JP2019183110A - 撥水性被膜形成用組成物及び撥水性被膜 - Google Patents
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Abstract
Description
具体的には、三次元に結合したコロイダルシリカとアルキルアルコキシシランとフッ素を含有するアルキルアルコキシシランとを混合し、水を含む酸触媒を添加して、撥水材料と珪素酸化物微粒子との共加水分解・縮重合物を調製し、これを撥水処理用分散液として用い、フローコート法にてガラスに塗布し、自然乾燥させることにより超撥水処理ガラス基板を調製する。
具体的には、シリカを主成分とする下地膜である凹凸下地膜形成用塗布液として、テトラクロロシランのデカメチルシクロペンタシロキサン溶液を調製し、別途、ヘプタデカフルオロデシルトリクロロシランのデカメチルシクロペンタシロキサン溶液を撥水処理剤として調製する。そして、自動車用ウインドシールドガラスの表面に凹凸下地膜形成用塗布液をフローコート法により塗布し、更に撥水処理剤を塗布して静置し、エタノールで洗浄して表面の撥水処理剤を完全に洗い流した後に自然乾燥させて、撥水処理されたウインドシールドガラスを調製している。
〔1〕
下記の(a)、(b)及び(c)成分を含有することを特徴とする撥水性被膜形成用組成物。
(a)フッ素置換されていてもよい炭素数3〜20の一価炭化水素基がケイ素原子に結合したポリシラザン、
(b)表面未処理の金属酸化物ナノ粒子、表面にフッ素置換されていてもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基を有する金属酸化物ナノ粒子又は表面にアルキルシリル基若しくはアルコキシシリル基を有する金属酸化物ナノ粒子、及び
(c)非プロトン性溶剤
〔2〕
(a)成分が、下記一般式(1)で表されるポリシラザンである〔1〕に記載の撥水性被膜形成用組成物。
(式中、Rはそれぞれ同一でも異なっていてもよく、フッ素置換されていてもよい炭素数3〜20の一価炭化水素基を表す。Ra及びRbはそれぞれ同一でも異なっていてもよく、フッ素置換されていてもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基を表す。mは1〜100の整数であり、n及びpはそれぞれ0〜100の整数である。ただし、m、n及びpの和は4〜300の整数である。)
〔3〕
(b)金属酸化物ナノ粒子が、上記一般式(1)で表されるポリシラザンによって表面処理されていることによりケイ素原子を介してフッ素置換されていてもよい炭素数3〜20の一価炭化水素基を表面に有するものである〔2〕に記載の撥水性被膜形成用組成物。
〔4〕
(b)金属酸化物ナノ粒子が、シリカである〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の撥水性被膜形成用組成物。
〔5〕
(a)フッ素置換されていてもよい炭素数3〜20の一価炭化水素基がケイ素原子に結合したポリシラザン及び
(b)表面未処理の金属酸化物ナノ粒子、表面にフッ素置換されていてもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基を有する金属酸化物ナノ粒子又は表面にアルキルシリル基若しくはアルコキシシリル基を有する金属酸化物ナノ粒子
を含む撥水性被膜。
(a)フッ素置換されていてもよい炭素数3〜20の一価炭化水素基がケイ素原子に結合したポリシラザン、
(b)表面未処理の金属酸化物ナノ粒子、表面にフッ素置換されていてもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基を有する金属酸化物ナノ粒子又は表面にアルキルシリル基若しくはアルコキシシリル基を有する金属酸化物ナノ粒子、及び
(c)非プロトン性溶剤
を含有する。
以下、各成分について詳細に説明する。
ポリシラザンとは、ケイ素原子と窒素原子が交互に配列した構造を有する高分子化合物である。例えば、市販されているパーヒドロポリシラザンは、ケイ素原子上に有機置換基がなく水素原子が結合したポリシラザンであり、被膜を形成すると親水性を示す材料である。これに対して、本発明で使用されるポリシラザンには炭素数3〜20の一価炭化水素基がケイ素原子に結合しているため、表面自由エネルギーの低い被膜を形成することができ、撥水性を示す。また、上記一価炭化水素基をフッ素置換することにより、更に被膜の表面自由エネルギーを低下させることができる。
