率。

Description

涂胶装置及光阻涂布设备

技术领域

本实用新型涉及半导体生产技术领域，特别涉及一种涂胶装置及光阻涂布设备。

背景技术

近年来，半导体集成电路产业快速发展，光刻工艺作为关键制造环节也在不断地创新与发展。光刻工艺通常先在晶圆上覆盖一层光阻，再通过光源透过一掩膜板照射在光阻上使其曝光，特定图案部分的光阻因为曝光而变硬或变软，最后利用显影液将其显影得到相应的结构。

就光阻涂布过程而言，需要先将晶圆放置在既定的承载盘上，并通过真空吸附固定，所述承载盘可在电机驱动下带动晶圆旋转；再将光阻液喷洒至晶圆表面，利用晶圆旋转时的离心力作用，促使光阻液流动铺展在晶圆的表面，最后形成一层厚度均匀的光阻层。其中，光阻液会在涂布过程中流至晶圆边缘及背面，现有的涂胶装置在承载盘的边缘还会配设用以喷洒既定清洗溶剂的喷头，在涂胶过程中对晶圆进行清洗，即背面光刻胶去除工艺(backside rinse，BSR)。但，上述喷嘴往往独立设置且位置难以调整，无法适用不同尺寸的晶圆，也难以满足不同类型光阻的需求。

鉴于此，有必要提供一种新的涂胶装置及光阻涂布设备。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种涂胶装置及光阻涂布设备，能够对安置在所述承载盘上的晶圆背面边缘进行有效清洗，避免光阻残留，减少涂布异常，提高生产效率。

本实用新型提供了一种涂胶装置，包括罩体、设置在所述罩体内且可旋转设置的承载盘，所述涂胶装置还包括设置在所述承载盘下方的防溢盖、自下向上穿过所述防溢盖的清洗喷头，所述清洗喷头的位置可调节且所述清洗喷头设置为至少两个。

作为本申请的进一步改进，至少两个所述清洗喷头相互独立设置且沿周向均匀间隔排布。

作为本申请的进一步改进，所述防溢盖开设有沿径向呈条状的通孔；所述清洗喷头贯穿所述通孔。

作为本申请的进一步改进，所述涂胶装置还包括座体及设置在所述承载盘下方并用以驱使所述承载盘旋转的电机；所述座体包括沿径向由内向外依次设置的第一周壁、第二周壁与第三周壁，所述第一周壁围设形成用以容置所述电机的收容腔。

作为本申请的进一步改进，所述清洗喷头设置在所述第一周壁与第二周壁之间；所述罩体与所述第三周壁相接。

作为本申请的进一步改进，所述第三周壁的上缘形成有台阶结构；所述罩体包括设置呈筒状的第一部分、自所述第一部分的上缘沿径向朝内收缩并向上倾斜延伸的第二部分，所述第一部分的下缘与所述台阶结构相配合抵接。

作为本申请的进一步改进，所述第一周壁向上设置超出所述第二周壁的上缘与第三周壁的上缘；所述第二周壁的上缘与第三周壁的上缘相齐平。

作为本申请的进一步改进，所述涂胶装置还包括液气分离器、连接所述液气分离器与所述座体的抽气管路；所述抽气管路设置为至少两根，每一所述抽气管路上均配设有控制阀。

作为本申请的进一步改进，所述罩体设置有开口；所述涂胶装置还包括位于所述罩体上方并与所述开口相适配的盖体、控制所述盖体升降移动的机械臂。

本申请还提供一种光阻涂布设备，包括如前所述的涂胶装置。

本实用新型具备的有益效果：采用本实用新型涂胶装置与光阻涂布设备，所述清洗喷头能够在涂胶制程中对安置在所述承载盘上的晶圆背面边缘进行有效清洗，避免光阻残留，提升光阻涂布质量以及生产效率。其中，所述清洗喷头位置可调适于不同规格尺寸的晶圆的生产；同时设置多个清洗喷头可分别喷射不同的清洗溶液，满足不同光阻的清洗需求。

