CN111918926A

CN111918926A - 混合组合物

Info

Publication number: CN111918926A
Application number: CN201980022346.2A
Authority: CN
Inventors: 樱井彩香; 德田真芳
Original assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 2018-03-30
Filing date: 2019-03-29
Publication date: 2020-11-10
Anticipated expiration: 2039-03-29
Also published as: JP7420477B2; JP2019183148A; CN111918926B; WO2019189790A1; TWI767114B; KR20200138327A; TW201942206A

Abstract

本发明的课题在于提供能够实现防水性(特别是水滴的滑落性)、防油性和耐硫酸性优异的被膜的混合组合物。本发明涉及一种混合组合物，是至少一个含有三烷基甲硅烷基的分子链与至少一个水解性基团键合于硅原子的有机硅化合物(A)、下述式(b1)表示的金属化合物(B)、第一解离时的pKa为1以上的酸(C)和水(D)的混合组合物，上述水(D)的量大于0质量％且小于2.20质量％。下述式(b1)中，M表示Al、Fe、In、Ge、Hf、Si、Ti、Sn、Zr或者Ta，R^b10表示含有硅氧烷骨架的基团、含有烃链的基团或者氢原子，r为0或者1。多个A^b1各自独立地表示水解性基团，m根据金属原子M而为3～5的整数。M(R^b10)_r(A^b1)_m‑r(b1)。

Description

混合组合物

技术领域

本发明涉及有机硅化合物与金属化合物的混合组合物。

背景技术

在各种显示装置、光学元件、半导体元件、建筑材料、汽车部件、纳米压印技术等中，有时因在基材的表面附着液滴(特别是水滴)而水其自身或水中含有的离子、灰尘会污染基材。因此，在这些领域，要求基材表面的防水·防油性良好。作为用于形成提高基材表面的防水·防油性的被膜的组合物，已知有混合了有机硅化合物的组合物，在专利文献1中公开了混合有具有特定结构的有机硅化合物的组合物。另外，在专利文献2中，作为用于对辊、模具、板、料槽、料斗或烹饪器具等赋予防水·防油性和非粘着性的涂料组合物，公开了混合有三烷氧基硅烷化合物、无机填料、催化剂、硅氧烷低聚物、水和有机溶剂的涂料组合物。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2017-201008号公报

专利文献2：日本特开2016-33190号公报

发明内容

在上述领域使用的被膜根据户外等用途有时暴露于紫外线、雨水等严苛的环境下，希望即便暴露于严苛的环境后也能够维持良好的性能。想要在户外长时间维持防水·防油性的情况下，根据研究结果表明了空气中的SO_x、NO_x与水分反应而产生的硫酸、硝酸会导致涂膜的劣化，其中从实用稳定性的观点考虑，特别重要的是对作为劣化因子而影响大的硫酸具有耐性。但是，使用专利文献1、2中公开的组合物得到的被膜在耐硫酸性方面尚有研究的余地。

本发明是着眼于如上所述的事情而完成的，其目的在于提供能够实现防水性(特别是水滴的滑落性)·防油性和耐硫酸性优异的被膜的混合组合物。

本发明包括以下的发明。

[1]一种混合组合物，是有机硅化合物(A)、下述式(b1)表示的金属化合物(B)、第一解离时的pKa为1以上的酸(C)和水(D)的混合组合物，上述有机硅化合物(A)是至少一个含有三烷基甲硅烷基的分子链与至少一个水解性基团键合于硅原子的化合物，上述水(D)的量大于0质量％且小于2.20质量％。

M(R^b10)_r(A^b1)_m-r (b1)

[式(b1)中，M表示Al、Fe、In、Ge、Hf、Si、Ti、Sn、Zr或者Ta，R^b10表示含有硅氧烷骨架的基团、含有烃链的基团或者氢原子，r为0或者1。多个A^b1各自独立地表示水解性基团，m根据金属原子M而为3～5的整数。]

[2]根据[1]所述的组合物，其中，上述水(D)的量大于0质量％且小于1.79质量％。

[3]根据[1]或[2]所述的组合物，其中，混合有溶剂(E)，上述溶剂(E)的量为10质量％以上。

[4]根据[3]所述的组合物，其中，上述水(D)的质量与上述溶剂(E)的质量的比例(D/E)为50质量％以下。

[5]根据[1]～[4]中任一项所述的组合物，其中，上述金属化合物(B)与上述有机硅化合物(A)的摩尔比(B/A)为2～500。

[6]根据[1]～[5]中任一项所述的组合物，其中，上述酸(C)的量为30质量％以下。

[7]根据[1]～[6]中任一项所述的组合物，其中，上述组合物中，第一解离时的pKa小于1的酸的量小于2.0质量％(包括0质量％)。

[8]根据[1]～[7]中任一项所述的组合物，其中，上述有机硅化合物(A)为下述式(a1)表示的化合物。

[式(a1)中，多个A^a1各自独立地表示水解性基团，Z^a1表示含有三烷基甲硅烷基的分子链、含有硅氧烷骨架的基团或者含有烃链的基团，x为0或者1，R^a1表示含有三烷基甲硅烷基的分子链。Z^a1和R^a1的该三烷基甲硅烷基中含有的氢原子可以被氟原子取代。]

[9]根据[8]所述的组合物，其中，上述有机硅化合物(A)为下述式(a2)表示的化合物。

[上述式(a2)中，A^a1、Z^a1、x与上述含义相同。Z^s1表示-O-或者2价的烃基，该2价的烃基中含有的-CH₂-可以被置换成-O-，多个R^s2各自独立地表示碳原子数为1～10的烷基，n1为1以上的整数，Y^s1表示单键或者-Si(R^s2)₂-L^s1-，该L^s1表示2价的烃基，该2价的烃基中含有的-CH₂-可以被置换成-O-，多个R^s1各自独立地表示烃基或者三烷基甲硅烷氧基。]

[10]根据[9]所述的组合物，其中，上述n1为1～60的整数。

[11]根据[1]～[10]中任一项所述的组合物，其中，上述有机硅化合物(A)与上述金属化合物(B)的量的合计(A+B)为0.40质量％以上。

[12]根据[1]～[11]中任一项所述的组合物，其中，上述金属化合物(B)为下述式(b2)表示的化合物。

Si(OR^b11)_yH_4-y (b2)

[上述式(b2)中，R^b11表示碳原子数1～6的烷基，y为3或者4。]

本发明的混合组合物因使用第一解离时的pKa为1以上的酸(C)作为催化剂，并且将组合物中的水的量抑制到小于规定量，所以能够将在基材上涂布该组合物而形成被膜时的水解缩合反应控制在适当的状态。其结果，形成的被膜具有良好的防水·防油性和耐硫酸性。

具体实施方式

本发明的混合组合物是有机硅化合物(A)、下述式(b1)表示的金属化合物(B)、第一解离时的pKa为1以上的酸(C)和水(D)的混合组合物，上述有机硅化合物(A)是至少一个含有三烷基甲硅烷基的分子链与至少一个水解性基团键合于硅原子(以下有时将该硅原子称为“中心硅原子”)的化合物，在上述水(D)的量大于0质量％且小于2.20质量％这一点上具有特征。

M(R^b10)_r(A^b1)_m-r (b1)

使用这样的混合组合物并通过上述的水解性基团的水解和缩聚而形成的被膜利用上述的三烷基甲硅烷基成为具有防水·防油性的被膜，特别是水滴的滑落性变得良好。

另外，通过使用第一解离时的pKa为1以上的酸(C)作为催化剂并抑制组合物中混合的水量，抑制键合于硅原子的水解性基团水解和缩聚的反应的局部进行，能够在稳定的条件下形成被膜。其结果，能够形成良好的被膜，该被膜的耐硫酸性优异。另外，耐磨损性也优异。以下，有时将混合组合物简称为组合物。

以下，依次对有机硅化合物(A)、金属化合物(B)、第一解离时的pKa为1以上的酸(C)和水(D)进行说明。有机硅化合物(A)、金属化合物(B)在组合物中成为缩合物。

1.有机硅化合物(A)