(式中、Rはそれぞれ同一でも異なっていてもよく、フッ素置換されていてもよい炭素数3〜20の一価炭化水素基を表す。Ra及びRbはそれぞれ同一でも異なっていてもよく、フッ素置換されていてもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基を表す。mは1〜100の整数であり、n及びpはそれぞれ0〜100の整数である。ただし、m、n及びpの和は4〜300の整数である。)
本発明で使用される金属酸化物ナノ粒子としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化セリウム、酸化銅、酸化クロム、酸化コバルト、酸化鉄、酸化マンガン、酸化ニッケル等から選ばれる1種以上の金属酸化物を含むナノ粒子が挙げられる。これらの中でも特に、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化セリウムから選ばれる1種以上の金属酸化物を含むナノ粒子であることが好ましく、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニアを含む微粒子であることが特に好ましい。実質的にシリカのみからなる微粒子であるフュームドシリカを使用することが最も好ましい。
アルコキシシリル基の飽和導入量を求めるには、例えば、表面未処理の金属酸化物ナノ粒子と、上記のアルコキシシリル化剤を一定の割合で混合し、アルコキシシリル化剤の消費量(または残存量)をガスクロマトグラフィーにより求めることにより決定することができる。アルコキシシリル化剤が金属酸化物ナノ粒子と接触しているにも関わらず消費されなくなった状態におけるアルコキシシリル基の導入量が飽和導入量である。
使用することができる溶媒としては、アルコキシシリル化剤と反応しない非プロトン性溶媒であれば特に制限はなく、例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン、ノナン、デカン、トルエン、キシレン、メシチレン等の炭化水素溶剤;イソパラフィン系溶剤、ナフテン系溶剤等の炭化水素混合溶剤:アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン;アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド;ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、ジブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等のエーテル溶剤;酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸メトキシエチル、酢酸ヘキシル等のエステル溶剤等が挙げられる。これらの溶剤は1種を単独で使用することもできるし、2種以上の複数を組み合わせて使用することもできる。また、液状のアルコキシシリル化剤を過剰に使用することにより、無溶剤でアルコキシシリル化を行うこともできる。
後述するように、本発明の撥水性被膜形成用組成物を用いて種々の塗布方法により基材上に被膜を形成することができるが、塗布方法に応じて粘度を調整するため、本発明の組成物には溶剤を添加する。
本発明の組成物には、本発明の効果を損ねない程度の少量であれば、その他の成分として、顔料、染料、分散剤、粘度調整剤、レベリング剤等の添加物や、表面に有機基を有しない金属酸化物ナノ粒子を含有してもよい。
本発明の撥水性被膜形成用組成物は、(a)成分、(b)成分、(c)成分及び必要に応じてその他の成分を混合し、(a)成分及び(b)成分を(c)成分の溶剤中に溶解又は分散させることにより得られる。混合の方法は任意であり、例えば、撹拌機や各種のミキサー等の混合装置を使用することができる。また、超音波照射する方法も有効である。
本発明の撥水性被膜形成用組成物は、(a)成分のポリシラザンが基材表面に対する密着性に優れているため、様々な基材に対して使用することができる。例えば、金属、樹脂、ガラス、セラミックス、これらの複合材料等の基材に塗布して、本発明の撥水性被膜を形成することが可能である。
本発明の撥水性被膜形成用組成物の塗布方法としては、組成物が基材表面に一様に濡れるような方法が必要である。具体的方法としては、例えばフローコート法、ディップコート法、カーテンコート法、スピンコート法、スプレーコート法、バーコート法等が挙げられる。基材の種類や形状、必要な膜厚に応じて適切な塗布方法を選択すればよい。
