JPH02175758A - オルガノポリシロキサン組成物及びその製造方法 - Google Patents
オルガノポリシロキサン組成物及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH02175758A JPH02175758A JP33252888A JP33252888A JPH02175758A JP H02175758 A JPH02175758 A JP H02175758A JP 33252888 A JP33252888 A JP 33252888A JP 33252888 A JP33252888 A JP 33252888A JP H02175758 A JPH02175758 A JP H02175758A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- weight
- parts
- formula
- organopolysiloxane
- silica
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 title claims abstract description 47
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 52
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 18
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 155
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 75
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 44
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims abstract description 6
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims abstract 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 48
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 11
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 claims description 11
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 8
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- 238000013329 compounding Methods 0.000 abstract 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 15
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 13
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 description 10
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 8
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 8
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 8
- -1 chloropropyl group Chemical group 0.000 description 7
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 7
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 6
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 6
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 6
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 5
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 5
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 5
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 4
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- DDJSWKLBKSLAAZ-UHFFFAOYSA-N cyclotetrasiloxane Chemical compound O1[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]1 DDJSWKLBKSLAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000006884 silylation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 2
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 2
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- BOSAWIQFTJIYIS-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloro-2,2,2-trifluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)(Cl)Cl BOSAWIQFTJIYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ONIKNECPXCLUHT-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1Cl ONIKNECPXCLUHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001731 2-cyanoethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C#N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229910002016 Aerosil® 200 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002018 Aerosil® 300 Inorganic materials 0.000 description 1
- ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N Ammonium bicarbonate Chemical compound [NH4+].OC([O-])=O ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004944 Liquid Silicone Rubber Substances 0.000 description 1
- VCUFZILGIRCDQQ-KRWDZBQOSA-N N-[[(5S)-2-oxo-3-(2-oxo-3H-1,3-benzoxazol-6-yl)-1,3-oxazolidin-5-yl]methyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C1O[C@H](CN1C1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1)CNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F VCUFZILGIRCDQQ-KRWDZBQOSA-N 0.000 description 1