本发明的有机硅化合物(A)中，至少一个含有三烷基甲硅烷基的分子链与至少一个水解性基团键合于中心硅原子。

含有三烷基甲硅烷基的分子链是指具有含有三烷基甲硅烷基的基团键合于分子链的末端的结构的1价基团，通过使含有三烷基甲硅烷基的基团键合于分子链，从而由本发明的组合物形成的被膜的防水·防油性提高，特别是水滴的滑落性提高。另外，通过使含有三烷基甲硅烷基的分子链存在，从而液滴(水滴等)与该被膜之间的阻力减少，液滴容易移动。即便含有三烷基甲硅烷基的基团的烷基被置换成氟烷基的情况下，也同样能够提高该被膜界面(表面)的防水性(特别是水滴的滑落性)·防油性。另外，通过使三烷基甲硅烷基偏在于该被膜表面，能够防止硫酸扩散到膜中，可得到具有高的耐硫酸性的膜。并且，还能够防止热水扩散到膜中，因此成为后述的耐热水特性也优异的膜。

上述有机硅化合物(A)中，键合于中心硅原子的含有三烷基甲硅烷基的分子链的个数优选为1～3，更优选为2以下。键合于中心硅原子的含有三烷基甲硅烷基的分子链的个数特别优选为1。

上述水解性基团是指通过水解而提供羟基的基团(与硅原子键合而成为硅烷醇基的基团)，例如，可优选举出甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基等碳原子数1～4的烷氧基；羟基；乙酰氧基；氯原子；异氰酸酯基等。这些中，优选为碳原子数1～4的烷氧基，更优选为碳原子数1或2的烷氧基。

上述有机硅化合物(A)中，键合于中心硅原子的水解性基团的个数为1以上，优选为2以上，通常优选为3以下。

在上述有机硅化合物(A)的中心硅原子上，除键合含有三烷基甲硅烷基的分子链、水解性基团以外，还可以键合含有硅氧烷骨架的基团(优选元素数比构成含有三烷基甲硅烷基分子链的分子链的元素数少的含硅氧烷骨架基团)或者含有烃链的基团(优选含有碳原子数比构成含有三烷基甲硅烷基分子链的分子链的元素数少的烃链的含烃链基团)。

本发明的组合物可以混合2种以上的上述有机硅化合物(A)。

上述有机硅化合物(A)具体而言优选为下述式(a1)表示的化合物。

上述式(a1)中，多个A^a1各自独立地为水解性基团，只要为通过水解而提供羟基的基团(与硅原子键合而成为硅烷醇基的基团)即可，例如，可优选举出甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基等碳原子数1～4的烷氧基；羟基；乙酰氧基；氯原子；异氰酸酯基等。这些中，优选为碳原子数1～4的烷氧基，更优选为碳原子数1或2的烷氧基。

上述式(a1)中，R^a1为含有三烷基甲硅烷基的分子链，如上所述，是具有含有三烷基甲硅烷基的基团键合于分子链末端的结构的1价基团。上述含有三烷基甲硅烷基的基团是包含至少一个三烷基甲硅烷基的基团，是优选包含2个以上、进一步优选包含3个三烷基甲硅烷基的基团。

上述含有三烷基甲硅烷基的基团优选为下述式(s1)表示的基团。

[上述式(s1)中，多个R^s1各自独立地表示烃基或者三烷基甲硅烷氧基，该烃基或者三烷基甲硅烷氧基中含有的氢原子可以被氟原子取代。

*表示键合位点。]

上述R^s1为烃基时，其碳原子数优选为1～4，更优选为1～3，进一步优选为1或者2。

上述R^s1为烃基时，优选为脂肪族烃基，更优选为烷基。作为该烷基，可举出甲基、乙基、丙基、丁基等。

多个R^s1可以相同也可以不同，优选相同。R^s1全部为烃基时，3个R^s1的合计碳原子数优选为9以下，更优选为6以下，进一步优选为4以下。优选3个R^s1中至少1个为甲基，更优选至少2个为甲基，特别优选3个R^s1全部为甲基。

作为上述R^s1全部为烃基(烷基)的基团(三烷基甲硅烷基)，具体而言，可举出下述式表示的基团等。式中，*表示键合位点。

另外，上述式(s1)的R^s1为三烷基甲硅烷氧基时，优选R^s1的至少一个为三烷基甲硅烷氧基。

作为上述三烷基甲硅烷氧基，可举出氧原子与R^s1全部为烃基(烷基)的基团(三烷基甲硅烷基)的硅原子键合的基团。上述式(s1)中，优选2个以上的R^s1为三烷基甲硅烷氧基，更优选3个R^s1为三烷基甲硅烷氧基。

作为R^s1的至少一个为三烷基甲硅烷氧基的基团，可举出下述式表示的基团。

在上述含有三烷基甲硅烷基的分子链中，优选三烷基甲硅烷基键合于分子链的末端(自由端侧)，特别是分子链的主链(最长直链)的末端(自由端侧)。

键合有上述三烷基甲硅烷基的分子链优选为直链状或者支链状，更优选为直链状。

键合有上述三烷基甲硅烷基的分子链优选包含二烷基硅氧烷链，更优选包含直链状二烷基硅氧烷链。另外，包含二烷基硅氧烷链的上述分子链可以包含2价的烃基。即便该分子链的一部分为2价的烃基，但因剩余部分为二烷基硅氧烷链，所以得到的被膜的化学·物理耐久性良好。

键合有上述三烷基甲硅烷基的分子链优选为下述式(s2)表示的基团。

[式(s2)中，Z^s1表示-O-或者2价的烃基，该2价的烃基中含有的-CH₂-可以被置换成-O-，多个R^s2各自独立地表示碳原子数1～10的烷基，n1为1以上的整数，Y^s1表示单键或者-Si(R^s2)₂-L^s1-，该L^s1表示2价的烃基，该2价的烃基中含有的-CH₂-可以被置换成-O-。上述式(s2)中，左侧的*表示与中心硅原子的键合位点，右侧的*表示与含有三烷基甲硅烷基的基团的键合位点。]

上述R^s2表示的烷基的碳原子数优选为1～4，更优选为1～3，进一步优选为1或者2。

n1优选为1～100的整数，更优选为1～80的整数，进一步优选为1～60的整数，更进一步优选为1～50的整数，特别优选为1～45的整数，最优选为1～30的整数。

Z^s1或者L^s1表示的2价的烃基的碳原子数优选为1～10，更优选为1～6，进一步优选为1～4。上述2价的烃基优选为链状，为链状时，可以为直链状、支链状中的任一个。另外，上述2价的烃基优选为2价的脂肪族烃基，优选为烷烃二基。作为上述2价的烃基，可举出亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚丁基等。

此外，上述2价的烃基中含有的一部分的-CH₂-可以被置换成-O-。这种情况下，连续的2个-CH₂-不会同时被置换成-O-，与Si原子邻接的-CH₂-不会被置换成-O-。2个以上的-CH₂-被置换成-O-的情况下，-O-与-O-之间的碳原子数优选为2～4，进一步优选为2或者3。作为上述2价的烃基的一部分被置换成-O-的基团，具体而言，可例示具有(聚)乙二醇单元的基团、具有(聚)丙二醇单元的基团等。

上述式(s2)中，优选Z^s1为-O-、Y^s1为单键，即上述分子链仅由二烷基甲硅烷氧基重复构成。二烷基硅氧烷链仅由二烷基甲硅烷氧基重复构成时，得到的被膜的化学·物理耐久性良好。

作为上述含有三烷基甲硅烷基的分子链所含的分子链，可举出下述式表示的分子链。下述式中，q1表示1以上的整数，*表示与中心硅原子或者含有三烷基甲硅烷基的基团键合的键合位点。q1为与上述n1相同的数值范围，优选的范围也相同，例如，可以为1～60，也可以为1～30。

另外，构成含有三烷基甲硅烷基的分子链的元素的合计数优选为24以上，更优选为40以上，进一步优选为50以上。另外，优选为5000以下，更优选为4000以下，进一步优选为2000以下，更进一步优选为1200以下，特别优选为700以下，最优选为250以下。

