JPH03146558A - オルガノシリコーン処理シリカ及びそれを含む組成物、並びにその組成物の製造方法 - Google Patents
オルガノシリコーン処理シリカ及びそれを含む組成物、並びにその組成物の製造方法Info
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 231
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 title claims abstract description 109
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 48
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 17
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 50
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 42
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 29
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 29
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Chemical group CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims abstract description 12
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims abstract 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 18
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 10
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 abstract description 20
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 abstract description 13
- 235000019645 odor Nutrition 0.000 abstract description 12
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 6
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 abstract description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 abstract description 4
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 25
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- -1 dialkylsilane diol Chemical class 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 12
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 11
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 8
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 6
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 5
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 5
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 5
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 5
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 5
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 5
- 229910002016 Aerosil® 200 Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 4
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 4
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 4
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 3
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 3
- 125000002433 cyclopentenyl group Chemical group C1(=CCCC1)* 0.000 description 3
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 3
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 3
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 3
- 238000006884 silylation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- KWKPPZVLRABURT-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxyethenoxy(trimethyl)silane Chemical compound CCOC(=C)O[Si](C)(C)C KWKPPZVLRABURT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910002018 Aerosil® 300 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 2
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 2
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 2
- DDJSWKLBKSLAAZ-UHFFFAOYSA-N cyclotetrasiloxane Chemical compound O1[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]1 DDJSWKLBKSLAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005448 ethoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 2
- 150000002510 isobutyric acid esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- BOSAWIQFTJIYIS-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloro-2,2,2-trifluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)(Cl)Cl BOSAWIQFTJIYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYLFHLNFIHBCPR-UHFFFAOYSA-N 1-ethynylcyclohexan-1-ol Chemical compound C#CC1(O)CCCCC1 QYLFHLNFIHBCPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001731 2-cyanoethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C#N 0.000 description 1
- LTVRSJBNXLZFGT-UHFFFAOYSA-N 2-silylethenone Chemical compound [SiH3]C=C=O LTVRSJBNXLZFGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910002014 Aerosil® 130 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002019 Aerosil® 380 Inorganic materials 0.000 description 1
- 101100083507 Caenorhabditis elegans acl-2 gene Proteins 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004944 Liquid Silicone Rubber Substances 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical group C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- BTHCBXJLLCHNMS-UHFFFAOYSA-N acetyloxysilicon Chemical compound CC(=O)O[Si] BTHCBXJLLCHNMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 238000007605 air drying Methods 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- JJRDHFIVAPVZJN-UHFFFAOYSA-N cyclotrisiloxane Chemical compound O1[SiH2]O[SiH2]O[SiH2]1 JJRDHFIVAPVZJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 1
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- GBFVZTUQONJGSL-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris(prop-1-en-2-yloxy)silane Chemical compound CC(=C)O[Si](OC(C)=C)(OC(C)=C)C=C GBFVZTUQONJGSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000000219 ethylidene group Chemical group [H]C(=[*])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000003517 fume Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000004519 grease Substances 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000004850 liquid epoxy resins (LERs) Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 238000013008 moisture curing Methods 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004819 silanols Chemical class 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 210000002784 stomach Anatomy 0.000 description 1