附图说明

图1是本申请涂胶装置的结构示意图；

图2是本申请涂胶装置的部分结构示意图；

图3是图2中涂胶装置的部分结构的平面示意图；

图4是图3中涂胶装置的部分结构沿A-A方向的剖视图。

100-涂胶装置；1-座体；11-第一周壁；12-第二周壁；13-第三周壁；131-台阶结构；2-罩体；201-开口；21-第一部分；22-第二部分；3-承载盘；4-防溢盖；41-通孔；5-清洗喷头；6-电机；7-盖体；8-液气分离器；81-抽气管路；82-控制阀；9-柜体；91-支架；92-机械臂。

具体实施方式

以下将结合附图所示的实施方式对本实用新型进行详细描述。但该实施方式并不限制本实用新型，本领域的普通技术人员根据该实施方式所做出的结构、方法、或功能上的变换均包含在本实用新型的保护范围内。

参图1所示，本实用新型提供一种涂胶装置100及采用该涂胶装置100的光阻涂布设备，所述涂胶装置100及光阻涂布设备主要用以对既定的晶圆表面进行光阻涂布。其中，所述涂胶装置100包括座体1、安装在所述座体上的罩体2及设置在所述罩体2内且可旋转设置的承载盘3。所述承载盘3用以承载晶圆，通常可采用真空吸附的方式进行固定。

结合图2至图4所示，所述涂胶装置100还包括设置在所述承载盘3下方的防溢盖4、自下向上穿过所述防溢盖4的清洗喷头5。所述清洗喷头5通过相应的输液管路连接至储存有既定清洗溶液的储液器；所述清洗喷头5的上端优选为沿所述防溢盖4的径向朝外倾斜设置，以使得所述清洗喷头5喷出的清洗溶液可将晶圆背面边缘的多余光阻材料冲洗脱离晶圆。

所述防溢盖4整体设置呈中空的伞状，所述防溢盖4开设有沿径向呈条状的通孔41；所述清洗喷头5自下向上贯穿所述通孔41。所述清洗喷头5的位置可沿所述通孔41的延伸方向进行移动调整，能满足不同尺寸规格的晶圆生产需求。

所述涂胶装置100还可能根据不同的产品需求进行不同的光阻材料的涂布，此种情况下，往往需要引入不同的清洗溶液进行清洗。因而，所述清洗喷头5的数目设置为至少两个，便于现场操作与工艺切换；优选地，至少两个所述清洗喷头5相互独立设置且沿周向均匀间隔排布。

所述涂胶装置100还包括所述承载盘3下方并用以驱使所述承载盘3旋转的电机6。具体地，所述座体1包括沿径向由内向外依次设置的第一周壁11、第二周壁12与第三周壁13，所述第一周壁11围设形成用以容置所述电机6的收容腔。此处，所述第一周壁11向上设置超出所述第二周壁12的上缘与第三周壁13的上缘；所述第二周壁12的上缘与第三周壁13的上缘相齐平。

所述防溢盖4沿径向延伸超出所述第二周壁12；所述清洗喷头5设置在所述第一周壁11与第二周壁12之间，所述第一周壁11与第二周壁12之间的距离满足所述清洗喷头5的调节需求。

所述罩体2与所述第三周壁23相接配合，以形成涂胶腔室。在此，所述第三周壁13的上缘形成有台阶结构131；所述罩体2包括设置呈筒状的第一部分21、自所述第一部分21的上缘沿径向朝内收缩并向上倾斜延伸的第二部分22，所述第一部分21的下缘与所述台阶结构131相配合抵接。所述第二部分22形成有向上开放的开口201，所述涂胶装置100还包括位于所述罩体2上方并与所述开口201相适配的盖体7，所述盖体7可根据作业流程自动打开或关闭所述开口201，减少外部微尘等可能导致的光阻涂布不良。