上述含有三烷基甲硅烷基的分子链优选为下述式(s3)表示的基团。

[式(s3)中，Z^s1、R^s2、n1、Y^s1、R^s1与上述含义相同。*表示与中心硅原子的键合位点。]

上述含有三烷基甲硅烷基的分子链优选为下述式(s3-1)或者下述式(s3-2)表示的基团，更优选为下述式(s3-2)表示的基团。

上述含有三烷基甲硅烷基的分子链由下述式(s3-1)表示时，更优选为下述式(s3-1-1)表示的基团。

[式(s3-1)和式(s3-1-1)中，Z^s1、R^s2、n1、Y^s1与上述含义相同。R^s3表示碳原子数1～4的烷基。*表示与中心硅原子的键合位点。]

R^s3表示的烷基的碳原子数优选为1～3，更优选为1或者2。另外，式(s3-1)和式(s3-1-1)中，多个-Si(R^s3)₃所含的R^s3的合计碳原子数优选为9以下，更优选为6以下，进一步优选为4以下。此外，多个-Si(R^s3)₃所含的R^s3中，优选R^s3的至少一个为甲基，更优选2个以上的R^s3为甲基，特别优选3个R^s3全部为甲基。

上述含有三烷基甲硅烷基的分子链由下述式(s3-2)表示时，更优选为下述式(s3-2-1)表示的基团。

[上述式(s3-2)和式(s3-2-1)中，Z^s1、R^s2、n1、Y^s1与上述含义相同。R^s4表示碳原子数1～4的烷基。*表示与中心硅原子的键合位点。]

R^s4表示的烷基的碳原子数优选为1～3，更优选为1或者2。另外，式(s3-2)和式(s3-2-1)中，多个-Si(R^s4)₃所含的R^s4的合计碳原子数优选为9以下，更优选为6以下，进一步优选为4以下。此外，多个-Si(R^s4)₃所含的R^s4中，优选R^s4的至少一个为甲基，更优选2个以上的R^s4为甲基，特别优选3个R^s4全部为甲基。

作为上述含有三烷基甲硅烷基的分子链，具体而言，可举出下述式(s3-I)表示的基团。

[上述式(s3-I)中，*表示与中心硅原子的键合位点。]

上述式(s3-I)中，Z^s10、R^s20、n10、Y^s10、R^s10优选为下述表1、2所示的组合。

[表1]

	Z<sup>s10</sup>	R<sup>s20</sup>	n10	Y<sup>s10</sup>	R<sup>s10</sup>
						(s3-I-1)	-O-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-	(CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-2)	-O-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-	(CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
						(s3-I-3)	-O-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-	(CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-4)	-O-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-	(CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
						(s3-I-5)	-O-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-	(CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-6)	-CH<sub>2</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-	(CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
						(s3-I-7)	-CH<sub>2</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-	(CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-8)	-CH<sub>2</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-	(CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
						(s3-I-9)	-CH<sub>2</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-	(CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-10)	-CH<sub>2</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-	(CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
						(s3-I-11)	-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-	(CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-12)	-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-	(CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
						(s3-I-13)	-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-	(CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-14)	-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-	(CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
						(s3-I-15)	-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-	(CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-16)	-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-	(CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
						(s3-I-17)	-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-	(CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-18)	-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-	(CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
						(s3-I-19)	-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-	(CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-20)	-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-	(CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
						(s3-I-21)	-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-	(CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-22)	-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-	(CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
						(s3-I-23)	-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-	(CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
(s3-I-24)	-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-	(CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*
						(s3-I-25)	-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-	(CH<sub>3</sub>)<sub>3</sub>SiO-*

[表2]

	Z<sup>s10</sup>	R<sup>s20</sup>	n10	Y<sup>s10</sup>	R<sup>s10</sup>
						(s3-I-26)	-O-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-	CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-27)	-O-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-	CH<sub>3</sub>-*
						(s3-I-28)	-O-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-	CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-29)	-O-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-	CH<sub>3</sub>-*
						(s3-I-30)	-O-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-	CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-31)	-CH<sub>2</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-	CH<sub>3</sub>-*
						(s3-I-32)	-CH<sub>2</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-	CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-33)	-CH<sub>2</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-	CH<sub>3</sub>-*
						(s3-I-34)	-CH<sub>2</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-	CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-35)	-CH<sub>2</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-	CH<sub>3</sub>-*
						(s3-I-36)	-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-	CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-37)	-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-	CH<sub>3</sub>-*
						(s3-I-38)	-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-	CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-39)	-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-	CH<sub>3</sub>-*
						(s3-I-40)	-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-	CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-41)	-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-	CH<sub>3</sub>-*
						(s3-I-42)	-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-	CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-43)	-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-	CH<sub>3</sub>-*
						(s3-I-44)	-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-	CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-45)	-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-	CH<sub>3</sub>-*
						(s3-I-46)	-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-	CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-47)	-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-	CH<sub>3</sub>-*
						(s3-I-48)	-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>2</sub>-	CH<sub>3</sub>-*
(s3-I-49)	-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>3</sub>-	CH<sub>3</sub>-*
						(s3-I-50)	-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-	CH<sub>3</sub>-*	1～60	-Si(CH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>-(CH<sub>2</sub>)<sub>4</sub>-	CH<sub>3</sub>-*

上述表1、表2中示出的n10优选为1～30。另外，上述式(a1)中，Z^a1表示含有三烷基甲硅烷基的分子链、含有硅氧烷骨架的基团或者含有烃链的基团。

Z^a1为含有三烷基甲硅烷基的分子链时，可举出与上述R^a1同样的例子。

Z^a1为含有硅氧烷骨架的基团时，优选上述含有硅氧烷骨架的基团为含有硅氧烷单元(Si-O-)的1价基团，由数量比构成R^a1的含有三烷基甲硅烷基的分子链的元素数少的元素构成。由此，含有硅氧烷骨架的基团成为较含有三烷基甲硅烷基的分子链而言长度较短或者立体广度(体积大小)较小的基团。含有硅氧烷骨架的基团中可以含有2价的烃基。

上述含有硅氧烷骨架的基团优选为下述式(s4)表示的基团。

[式(s4)中，Z^s1、R^s2和Y^s1与上述含义相同。R^s5表示烃基或者羟基，该烃基中含有的-CH₂-可以被置换成-O-，该烃基中含有的氢原子可以被氟原子取代。n3表示0～5的整数。*表示与中心硅原子的键合位点。]

作为R^s5表示的烃基，可举出与R^s1表示的烃基同样的基团，优选为脂肪族烃基，更优选为烷基。

R^s5表示的烃基的碳原子数优选为1～4，更优选为1～3，进一步优选为1或者2。

n3优选为1～5的整数，更优选为1～3的整数。

上述含有硅氧烷骨架的基团的元素数的合计优选为600以下，更优选为500以下，进一步优选为350以下，更进一步优选为100以下，特别优选为50以下，最优选为30以下，另外优选为10以上。另外，R^a1的含有三烷基甲硅烷基的分子链与Z^a1的含有硅氧烷骨架的基团的元素数的差优选为10以上，更优选为20以上，优选为1000以下，更优选为500以下，进一步优选为200以下。

作为上述含有硅氧烷骨架的基团，具体而言，可举出下述式表示的基团。

Z^a1为含有烃链的基团时，优选烃链部分的碳原子数比构成含有三烷基甲硅烷基分子链的分子链的元素数少。另外，优选烃链的最长直链的碳原子数比构成含有三烷基甲硅烷基分子链的最长直链的元素数少。含有烃链的基团通常仅由烃基(烃链)构成，但根据需要，也可以是该烃链的一部分亚甲基(-CH₂-)被置换成氧原子而成的基团。另外，与Si原子邻接的亚甲基(-CH₂-)不会被置换成氧原子，并且连续的2个亚甲基(-CH₂-)不会同时被置换成氧原子。

应予说明，烃链部分的碳原子数在氧非取代型的含有烃链的基团的情况下是指构成烃基(烃链)的碳原子的数目，在氧取代型的含有烃链的基团的情况下是指将氧原子假定为亚甲基(-CH₂-)而数出的碳原子的数目。