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical group C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTHCBXJLLCHNMS-UHFFFAOYSA-N acetyloxysilicon Chemical compound CC(=O)O[Si] BTHCBXJLLCHNMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 125000002603 chloroethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])Cl 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 125000002433 cyclopentenyl group Chemical group C1(=CCCC1)* 0.000 description 1
- JJRDHFIVAPVZJN-UHFFFAOYSA-N cyclotrisiloxane Chemical compound O1[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]1 JJRDHFIVAPVZJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000000219 ethylidene group Chemical group [H]C(=[*])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 239000004850 liquid epoxy resins (LERs) Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011417 postcuring Methods 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000004291 sulphur dioxide Substances 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004636 vulcanized rubber Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、オルガノポリシロキサン組成物及びその製造
方法に関する。
方法に関する。
シリコーンゴム、シリコーングリース、シリコーンオイ
ルコンパウンド等のオルガノポリシロキサン組成物には
、流動性の調節、機械的強度の補強、離型性や接着性の
改善、並びに圧縮永久歪み、耐熱性及び耐薬品性の向上
を目的としてシリカ微粉末が配合されている。このシリ
カ微粉末として、ヒユームドシリカ、湿式法シリカ等が
ある。しかし、これら従来のシリカ微粉末はいずれもそ
の表面に多数のシラノール基を有するため、これをその
ままオルガノポリシロキサンに配合して得られるオルガ
ノポリシロキサン組成物は、保存中にストラクチュアリ
ング、クリープハードニングなどと呼ばれる擬似架橋を
起こし、流動性や稠度が著しく低下したり、またゴムで
は可塑化もどりが極めて大きくなるなどの問題が生じる
。そこで、従来は、これらのシリカ微粉末を予め式:
R55SiC1(式中、R5はフッ素を含まない1価の
炭化水素基である)等で表されるクロロシランや、式:
(R’3Si)JH(式中、R5は前記と同じ)等で表
されるシラザン化合物と反応させて表面にあるシラノー
ル基をシリル化して得られる処理シリカをオルガノポリ
シロキサンに配合する方法;シリカ微粉末をシリコーン
ゴムに混練した後に前記シラザン化合物やジアルキルシ
ランジオール、アルコキシシラン等を添加して反応させ
、組成物中のシリカ微粉末が有するシラノール基をシリ
ル化するなどの方法が行われている。このような方法に
よって処理されたシリカ微粉末を含有するオルガノポリ
シロキサン組成物は、保存中のストラクチュアリングの
発生を防止することができる。
ルコンパウンド等のオルガノポリシロキサン組成物には
、流動性の調節、機械的強度の補強、離型性や接着性の
改善、並びに圧縮永久歪み、耐熱性及び耐薬品性の向上
を目的としてシリカ微粉末が配合されている。このシリ
カ微粉末として、ヒユームドシリカ、湿式法シリカ等が
ある。しかし、これら従来のシリカ微粉末はいずれもそ
の表面に多数のシラノール基を有するため、これをその
ままオルガノポリシロキサンに配合して得られるオルガ
ノポリシロキサン組成物は、保存中にストラクチュアリ
ング、クリープハードニングなどと呼ばれる擬似架橋を
起こし、流動性や稠度が著しく低下したり、またゴムで
は可塑化もどりが極めて大きくなるなどの問題が生じる
。そこで、従来は、これらのシリカ微粉末を予め式:
R55SiC1(式中、R5はフッ素を含まない1価の
炭化水素基である)等で表されるクロロシランや、式:
(R’3Si)JH(式中、R5は前記と同じ)等で表
されるシラザン化合物と反応させて表面にあるシラノー
ル基をシリル化して得られる処理シリカをオルガノポリ
シロキサンに配合する方法;シリカ微粉末をシリコーン
ゴムに混練した後に前記シラザン化合物やジアルキルシ
ランジオール、アルコキシシラン等を添加して反応させ
、組成物中のシリカ微粉末が有するシラノール基をシリ
ル化するなどの方法が行われている。このような方法に
よって処理されたシリカ微粉末を含有するオルガノポリ
シロキサン組成物は、保存中のストラクチュアリングの
発生を防止することができる。
しかし、上記従来の方法によって表面にあるシラノール
基をシリル化されたシリカ微粉末を含有するオルガノポ
リシロキサン組成物は、離型性や透明性が不十分であっ
た。
基をシリル化されたシリカ微粉末を含有するオルガノポ
リシロキサン組成物は、離型性や透明性が不十分であっ
た。
そこで本発明の目的は、離型性や透明性に優れたオルガ
ノポリシロキサン組成物及びその製造方法を提供するこ
とにある。
ノポリシロキサン組成物及びその製造方法を提供するこ
とにある。
本発明は、上記課題を解決するものとして、(A)
一般単位式(■): R’a(OB)bszJ、L、L [式中、R1は炭素原子数1〜10のフッ素原子を含ま
ない置換又は非置換の1価の炭化水素基を示し、aは1
.90〜3.0の数であり、bは0〜1.0の数であり
、a+bは1.90〜3.0である] で表されるオルガノポリシロキサン 100重量部、 (B) 比表面積50rrf/g以上のシリカ微粉末
1c R,−R”−5i− (I[) 〔式中、R2は式: CI)F2p*1 (ここで、pは4〜12の整数 である) で表されるパーフルオロアルキル 基又は式: %式% (ここで、qは1〜3の整数、 nは1〜4の整数である) で表されるパーフルオロアルキル エーテル基を含有する炭素原子数 3〜15の含フツ素有機基を示し、 R1は前記と同じ、R2は炭素原 子数2〜10の2価の炭化水素基、 Cは0.1又は2である〕 で表される基を含む分子量3000以下のシラザン化合
物とを反応させてなるフルオロシリコーン処理シリカ 1〜100重量部 を含むオルガノポリシロキサン組成物を提供するもので
ある。
一般単位式(■): R’a(OB)bszJ、L、L [式中、R1は炭素原子数1〜10のフッ素原子を含ま
ない置換又は非置換の1価の炭化水素基を示し、aは1
.90〜3.0の数であり、bは0〜1.0の数であり
、a+bは1.90〜3.0である] で表されるオルガノポリシロキサン 100重量部、 (B) 比表面積50rrf/g以上のシリカ微粉末
1c R,−R”−5i− (I[) 〔式中、R2は式: CI)F2p*1 (ここで、pは4〜12の整数 である) で表されるパーフルオロアルキル 基又は式: %式% (ここで、qは1〜3の整数、 nは1〜4の整数である) で表されるパーフルオロアルキル エーテル基を含有する炭素原子数 3〜15の含フツ素有機基を示し、 R1は前記と同じ、R2は炭素原 子数2〜10の2価の炭化水素基、 Cは0.1又は2である〕 で表される基を含む分子量3000以下のシラザン化合
物とを反応させてなるフルオロシリコーン処理シリカ 1〜100重量部 を含むオルガノポリシロキサン組成物を提供するもので
ある。
本発明の組成物の(A)成分であるオルガノポリシロキ
サンは、前記一般単位式(1)で表されるものであるが
、式中、R1は炭素原子数1〜10のフッ素原子を含ま
ない置換又は非置換の1価の炭化水素基を示し、例えば
、メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基;ビ
ニル基、アリル基、シクロペンテニル基、ヘキセニル基
等の脂肪族又は脂環式不飽和炭化水素基:フェニル基、
トリル基、キシリル基等の芳香族炭化水素基;クロロエ
チル基、クロロプロピル基、シアノエチル基、メトキシ
エチル基等の置換炭化水素基等が挙げられる。aは1.
90〜3.0、好ましくは1.96〜2.40の数であ
り、bは0〜1.0、好ましくは0〜0.40の数であ
り、a+bは1.90〜3.0 、好ましくは1.96
〜2.40である。