所述涂胶装置100还包括液气分离器8、连接所述液气分离器8与所述座体1的抽气管路81，所述抽气管路81设置为至少两根，每一所述抽气管路81上均配设有独立可调的控制阀82。所述控制阀82的开度可以灵活控制调节，根据不同产品需求选择所述控制阀82的开度，可以改善晶圆表面的膜厚均匀性，延长使用周期。当然，还可以针对既定的晶圆尺寸、光阻材料及清洗溶液特定，建立相应的工艺程式，实现自动控制与生产。

所述涂胶装置100还包括用以支撑所述座体1的柜体9，所述液气分离器8安装在所述柜体内。本实施例中，所述柜体9上设置有位于所述座体旁侧的支架91以及安装在所述支架91上的机械臂92。所述盖体7连接在所述机械臂92上，并通过所述机械臂92带动实现升降、移动。

综上所述，本实用新型涂胶装置100通过所述清洗喷头5在涂胶制程中对安置在所述承载盘3上的晶圆背面边缘进行有效清洗，避免光阻残留，提升光阻涂布质量以及生产效率。其中，所述清洗喷头5位置可调，适于不同规格尺寸的晶圆的生产；同时沿周向设置多个清洗喷头5可分别连接至不同的储液器，并根据生产需求将不同的清洗溶液喷射至相应的晶圆背面边缘，满足不同光阻的清洗需求。

应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施方式中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

上文所列出的一系列的详细说明仅仅是针对本实用新型的可行性实施方式的具体说明，它们并非用以限制本实用新型的保护范围，凡未脱离本实用新型技艺精神所作的等效实施方式或变更均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种涂胶装置，包括罩体、设置在所述罩体内且可旋转设置的承载盘，其特征在于：所述涂胶装置还包括设置在所述承载盘下方的防溢盖、自下向上穿过所述防溢盖的清洗喷头，所述清洗喷头的位置可调节且所述清洗喷头设置为至少两个。

2.根据权利要求1所述的涂胶装置，其特征在于：至少两个所述清洗喷头相互独立设置且沿周向均匀间隔排布。

3.根据权利要求1所述的涂胶装置，其特征在于：所述防溢盖开设有沿径向呈条状的通孔；所述清洗喷头贯穿所述通孔。

4.根据权利要求1所述的涂胶装置，其特征在于：所述涂胶装置还包括座体及设置在所述承载盘下方并用以驱使所述承载盘旋转的电机；所述座体包括沿径向由内向外依次设置的第一周壁、第二周壁与第三周壁，所述第一周壁围设形成用以容置所述电机的收容腔。

5.根据权利要求4所述的涂胶装置，其特征在于：所述清洗喷头设置在所述第一周壁与第二周壁之间；所述罩体与所述第三周壁相接。

6.根据权利要求5所述的涂胶装置，其特征在于：所述第三周壁的上缘形成有台阶结构；所述罩体包括设置呈筒状的第一部分、自所述第一部分的上缘沿径向朝内收缩并向上倾斜延伸的第二部分，所述第一部分的下缘与所述台阶结构相配合抵接。

7.根据权利要求4所述的涂胶装置，其特征在于：所述第一周壁向上设置超出所述第二周壁的上缘与第三周壁的上缘；所述第二周壁的上缘与第三周壁的上缘相齐平。

8.根据权利要求4所述的涂胶装置，其特征在于：所述涂胶装置还包括液气分离器、连接所述液气分离器与所述座体的抽气管路；所述抽气管路设置为至少两根，每一所述抽气管路上均配设有控制阀。

9.根据权利要求1所述的涂胶装置，其特征在于：所述罩体设置有开口；所述涂胶装置还包括位于所述罩体上方并与所述开口相适配的盖体、控制所述盖体升降移动的机械臂。

10.一种光阻涂布设备，其特征在于：包括如权利要求1-9任一项所述的涂胶装置。

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