以下，只要没有特别说明，则以氧非取代型的含有烃链的基团(即1价的烃基)为例对含有烃链的基团进行说明，在任一说明中，都可以将其亚甲基(-CH₂-)中的一部分置换成氧原子。

上述含有烃链的基团在其为烃基的情况下，优选碳原子数为1～3，更优选为1。另外，上述含有烃链的基团可以为支链，也可以为直链。上述含有烃链的基团优选为含有饱和或不饱和的脂肪族烃链的基团，更优选为含有饱和脂肪族烃链的基团。作为上述含有饱和脂肪族烃链的基团，更优选为饱和脂肪族烃基。饱和脂肪族烃基例如包括甲基、乙基、丙基等。

饱和脂肪族烃基的一部分亚甲基(-CH₂-)被置换成氧原子时，具体而言，可例示具有(聚)乙二醇单元的基团等。

上述式(a1)中，x优选为0。

上述有机硅化合物(A)优选为下述式(a2)表示的化合物。

[式(a2)中，A^a1、Z^a1、x、Z^s1、R^s2、n1、Y^s1、R^s1分别与上述含义相同。]

上述式(a2)中，上述n1优选为1～60的整数。上述n1更优选为2以上的整数，进一步优选为3以上的整数，更优选为50以下的整数，进一步优选为40以下的整数，特别优选为30以下的整数，最优选为25以下的整数。

上述式(a2)表示的有机硅化合物(A)优选为下述式(a2-1)或者下述式(a2-2)表示的化合物，更优选为下述式(a2-2)表示的化合物。

上述式(a2)表示的有机硅化合物(A)由下述式(a2-1)表示时，更优选为下述式(a2-1-1)表示的化合物。

[式(a2-1)和式(a2-1-1)中，A^a1、Z^s1、R^s2、n1、Y^s1、R^s3与上述含义相同。]

上述式(a2)表示的有机硅化合物(A)由下述式(a2-2)表示时，更优选为下述式(a2-2-1)表示的化合物。

[式(a2-2)和式(a2-2-1)中，A^a1、Z^s1、R^s2、n1、Y^s1、R^s4与上述含义相同。]

上述式(a2)表示的有机硅化合物(A)具体而言可举出式(A-I)表示的化合物。

上述式(A-I)中，A^a10、Z^s10、R^s20、n10、Y^s10、R^s10优选为下述表3-1、3-2、4-1、4-2所示的组合。

[表3-1]

Aa10

Zs10

Rs20

n10

Ys10

Rs10

(A-I-1)

C2H5O-*

*-O-*

CH3-*

1～60

-

(CH3)3SiO-*

(A-I-2)

C2H5O-*

*-O-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-CH2-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-3)

C2H5O-*

*-O-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)2-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-4)

C2H5O-*

*-O-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)3-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-5)

C2H5O-*

*-O-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)4-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-6)

C2H5O-*

*-CH2-*

CH3-*

1～60

-

(CH3)3SiO-*

(A-I-7)

C2H5O-*

*-CH2-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-CH2-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-8)

C2H5O-*

*-CH2-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)2-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-9)

C2H5O-*

*-CH2-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)3-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-10)

C2H5O-*

*-CH2-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)4-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-11)

C2H5O-*

*-(CH2)2-*

CH3-*

1～60

-

(CH3)3SiO-*

(A-I-12)

C2H5O-*

*-(CH2)2-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-CH2-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-13)

C2H5O-*

*-(CH2)2-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)2-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-14)

C2H5O-*

*-(CH2)2-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)3-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-15)

C2H5O-*

*-(CH2)2-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)4-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-16)

C2H5O-*

*-(CH2)3-*

CH3-*

1～60

-

(CH3)3SiO-*

(A-I-17)

C2H5O-*

*-(CH2)3-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-CH2-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-18)

C2H5O-*

*-(CH2)3-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)2-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-19)

C2H5O-*

*-(CH2)3-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)3-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-20)

C2H5O-*

*-(CH2)3-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)4-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-21)

C2H5O-*

*-(CH2)4-*

CH3-*

1～60

-

(CH3)3SiO-*

(A-I-22)

C2H5O-*

*-(CH2)4-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-CH2-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-23)

C2H5O-*

*-(CH2)4-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)2-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-24)

C2H5O-*

*-(CH2)4-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)3-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-25)

C2H5O-*

*-(CH2)4-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)4-*

(CH3)3SiO-*

[表3-2]

Aa10

Zs10

Rs20

n10

Ys10

Rs10

(A-I-26)

CH3O-*

*-O-*

CH3-*

1～60

-

(CH3)3SiO-*

(A-I-27)

CH3O-*

*-O-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-CH2-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-28)

CH3O-*

*-O-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)2-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-29)

CH3O-*

*-O-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)3-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-30)

CH3O-*

*-O-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)4-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-31)

CH3O-*

*-CH2-*

CH3-*

1～60

-

(CH3)3SiO-*

(A-I-32)

CH3O-*

*-CH2-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-CH2-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-33)

CH3O-*

*-CH2-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)2-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-34)

CH3O-*

*-CH2-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)3-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-35)

CH3O-*

*-CH2-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)4-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-36)

CH3O-*

*-(CH2)2-*

CH3-*

1～60

-

(CH3)3SiO-*

(A-I-37)

CH3O-*

*-(CH2)2-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-CH2-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-38)

CH3O-*

*-(CH2)2-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)2-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-39)

CH3O-*

*-(CH2)2-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)3-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-40)

CH3O-*

*-(CH2)2-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)4-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-41)

CH3O-*

*-(CH2)3-*

CH3-*

1～60

-

(CH3)3SiO-*

(A-I-42)

CH3O-*

*-(CH2)3-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-CH2-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-43)

CH3O-*

*-(CH2)3-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)2-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-44)

CH3O-*

*-(CH2)3-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)3-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-45)

CH3O-*

*-(CH2)3-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)4-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-46)

CH3O-*

*-(CH2)4-*

CH3-*

1～60

-

(CH3)3SiO-*

(A-I-47)

CH3O-*

*-(CH2)4-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-CH2-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-48)

CH3O-*

*-(CH2)4-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)2-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-49)

CH3O-*

*-(CH2)4-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)3-*

(CH3)3SiO-*

(A-I-50)

CH3O-*

*-(CH2)4-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)4-*

(CH3)3SiO-*

[表4-1]

Aa10

Zs10

Rs20

n10

Ys10

Rs10

(A-I-51)

C2H5O-*

*-O-*

CH3-*

1～60

-

CH3-*

(A-I-52)

C2H5O-*

*-O-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-CH2-*

CH3-*

(A-I-53)

C2H5O-*

*-O-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)2-*

CH3-*

(A-I-54)

C2H5O-*

*-O-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)3-*

CH3-*

(A-I-55)

C2H5O-*

*-O-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)4-*

CH3-*

(A-I-56)

C2H5O-*

*-CH2-*

CH3-*

1～60

-

CH3-*

(A-I-57)

C2H5O-*

*-CH2-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-CH2-*

CH3-*

(A-I-58)

C2H5O-*

*-CH2-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)2-*

CH3-*

(A-I-59)

C2H5O-*

*-CH2-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)3-*

CH3-*

(A-I-60)

C2H5O-*

*-CH2-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)4-*

CH3-*

(A-I-61)

C2H5O-*

*-(CH2)2-*

CH3-*

1～60

-

CH3-*

(A-I-62)

C2H5O-*

*-(CH2)2-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-CH2-*

CH3-*

(A-I-63)

C2H5O-*

*-(CH2)2-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)2-*

CH3-*

(A-I-64)

C2H5O-*

*-(CH2)2-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)3-*

CH3-*

(A-I-65)

C2H5O-*

*-(CH2)2-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)4-*

CH3-*

(A-I-66)

C2H5O-*

*-(CH2)3-*

CH3-*

1～60

-

CH3-*

(A-I-67)