サンは、前記一般単位式(1)で表されるものであるが
、式中、R1は炭素原子数1〜10のフッ素原子を含ま
ない置換又は非置換の1価の炭化水素基を示し、例えば
、メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基;ビ
ニル基、アリル基、シクロペンテニル基、ヘキセニル基
等の脂肪族又は脂環式不飽和炭化水素基:フェニル基、
トリル基、キシリル基等の芳香族炭化水素基;クロロエ
チル基、クロロプロピル基、シアノエチル基、メトキシ
エチル基等の置換炭化水素基等が挙げられる。aは1.
90〜3.0、好ましくは1.96〜2.40の数であ
り、bは0〜1.0、好ましくは0〜0.40の数であ
り、a+bは1.90〜3.0 、好ましくは1.96
〜2.40である。
このオルガノポリシロキサンの重合度は、通常、100
00以下であり、低粘度の液状のものからガム状のもの
までが含まれる。特に、液状のシリコーンゴム組成物を
得る場合には粘度が500〜100000cStのもの
が好ましい。
00以下であり、低粘度の液状のものからガム状のもの
までが含まれる。特に、液状のシリコーンゴム組成物を
得る場合には粘度が500〜100000cStのもの
が好ましい。
このオルガノポリシロキサンの具体例としては、例えば
、下記式: (式中、e、f、g、h、、iS L k、1.m。
、下記式: (式中、e、f、g、h、、iS L k、1.m。
nSP% qは0又は正の整数)
で表されるものが挙げられる。
これらのオルガノポリシロキサンの製造は、工業的に周
知の方法によって行うことができ、例えば、式: 耐〒県コ (I) 〔ここで、R1は前記一般単位式(1)で定義したもの
と同様のものであり、 rは、例えば、3〜8である〕 で表されるシクロトリシロキサンやシクロテトラシロキ
サン等の環状シロキサンと、トリオルガノジシロキサン
又は微量の水とを、酸もしくはアルカリ触媒の存在下に
平衡反応や開環反応等を行わせることによって行うこと
ができる。
知の方法によって行うことができ、例えば、式: 耐〒県コ (I) 〔ここで、R1は前記一般単位式(1)で定義したもの
と同様のものであり、 rは、例えば、3〜8である〕 で表されるシクロトリシロキサンやシクロテトラシロキ
サン等の環状シロキサンと、トリオルガノジシロキサン
又は微量の水とを、酸もしくはアルカリ触媒の存在下に
平衡反応や開環反応等を行わせることによって行うこと
ができる。
本発明の組成物の製造は、まず(B)シリカ微粉未10
0重量部を、(C)シラザン化合物1〜200重量部、
並びに必要に応じて(D)水0〜50重量部及び(E)
湿潤剤0〜20重量部を用いて処理してフルオロシリコ
ーン処理シリカを調製し、このフルオロシリコーン処理
シリカ1〜100重量部を前記(A)オルガノポリシロ
キサン100重量部に混合する方”法;(A)オルガノ
ポリシロキサン100重量部、(B)シリカ微粉末10
〜100重量部、(C)シラザン化合物0.2〜200
重量部及び(D)水0.1〜50重量部並びに必要に応
じて(E)湿潤剤0〜20重量部を混練する方法などに
よって行うことができる。
0重量部を、(C)シラザン化合物1〜200重量部、
並びに必要に応じて(D)水0〜50重量部及び(E)
湿潤剤0〜20重量部を用いて処理してフルオロシリコ
ーン処理シリカを調製し、このフルオロシリコーン処理
シリカ1〜100重量部を前記(A)オルガノポリシロ
キサン100重量部に混合する方”法;(A)オルガノ
ポリシロキサン100重量部、(B)シリカ微粉末10
〜100重量部、(C)シラザン化合物0.2〜200
重量部及び(D)水0.1〜50重量部並びに必要に応
じて(E)湿潤剤0〜20重量部を混練する方法などに
よって行うことができる。
本発明の組成物の成分であるフルオロシリコーン処理シ
リカの製造に用いられる(B)シリカ微粉末は、比表面
積50rrf/g以上、好ましくは100ホ/g以上の
シリカ微粉末であり、例えば、ヒユームドシリカ等の乾
式シリカ;湿式シリカなどが挙げられる。特に、オルガ
ノポリシロキサン組成物として高い引裂き強度を有する
シリコーンゴムを得るためには、比表面積が200〜4
00m/gのものが好ましい。使用するシリカ微粉末の
比表面積が50m/g未満であると、得られる処理シリ
カをシリコーンゴムに配合しても十分な補強効果が得ら
れない。このシリカ微粉末の具体例としては、デグッサ
社ノアエロジル−130,200,300、380;キ
ャボット社のMS−5、MS−7、日本シリカ社のニブ
シルVN−3、L P、 E220 、A−330など
が挙げられる。
リカの製造に用いられる(B)シリカ微粉末は、比表面
積50rrf/g以上、好ましくは100ホ/g以上の
シリカ微粉末であり、例えば、ヒユームドシリカ等の乾
式シリカ;湿式シリカなどが挙げられる。特に、オルガ
ノポリシロキサン組成物として高い引裂き強度を有する
シリコーンゴムを得るためには、比表面積が200〜4
00m/gのものが好ましい。使用するシリカ微粉末の
比表面積が50m/g未満であると、得られる処理シリ
カをシリコーンゴムに配合しても十分な補強効果が得ら
れない。このシリカ微粉末の具体例としては、デグッサ
社ノアエロジル−130,200,300、380;キ
ャボット社のMS−5、MS−7、日本シリカ社のニブ
シルVN−3、L P、 E220 、A−330など
が挙げられる。
また、フルオロシリコーン処理シリカの製造に用いられ
る(C)シラザン化合物は、前記式(n)で表される基
を含むものであるが、式中、Rrは一般式: %式% (ここで、pは4〜12の整数である)で表されるパー
フルオロアルキル基又は一般弐:F−(−CQF2QO
+。
る(C)シラザン化合物は、前記式(n)で表される基
を含むものであるが、式中、Rrは一般式: %式% (ここで、pは4〜12の整数である)で表されるパー
フルオロアルキル基又は一般弐:F−(−CQF2QO
+。
で表されるパーフルオロアルキルエーテル基を含有する
炭素原子数3〜15の含フツ素有機基を示し、例えば、
下記式: %式%) (ここで、mは1〜3の整数、rは0〜2のの整数) (ここで、nは1〜4の整数) (ここで、nは1〜4の整数) で表される基を含むものである。二〇Rtの具体例とし
ては、例えば、下記式: C6F+i−、CaF+t−、CItlhlF(ChC
hCFzO)zchcFzcHzo−ChChO(CF
2CF2O) zcFJcFzcFzo−で表される基
を挙げることができる。R1としては前記式(1)に関
して例示したものと同じものを挙げることができる。R
2は2価の炭化水素基、例えば、エチレン基、エチリデ
ン基、トリメチレン基、フェニルエチレン基、あるいは
式:で表される基を挙げることができる。Cは0.1又
は2である。
炭素原子数3〜15の含フツ素有機基を示し、例えば、
下記式: %式%) (ここで、mは1〜3の整数、rは0〜2のの整数) (ここで、nは1〜4の整数) (ここで、nは1〜4の整数) で表される基を含むものである。二〇Rtの具体例とし
ては、例えば、下記式: C6F+i−、CaF+t−、CItlhlF(ChC
hCFzO)zchcFzcHzo−ChChO(CF
2CF2O) zcFJcFzcFzo−で表される基
を挙げることができる。R1としては前記式(1)に関
して例示したものと同じものを挙げることができる。R
2は2価の炭化水素基、例えば、エチレン基、エチリデ
ン基、トリメチレン基、フェニルエチレン基、あるいは
式:で表される基を挙げることができる。Cは0.1又
は2である。
このシラザン化合物の分子量は3000以下、好ましく
は1000以下である。分子量が3000を超えるシラ
ザン化合物を使用するとその立体障害等のため反応性が
低下しシリカ微粉末表面のシラノール基を十分にシリル
化できなかったり、又は反応終了後未反応のシラザン化
合物もしくはその分解副生物の除去が困難となり不都合
を生ずることがある。
は1000以下である。分子量が3000を超えるシラ
ザン化合物を使用するとその立体障害等のため反応性が
低下しシリカ微粉末表面のシラノール基を十分にシリル
化できなかったり、又は反応終了後未反応のシラザン化
合物もしくはその分解副生物の除去が困難となり不都合
を生ずることがある。
このシラザン化合物の具体例としては、下記式:%式%
l
CF。
しH3
しtI3
等で表されるものが挙げられる。
以上のシラザン化合物は1種単独でも2種以上を組合わ
せても用いられる。また、式;%式%) 等で表される含フツ素有機基を含有しないシラザン化合
物と適当な割合で併用してもよい。含フ・ン素有機基を
含有しないシラザン化合物を併用する場合、上記式(I
I)で表される基を含有するシラザン化合物/含フツ素
有機基を含有しないシラザン化合物の使用量の比は、通
常、100/ 1〜1/100である。式(It)で表
される基を含有するシラザン化合物が含フツ素有機基を
含有しないシラザン化合物に比して少なすぎると、含フ
