JP2019212869A - データ処理方法、データ処理装置、及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 - Google Patents
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Abstract
Description
2 描画部
10 記憶装置
11 ビットマップ生成部
12 補正部
13 ディストーション補正部
14 欠陥補正部
15 電流分布補正部
16 エラー検出部
17 データ転送部
20 電子鏡筒
21 電子銃
22 照明レンズ
23 アパーチャ部材
24 ブランキングプレート
25 縮小レンズ
26 制限アパーチャ部材
27 対物レンズ
28 偏向器
30 描画室
32 XYステージ
40 基板
Claims (6)
- 荷電粒子ビームによるマルチビームを用いて多重描画を行う描画装置における各ビームの照射量を制御するためのデータを処理するデータ処理方法であって、
描画対象基板の描画領域をメッシュ状に仮想分割した複数の照射位置毎の照射量を規定した照射量データを、多重描画の描画パスに対応するレイヤ毎に生成する工程と、
前記レイヤ毎の照射量データに規定された照射量の補正処理を行う工程と、
各レイヤの補正処理後の照射量データに規定された照射位置毎の照射量の総和を算出し、各レイヤの前記総和を比較し、比較結果に基づいて前記補正処理でエラーが発生したか否かを判定する工程と、
を備えるデータ処理方法。 - 前記補正処理は、描画対象基板におけるビーム電流分布マップに基づいて照射量を補正する処理を含み、
補正処理後の照射量データに、前記ビーム電流分布に基づく電流分布逆演算を施して補正前の照射量を求め、求めた補正前の照射量の総和をレイヤ間で比較してエラーが発生したか否かを判定することを特徴とする請求項1に記載のデータ処理方法。 - 前記補正処理は、前記マルチビームにおける欠陥ビームをリスト化した欠陥リストに基づいて照射量を補正する処理を含み、
前記照射量の総和を、前記補正処理における照射量の補正量に基づき調整した後、照射量の総和をレイヤ間で比較してエラーが発生したか否かを判定することを特徴とする請求項1又は2に記載のデータ処理方法。 - レイヤ間の前記総和の差が所定範囲内である場合、エラーが発生していないと判定することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のデータ処理方法。
- 荷電粒子ビームによるマルチビームを用いて多重描画を行う描画装置における各ビームの照射量を制御するためのデータを処理するデータ処理装置であって、
描画対象基板の描画領域をメッシュ状に仮想分割した複数の照射位置毎の照射量を規定した照射量データを、多重描画の描画パスに対応するレイヤ毎に生成する生成部と、
前記レイヤ毎の照射量データに規定された照射量の補正処理を行う補正部と、
各レイヤの補正処理後の照射量データに規定された照射位置毎の照射量の総和を算出し、各レイヤの前記総和を比較し、比較結果に基づいて前記補正処理でエラーが発生したか否かを判定するエラー検出部と、
を備えるデータ処理装置。 - 描画対象の基板を載置する移動可能なステージと、
荷電粒子ビームを放出する放出部と、
複数の開口部が形成され、前記複数の開口部を前記荷電粒子ビームが通過することでマルチビームを形成する成形アパーチャ部材と、
前記マルチビームの各ビームのブランキング偏向を行う複数のブランカを有するブランキングプレートと、
前記基板の描画領域をメッシュ状に仮想分割した複数の照射位置毎の照射量を規定した照射量データを、多重描画の描画パスに対応するレイヤ毎に生成する生成部と、
前記レイヤ毎の照射量データに規定された照射量の補正処理を行う補正部と、
各レイヤの補正処理後の照射量データに規定された照射位置毎の照射量の総和を算出し、各レイヤの前記総和を比較し、比較結果に基づいて前記補正処理でエラーが発生したか否かを判定するエラー検出部と、
エラーが発生していないと判定された場合に、補正処理後の照射量データを前記ブランキングプレートへ転送するデータ転送部と、
を備えるマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
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