本発明の撥水性被膜形成用組成物を基材の表面に塗布した後、(c)成分である非プロトン性溶剤を除去することにより、本発明の撥水性被膜を簡便な方法で得ることができる。溶剤を除去する方法としては常圧あるいは減圧で揮発させる方法が一般的である。この際、加熱して時間を短縮することも可能である。
撹拌機、ガスフィード管、温度計、還流冷却器を備えた1Lの四つ口ガラスフラスコの内部を窒素で置換し、還流冷却器上部の開放端に窒素ガスを通気させて外気が混入しないようにしながら、オクチルトリクロロシラン309.6g(1.25モル)とトルエン500mLを仕込んで撹拌し、均一な溶液を得た。室温で内容物を撹拌しながら、フィード管を通じてアンモニアガスを溶液中に約0.62モル/時の速度でフィードした。内容物の温度が40℃を超えないように冷却しながら、7.1時間アンモニアのフィードを継続した。その後、アンモニアのフィードを停止し、フィード管を通じて窒素ガスを0.5L/分の速度で6時間吹き込んで、余剰のアンモニアガスをパージした。生じた白色の固体をメンブレンフィルターで濾別し、無色透明な溶液を得た。この溶液を減圧濃縮し、室温で真空乾燥することにより、白濁した油状のオクチルポリシラザン142.8gを得た。
[GPC条件]
装置:Prominence GPCシステム((株)島津製作所製)
カラム:LF−404(4.6mm×250mm)(Shodex社製)×2
溶離液:テトラヒドロフラン(THF)
流速:0.35ml/min
検出器:RI
カラム恒温槽温度:40℃
標準物質:ポリスチレン
オクチルトリクロロシランの代わりにデシルトリクロロシラン344.6g(1.25モル)を使用したこと以外は合成例1と同様にして、デシルポリシラザンを白色油状物として得た。
GPCによる重量平均分子量は2970、数平均分子量は2230であった。
オクチルトリクロロシランの代わりにヘキシルトリクロロシラン272.5g(1.25モル)を使用し、トルエンを750mLとしたこと以外は合成例1と同様にして、ヘキシルポリシラザンを白色油状物として得た。
GPCによる重量平均分子量は1250、数平均分子量は1130であった。
オクチルトリクロロシランの代わりにプロピルトリクロロシラン221.9g(1.25モル)を使用し、トルエンの代わりにシクロペンチルメチルエーテル1125mLを使用したこと以外は合成例1と同様にして、プロピルポリシラザンを白色油状物として得た。
GPCによる重量平均分子量は890、数平均分子量は770であった。
撹拌機、ガスフィード管、温度計、還流冷却器を備えた300mLの四つ口ガラスフラスコの内部を窒素で置換し、還流冷却器上部の開放端に窒素ガスを通気させて外気が混入しないようにしながら、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクチルトリクロロシラン54.2g(112.5ミリモル)及び3,3,3−トリフルオロプロピルトリクロロシラン8.68g(37.5ミリモル)と、シクロペンチルメチルエーテル135mLを仕込んで撹拌し、均一な溶液を得た。室温で内容物を撹拌しながら、フィード管を通じてアンモニアガスを溶液中に約124ミリモル/時の速度でフィードした。内容物の温度が40℃を超えないように冷却しながら、4.8時間アンモニアのフィードを継続した。その後、アンモニアのフィードを停止し、フィード管を通じて窒素ガスを0.15L/分の速度で6時間吹き込んで、余剰のアンモニアガスをパージした。生じた白色の固体をメンブレンフィルターで濾別し、無色透明な溶液を得た。この溶液を減圧濃縮し、室温で真空乾燥することにより、白濁した油状物39.3gを得た。
赤外吸収スペクトル(FT−IR)を測定したところ、898cm-1(Si−N−Si)、1141cm-1(C−F)、1183cm-1(N−H)、2946cm-1(C−H)、3394cm-1(N−H)に吸収が観察され、目的の(トリデカフルオロオクチル)(トリフルオロプロピル)ポリシラザンが生成していることが支持された。
撹拌機、ガスフィード管、温度計、還流冷却器を備えた200mLの四つ口ガラスフラスコの内部を窒素で置換し、還流冷却器上部の開放端に窒素ガスを通気させて外気が混入しないようにしながら、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8−トリデカフルオロオクチルトリクロロシラン48.2g(100ミリモル)とメタキシレンヘキサフルオライド90mLを仕込んで撹拌し、均一な溶液を得た。室温で内容物を撹拌しながら、フィード管を通じてアンモニアガスを溶液中に約79ミリモル/時の速度でフィードした。内容物の温度が40℃を超えないように冷却しながら、5.5時間アンモニアのフィードを継続した。その後、アンモニアのフィードを停止し、フィード管を通じて窒素ガスを0.15L/分の速度で2時間吹き込んで、余剰のアンモニアガスをパージした。生じた白色の固体をメンブレンフィルターで濾別し、無色透明な溶液を得た。この溶液を減圧濃縮し、室温で真空乾燥することにより、白濁した油状物25.4gを得た。