・ン素有機基によって得られる効果が不十分となるおそ
れがある。
せても用いられる。また、式;%式%) 等で表される含フツ素有機基を含有しないシラザン化合
物と適当な割合で併用してもよい。含フ・ン素有機基を
含有しないシラザン化合物を併用する場合、上記式(I
I)で表される基を含有するシラザン化合物/含フツ素
有機基を含有しないシラザン化合物の使用量の比は、通
常、100/ 1〜1/100である。式(It)で表
される基を含有するシラザン化合物が含フツ素有機基を
含有しないシラザン化合物に比して少なすぎると、含フ
・ン素有機基によって得られる効果が不十分となるおそ
れがある。
上記式(n)で表される基を含有するシラザン化合物は
、例えば、対応するクロロシランを、例えば、塩化メチ
レン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、トリクロロ
トリフルオロエタン、メタキシレンへキサフルオライド
等の塩素化溶剤又はフッ素化溶剤に溶解し、アンモニア
ガスを吹き込んで反応させ、生成する塩化アンモニウム
を濾過もしくは水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウ
ム水溶液等のアルカリ性水溶液で洗浄することにより除
去し、蒸留等により精製して単体又は混合物の形態で得
ることができる。
、例えば、対応するクロロシランを、例えば、塩化メチ
レン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、トリクロロ
トリフルオロエタン、メタキシレンへキサフルオライド
等の塩素化溶剤又はフッ素化溶剤に溶解し、アンモニア
ガスを吹き込んで反応させ、生成する塩化アンモニウム
を濾過もしくは水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウ
ム水溶液等のアルカリ性水溶液で洗浄することにより除
去し、蒸留等により精製して単体又は混合物の形態で得
ることができる。
本発明の組成物の製造において、予め、(B)シリカ微
粉末を(C)シラザン化合物並びに必要に応じて(D)
水、(E)湿潤剤を用いて処理してフルオロシリコーン
処理シリカを得、これを(A)オルガノポリシロキサン
に混合する場合、フルオロシリコーン処理シリカの製造
は、上記(B)シリカ微粉末の所定量を反応器に仕込み
、室温で攪拌しながら、 (C)シラザン化合物を滴下
又はスプレー等により添加するだけで、通常は緩やかに
発熱し、アンモニアガスを遊離しながら反応が進行し、
数時間から数日間熟成後、加熱又は減圧下にアンモニア
、シラノール又はポリシロキサン等の分解副生物、ある
いは未反応のシラザン化合物を除去すれば、フルオロシ
リコーン処理シリカを得ることができる。反応は、室温
でも進行するが、さらに室温〜200°Cの温度に加熱
して反応を促進させることができ、例えば、反応時間を
2時間以内に短縮することもできる。このフルオロシリ
コーン処理シリカの製造において、シラザン化合物の使
用量は、シリカ微粉末100重量部あたり1〜200重
量部、好ましくは10〜50重量部である。シラザン化
合物の使用量が1重量部未満であるとシリカ微粉末の表
面のシリル化処理が不十分となり、200重量部を超え
ると高価になることや、反応終了後に未反応物や分解副
生物の除去に多大の処理工程を必要とし、経済的に不利
である。
粉末を(C)シラザン化合物並びに必要に応じて(D)
水、(E)湿潤剤を用いて処理してフルオロシリコーン
処理シリカを得、これを(A)オルガノポリシロキサン
に混合する場合、フルオロシリコーン処理シリカの製造
は、上記(B)シリカ微粉末の所定量を反応器に仕込み
、室温で攪拌しながら、 (C)シラザン化合物を滴下
又はスプレー等により添加するだけで、通常は緩やかに
発熱し、アンモニアガスを遊離しながら反応が進行し、
数時間から数日間熟成後、加熱又は減圧下にアンモニア
、シラノール又はポリシロキサン等の分解副生物、ある
いは未反応のシラザン化合物を除去すれば、フルオロシ
リコーン処理シリカを得ることができる。反応は、室温
でも進行するが、さらに室温〜200°Cの温度に加熱
して反応を促進させることができ、例えば、反応時間を
2時間以内に短縮することもできる。このフルオロシリ
コーン処理シリカの製造において、シラザン化合物の使
用量は、シリカ微粉末100重量部あたり1〜200重
量部、好ましくは10〜50重量部である。シラザン化
合物の使用量が1重量部未満であるとシリカ微粉末の表
面のシリル化処理が不十分となり、200重量部を超え
ると高価になることや、反応終了後に未反応物や分解副
生物の除去に多大の処理工程を必要とし、経済的に不利
である。
ここで、シリカ微粉末表面のシラノール基をシラザン化
合物と十分に反応させ、シラノール基のシリル化を十分
に行うため、シラザン化合物を添加する前に、水を滴下
又はスプレーにより添加することが好ましい。この水は
、シリカ微粉末とシラザン化合物の反応を促進させ、シ
リカ微粉末の表面のシラノール基のシリル化を促進させ
る働きをなすものである。また、室温以上の温度の水を
使用するとシラザン化合物の分解を促進し、アンモニア
の揮散を促進させることができるので、好都合である。
合物と十分に反応させ、シラノール基のシリル化を十分
に行うため、シラザン化合物を添加する前に、水を滴下
又はスプレーにより添加することが好ましい。この水は
、シリカ微粉末とシラザン化合物の反応を促進させ、シ
リカ微粉末の表面のシラノール基のシリル化を促進させ
る働きをなすものである。また、室温以上の温度の水を
使用するとシラザン化合物の分解を促進し、アンモニア
の揮散を促進させることができるので、好都合である。
この水の使用量はシリカ微粉末100重量部に対して0
〜50重量部、好ましくは2〜20重量部である。水の
使用量が50重量部を超えると、反応終了後に残存する
水の除去に多大の時間とエネルギーを必要とするため経
済的に不利である。
〜50重量部、好ましくは2〜20重量部である。水の
使用量が50重量部を超えると、反応終了後に残存する
水の除去に多大の時間とエネルギーを必要とするため経
済的に不利である。
さらに、用いられるシリカ微粉末の表面を湿潤化し、シ
リカ微粉末とシラザン化合物の反応を十分に行わせるた
めに、必要に応じて湿潤剤を使用することができる。こ
の湿潤剤は分子量が3800以下のものが好ましい。
リカ微粉末とシラザン化合物の反応を十分に行わせるた
めに、必要に応じて湿潤剤を使用することができる。こ
の湿潤剤は分子量が3800以下のものが好ましい。
二の湿潤剤としては、例えば、弐:
(Cth) zsi (OR’) z 、CIbSi
(OR’) 2、CI(3CL CIユ 〔式中、R4は水素原子または炭素原子数1〜4の1価
の炭化水素基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、メトキシエチル基等を示し、S及びtは正の整数で
ある〕等で表される化合物が挙げられる。
(OR’) 2、CI(3CL CIユ 〔式中、R4は水素原子または炭素原子数1〜4の1価
の炭化水素基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、メトキシエチル基等を示し、S及びtは正の整数で
ある〕等で表される化合物が挙げられる。
湿潤剤の使用量は、通常、シリカ微粉末100重量部あ
たり0〜30重量部である。
たり0〜30重量部である。
また、(八)前記式(1)で表されるオルガノポリシロ
キサンに直接、(B)シリカ微粉末、(C)シラザン化
合物、(D’l水及び必要に応じて(E) 湿潤剤を配
合して混練して本発明の組成物を製造する場合、例えば
、 (A)前記一般単位式(1)で表されるオルガノポリシ
ロキサン 100重量部、(B)比
表面積50rrf/g以上のシリカ微粉末10〜100
重量部、 (C)水 0.1〜50!i量部
、(D)前記式(n)で表される基を含む分子量300
0以下のシラザン化合物 0.2〜200重量部 及び (E)湿潤剤 0〜20重量部 を混練する工程を有する製造方法によっても本発明の組
成物を製造することができる。
キサンに直接、(B)シリカ微粉末、(C)シラザン化
合物、(D’l水及び必要に応じて(E) 湿潤剤を配
合して混練して本発明の組成物を製造する場合、例えば
、 (A)前記一般単位式(1)で表されるオルガノポリシ
ロキサン 100重量部、(B)比
表面積50rrf/g以上のシリカ微粉末10〜100
重量部、 (C)水 0.1〜50!i量部
、(D)前記式(n)で表される基を含む分子量300
0以下のシラザン化合物 0.2〜200重量部 及び (E)湿潤剤 0〜20重量部 を混練する工程を有する製造方法によっても本発明の組
成物を製造することができる。
以下、この製造方法を説明するが、シリカ微粉末の好ま
しい使用量、シラザン化合物の使用量及び水の使用量、
