JP7238672B2 - マルチビーム描画方法及びマルチビーム描画装置 - Google Patents
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Description
110 制御計算機
111 ビーム位置測定部
112 係数算出部
113 高さ測定部
114 面積密度算出部
115 照射量算出部
116 データ処理部
117 描画制御部
150 描画部
160 制御部
Claims (5)
- 基板上に照射されるマルチビームの各ビームの位置ずれ量を変化させるパラメータの複数のパラメータ値に対応する複数の位置ずれデータを取得する工程と、
前記複数の位置ずれデータにそれぞれ対応する複数の基準係数データを算出する工程と、
前記複数のパラメータ値に対応する複数の基準係数データを用いて、前記基板上の前記マルチビームの照射位置におけるパラメータ値に対応する係数データを算出する工程と、
前記係数データを用いて前記各ビームのショット毎の照射量を変調する工程と、
変調された前記照射量のマルチビームの少なくとも一部の前記各ビームを前記基板に照射してパターンを描画する工程と、
を備えるマルチビーム描画方法。 - 前記マルチビームの前記各ビームの照射位置のずれを変化させるパラメータが複数ある場合に、該複数のパラメータの各々について、前記複数のパラメータの複数のパラメータ値の組に対応する前記複数の位置ずれデータを取得し、前記複数のパラメータのパラメータ値の組ごとに前記複数の基準係数データを算出し、
照射位置における前記複数のパラメータの前記パラメータ値の組に対応する前記係数データを、前記組ごとの前記複数の基準係数データの補間又は外挿により算出することを特徴とする請求項1に記載のマルチビーム描画方法。 - 前記基板の描画中に、少なくとも離散的な時刻において前記マルチビームのビーム位置ずれの測定を行い、前記測定から前記マルチビームの前記各ビームの位置ずれを示す前記複数の位置ずれデータを取得する工程を有し、
それぞれ前記位置ずれデータに含まれる、前記描画を開始してからの経過時間より短い第1時間が経過した時点の第1位置ずれデータ、及び描画を開始してからの経過時間より短く前記第1時間よりも長い第2時間が経過した時点の第2位置ずれデータを用いて、前記第1位置ずれデータに対応する第1基準係数データ及び前記第2位置ずれデータに対応する第2基準係数データを算出し、
前記第1基準係数データ及び前記第2基準係数データの外挿により、現在時刻に対応する係数データを算出することを特徴とする請求項1に記載のマルチビーム描画方法。 - 前記基板の描画中に、少なくとも離散的な時刻において前記マルチビームの前記各ビームの前記位置ずれ量の測定を行い、前記複数の位置ずれデータを取得する工程を有し、
それぞれ前記位置ずれデータに含まれる、前記描画を開始してからの経過時間より短い第1時間が経過した時点の第1位置ずれデータ、及び描画を開始してからの経過時間より短く前記第1時間よりも長い第2時間が経過した時点の第2位置ずれデータを用いて、前記第1位置ずれデータに対応する第1基準係数データ及び前記第2位置ずれデータに対応する第2基準係数データを算出し、
描画を開始してから現在までの経過時間より長い第3時間について、前記第1位置ずれデータ及び前記第2位置ずれデータを用いて、前記第3時間が経過した時点の第3位置ずれデータを算出し、
前記第3位置ずれデータに対応する第3基準係数データを算出し、
前記第2基準係数データ及び第3基準係数データの補間により、現在時刻に対応する係数データを算出することを特徴とする請求項1に記載のマルチビーム描画方法。 - マルチビームの各ビームの位置ずれ量を変化させるパラメータの複数のパラメータ値に対応する複数の位置ずれデータを格納する記憶部と、
前記複数の位置ずれデータを用いて、前記マルチビームが基板に与える露光量分布を補正するために前記各ビームのショット毎の照射量を変調する照射量補正計算で用いる複数の基準係数データを前記パラメータの複数のパラメータ値のそれぞれについて算出し、前記複数の基準係数データを用いて、前記マルチビームの照射位置におけるパラメータのパラメータ値に対応する係数データを算出する係数算出部と、
前記係数データを用いて前記各ビームの前記ショット毎の前記照射量を変調する照射量算出部と、
変調された前記照射量の前記各ビームを前記基板に照射してパターンを描画する描画部と、
を備えるマルチビーム描画装置。
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