C2H5O-*

*-(CH2)3-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-CH2-*

CH3-*

(A-I-68)

C2H5O-*

*-(CH2)3-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)2-*

CH3-*

(A-I-69)

C2H5O-*

*-(CH2)3-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)3-*

CH3-*

(A-I-70)

C2H5O-*

*-(CH2)3-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)4-*

CH3-*

(A-I-71)

C2H5O-*

*-(CH2)4-*

CH3-*

1～60

-

CH3-*

(A-I-72)

C2H5O-*

*-(CH2)4-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-CH2-*

CH3-*

(A-I-73)

C2H5O-*

*-(CH2)4-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)2-*

CH3-*

(A-I-74)

C2H5O-*

*-(CH2)4-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)3-*

CH3-*

(A-I-75)

C2H5O-*

*-(CH2)4-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)4-*

CH3-*

[表4-2]

Aa10

Zs10

Rs20

n10

Ys10

Rs10

(A-I-76)

CH3O-*

*-O-*

CH3-*

1～60

-

CH3-*

(A-I-77)

CH3O-*

*-O-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-CH2-*

CH3-*

(A-I-78)

CH3O-*

*-O-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)2-*

CH3-*

(A-I-79)

CH3O-*

*-O-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)3-*

CH3-*

(A-I-80)

CH3O-*

*-O-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)4-*

CH3-*

(A-I-81)

CH3O-*

*-CH2-*

CH3-*

1～60

-

CH3-*

(A-I-82)

CH3O-*

*-CH2-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-CH2-*

CH3-*

(A-I-83)

CH3O-*

*-CH2-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)2-*

CH3-*

(A-I-84)

CH3O-*

*-CH2-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)3-*

CH3-*

(A-I-85)

CH3O-*

*-CH2-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)4-*

CH3-*

(A-I-86)

CH3O-*

*-(CH2)2-*

CH3-*

1～60

-

CH3-*

(A-I-87)

CH3O-*

*-(CH2)2-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-CH2-*

CH3-*

(A-I-88)

CH3O-*

*-(CH2)2-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)2-*

CH3-*

(A-I-89)

CH3O-*

*-(CH2)2-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)3-*

CH3-*

(A-I-90)

CH3O-*

*-(CH2)2-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)4-*

CH3-*

(A-I-91)

CH3O-*

*-(CH2)3-*

CH3-*

1～60

-

CH3-*

(A-I-92)

CH3O-*

*-(CH2)3-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-CH2-*

CH3-*

(A-I-93)

CH3O-*

*-(CH2)3-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)2-*

CH3-*

(A-I-94)

CH3O-*

*-(CH2)3-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)3-*

CH3-*

(A-I-95)

CH3O-*

*-(CH2)3-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)4-*

CH3-*

(A-I-96)

CH3O-*

*-(CH2)4-*

CH3-*

1～60

-

CH3-*

(A-I-97)

CH3O-*

*-(CH2)4-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-CH2-*

CH3-*

(A-I-98)

CH3O-*

*-(CH2)4-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)2-*

CH3-*

(A-I-99)

CH3O-*

*-(CH2)4-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)3-*

CH3-*

(A-I-100)

CH3O-*

*-(CH2)4-*

CH3-*

1～60

*-Si(CH3)2-(CH2)4-*

CH3-*

上述表3-1、表3-2、表4-1、表4-2中示出的n10优选为1～30。

上述式(A-I)中，更优选为(A-I-26)表示的化合物。即，作为上述式(a2)表示的有机硅化合物(A)，优选下述式(a3)表示的化合物。

[式(a3)中，n2为1～60的整数。]

上述n2更优选为2以上的整数，进一步优选为3以上的整数，更优选为50以下的整数，进一步优选为40以下的整数，特别优选为30以下的整数，最优选为25以下的整数。

在组合物100质量％中，上述有机硅化合物(A)的量优选为0.1质量％以上，更优选为0.2质量％以上，进一步优选为0.3质量％以上，优选为2质量％以下，更优选为1质量％以下，进一步优选为0.8质量％以下。上述的有机硅化合物(A)的量可以由组合物制备时的配合量或者组合物的分析结果算出。应予说明，本说明书中，质量比或者摩尔比与上述同样地可以由组合物制备时的配合量或者组合物的分析结果算出。

作为上述有机硅化合物(A)的合成方法，可举出日本特开2017-201009号公报中记载的方法。

2.金属化合物(B)

本发明的组合物是混合有下述式(b1)表示的金属化合物(B)的组合物。

M(R^b10)_r(A^b1)_m-r (b1)

上述金属化合物(B)如上述式(b1)所示，是至少水解性基团A^b1键合于金属原子M的化合物。应予说明，本说明书中“金属”以也包括Si、Ge等准金属的意思使用。

如上所述，由本发明的组合物得到的被膜利用来自有机硅化合物(A)的三烷基甲硅烷基提高防水·防油功能，认为未键合这样的含有三烷基甲硅烷基分子链的金属元素M在被膜中作为隔离物发挥功能。

M优选为选自Al、Si、Ti、Sn、Zr中的至少一个，更优选为选自Al、Si、Ti、Zr中的至少一个，进一步优选为Si。

R^b10为至少一部分具有含有硅氧烷骨架的基团的基团或者至少一部分具有烃链的基团，或者表示氢原子。

A^b1表示的水解性基团和R^b10表示的含有硅氧烷骨架的基团、含有烃链的基团可以从上述有机硅化合物(A)中说明的水解性基团、含有硅氧烷骨架的基团和含有烃链的基团中适当地选择，优选的范围也同样。

m为金属原子M的化合价，在金属原子M为Al、Fe、In等3价金属的情况下m为3，在金属原子M为Ge、Hf、Si、Ti、Sn、Zr等4价金属的情况下m为4，在金属原子M为Ta等5价金属的情况下m为5。

本发明的组合物可以是混合有2种以上的金属化合物(B)的组合物。

作为上述金属化合物(B)，可举出r＝0，即仅水解性基团A^b1键合于金属原子M的金属化合物B1；或者r＝1，即1个含有硅氧烷骨架的基团、含有烃链的基团或者氢原子与2个以上的水解性基团A^b1键合于金属原子M的金属化合物B2。

(金属化合物B1)

作为仅水解性基团A^b1键合于金属原子M的金属化合物B1，具体而言，可举出三乙氧基铝、三丙氧基铝、三丁氧基铝等三烷氧基铝；三乙氧基铁等三烷氧基铁；三甲氧基铟、三乙氧基铟、三丙氧基铟、三丁氧基铟等三烷氧基铟；四甲氧基锗、四乙氧基锗、四丙氧基锗、四丁氧基锗等四烷氧基锗；四甲氧基铪、四乙氧基铪、四丙氧基铪、四丁氧基铪等四烷氧基铪；四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、四丁氧基硅烷等四烷氧基硅烷；四甲氧基钛、四乙氧基钛、四丙氧基钛、四丁氧基钛等四烷氧基钛；四甲氧基锡、四乙氧基锡、四丙氧基锡、四丁氧基锡等四烷氧基锡；四甲氧基锆、四乙氧基锆、四丙氧基锆、四丁氧基锆等四烷氧基锆；五甲氧基钽、五乙氧基钽、五丙氧基钽、五丁氧基钽等五烷氧基钽等。

(金属化合物B2)

1个含有硅氧烷骨架的基团、含有烃链的基团或者氢原子与2个以上的水解性基团A^b1键合于金属原子M的金属化合物B2中，金属原子M优选为4价的金属(Ge、Hf、Si、Ti、Sn、Zr等)，作为金属原子M为Si时的具体例，可举出三甲基甲硅烷氧基三甲氧基硅烷、三甲基甲硅烷氧基三乙氧基硅烷、三甲基甲硅烷氧基三丙氧基硅烷等三甲基甲硅烷氧基三烷氧基硅烷；甲基三甲氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、甲基三丙氧基硅烷等烷基三烷氧基硅烷；乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷等烯基三烷氧基硅烷；三甲氧基硅烷、三乙氧基硅烷、三丙氧基硅烷等三烷氧基硅烷；二甲氧基甲基硅烷、二乙氧基甲基硅烷等二烷氧基烷基硅烷等。