並びに各成分を直接配合して混練することを除いては前
記の方法と同様であり、以下、この点について説明する
。
しい使用量、シラザン化合物の使用量及び水の使用量、
並びに各成分を直接配合して混練することを除いては前
記の方法と同様であり、以下、この点について説明する
。
この製造方法において、例えば、(A)のシリカ微粉末
の使用量はオルガノポリシロキサン100重量部に対し
て10〜100重量部、好ましくは20〜50重量部で
ある。また(D)のシラザン化合物の使用量は、例えば
、オルガノポリシロキサン100重量部に対して0.2
〜200重量部、好ましくは2〜50重量部である。(
D) シラザン化合物の使用量が少なすぎると、シラザ
ン化合物によるシリカ微粉末の表面処理が十分に行われ
ず、また多すぎると前記のとおり反応終了後の後処理に
多大の時間とエネルギーを要するため経済的に不利であ
る。また、水の使用量は、例えば、オルガツボシロキサ
ン100重量部に対して0.1〜50重量部、好ましく
は0.2〜20重量部である。水の使用量が少なすぎる
と、シラザン化合物によるシリカ微粉末の表面処理が十
分に行われず、多すぎると反応終了後に残存する水の処
理が面倒になる。
の使用量はオルガノポリシロキサン100重量部に対し
て10〜100重量部、好ましくは20〜50重量部で
ある。また(D)のシラザン化合物の使用量は、例えば
、オルガノポリシロキサン100重量部に対して0.2
〜200重量部、好ましくは2〜50重量部である。(
D) シラザン化合物の使用量が少なすぎると、シラザ
ン化合物によるシリカ微粉末の表面処理が十分に行われ
ず、また多すぎると前記のとおり反応終了後の後処理に
多大の時間とエネルギーを要するため経済的に不利であ
る。また、水の使用量は、例えば、オルガツボシロキサ
ン100重量部に対して0.1〜50重量部、好ましく
は0.2〜20重量部である。水の使用量が少なすぎる
と、シラザン化合物によるシリカ微粉末の表面処理が十
分に行われず、多すぎると反応終了後に残存する水の処
理が面倒になる。
また、この製造方法においても、前記と同様にシラザン
化合物として式(II)で表される基を含むシラザン化
合物とフッ基を含まないシラザン化合物を併用してもよ
い。
化合物として式(II)で表される基を含むシラザン化
合物とフッ基を含まないシラザン化合物を併用してもよ
い。
このオルガノポリシロキサン組成物の製造方法において
、上記(A) 、(B) 、(C) 、(D)及び(E
)成分を密閉雰囲気下、室温で混合することにより、シ
リカ微粉末表面のシラノール基とシラザン化合物とが反
応し、シラノール基のシリル化が進行していくが、さら
に例えば、100″C前後に加熱すると反応が促進され
る。その後、例えば、160″C程度に反応混合物を加
熱し、反応により生成したアンモニア、残存水分、副生
物、未反応のシラザン化合物等を揮散させて除去す゛れ
ばよい。このとき、アンモニアの残存量を50ppm以
下に除去すると好ましい。得られる反応混合物中のアン
モニアの量が50ppm+を超えると、例えば、残存ア
ンモニアによるストラクチュアリングの発生、また(A
)のオルガノポリシロキサンが分子鎖末端にシラノール
基を有する場合にはアンモニアの触媒効果により縮合反
応が生起し、得られる組成物が増粘し易い。
、上記(A) 、(B) 、(C) 、(D)及び(E
)成分を密閉雰囲気下、室温で混合することにより、シ
リカ微粉末表面のシラノール基とシラザン化合物とが反
応し、シラノール基のシリル化が進行していくが、さら
に例えば、100″C前後に加熱すると反応が促進され
る。その後、例えば、160″C程度に反応混合物を加
熱し、反応により生成したアンモニア、残存水分、副生
物、未反応のシラザン化合物等を揮散させて除去す゛れ
ばよい。このとき、アンモニアの残存量を50ppm以
下に除去すると好ましい。得られる反応混合物中のアン
モニアの量が50ppm+を超えると、例えば、残存ア
ンモニアによるストラクチュアリングの発生、また(A
)のオルガノポリシロキサンが分子鎖末端にシラノール
基を有する場合にはアンモニアの触媒効果により縮合反
応が生起し、得られる組成物が増粘し易い。
さらに、(A)のオルガノポリシロキサンがビニル基等
の脂肪族不飽和基を有し、白金触媒を用いてヒドロシリ
ル化反応で硬化させる場合、アンモニアによる白金触媒
の被毒が起こり、硬化性の悪い組成物となってしまうお
それがある。
の脂肪族不飽和基を有し、白金触媒を用いてヒドロシリ
ル化反応で硬化させる場合、アンモニアによる白金触媒
の被毒が起こり、硬化性の悪い組成物となってしまうお
それがある。
このオルガノポリシロキサン組成物の製造において、用
いられるオルガノポリシロキサンが分子末端にシラノー
ル基を有する場合には、pH6以上の水を使用すると好
ましい。pHの調節は、例えば、アンモニア、炭酸アン
モニア等を用いて行うことができる。
いられるオルガノポリシロキサンが分子末端にシラノー
ル基を有する場合には、pH6以上の水を使用すると好
ましい。pHの調節は、例えば、アンモニア、炭酸アン
モニア等を用いて行うことができる。
以上のようにして得られる本発明のオルガノポリシロキ
サン組成物を硬化させるためには、用途、硬化方法、用
いられるオルガノポリシロキサン、シリカ微粉末、シラ
ザン化合物等にしたがって、適当な架橋剤、触媒等を添
加することができる。
サン組成物を硬化させるためには、用途、硬化方法、用
いられるオルガノポリシロキサン、シリカ微粉末、シラ
ザン化合物等にしたがって、適当な架橋剤、触媒等を添
加することができる。
例えば、熱加硫ゴムでは、有機過酸化物を添加して加熱
、加圧により架橋・硬化すればよく、付加反応硬化型の
液状ゴムでは、オルガノポリシロキサンとしてビニル基
を含有するオルガノポリシロキサンを用い、架橋剤とし
て多官能性のハイドロジエンポリシロキサン、触媒とし
て微量の白金触媒を添加して室温又は加熱下に硬化させ
ることができる。縮合型の液状ゴムでは、オルガノポリ
シロキサンとして、例えば、末端にシラノール基を有す
るシロキサンを使用し、架橋剤としてアセトキシシラン
、アルコキシシラン又はその部分加水分解物等のシラノ
ール基と架橋し得る多官能性のケイ素化合物を使用して
硬化させることができる。
、加圧により架橋・硬化すればよく、付加反応硬化型の
液状ゴムでは、オルガノポリシロキサンとしてビニル基
を含有するオルガノポリシロキサンを用い、架橋剤とし
て多官能性のハイドロジエンポリシロキサン、触媒とし
て微量の白金触媒を添加して室温又は加熱下に硬化させ
ることができる。縮合型の液状ゴムでは、オルガノポリ
シロキサンとして、例えば、末端にシラノール基を有す
るシロキサンを使用し、架橋剤としてアセトキシシラン
、アルコキシシラン又はその部分加水分解物等のシラノ
ール基と架橋し得る多官能性のケイ素化合物を使用して
硬化させることができる。
本発明により提供されるオルガノポリシロキサン組成物
は、オルガノポリシロキサン組成物の用途、要求性能、
性状等にしたがって適宜添加される添加剤を含んでいて
もよい。この添加剤としては、例えば、顔料、耐熱性向
上剤、接着助剤、離型剤、耐油性向上剤等が挙げられる
。
は、オルガノポリシロキサン組成物の用途、要求性能、
性状等にしたがって適宜添加される添加剤を含んでいて
もよい。この添加剤としては、例えば、顔料、耐熱性向
上剤、接着助剤、離型剤、耐油性向上剤等が挙げられる
。
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明の詳細な説明す
る。
る。
調製例1
シリカ微粉末(比表面積200%/g、日本アエロジル
社製、アエロジル200) 10 gをフラスコに仕込
み、室温下、撹拌しながらイオン交換水1.0gをゆっ
くり滴下した後、下記式: で表されるジシラザン9.9gを徐々に滴下して反応さ
せたところ、穏やかな発熱とアンモニア臭の発生が認め
られた。密閉雰囲気下、1時間攪拌した。次に、室温下
、18時間熟成させた後、反応混合物をホーロー皿に移
し、ドラフト内で約6時間風乾させた後、熱風循環炉に
て150°Cで約16時間加熱処理により副生じたアン
モニア等の揮発成分を除去し、白色微粉末状の処理シリ
カ14.3 gを得た。
社製、アエロジル200) 10 gをフラスコに仕込
み、室温下、撹拌しながらイオン交換水1.0gをゆっ
くり滴下した後、下記式: で表されるジシラザン9.9gを徐々に滴下して反応さ
せたところ、穏やかな発熱とアンモニア臭の発生が認め
られた。密閉雰囲気下、1時間攪拌した。次に、室温下
、18時間熟成させた後、反応混合物をホーロー皿に移
し、ドラフト内で約6時間風乾させた後、熱風循環炉に
て150°Cで約16時間加熱処理により副生じたアン
モニア等の揮発成分を除去し、白色微粉末状の処理シリ
カ14.3 gを得た。
得られた処理シリカの比表面積、炭素含有量及びフッ素
含有量を測定したところ、それぞれ105ボ/g、9.