- 239000004291 sulphur dioxide Substances 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- 239000004636 vulcanized rubber Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
- C09C1/28—Compounds of silicon
- C09C1/30—Silicic acid
- C09C1/3081—Treatment with organo-silicon compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K9/00—Use of pretreated ingredients
- C08K9/04—Ingredients treated with organic substances
- C08K9/06—Ingredients treated with organic substances with silicon-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/12—Surface area
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、オルガノシリコーン処理シリカ及びそれを含
むオルガノポリシロキサン組成物並びにその組成物の製
造方法に関する。
むオルガノポリシロキサン組成物並びにその組成物の製
造方法に関する。
シリコーンゴム、シリコーングリース、シリコーンオイ
ルコンパウンド等のオルガノポリシロキサン組成物には
、流動性の調節、機械的強度の補強、離型性や接着性の
改善、並びに圧縮永久歪み、耐熱性及び耐薬品性の向上
を目的としてシリカ微粉末が配合されている。このシリ
カ微粉末として、ケイ素化合物を酸水素炎中で加水分解
して製造されるヒユームドシリカ、ケイ酸ソーダ等を水
中で加水分解、中和して製造される湿式法シリカ等があ
る。しかし、これらのシリカ微粉末はいずれもその表面
に多数のシラノール基を有するため、これをそのままオ
ルガノポリシロキサンM!Lffi物中に混合、混練す
ると、保存中にストラクチュアリング、クリープハード
ニングなどと呼ばれる擬似架橋を起こし、U放物の流動
性や稠度が著しく低下したり、またゴムでは可塑化もど
りが極めて大きくなるなどの問題が生じる。そこで、従
来のシリカ微粉末のこれらの欠点を改良したものとして
、シリカ微粉末を式: R’、5iCI!、、R’□S
ac l 2.R’SiC13(式中、R4は炭素原子
数1〜8の炭化水素基である)等で表されるクロロシラ
ンや式: (R’3Si) zNll(式中、R4は前
記と同じ)等で表されるシラザン化合物で処理して、シ
リカ微粉末の表面にあるシラノール基をシリル化した処
理シリカが知られている。また、この処理シリカを含む
オルガノポリシロキサン組成物を得る方法として、シリ
カ微粉末とシリコーンゴムを混合した後、前記のシラザ
ン化合物、ジアルキルシランジオール、アルコキシシラ
ン等を混合して反応させ、含有されているシリカ微粉末
の表面のシラノール基を混合過程でシリル化処理する方
法などが知られている。
ルコンパウンド等のオルガノポリシロキサン組成物には
、流動性の調節、機械的強度の補強、離型性や接着性の
改善、並びに圧縮永久歪み、耐熱性及び耐薬品性の向上
を目的としてシリカ微粉末が配合されている。このシリ
カ微粉末として、ケイ素化合物を酸水素炎中で加水分解
して製造されるヒユームドシリカ、ケイ酸ソーダ等を水
中で加水分解、中和して製造される湿式法シリカ等があ
る。しかし、これらのシリカ微粉末はいずれもその表面
に多数のシラノール基を有するため、これをそのままオ
ルガノポリシロキサンM!Lffi物中に混合、混練す
ると、保存中にストラクチュアリング、クリープハード
ニングなどと呼ばれる擬似架橋を起こし、U放物の流動
性や稠度が著しく低下したり、またゴムでは可塑化もど
りが極めて大きくなるなどの問題が生じる。そこで、従
来のシリカ微粉末のこれらの欠点を改良したものとして
、シリカ微粉末を式: R’、5iCI!、、R’□S
ac l 2.R’SiC13(式中、R4は炭素原子
数1〜8の炭化水素基である)等で表されるクロロシラ
ンや式: (R’3Si) zNll(式中、R4は前
記と同じ)等で表されるシラザン化合物で処理して、シ
リカ微粉末の表面にあるシラノール基をシリル化した処
理シリカが知られている。また、この処理シリカを含む
オルガノポリシロキサン組成物を得る方法として、シリ
カ微粉末とシリコーンゴムを混合した後、前記のシラザ
ン化合物、ジアルキルシランジオール、アルコキシシラ
ン等を混合して反応させ、含有されているシリカ微粉末
の表面のシラノール基を混合過程でシリル化処理する方
法などが知られている。
(米国特許第3,532,664号明細書(特公昭47
−30422号)、特公昭58−8703号、特公昭5
6−34227号〉前記の処理シリカを配合したオルガ
ノポリシロキサン組成物、または前記の方法によって含
有するシリカ微粉末の表面がシリル化されたオルガノポ
リシロキサン組成物では、保存中のストラクチュアリン
グが低減する。
−30422号)、特公昭58−8703号、特公昭5
6−34227号〉前記の処理シリカを配合したオルガ
ノポリシロキサン組成物、または前記の方法によって含
有するシリカ微粉末の表面がシリル化されたオルガノポ
リシロキサン組成物では、保存中のストラクチュアリン
グが低減する。
しかし、上記従来のシリカ微粉末の処理においては、前
記クロロシラン、シラザン化合物等とシリカ微粉末との
反応によってllCl!、、Nl+3、アルコール等が
副生される問題がある。そのため、これらの副生物を除
去するために多大の時間とエネルギーを必要としたり、
また得られる処理シリカ中にこれらの副生物が残存する
場合には、処理シリカをシリコーンオイルや生ゴムに配
合しても、得られる組成物の耐熱性、離型耐久性、透明
耐久性、及び電気絶縁性等の電気的特性を低下させる問
題があった。また、シリカ微粉末の表面のシラノール基
をシリル化するために、式: 〔ここで、R5は一価炭化水素基である)で表されるシ