赤外吸収スペクトル(FT−IR)を測定したところ、932cm-1(Si−N−Si)、1141cm-1(C−F)、1182cm-1(N−H)、2945cm-1(C−H)、3394cm-1(N−H)に吸収が観察され、目的のトリデカフルオロオクチルポリシラザンが生成していることが支持された。
撹拌機、ガスフィード管、温度計、還流冷却器を備えた500mLの四つ口ガラスフラスコの内部を窒素で置換し、還流冷却器上部の開放端に窒素ガスを通気させて外気が混入しないようにしながら、ヘキシルトリクロロシラン32.9g(150ミリモル)、ジメチルジクロロシラン6.5g(50ミリモル)、及びトルエンを溶媒として165mLを仕込んで撹拌し、均一な溶液を得た。室温で内容物を撹拌しながら、フィード管を通じてアンモニアガスを溶液中に約150ミリモル/時の速度でフィードした。内容物の温度が40℃を超えないように冷却しながら、6時間アンモニアのフィードを継続した。その後、アンモニアのフィードを停止し、フィード管を通じて窒素ガスを0.15L/分の速度で2時間吹き込んで、余剰のアンモニアガスをパージした。生じた白色の固体をメンブレンフィルターで濾別し、無色透明な溶液を得た。この溶液を減圧濃縮し、室温で真空乾燥することにより、無色の油状物18.9gを得た。
赤外吸収スペクトル(FT−IR)を測定したところ、900cm-1、1153cm-1、(Si−N−Si)、1459cm-1、2853cm-1(C−H)、3389cm-1(N−H)に吸収が観察され、目的のポリシラザンが生成していることが支持された。
樹脂製キャップ付きガラス製容器にフュームドシリカ(比表面積205m2/g、商品名レオロシールQS−102、東ソー製)5.00gを秤量し、シクロペンチルメチルエーテル56.25g、1−トリメトキシシリルオキシ−1−エトキシプロペン1.25gを加えて時折搖動させながら1時間超音波照射し、フュームドシリカを均一に分散させた。白色半透明で安定な分散液が得られ、分散液のGC測定により、1−トリメトキシシリルオキシ−1−エトキシプロペンが消失したこと、及び、トリメトキシシリル基を有する揮発性の化合物が生成していないことがわかり、シリカ表面にトリメトキシシリル基が導入されたと判断した。
樹脂製キャップ付きガラス製容器にフュームドシリカ(比表面積205m2/g、商品名レオロシールQS−102、東ソー製)2gを秤量し、シクロペンチルメチルエーテル77g、ジプロピレングリコールジメチルエーテル20gを加えて30分間超音波照射し、フュームドシリカを分散させた。合成例1において得られたオクチルポリシラザン1gを添加して更に15分間超音波照射することにより、白色半透明の撥水性被膜形成用組成物を得た。この組成物は密閉下、室温で一か月以上安定であった。
形成した撥水性被膜に対し、協和界面科学製接触角計(DMs−401)を用い、25℃、50%RHの条件で膜表面に対する純水の接触角(10μL)、及び転落角(20μL)を測定したところ、接触角は163°、転落角は1°であった。超撥水性を示し、水滴の転落性が極めて良好な撥水性被膜が形成されたことがわかった。
組成物の配合量、安定性、膜厚、接触角及び転落角の測定結果を表1に示す。
バーコーターによる塗布膜厚を表1に示す膜厚に変更した以外は実施例1と同様にして、撥水性被膜形成用組成物を得た。
得られた組成物を用いて実施例1と同じガラス基板上に撥水性被膜を形成したところ、超撥水性を示し、水滴の転落性が極めて良好な撥水性被膜が形成された。組成物の配合量、安定性、膜厚、接触角及び転落角の測定結果を表1に記載した。
フュームドシリカとオクチルポリシラザンの添加量をそれぞれ1.5gとした以外は実施例1と同様にして、撥水性被膜形成用組成物を得た。
得られた組成物を用いて実施例1と同じガラス基板上に撥水性被膜を形成したところ、超撥水性を示し、水滴の転落性が極めて良好な撥水性被膜が形成された。組成物の配合量、安定性、膜厚、接触角及び転落角の測定結果を表1に記載した。
フュームドシリカとオクチルポリシラザンの添加量を表1に記載したように変更した以外は実施例1と同様にして、撥水性被膜形成用組成物を得た。