5重量%、14.9重量%であった。また、この処理シ
リカをガラス瓶に水とともに入れ、振とうして水による
濡れ試験に供したところ、処理シリカはすべて水面上に
浮上し、抱水性を有することがわかった。
含有量を測定したところ、それぞれ105ボ/g、9.
5重量%、14.9重量%であった。また、この処理シ
リカをガラス瓶に水とともに入れ、振とうして水による
濡れ試験に供したところ、処理シリカはすべて水面上に
浮上し、抱水性を有することがわかった。
調製例2
ジシラザンとして、調製例1で使用したジシラザン4.
9gとへキサメチルジシラザン0.9 gとからなる混
合物を滴下した以外は調製例1と同様にして処理シリカ
を得た。
9gとへキサメチルジシラザン0.9 gとからなる混
合物を滴下した以外は調製例1と同様にして処理シリカ
を得た。
得られた処理シリカは白色微粉末状を呈し、比表面積、
炭素含有量及びフッ素含有量を測定したところ、それぞ
れ115 %/g、 5.3重量%及び7゜5重量%で
あった。また水による濡れ試験にかけたところ、撥水性
を示した。
炭素含有量及びフッ素含有量を測定したところ、それぞ
れ115 %/g、 5.3重量%及び7゜5重量%で
あった。また水による濡れ試験にかけたところ、撥水性
を示した。
調製例3
下記に示す配合処方で各成分を使用した以外は調製例1
と同様にして処理シリカを製造した。
と同様にして処理シリカを製造した。
シリカ微粉末(比表面積:300ボ/g、アエロジル3
00) 00 g 水 15
g弐: H3 (CsFltC)hcHxsi)z NHCH。
00) 00 g 水 15
g弐: H3 (CsFltC)hcHxsi)z NHCH。
で表されるシラザン化合物 10.2 gへキサ
メチルジシラザン 14.5 g得られた処
理シリカは、撥水性を有する白色の微粉末であった。
メチルジシラザン 14.5 g得られた処
理シリカは、撥水性を有する白色の微粉末であった。
実施例1〜2、比較例1
各側において、調製例1及び2で得られた処理シリカ、
並びに比較例1としてヘキサメチルジシラザンのみを用
いて製造した処理シリカ(比表面積120ボ/g、炭素
含有量3.5重量%)のそれぞれを用いて、下記の組成
ニ 一般式: で表され、粘度5000cS tである両末端にビニル
基を有するジメチルポリシロキサン 100重量部 処理シリカ 10重量部弐; H3 (CIlz・CHSi)z 0 CHl で表されるビニルシロキサンと塩化白金酸とから調製さ
れた実質的に塩素分を含まない白金触媒(ptfi度:
1.0重量%、トルエン溶液)0.5重量部 式: %式%:4 で表されるシクロテトラシロキサン 0.05重量部 からなる混合物を、3木ロールで均一に混練した後、一
般式: で表される架橋剤2.0重量部を配合して組成物を得、
得られた組成物の透明性及び粘度を測定し、さらに下記
の方法にしたがって離型性試験に供し、また硬化後の強
度を測定した。結果を第1表に示す。
並びに比較例1としてヘキサメチルジシラザンのみを用
いて製造した処理シリカ(比表面積120ボ/g、炭素
含有量3.5重量%)のそれぞれを用いて、下記の組成
ニ 一般式: で表され、粘度5000cS tである両末端にビニル
基を有するジメチルポリシロキサン 100重量部 処理シリカ 10重量部弐; H3 (CIlz・CHSi)z 0 CHl で表されるビニルシロキサンと塩化白金酸とから調製さ
れた実質的に塩素分を含まない白金触媒(ptfi度:
1.0重量%、トルエン溶液)0.5重量部 式: %式%:4 で表されるシクロテトラシロキサン 0.05重量部 からなる混合物を、3木ロールで均一に混練した後、一
般式: で表される架橋剤2.0重量部を配合して組成物を得、
得られた組成物の透明性及び粘度を測定し、さらに下記
の方法にしたがって離型性試験に供し、また硬化後の強
度を測定した。結果を第1表に示す。
旦盟血拭狂
真空脱泡した組成物を、7 X 7 Xl、5 cmの
箱形の型に入れた5 X 5 Xo、5 cmの鏡面状
金属ブロックの鏡面に塗布した。室温下に16時間放置
して硬化させ、型から取り出してさらに2日間熟成、硬
化させ、組成物の硬化物からなる雌型を得た。得られた
雌型に、ビスフェノール型の液状エポキシ樹脂に架橋剤
としてトリエチレンテトラミンを主成分とする硬化剤を
混合してなる樹脂組成物を流し込み、80°Cで30分
間硬化させて得られた成形品を脱型する操作を繰り返し
、離型性及び表面の劣化を測定した。
箱形の型に入れた5 X 5 Xo、5 cmの鏡面状
金属ブロックの鏡面に塗布した。室温下に16時間放置
して硬化させ、型から取り出してさらに2日間熟成、硬
化させ、組成物の硬化物からなる雌型を得た。得られた
雌型に、ビスフェノール型の液状エポキシ樹脂に架橋剤
としてトリエチレンテトラミンを主成分とする硬化剤を
混合してなる樹脂組成物を流し込み、80°Cで30分
間硬化させて得られた成形品を脱型する操作を繰り返し
、離型性及び表面の劣化を測定した。
■離型性
各側で得られた組成物から作成した雌型についての離型
性を下記の基準で評価した。
性を下記の基準で評価した。
A・・・−・−硬化した成形品を脱型するときにほとん
ど抵抗がない。
ど抵抗がない。
B・・−・・AとCの中間
C・・・・−・・硬化した成形品を脱型するときにやや
抵抗がある。
抵抗がある。
■離型耐久性
ゴムの雌型表面の劣化に伴って成形品の艶が低下するこ
とから、成形品の表面の艶が低下するまで脱型操作を繰
り返し、その繰り返し回数で示した。
とから、成形品の表面の艶が低下するまで脱型操作を繰
り返し、その繰り返し回数で示した。
便化−後■且亙
12X15X0.3 cmの金型に組成物を入れ、上面
をステンレススチール製の板で平滑にならし、室温下に
16時間放置して硬化させた後、金型から取り出してさ
らに2日間熟成・硬化させ成形シートを得た。この成形
シートについてJ I S K6301に準拠して硬
さ、伸び、引っ張り強さを測定し、また比重を測定した
。
をステンレススチール製の板で平滑にならし、室温下に
16時間放置して硬化させた後、金型から取り出してさ
らに2日間熟成・硬化させ成形シートを得た。この成形
シートについてJ I S K6301に準拠して硬
さ、伸び、引っ張り強さを測定し、また比重を測定した
。
第1表
以上の結果から、本発明のフルオロシリコーン処理シリ
カを添加したシリコーンゴム組成物は、硬化物のゴム強
度は、やや劣るが、剥離性及び離型耐久性に優れている
ことがわかる。
カを添加したシリコーンゴム組成物は、硬化物のゴム強
度は、やや劣るが、剥離性及び離型耐久性に優れている
ことがわかる。
実施例3
下記配合処方にしたがって、3本ロールを用いて各成分
を均一に混練して組成物を製造した。
を均一に混練して組成物を製造した。
実施例1で使用したものと同じジメチルポリシロキサン
100重量部調製例3で調製
した処理シリカ 15重量部実施例2で使用したも
のと同じ白金触媒0.2重量部 実施例2で使用したものと同じシクロテトラシロキサン
0.1重量部得られた組成物
は、流動性を有するペースト状を呈していた。
100重量部調製例3で調製
した処理シリカ 15重量部実施例2で使用したも
のと同じ白金触媒0.2重量部 実施例2で使用したものと同じシクロテトラシロキサン
0.1重量部得られた組成物
は、流動性を有するペースト状を呈していた。
この組成物115.3重量部に実施例2で使用したもの
と同じ架橋剤2.15重量部を添加し、均一に混合した