作为上述金属化合物(B)，具体而言，优选下述式(b2)表示的化合物。

Si(OR^b11)_yH_4-y (b2)

[式(b2)中，R^b11表示碳原子数1～6的烷基，y为3或者4。]

R^b11表示的烷基的碳原子数优选为1～4，更优选为1～3，进一步优选为1或者2。

作为R^b11表示的烷基，可举出甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基等。

在组合物100质量％中，上述金属化合物(B)的量优选为0.1质量％以上，更优选为0.5质量％以上，进一步优选为0.8质量％以上，优选为2.5质量％以下，更优选为2质量％以下，进一步优选为1.5质量％以下。

在组合物100质量％中，上述有机硅化合物(A)与上述金属化合物(B)的量的合计(A+B)优选为0.40质量％以上，更优选为0.8质量％以上，进一步优选为1质量％以上，优选为2.5质量％以下，更优选为2质量％以下，进一步优选为1.8质量％以下。

上述金属化合物(B)与上述有机硅化合物(A)的摩尔比(B/A)优选为2～500。上述摩尔比(B/A)更优选为8以上，进一步优选为10以上，特别优选为15以上，最优选为20以上，更优选为200以下，进一步优选为100以下，特别优选为50以下。

3.第一解离时的pKa为1以上的酸(C)

本发明的组合物需要使作为键合于硅原子的水解性基团的水解催化剂发挥作用的催化剂与上述有机硅化合物(A)和金属化合物(B)一起共存，本发明的组合物的特征在于使用第一解离时的pKa为1以上的酸(C)(以下有时简称为“酸(C)”。)作为上述催化剂。通过使用上述酸(C)作为催化剂，如下所述抑制组合物中混合的水量，能够使被膜形成时的反应平稳地进行，能够形成良好的被膜。上述pKa是酸解离常数，上述酸(C)的第一解离时的pKa优选为1.5以上，更优选为2.5以上，进一步优选为3.5以上。上述酸(C)的第一解离时的pKa的上限没有特别限定，例如，优选为10以下，更优选为8以下，进一步优选为6以下。

作为上述酸(C)，可以为无机酸，也可以为有机酸，具体而言，可举出马来酸(pKa＝1.92)、磷酸(pKa＝2.12)、甲酸(pKa＝3.75)、苯甲酸(pKa＝4.2)、苯乙酸(pKa＝4.31)、乙酸(pKa＝4.76)、丁酸(pKa＝4.83)、2-甲基丙酸(pKa＝4.84)、丙酸(pKa＝4.87)、2,2-二甲基丙酸(pKa＝5.03)等。上述酸(C)可以仅混合1种，也可以组合2种以上混合。作为上述酸(C)，优选为有机酸，更优选为马来酸、甲酸、乙酸。

在组合物100质量％中，上述酸(C)的量优选为30质量％以下，更优选为10质量％以下，进一步优选为1质量％以下，特别优选为0.1质量％以下。上述酸(C)的量的下限通常大于0质量％，优选为0.001质量％以上，更优选为0.0015质量％以上。

本发明的组合物可以混合第一解离时的pKa小于1的酸作为催化剂，但该第一解离时的pKa小于1的酸的量优选小于2.0质量％，更优选为1.5质量％以下，进一步优选为1质量％以下，更进一步优选为0.5质量％以下，特别优选为0.1质量％以下，最优选为0质量％。

作为上述第一解离时的pKa小于1的酸，例如，可举出硝酸(pKa＝-1.5)、盐酸(pKa＝-8)等。

4.水(D)

本发明的组合物混合有水(D)，由此能够使水解性基团水解。

本发明中，使上述组合物中混合的上述水(D)的量大于0质量％且小于2.20质量％。通过使上述水的量小于2.20质量％，能够使被膜形成时的反应平稳地进行，能够形成良好的被膜。组合物100质量％中，上述水(D)的量在优选为2.0质量％以下，更优选小于1.79质量％，进一步优选为1.0质量％以下，特别优选为0.5质量％以下，优选为0.005质量％以上，更优选为0.01质量％以上，进一步优选为0.015质量％以上。

上述水(D)与上述有机硅化合物(A)和上述金属化合物(B)的合计(A+B)的摩尔比[D/(A+B)]优选为0.1～10。上述摩尔比[D/(A+B)]更优选为0.15以上，进一步优选为0.2以上，更优选为8以下，进一步优选为5以下。

5.溶剂(E)

本发明的组合物进一步混合有溶剂(E)。上述溶剂(E)是指水以外的溶剂，例如，可举出醇系溶剂、醚系溶剂、酮系溶剂、酯系溶剂、酰胺系溶剂等。作为上述醇系溶剂，例如，可举出甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、乙二醇、丙二醇、二乙二醇等。作为上述醚系溶剂，例如，可举出二甲氧基乙烷、四氢呋喃、二噁烷等。作为上述酮系溶剂，例如，可举出丙酮、甲基乙基酮(2-丁酮)等。作为上述酯系溶剂，例如，可举出乙酸乙酯、乙酸丁酯等。作为上述酰胺系溶剂，例如，可举出二甲基甲酰胺等。这些中，优选为醇系溶剂或者醚系溶剂，更优选为醇系溶剂。

在组合物100质量％中，上述溶剂(E)的量优选为10质量％以上，更优选为50质量％以上，进一步优选为90质量％以上，特别优选为95质量％以上，优选为98.5质量％以下，更优选为98.4质量％以下，进一步优选为98.3质量％以下。

本发明的组合物中，上述水(D)的质量与上述溶剂(E)的质量的比例(D/E)优选为50质量％以下，更优选为10质量％以下，进一步优选为5质量％以下，特别优选为1质量％以下。

在不阻碍本发明的效果的范围内，本发明的组合物可以混合有例如抗氧化剂、防锈剂、紫外线吸收剂、光稳定剂、防霉剂、抗菌剂、生物附着防止剂、消臭剂、颜料、阻燃剂、抗静电剂等各种添加剂。

通过将本发明的组合物固化而得到膜。

将本发明的组合物固化而成的膜通常形成在基材上。

作为使本发明的组合物与基材接触的方法，例如，可举出将组合物涂覆于基材的方法。具体而言，可举出旋涂法、浸涂法、喷涂法、辊涂法、棒涂法、手工涂布(使液体渗入布等中并涂布在基材上的方法)、冲流(使用滴管等将液体直接施于基材进行涂布的方法)、喷雾(利用喷雾而涂布于基材的方法)等。特别是从作业性的观点考虑，优选旋涂法、喷涂法、手工涂布、冲流、喷雾，更优选旋涂法、手工涂布、喷雾，进一步优选旋涂法。

通过将本发明的组合物在与基材接触的状态下，在空气中，在常温下静置(例如，10～48小时)或者加热1～10小时左右(例如，300℃以下)，从而促进水解性基团的水解和缩聚，能够在基材上形成被膜。

被膜的膜厚例如可以为0.5～100nm左右。

与本发明的组合物接触的基材没有特别限定，基材的形状可以为平面、曲面中的任一种，也可以为多个面组合而成的三维结构。

另外，基材的材质也没有限定，可以由有机系材料、无机系材料中的任一种构成。作为上述有机系材料，例如，可举出丙烯酸树脂、聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、苯乙烯树脂、丙烯酸-苯乙烯共聚树脂、纤维素树脂、聚烯烃树脂等热塑性树脂；酚醛树脂、脲树脂、三聚氰胺树脂、环氧树脂、不饱和聚酯、有机硅树脂、聚氨酯树脂等热固化性树脂等。作为上述无机系材料，例如，可举出陶瓷；玻璃；铁、硅、铜、锌、铝等金属；含有上述金属的合金等。

可以对上述基材预先实施易粘接处理。作为上述易粘接处理，例如，可举出电晕处理、等离子体处理、紫外线处理等亲水化处理。另外，可以利用树脂、硅烷偶联剂、四烷氧基硅烷等实施底涂处理，也可以在基材上预先涂布聚硅氮烷等玻璃被膜。