得られた組成物を用いて実施例1と同じガラス基板上に撥水性被膜を形成した。組成物の配合量、安定性、膜厚、接触角及び転落角の測定結果を表1に記載した。
フュームドシリカを添加しない比較例1で得られる塗膜は、超撥水性とならない。
添加するポリシラザンの種類を表2に示すものにそれぞれ変更した以外は実施例1と同様にして、撥水性被膜形成用組成物を得た。
得られた組成物を用いて実施例1と同じガラス基板上に撥水性被膜を形成したところ、いずれも超撥水性を示し、水滴の転落性が極めて良好な撥水性被膜が形成された。組成物の配合量、安定性、膜厚、接触角及び転落角の測定結果を表2に記載した。
樹脂製キャップ付きガラス製容器に、トリメチルシリル基で表面修飾された疎水性フュームドシリカ(比表面積145m2/g、商品名アエロジルRX200、日本アエロジル社製)0.9gを秤量し、シクロペンチルメチルエーテル30.8g、ジプロピレングリコールジメチルエーテル8.0gを加えて自転公転ミキサーで1分間混合し、表面修飾されたフュームドシリカを分散させた。合成例1において得られたオクチルポリシラザン0.3gを添加し、自転公転ミキサーを用いて更に5分間混合することにより、白色半透明の撥水性被膜形成用組成物を得た。この組成物は密閉下、室温で一か月以上安定であった。
形成した撥水性被膜に対し、協和界面科学製接触角計(DMs−401)を用い、25℃、50%RHの条件で膜表面に対する純水の接触角(10μL)、及び転落角(20μL)を測定したところ、接触角は163°、転落角は1°であった。超撥水性を示し、水滴の転落性が極めて良好な撥水性被膜が形成されたことがわかった。
添加するポリシラザンを合成例5で得られた(トリデカフルオロオクチル)(トリフルオロプロピル)ポリシラザンに変更した以外は実施例7と同様にして、撥水性被膜形成用組成物を得た。
得られた組成物を用いて実施例7と同じガラス基板上に撥水性被膜を形成したところ、超撥水性を示し、水滴の転落性が極めて良好な撥水性被膜が形成された。
添加するポリシラザンを合成例6で得られたトリデカフルオロオクチルポリシラザンに変更し、溶媒としてメタキシレンヘキサフルオライド38.8gを用いた以外は実施例7と同様にして、撥水性被膜形成用組成物を得た。
得られた組成物を用いて実施例7と同じガラス基板上に撥水性被膜を形成したところ、超撥水性を示し、水滴の転落性が極めて良好な撥水性被膜が形成された。
樹脂製キャップ付きガラス製容器にフュームドシリカ(比表面積205m2/g、商品名レオロシールQS−102、東ソー製)0.18gを秤量し、シクロペンチルメチルエーテル6.10g、ジプロピレングリコールジメチルエーテル1.60g、1−トリメトキシシリルオキシ−1−エトキシプロペン0.036gを加えて30分間超音波照射し、シリカ表面にトリメトキシシリル基を導入してフュームドシリカを溶媒中に均一に分散させた。続いて、合成例1において得られたオクチルポリシラザンを0.06g含む50質量%シクロペンチルメチルエーテル溶液を添加してさらに15分間超音波照射することにより、白色半透明の撥水性被膜形成用組成物を得た。この組成物は密閉下、室温で一か月以上安定であった。本実施例の組成物の調製方法を方法Aと記載する。
形成した撥水性被膜に対し、協和界面科学製接触角計(DMs−401)を用い、25℃、50%RHの条件で膜表面に対する純水の接触角(10μL)、及び転落角(20μL)を測定したところ、接触角は161°、転落角は1°であった。超撥水性を示し、水滴の転落性が極めて良好な撥水性被膜が形成されたことがわかった。
組成物の配合量、及び、接触角、転落角、全光線透過率、ヘーズの測定結果を表1に記載した。
組成物の配合量を表4に示すように変更した以外は実施例10と同様にして、方法Aにより撥水性被膜形成用組成物を得た。
得られた組成物を用いて実施例10と同じガラス基板上に撥水性被膜を形成したところ、超撥水性を示し、水滴の転落性が極めて良好な撥水性被膜が形成された。組成物の配合量、及び、接触角、転落角、全光線透過率、ヘーズの測定結果を表4に記載した。
フュームドシリカ及び1−トリメトキシシリルオキシ−1−エトキシプロペンを添加せず、表4に記載した組成で、撥水性被膜形成用組成物を得た。
得られた組成物を用いて実施例10と同じガラス基板上に撥水性被膜を形成した。組成物の配合量、接触角及び転落角の測定結果を表4に記載した。
フュームドシリカを添加しない比較例2では、撥水性の塗膜が得られたが、塗膜は超撥水性とならなかった。