後、真空脱泡し、得られた混練物を金型に流し込み11
5°Cで10分間プレス成型し、10 X 12 XO
,2cmのシートを成形した。このシートを150°C
で1時間ポストキュアした後、J I S K630
1に準拠して硬化物の機械的強度を測定した。結果を下
記に示す。
と同じ架橋剤2.15重量部を添加し、均一に混合した
後、真空脱泡し、得られた混練物を金型に流し込み11
5°Cで10分間プレス成型し、10 X 12 XO
,2cmのシートを成形した。このシートを150°C
で1時間ポストキュアした後、J I S K630
1に準拠して硬化物の機械的強度を測定した。結果を下
記に示す。
硬さ=31
伸び:411%
引張り強さ:36.3kg/c這
実施例4
ニーダ−中に、末端シラノール基停止ジメチルポリシロ
キサン(粘度: 20000cSt) 100 g、式
:%式% で表されるジシラザン5.4g、ヘキサメチルジシラザ
ン14g及びイオン交換水6gを仕込み、5分間撹拌、
混合した後、ヒユームドシリカ(比表面積: 300
rd/ g 、日本アエロジル社製、アエロジル300
)46gを添加し、密閉雰囲気下で混合した。熱とアン
モニアガスの発生が認められた。次いで、100°Cで
加熱しながら1時間混合した後、少量の窒素ガスを流し
なから150 ’C,700mmHgで加熱・減圧しな
がら約3時間攪拌し、アンモニア臭がなくなったことを
確認した。その後、反応混合物を100°C以下に冷却
し、さらに上記と同じ末端シラノール停止ジメチルポリ
シロキサン50gを添加して混合した後、末端トリメチ
ルシロキシ基停止ジメチルポリシロキサン(粘度: 3
0cSt)40 g及び末端シラノール基停止ジメチル
ポリシロキサン(粘度:30cSt) 10 gを添加
して混合し、3本ロールを用いて均一に混練して組成物
を製造した。
キサン(粘度: 20000cSt) 100 g、式
:%式% で表されるジシラザン5.4g、ヘキサメチルジシラザ
ン14g及びイオン交換水6gを仕込み、5分間撹拌、
混合した後、ヒユームドシリカ(比表面積: 300
rd/ g 、日本アエロジル社製、アエロジル300
)46gを添加し、密閉雰囲気下で混合した。熱とアン
モニアガスの発生が認められた。次いで、100°Cで
加熱しながら1時間混合した後、少量の窒素ガスを流し
なから150 ’C,700mmHgで加熱・減圧しな
がら約3時間攪拌し、アンモニア臭がなくなったことを
確認した。その後、反応混合物を100°C以下に冷却
し、さらに上記と同じ末端シラノール停止ジメチルポリ
シロキサン50gを添加して混合した後、末端トリメチ
ルシロキシ基停止ジメチルポリシロキサン(粘度: 3
0cSt)40 g及び末端シラノール基停止ジメチル
ポリシロキサン(粘度:30cSt) 10 gを添加
して混合し、3本ロールを用いて均一に混練して組成物
を製造した。
得られた組成物中の残存アンモニア量を測定したところ
、12ppmであった。また初期粘度及び150°Cで
2時間エージングさせた後の粘度を測定したところ、そ
れぞれ3000ポアズ、3240ポアズであった。
、12ppmであった。また初期粘度及び150°Cで
2時間エージングさせた後の粘度を測定したところ、そ
れぞれ3000ポアズ、3240ポアズであった。
また、下記配合処方の配合物を調製し、25°Cで72
時間放置して硬化させた。
時間放置して硬化させた。
上記で得られた組成物 100g
(n CJtO)4si 3 g(C
4119) zSn(OCOC+ 1H23) 2
0.5 g得られた硬化物の機械的強度を測定した
ところ、下記の結果が得られた。
4119) zSn(OCOC+ 1H23) 2
0.5 g得られた硬化物の機械的強度を測定した
ところ、下記の結果が得られた。
硬さ 27
伸び 410%
引張り強さ 38kg/cd引裂き強さ
(JfS A) 21kg/cm〔発明の効果
〕 本発明のオルガノポリシロキサン組成物は、離型性及び
透明性に優れるものである。
(JfS A) 21kg/cm〔発明の効果
〕 本発明のオルガノポリシロキサン組成物は、離型性及び
透明性に優れるものである。
Claims (3)
- (1)(A)一般単位式( I ): R^1_a(OH)_bSi_(_4_−_a_−_b
_)_/_2( I )〔式中、R^1は炭素原子数1〜
10のフッ素原子を含まない置換又は非置換の1価の 炭化水素基を示し、aは1.90〜3.0の数であり、
bは0〜1.0の数であり、a+ bは1.90〜3.0である〕 で表されるオルガノポリシロキサン 100重量部、 (B)比表面積50m^2/g以上のシリカ微粉末と、 (C)式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中、R_fは式: C_pF_2_p_+_1 (ここで、pは4〜12の整数 である) で表されるパーフルオロアルキル 基又は式: ▲数式、化学式、表等があります▼ (ここで、qは1〜3の整数、 nは1〜4の整数である) で表されるパーフルオロアルキル エーテル基を含有する炭素原子数 3〜15の含フッ素有機基を示し、 R^1は前記と同じ、R^2は炭素原 子数2〜10の2価の炭化水素基、 cは0、1又は2である〕 で表される基を含む分子量3000以下のシラザン化合
物とを反応させてなるフルオロシ リコーン処理シリカ 1〜100重量部 を含むオルガノポリシロキサン組成物。 - (2)特許請求の範囲第1項記載のオルガノポリシロキ
サン組成物の製造方法であって、前記(B)のシリカ微
粉末100重量部を前記(C)シラザン化合物1〜20
0重量部、(D)水0〜50重量部及び湿潤剤0〜20
重量部で処理してなる前記フルオロシリコーン処理シリ
カ1〜100重量部を、前記(A)オルガノポリシロキ
サン100重量部と混合する工程を有する方法。 - (3)特許請求の範囲第1項記載のオルガノポリシロキ
サン組成物の製造方法であって、前記(A)オルガノポ
リシロキサン100重量部、前記(B)シリカ微粉末1
0〜100重量部、前記(C)シラザン化合物0.2〜
200重量部、並びに(D)水0.1〜50重量部及び
(E)湿潤剤0〜20重量部を混練する工程を有する方
法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63332528A JPH0689253B2 (ja) | 1988-12-28 | 1988-12-28 | オルガノポリシロキサン組成物及びその製造方法 |
US07/458,425 US5061740A (en) | 1988-12-28 | 1989-12-28 | Organopolysiloxane composition and process for preparing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63332528A JPH0689253B2 (ja) | 1988-12-28 | 1988-12-28 | オルガノポリシロキサン組成物及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02175758A true JPH02175758A (ja) | 1990-07-09 |
JPH0689253B2 JPH0689253B2 (ja) | 1994-11-09 |
Family
ID=18255929