将本发明的组合物固化而成的膜具有防水性或液滴的滑落速度大这样的特征。在此，防水性或滑落速度的测定例如可以使用水滴或其它的各种液体等的液滴进行测定。

将本发明的组合物固化而成的膜上的液滴(具体而言为水滴)的接触角优选为95°以上，更优选为100°以上，进一步优选为103°以上。该接触角可以按照后述的实施例的测定法进行确定。

将本发明的组合物固化而成的膜上的液滴(具体而言为水滴)的滑落速度优选为20mm/秒以上，更优选为25mm/秒以上，进一步优选为30mm/秒以上，特别优选为45mm/秒以上。该滑落速度可以按照后述的实施例的测定法进行确定。

将本发明的组合物固化而成的膜优选显示2000次以上、更优选为3000次以上、进一步优选为5000次以上、特别优选为8000次以上的耐磨损性。该耐磨损性可以按照后述的实施例的测定法进行确定。

将本发明的组合物固化而成的膜具有良好的防油性，例如，即便用油性记号笔在被膜表面画圆，也可通过用一般的纸或布轻轻擦拭而容易地擦除记号笔痕迹。

将本发明的组合物固化而成的膜显示良好的耐硫酸性，例如，在被膜表面滴加硫酸后，即便用油性记号笔在滴加硫酸的部位画圆，也能够擦除记号笔痕迹。该耐硫酸性可以按照后述的实施例的测定法进行确定。

希望将本发明的组合物固化而成的膜即便在热水试验后，防水性和液滴(例如水滴)的滑落性也良好。即，将本发明的组合物固化而成的膜根据用途有时暴露在与热水等接触的等严苛的环境中，推崇即便暴露于这样的环境后也能够维持良好的性能(以下有时称为耐热水特性)。

耐热水特性可以基于热水试验后的膜上的液滴(例如水滴)的接触角和滑落速度来评价。具体而言，将本发明的组合物固化而成的膜在热水试验后的膜上的液滴(具体而言为水滴)的接触角优选为90°以上，更优选为95°以上，进一步优选为101°以上。该热水试验后的液滴(具体而言为水滴)的接触角可以按照后述的实施例的测定法进行确定。另外，将本发明的组合物固化而成的膜在热水试验后的膜上的液滴(具体而言为水滴)的滑落速度优选为10mm/秒以上，更优选为20mm/秒以上，进一步优选为50mm/秒以上。该热水试验后的滑落速度可以按照后述的实施例的测定法进行确定。

实施例

以下，举出实施例对本发明进行更具体的说明。本发明不受以下的实施例限制，也可以在适合上述或后述的主旨的范围加入变更而实施，它们均包含在本发明的技术范围内。

[实施例1]

(涂覆液的制作)

使上述表3-2所示的(A-I-26)中n10的平均值为24的化合物(以下表述为化合物(1))0.22g、四乙氧基硅烷0.53g溶解于异丙醇1.6g，在室温下搅拌10分钟。在得到的溶液中滴加甲酸0.87mg和水后，在65℃搅拌7小时，得到试样溶液1。将得到的试样溶液1用异丙醇44.52g稀释，制作涂布溶液1。涂布溶液1中的各化合物的比例(质量％)如表1所示(其它的实施例和比较例也相同)。

(被膜的制作)

使用旋涂机(MIKASA公司制)，在通过大气压等离子体处理而使表面活化的玻璃基板5×5cm²(EAGLE XG，Corning公司)的表面涂布上述涂布溶液1。涂布条件为转速3000rpm、20秒。涂布后，在200℃进行3小时的热处理而使其固化，由此在玻璃基板上形成被膜，通过后述的测定方法进行被膜的评价。

[实施例2]

在上述实施例1中，使用乙酸0.87mg代替甲酸，并且使搅拌时间为4小时，除这些点以外，与上述实施例1同样地进行，制作涂布溶液2。

除使用得到的涂布溶液2以外，与上述实施例1同样地进行，在玻璃基板上形成被膜，通过后述的测定方法进行被膜的评价。

[实施例3]

使上述化合物(1)0.17g、三乙氧基硅烷0.32g溶解于异丙醇1.33g，在室温下搅拌10分钟。在得到的溶液中滴加马来酸1.6mg和水后，在65℃搅拌6小时，得到试样溶液3。将得到的试样溶液3用异丙醇29.68g稀释，制作涂布溶液3。

除使用得到的涂布溶液3以外，与上述实施例1同样地进行，在玻璃基板上形成被膜，通过后述的测定方法进行被膜的评价。

[实施例4]

在上述实施例3中，使用马来酸1.6mg，进一步使用乙酸0.51mg，并且使水的量为0.09g，除这些点以外，与上述实施例3同样地进行，制作涂布溶液4。

除使用得到的涂布溶液4以外，与上述实施例1同样地进行，在玻璃基板上形成被膜，通过后述的测定方法进行被膜的评价。

[实施例5]

使上述化合物(1)0.43g、四乙氧基硅烷0.36g溶解于异丙醇2.04g，在室温下搅拌10分钟。在得到的溶液中滴加乙酸0.8352mg和水后，在65℃搅拌4小时，得到试样溶液5。将得到的试样溶液5用异丙醇67.80g稀释，制作涂布溶液5。

除使用得到的涂布溶液5以外，与上述实施例1同样地进行，在玻璃基板上形成被膜，通过后述的测定方法进行被膜的评价。

[实施例6]

使上述表3-2所示的(A-I-26)中n10的平均值为45的化合物(以下表述为化合物(2))0.53g、四乙氧基硅烷0.29g溶解于异丙醇2.07g，在室温下搅拌10分钟。在得到的溶液中滴加乙酸0.6169mg和水后，在65℃搅拌4小时，得到试样溶液6。将得到的试样溶液6用异丙醇67.80g稀释，制作涂布溶液6。

除使用得到的涂布溶液6以外，与上述实施例1同样地进行，在玻璃基板上形成被膜，通过后述的测定方法进行被膜的评价。

[实施例7]

使上述化合物(2)0.28g、四乙氧基硅烷0.54g溶解于异丙醇1.57g，在室温下搅拌10分钟。在得到的溶液中滴加乙酸1.0818mg和水后，在65℃搅拌4小时，得到试样溶液7。将得到的试样溶液7用异丙醇67.80g稀释，制作涂布溶液7。

除使用得到的涂布溶液7以外，与上述实施例1同样地进行，在玻璃基板上形成被膜，通过后述的测定方法进行被膜的评价。

[实施例8]

使上述化合物(2)0.22g、四乙氧基硅烷0.56g溶解于异丙醇1.55g，在室温下搅拌10分钟。在得到的溶液中滴加乙酸1.188mg和水后，在65℃搅拌4小时，得到试样溶液8。将得到的试样溶液8用异丙醇67.80g稀释，制作涂布溶液8。

除使用得到的涂布溶液8以外，与上述实施例1同样地进行，在玻璃基板上形成被膜，通过后述的测定方法进行被膜的评价。

[比较例1]

在2-丙醇中加入规定量的Reosil(レオシール)QS-30和水，在室温下搅拌3小时而得到A液。另一方面，在甲醇0.21g中滴加Methyl Silicate 53A(COLCOAT公司制，商品名)0.04g、甲基三甲氧基硅烷3.96g和乙酸71.40mg，在室温下搅拌1小时而得到B液。

在得到的A液中加入B液，搅拌24小时，得到比较试样溶液1。将得到的比较试样溶液1用异丙醇3.11g稀释，制作比较涂布溶液1。比较涂布溶液1中的各化合物的比例(质量％)如表1所示。

除使用得到的比较涂布溶液1以外，与上述实施例1同样地进行，在玻璃基板上形成被膜，通过后述的测定方法进行被膜的评价。

[比较例2]