リルケテンアセタールを用いる方法(特願昭63−20
8888号)も知られているが、この方法においては、
不快臭を有するイソ酪酸エステルが副生し、問題となる
。
記クロロシラン、シラザン化合物等とシリカ微粉末との
反応によってllCl!、、Nl+3、アルコール等が
副生される問題がある。そのため、これらの副生物を除
去するために多大の時間とエネルギーを必要としたり、
また得られる処理シリカ中にこれらの副生物が残存する
場合には、処理シリカをシリコーンオイルや生ゴムに配
合しても、得られる組成物の耐熱性、離型耐久性、透明
耐久性、及び電気絶縁性等の電気的特性を低下させる問
題があった。また、シリカ微粉末の表面のシラノール基
をシリル化するために、式: 〔ここで、R5は一価炭化水素基である)で表されるシ
リルケテンアセタールを用いる方法(特願昭63−20
8888号)も知られているが、この方法においては、
不快臭を有するイソ酪酸エステルが副生し、問題となる
。
そこで本発明の目的は、副生物としてHCLNl+ff
等の酸又は塩基性物質もしくはそれらの塩、あるいは不
快臭を有する物質を含有しない極めて高純度のオルガノ
シリコーン処理シリカを提供し、及びそれを含むオルガ
ノポリシロキサン組成物、並びにそのMi戒放物製造方
法を提供することにある。
等の酸又は塩基性物質もしくはそれらの塩、あるいは不
快臭を有する物質を含有しない極めて高純度のオルガノ
シリコーン処理シリカを提供し、及びそれを含むオルガ
ノポリシロキサン組成物、並びにそのMi戒放物製造方
法を提供することにある。
本発明は、上記課題を解決するものとして、(A)比表
面積50mz/g以上のシリカ微粉末を、(B)式(I
): CH2=CO5i(R2)z (1)OR
’ 〔式中、R1は炭素原子数1〜8の1価の炭化水素基又
はエーテル結合含有有機基、3個のR2は同一でも異な
ってもよく、炭素原子数1〜18の置換又は非置換の1
価の炭化水素基もしくはエーテル結合含有有機基である
〕 で表されるトリオルガノ(1−アルコキシビニロキシ)
シラン で処理してなるオルガノシリコーン処理シリカを提供す
るものである。
面積50mz/g以上のシリカ微粉末を、(B)式(I
): CH2=CO5i(R2)z (1)OR
’ 〔式中、R1は炭素原子数1〜8の1価の炭化水素基又
はエーテル結合含有有機基、3個のR2は同一でも異な
ってもよく、炭素原子数1〜18の置換又は非置換の1
価の炭化水素基もしくはエーテル結合含有有機基である
〕 で表されるトリオルガノ(1−アルコキシビニロキシ)
シラン で処理してなるオルガノシリコーン処理シリカを提供す
るものである。
本発明で用いられる(A)のシリカ微粉末としては、例
えば、ヒユームドシリカ等の乾式シリカ;湿式シリカな
どが挙げられる。このシリカ微粉末の比表面積は50m
2/g以上、好ましくは100 rs”7g以上であり
、特に、シリコーンゴムに配合して高い引き裂き強度を
得るためには、比表面積が200〜400 m27gで
あることが好ましく、またヒユームドシリカがより好ま
しい。使用するシリカ微粉末の比表面積が50m27g
未満であると、得られる処理シリカをシリコーンゴムに
配合しても機械的強度を十分に向上させることができな
い。このシリカ微粉末の具体例としては、デグッサ社の
アエロジル−130,200,300,380、キャボ
ット社のMS5、MS−7、日本シリカ社のニブシルV
N−3、L P、 E220 、A−330などが挙げ
られる。
えば、ヒユームドシリカ等の乾式シリカ;湿式シリカな
どが挙げられる。このシリカ微粉末の比表面積は50m
2/g以上、好ましくは100 rs”7g以上であり
、特に、シリコーンゴムに配合して高い引き裂き強度を
得るためには、比表面積が200〜400 m27gで
あることが好ましく、またヒユームドシリカがより好ま
しい。使用するシリカ微粉末の比表面積が50m27g
未満であると、得られる処理シリカをシリコーンゴムに
配合しても機械的強度を十分に向上させることができな
い。このシリカ微粉末の具体例としては、デグッサ社の
アエロジル−130,200,300,380、キャボ
ット社のMS5、MS−7、日本シリカ社のニブシルV
N−3、L P、 E220 、A−330などが挙げ
られる。
また、(A)のシリカ微粉末として、シリル化処理が不
十分な処理シリカを用いても、さらに高処理度のシリカ
を得ることができる。
十分な処理シリカを用いても、さらに高処理度のシリカ
を得ることができる。
本発明で用いられる(B)のトリオルガノ(1−アルコ
キシビニロキシ)シランは、前記式(1)で表されるも
のである。式(I)中、R1は炭素原子数1〜8、好ま
しくは1〜3の、1価の炭化水素基又はエーテル結合含
有有機基である。1価の炭化水素基としては、例えば、
メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基;ビニ
ル基、アリル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニ
ル基等の脂肪族又は脂環式の不飽和炭化水素基;フェニ
ル基、トリル基、ベンジル基等の芳香族炭化水素基など
が挙げられる。エーテル結合含有有機基としては、例え
ば、メトキシエチル基、エトキシエチル基、アリロキシ
エチル基等が挙げられる。
キシビニロキシ)シランは、前記式(1)で表されるも
のである。式(I)中、R1は炭素原子数1〜8、好ま
しくは1〜3の、1価の炭化水素基又はエーテル結合含
有有機基である。1価の炭化水素基としては、例えば、
メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基;ビニ
ル基、アリル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニ
ル基等の脂肪族又は脂環式の不飽和炭化水素基;フェニ
ル基、トリル基、ベンジル基等の芳香族炭化水素基など
が挙げられる。エーテル結合含有有機基としては、例え
ば、メトキシエチル基、エトキシエチル基、アリロキシ
エチル基等が挙げられる。
また、3個のR2は同一でも異なってもよく、炭素原子
数1〜18、好ましくは1〜3の、非置換又は置換の1
価の炭化水素基、もしくはエーテル結合含有有機基であ
る。非置換の1価の炭化水素基としては、例えば、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基