樹脂製キャップ付きガラス製容器に合成例8で得られたトリメトキシシリル基を有するシリカ粒子分散液1.50gを秤量し、シクロペンチルメチルエーテル4.62g、ジプロピレングリコールジメチルエーテル1.02g、合成例1において得られたオクチルポリシラザンを0.06g含む25質量%ジプロピレングリコールジメチルエーテル溶液を添加して1分間混合することにより、白色半透明の撥水性被膜形成用組成物を得た。この組成物は密閉下、室温で一か月以上安定であった。本実施例の組成物の調製方法を方法Bと記載する。
組成物の配合量を表5に示すように変更した以外は実施例14と同様にして、方法Bにより撥水性被膜形成用組成物を得た。
得られた組成物を用いて実施例14と同じガラス基板上に撥水性被膜を形成したところ、超撥水性を示し、水滴の転落性が極めて良好な撥水性被膜が形成された。組成物の配合量及び接触角、転落角、全光線透過率、ヘーズの測定結果を表5に記載した。
添加するポリシラザンの種類及び組成物の配合量を表6に示すように変更した以外は実施例10又は実施例14と同様にして、方法A又は方法Bにより撥水性被膜形成用組成物を得た。
得られた組成物を用いて実施例1と同じガラス基板上に撥水性被膜を形成したところ、超撥水性を示し、水滴の転落性が極めて良好な撥水性被膜が形成された。組成物の配合量及び接触角、転落角、全光線透過率、ヘーズの測定結果を表6に記載した。
本発明の組成物には、本発明の効果を損ねない程度の少量であれば、その他の成分として、顔料、染料、分散剤、粘度調整剤、レベリング剤等の添加物や、表面に有機基を有しない(b)成分以外の金属酸化物ナノ粒子を含有してもよい。
組成物の配合量、及び、接触角、転落角、全光線透過率、ヘーズの測定結果を表4に記載した。
Claims (5)
- 下記の(a)、(b)及び(c)成分を含有することを特徴とする撥水性被膜形成用組成物。
(a)フッ素置換されていてもよい炭素数3〜20の一価炭化水素基がケイ素原子に結合したポリシラザン、
(b)表面未処理の金属酸化物ナノ粒子、表面にフッ素置換されていてもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基を有する金属酸化物ナノ粒子又は表面にアルキルシリル基若しくはアルコキシシリル基を有する金属酸化物ナノ粒子、及び
(c)非プロトン性溶剤 - (b)金属酸化物ナノ粒子が、上記一般式(1)で表されるポリシラザンによって表面処理されていることにより、ケイ素原子を介してフッ素置換されていてもよい炭素数3〜20の一価炭化水素基を表面に有するものである請求項2に記載の撥水性被膜形成用組成物。
- (b)金属酸化物ナノ粒子が、シリカである請求項1〜3のいずれか1項に記載の撥水性被膜形成用組成物。
- (a)フッ素置換されていてもよい炭素数3〜20の一価炭化水素基がケイ素原子に結合したポリシラザン及び
(b)表面未処理の金属酸化物ナノ粒子、表面にフッ素置換されていてもよい炭素数1〜20の一価炭化水素基を有する金属酸化物ナノ粒子又は表面にアルキルシリル基若しくはアルコキシシリル基を有する金属酸化物ナノ粒子
を含む撥水性被膜。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113135685A (zh) * | 2021-04-30 | 2021-07-20 | 中海建筑有限公司 | 一种防水材料、水泥及混凝土 |
KR20220112568A (ko) * | 2021-02-04 | 2022-08-11 | 한국기계연구원 | 방수 코팅제 조성물 및 이를 이용한 방수 코팅 방법 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102122032B1 (ko) * | 2019-12-23 | 2020-06-11 | 주식회사 도프 | 유무기 하이브리드 폴리실라잔 및 그 제조방법 |
Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62156135A (ja) * | 1985-12-28 | 1987-07-11 | Toa Nenryo Kogyo Kk | ポリオルガノ(ヒドロ)シラザン |
JPH02175758A (ja) * | 1988-12-28 | 1990-07-09 | Shin Etsu Chem Co Ltd | オルガノポリシロキサン組成物及びその製造方法 |
JPH04293964A (ja) * | 1991-03-22 | 1992-10-19 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 皮膜形成剤組成物 |