使上述化合物(1)0.06g、四乙氧基硅烷0.11g溶解于甲基乙基酮1.46g，在室温下搅拌10分钟。在得到的溶液中滴加盐酸后，在65℃搅拌24小时，得到比较试样溶液2。将得到的比较试样溶液2用甲基乙基酮45.89g稀释，制作比较涂布溶液2。比较涂布溶液2中的各化合物的比例(质量％)如表1所示。应予说明，在表1中示出盐酸所含的氯化氢量(0.38mg)和水量(1.04g)。另外，在表1中，为了方便，在酸(C)栏中记载了氯化氢。第一解离时的pKa小于1的酸的量为0.78质量％。

除使用得到的比较涂布溶液2以外，与上述实施例1同样地进行，在玻璃基板上形成被膜，通过后述的测定方法进行被膜的评价。

按照以下的要领对上述实施例和比较例中得到的被膜进行评价。

(接触角)

使用协和界面科学株式会社制的接触角测定装置“DM700”，使水滴量为3.0μL，通过解析方法：θ/2法测定被膜表面相对于水的接触角。将测定结果示于下述表5。将相对于水的接触角为95°以上的情况评价为防水性优异。

(滑落速度)

在被膜表面滴加水，利用被膜表面的水滴的滑落速度评价防水性。具体而言，使用协和界面科学株式会社制的接触角测定装置“DM700”，向倾斜成20°的玻璃基板上的被膜表面滴加50μL的水，测定水滴从初期滴加位置滑落15mm为止的时间，算出被膜表面的水滴的滑落速度(mm/秒)。将算出结果示于下述表5。将水滴的滑落速度为20mm/秒以上的情况评价为防水性优异。应予说明，将滴加的水滴在2分钟以内未从初期滴加位置滑落15mm以上的情况评价为未滑落。

(耐磨损性)

以载荷1000g、往返速度为每分钟1600mm的条件，用Savina MX(注册商标)在20mm的距离对被膜表面擦拭2000次后，以1000次为单位进行擦拭，分别测定磨损的部位的中央部分3处的相对于水的接触角，测定3处中2处降至90°以下为止的次数。将测定结果示于下述表5。将次数为2000次以上的情况评价为耐磨损性优异。

(耐硫酸性和防油性)

在被膜表面的3个部位分别滴加0.1M的硫酸0.035g，在室温下放置12小时使水分蒸发。水分蒸发后，在滴加了硫酸的部位使用记号笔(Sakura制Pen touch油性中字)画圆，其后，用Savina MX(注册商标)擦除记号笔痕迹。将3个部位的记号笔痕迹均被擦除的情况评价为耐硫酸性良好(○)，将即便1个部位中存在未被擦除的部位的情况评价为耐硫酸性差(×)。应予说明，可擦除油性记号笔痕迹表示防油性也良好。将评价结果示于表5。

(耐热水特性)

作为热水试验，将样品(形成有被膜的玻璃基板)在70℃的离子交换水中浸渍12小时后，在与上述相同的条件下测定相对于水的接触角和水滴的滑落速度。将在热水试验后测定的相对于水的接触角和水滴的滑落速度的结果示于下述表5。将相对于水的接触角为90°以上且水滴的滑落速度为10mm/秒以上的情况评价为耐热水特性优异。

使用了混合上述有机硅化合物(A)和上述金属化合物(B)、且混合了作为催化剂的第一解离时的pKa为1以上的酸(C)、抑制了水分量的本发明的组合物的实施例1～8能够制作具有良好的防水性(特别是水滴的滑落性)·防油性和耐硫酸性的被膜。并且，由本发明的组合物形成的被膜的耐磨损性也良好。另外，可知使用本发明的组合物得到的被膜在热水试验后，防水性和水滴的滑落性也良好，具有良好的耐热水特性。可知虽然有机硅化合物对光的稳定性非常高，但另一方面由于具有硅氧烷键，所以不容易具有对水或热水的耐久性。因此，为了使由混合了有机硅化合物的组合物形成的被膜即便在暴露于严苛的环境后也维持良好的性能，耐热水特性高的膜对于在实际使用环境中也维持性能而言可谓是重要的性能。

产业上的可利用性

使用本发明的组合物得到的被膜的防水·防油性和耐硫酸性优异。另外，使用本发明的组合物得到的被膜的耐磨损性、耐热水特性也优异。因此，使用本发明的组合物处理的基材作为触摸面板显示器等显示装置、光学元件、半导体元件、建筑材料、汽车部件、纳米压印技术等中的基材有用。另外，由本发明的组合物形成的被膜可适当地用作电车、汽车、船舶、飞机等运输设备的主体、窗玻璃(前玻璃、侧玻璃、后玻璃)、后视镜、减震器等物品。另外，还可用在建筑物外壁、帐篷、太阳光发电模块、隔音板、混凝土等户外用途。也可用于渔网、捕虫网、水槽等。并且也可以用作厨房、浴室、盥洗台、镜子、厕所周围的各部件的物品、吊灯、瓷砖等陶磁器、人工大理石、空调等各种室内设备。另外，也适合用作工厂内的夹具或内壁、配管等的防污处理。还适合护目镜、眼镜、防护帽、弹珠、纤维、伞、玩具、足球等。此外也可以作为食品用包装材料、化妆品用包装材料、罐的内部等各种包装材料的附着防止剂使用。

Claims

1.一种混合组合物，是有机硅化合物A、下述式(b1)表示的金属化合物B、第一解离时的pKa为1以上的酸C和水D的混合组合物，所述有机硅化合物A是至少一个含有三烷基甲硅烷基的分子链与至少一个水解性基团键合于硅原子的化合物，

所述水D的量大于0质量％且小于2.20质量％，

M(R^b10)_r(A^b1)_m-r (b1)

式(b1)中，

M表示Al、Fe、In、Ge、Hf、Si、Ti、Sn、Zr或者Ta，

R^b10表示含有硅氧烷骨架的基团、含有烃链的基团或者氢原子，

r为0或者1，

多个A^b1各自独立地表示水解性基团，

m根据金属原子M而为3～5的整数。

2.根据权利要求1所述的组合物，其中，所述水D的量大于0质量％且小于1.79质量％。

3.根据权利要求1或2所述的组合物，其中，混合有溶剂E，所述溶剂E的量为10质量％以上。

4.根据权利要求3所述的组合物，其中，所述水D的质量与所述溶剂E的质量的比例即D/E为50质量％以下。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的组合物，其中，所述金属化合物B与所述有机硅化合物A的摩尔比即B/A为2～500。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的组合物，其中，所述酸C的量为30质量％以下。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的组合物，其中，所述组合物中，第一解离时的pKa小于1的酸的量小于2.0质量％且包括0质量％。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的组合物，其中，所述有机硅化合物A为下述式(a1)表示的化合物，

式(a1)中，

多个A^a1各自独立地表示水解性基团，

Z^a1表示含有三烷基甲硅烷基的分子链、含有硅氧烷骨架的基团或者含有烃链的基团，

x为0或者1，

R^a1表示含有三烷基甲硅烷基的分子链，

Z^a1和R^a1的该三烷基甲硅烷基中含有的氢原子可以被氟原子取代。

9.根据权利要求8所述的组合物，其中，所述有机硅化合物A为下述式(a2)表示的化合物，

所述式(a2)中，A^a1、Z^a1、x与上述含义相同，

Z^s1表示-O-或者2价的烃基，该2价的烃基中含有的-CH₂-可以被置换成-O-，

多个R^s2各自独立地表示碳原子数为1～10的烷基，

n1为1以上的整数，

Y^s1表示单键或者-Si(R^s2)₂-L^s1-，该L^s1表示2价的烃基，该2价的烃基中含有的-CH₂-可以被置换成-O-，

多个R^s1各自独立地表示烃基或者三烷基甲硅烷氧基。

10.根据权利要求9所述的组合物，其中，所述n1为1～60的整数。

11.根据权利要求1～10中任一项所述的组合物，其中，所述有机硅化合物A与所述金属化合物B的量的合计即A+B为0.40质量％以上。

12.根据权利要求1～11中任一项所述的组合物，其中，所述金属化合物B为下述式(b2)表示的化合物，

Si(OR^b11)_yH_4-y (b2)

所述式(b2)中，

R^b11表示碳原子数1～6的烷基，

y为3或者4。