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63332528A Expired - Lifetime JPH0689253B2 (ja) | 1988-12-28 | 1988-12-28 | オルガノポリシロキサン組成物及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0689253B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001139814A (ja) * | 1999-11-11 | 2001-05-22 | Dow Corning Toray Silicone Co Ltd | シリコーンゴム組成物およびその製造方法 |
US7276591B2 (en) | 2003-05-06 | 2007-10-02 | Fuji Carbon Co., Ltd. | Biomass resin composition, process for preparing the same and molding material using the biomass composition |
JP2019183110A (ja) * | 2018-04-11 | 2019-10-24 | 信越化学工業株式会社 | 撥水性被膜形成用組成物及び撥水性被膜 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5450054A (en) * | 1977-09-06 | 1979-04-19 | Dow Corning | Treated silica for thermsetting silicone*elastomer composition and preparation thereof |
JPS54146899A (en) * | 1978-05-08 | 1979-11-16 | Dow Corning | Silicone elastomer base * preparation |
-
1988
- 1988-12-28 JP JP63332528A patent/JPH0689253B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5450054A (en) * | 1977-09-06 | 1979-04-19 | Dow Corning | Treated silica for thermsetting silicone*elastomer composition and preparation thereof |
JPS54146899A (en) * | 1978-05-08 | 1979-11-16 | Dow Corning | Silicone elastomer base * preparation |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001139814A (ja) * | 1999-11-11 | 2001-05-22 | Dow Corning Toray Silicone Co Ltd | シリコーンゴム組成物およびその製造方法 |
JP4528392B2 (ja) * | 1999-11-11 | 2010-08-18 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | シリコーンゴム組成物およびその製造方法 |
US7276591B2 (en) | 2003-05-06 | 2007-10-02 | Fuji Carbon Co., Ltd. | Biomass resin composition, process for preparing the same and molding material using the biomass composition |
JP2019183110A (ja) * | 2018-04-11 | 2019-10-24 | 信越化学工業株式会社 | 撥水性被膜形成用組成物及び撥水性被膜 |
TWI798414B (zh) * | 2018-04-11 | 2023-04-11 | 日商信越化學工業股份有限公司 | 撥水性被膜形成用組成物及撥水性被膜 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0689253B2 (ja) | 1994-11-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4162243A (en) | High strength, extrudable silicone elastomer compositions | |
JP2551572B2 (ja) | シリコ−ン・シ−ラント組成物 | |
US3837878A (en) | Process for treating silica fillers | |
KR20110004272A (ko) | 광가교성 실리콘 혼합물로부터 실리콘 코팅 및 실리콘 몰딩을 제조하는 방법 | |
JPS62197453A (ja) | シリコ−ン組成物 | |
JPH0341109B2 (ja) | ||
JPS6198763A (ja) | シリコ−ンゴム組成物 | |
JPH04202258A (ja) | 離型耐久性に優れたシリコーンゴム組成物 | |
US4946878A (en) | Rapidly curable extrudable organosiloxane compositions | |
EP0714936A2 (en) | Organosilicon compounds and low temperature curing organosiloxane compositions containing same | |
JPH03170530A (ja) | 片末端分岐状アミノアルキル基封鎖オルガノポリシロキサン及びその製造方法 | |
JPH03146558A (ja) | オルガノシリコーン処理シリカ及びそれを含む組成物、並びにその組成物の製造方法 | |
JPS6346786B2 (ja) | ||
JPS6033437B2 (ja) | 短鎖線状ビス−ポリオルガノシロキサニルアミン | |
JP3201940B2 (ja) | 硬化性シリコーンエラストマー組成物及びその製造方法 | |
JP2003137530A (ja) | 微粉末シリカの表面処理方法およびポリオルガノシロキサン組成物 | |
JPH02175758A (ja) | オルガノポリシロキサン組成物及びその製造方法 | |
JPH0692502B2 (ja) | フルオロシリコーン処理シリカの製造方法 | |
US5061740A (en) | Organopolysiloxane composition and process for preparing the same | |
JP5014532B2 (ja) | 液状付加硬化型シリコーンゴム組成物の製造方法 | |
JP2522722B2 (ja) | 圧縮抵抗性シリコ―ンゴム組成物 | |
JP3945984B2 (ja) | 透明樹脂成形用型取り材 | |
JP2620424B2 (ja) | 室温硬化性シリコーンゴム組成物 | |
EP0429069A2 (en) | Charge-dissipating silicone rubber compositions | |
JP3297976B2 (ja) | 液状シリコーンゴム組成物及びその製造方法 |