JPH05311121A (ja) * | 1992-05-14 | 1993-11-22 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 皮膜形成剤組成物 |
JPH0748560A (ja) * | 1993-08-06 | 1995-02-21 | Toshiba Silicone Co Ltd | コーティング用組成物 |
JP2005532895A (ja) * | 2002-07-13 | 2005-11-04 | デグサ アクチエンゲゼルシャフト | ナノ構造化された疎水性粒子を基礎とする界面活性剤不含の水性懸濁液の製造法およびその使用 |
JP2008001781A (ja) * | 2006-06-21 | 2008-01-10 | Koito Mfg Co Ltd | 着雪氷防止用組成物及びその使用、並びに液体噴射装置 |
JP2009507113A (ja) * | 2005-09-08 | 2009-02-19 | クラリアント・インターナシヨナル・リミテッド | 金属表面及びポリマー表面用のポリシラザン含有被覆材 |
JP2009045810A (ja) * | 2007-08-20 | 2009-03-05 | Toto Ltd | 複合材、複合材の製造方法及びコーティング液 |
US20100310774A1 (en) * | 2009-06-05 | 2010-12-09 | Xerox Corporation | Hydrophobic coatings and their processes |
CN105647290A (zh) * | 2016-01-14 | 2016-06-08 | 北京易净星科技有限公司 | 可水下使用的超疏水涂料及其制备和使用方法 |
CN106675398A (zh) * | 2016-12-08 | 2017-05-17 | 国家电网公司 | 一种改进3型缓释型长效超憎水防污闪涂料 |
CN106752908A (zh) * | 2016-12-08 | 2017-05-31 | 国家电网公司 | 一种改进1型缓释型长效超憎水防污闪涂料的加工工艺 |
JP2017524158A (ja) * | 2014-07-29 | 2017-08-24 | エイ・ゼット・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルク)エス・ア・エール・エル | オプトエレクトロニクス部品のコーティング手段として使用するためのハイブリッド材料 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3933777B2 (ja) | 1997-12-03 | 2007-06-20 | 株式会社Kri | 基材の表面改質方法 |
KR20040052516A (ko) | 2001-11-08 | 2004-06-23 | 니혼 이타가라스 가부시키가이샤 | 피막 피복 물품, 및 이것을 이용한 기능성 피막 피복 물품 |
JP4256662B2 (ja) | 2001-11-08 | 2009-04-22 | 日本板硝子株式会社 | 皮膜被覆物品、およびその製造方法 |
JP2005343016A (ja) | 2004-06-03 | 2005-12-15 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 超撥水性被膜被覆物品 |
JP6008739B2 (ja) | 2012-12-27 | 2016-10-19 | 日揮触媒化成株式会社 | 撥水性透明被膜付基材およびその製造方法 |
KR102370256B1 (ko) * | 2016-04-28 | 2022-03-04 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 조성물 |
-
2018
- 2018-12-28 JP JP2018246867A patent/JP7135851B2/ja active Active
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Patent Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62156135A (ja) * | 1985-12-28 | 1987-07-11 | Toa Nenryo Kogyo Kk | ポリオルガノ(ヒドロ)シラザン |
JPH02175758A (ja) * | 1988-12-28 | 1990-07-09 | Shin Etsu Chem Co Ltd | オルガノポリシロキサン組成物及びその製造方法 |
JPH04293964A (ja) * | 1991-03-22 | 1992-10-19 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 皮膜形成剤組成物 |
JPH05311121A (ja) * | 1992-05-14 | 1993-11-22 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 皮膜形成剤組成物 |
JPH0748560A (ja) * | 1993-08-06 | 1995-02-21 | Toshiba Silicone Co Ltd | コーティング用組成物 |
JP2005532895A (ja) * | 2002-07-13 | 2005-11-04 | デグサ アクチエンゲゼルシャフト | ナノ構造化された疎水性粒子を基礎とする界面活性剤不含の水性懸濁液の製造法およびその使用 |
JP2009507113A (ja) * | 2005-09-08 | 2009-02-19 | クラリアント・インターナシヨナル・リミテッド | 金属表面及びポリマー表面用のポリシラザン含有被覆材 |
JP2008001781A (ja) * | 2006-06-21 | 2008-01-10 | Koito Mfg Co Ltd | 着雪氷防止用組成物及びその使用、並びに液体噴射装置 |
JP2009045810A (ja) * | 2007-08-20 | 2009-03-05 | Toto Ltd | 複合材、複合材の製造方法及びコーティング液 |
US20100310774A1 (en) * | 2009-06-05 | 2010-12-09 | Xerox Corporation | Hydrophobic coatings and their processes |
JP2010280887A (ja) * | 2009-06-05 | 2010-12-16 | Xerox Corp | 疎水性コーティングおよびそのプロセス |
JP2017524158A (ja) * | 2014-07-29 | 2017-08-24 | エイ・ゼット・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルク)エス・ア・エール・エル | オプトエレクトロニクス部品のコーティング手段として使用するためのハイブリッド材料 |
CN105647290A (zh) * | 2016-01-14 | 2016-06-08 | 北京易净星科技有限公司 | 可水下使用的超疏水涂料及其制备和使用方法 |
CN106675398A (zh) * | 2016-12-08 | 2017-05-17 | 国家电网公司 | 一种改进3型缓释型长效超憎水防污闪涂料 |
CN106752908A (zh) * | 2016-12-08 | 2017-05-31 | 国家电网公司 | 一种改进1型缓释型长效超憎水防污闪涂料的加工工艺 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20220112568A (ko) * | 2021-02-04 | 2022-08-11 | 한국기계연구원 | 방수 코팅제 조성물 및 이를 이용한 방수 코팅 방법 |
KR102581814B1 (ko) | 2021-02-04 | 2023-09-25 | 한국기계연구원 | 방수 코팅제 조성물 및 이를 이용한 방수 코팅 방법 |
CN113135685A (zh) * | 2021-04-30 | 2021-07-20 | 中海建筑有限公司 | 一种防水材料、水泥及混凝土 |
CN113135685B (zh) * | 2021-04-30 | 2023-03-21 | 中海建筑有限公司 | 一种防水材料、水泥及混凝土 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI798414B (zh) | 2023-04-11 |
KR20190118963A (ko) | 2019-10-21 |
JP7135851B2 (ja) | 2022-09-13 |
TW202003778A (zh) | 2020-01-16 |
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