;ビニル基、アリル基、シクロペンテニル基、シクロへ
キセニル基等の脂肪族又は脂環式の不飽和炭化水素基;
フェニル基、トリル基、ベンジル基等の芳香族炭化水素
基などが挙げられる。置換の1価の炭化水素基としは、
例えば、前記非置換の炭化水素基の炭素原子に結合して
いる水素原子の1部又は全部が、塩素、フッ素等のハロ
ゲン原子、あるいはシアノ基、ニトリル基、アルコキシ
基等で置換された基、並びに式(II): C,F2.、I−(R’)T (U )〔
ここで、pは工〜1oの整数、qは0又は1であり、R
6は炭素原子数2〜11の非置換又は置換の2価の炭化
水素基である。ただし、pとRhの炭素原子数の合計は
18を超えないものとする。このR&としては、例えば
、メチレン基、エチレン基、エチリデン基、トリメチレ
ン基、フェニルエチレン基、あるいは弐: CHt(トCH2CIIt − で表される基等の基;これらの基の炭素原子に結合して
いる水素原子の1部又は全部が、塩素、フッ素等のハロ
ゲン原子等で置換された基、例えば、式: %式% 等で表される基などが挙げられる] で表される基などが挙げられる。
数1〜18、好ましくは1〜3の、非置換又は置換の1
価の炭化水素基、もしくはエーテル結合含有有機基であ
る。非置換の1価の炭化水素基としては、例えば、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基
;ビニル基、アリル基、シクロペンテニル基、シクロへ
キセニル基等の脂肪族又は脂環式の不飽和炭化水素基;
フェニル基、トリル基、ベンジル基等の芳香族炭化水素
基などが挙げられる。置換の1価の炭化水素基としは、
例えば、前記非置換の炭化水素基の炭素原子に結合して
いる水素原子の1部又は全部が、塩素、フッ素等のハロ
ゲン原子、あるいはシアノ基、ニトリル基、アルコキシ
基等で置換された基、並びに式(II): C,F2.、I−(R’)T (U )〔
ここで、pは工〜1oの整数、qは0又は1であり、R
6は炭素原子数2〜11の非置換又は置換の2価の炭化
水素基である。ただし、pとRhの炭素原子数の合計は
18を超えないものとする。このR&としては、例えば
、メチレン基、エチレン基、エチリデン基、トリメチレ
ン基、フェニルエチレン基、あるいは弐: CHt(トCH2CIIt − で表される基等の基;これらの基の炭素原子に結合して
いる水素原子の1部又は全部が、塩素、フッ素等のハロ
ゲン原子等で置換された基、例えば、式: %式% 等で表される基などが挙げられる] で表される基などが挙げられる。
前記式(n)で表される基の具体例としては、下記式:
%式%
等で表される基などが挙げられる。
エーテル結合含有有機基としては、例えば、メトキシエ
チル基、エトキシエチル基、アリロキシエチル基等の基
;あるいは、これらの基の炭素原子に結合している水素
原子の1部又は全部が、塩素、フッ素等のハロゲン原子
などで置換された基、並びに、式(■): R,−R7−(II[) 〔ここでRrは、下記式(IV)又は(V):C,FZ
r−1−eR”)−r−0(■)〔ここで、rは1〜1
0の整数、SはO又はl、R6は前記式(II)と同じ
である〕 F −(Ct Fzt 0hr(R60)y−(V )
〔ここで、tは1〜3の整数、Uは1〜5の整数であり
、VはO〜1の整数であり、R6は前記式(n)と同し
である] で表される基であり、R7は前記式(II)におけるR
6と同じである。ただし、R1とR7の炭素原子数の合
計は1〜18である〕 で表される基などが挙げられる。
チル基、エトキシエチル基、アリロキシエチル基等の基
;あるいは、これらの基の炭素原子に結合している水素
原子の1部又は全部が、塩素、フッ素等のハロゲン原子
などで置換された基、並びに、式(■): R,−R7−(II[) 〔ここでRrは、下記式(IV)又は(V):C,FZ
r−1−eR”)−r−0(■)〔ここで、rは1〜1
0の整数、SはO又はl、R6は前記式(II)と同じ
である〕 F −(Ct Fzt 0hr(R60)y−(V )
〔ここで、tは1〜3の整数、Uは1〜5の整数であり
、VはO〜1の整数であり、R6は前記式(n)と同し
である] で表される基であり、R7は前記式(II)におけるR
6と同じである。ただし、R1とR7の炭素原子数の合
計は1〜18である〕 で表される基などが挙げられる。
前記式(IV)又は(V)で表される基R,の具体例と
しては、例えば、下記式: %式%) (ここで、Cは1〜12の整数、mはO〜2の整数であ
る) F(CFCF20)、、CFCI(20CF3
CF。
しては、例えば、下記式: %式%) (ここで、Cは1〜12の整数、mはO〜2の整数であ
る) F(CFCF20)、、CFCI(20CF3
CF。
〔ここで、nは1〜4の整数である
F(CFCFJ)、ICFCFZO
CFff CFl
〔ここで、Wは1〜4の整数である
CF。
CF 3CF ZCF zOcFcH□0〕
〕
CF、 CF。
F(CFCFzO)4CFCFZO−
F (CF zcF zCF zo) 2CF ZCF
ZCH□OCF 3CF 20 (CF zCF z
o) zCF zOcF zcF zo−等で表される
基などが挙げられる。
ZCH□OCF 3CF 20 (CF zCF z
o) zCF zOcF zcF zo−等で表される
基などが挙げられる。
前記式(II)で表される基の具体例としては、下記式
: %式% (6 ( 等で表される基などが挙げられる。
: %式% (6 ( 等で表される基などが挙げられる。
この式(I)で表されるトリオルガノ(1−アルコキシ
ビニロキシ)シランの具体例としては、下記式: %式%) ) CH。
ビニロキシ)シランの具体例としては、下記式: %式%) ) CH。
0C211゜
CH。
〔ここで、
Cは2〜5の整数である]
CI。
CH。
等で表されるものなどが挙げられる。
以上のトリオルガノ
(l−アルコキシビニロキ
シ)シランは1種類単独でも2種類以上を組合わせても
用いられる。
用いられる。
このトリオルガノ(1−アルコキシビニロキシ)シラン
は、(A)のシリカ微粉末を処理した後、副生ずる酢酸
エステルや未反応のトリオルガノ(l−アルコキシビニ
ロキシ)シランを容易に除去できる点で、低分子量のも
のが好ましい。この点で、式(I)において、R1がメ
チル基、エチル基又ハフロビル基であり、R2がメチル
基又はビニル基であるものが好ましい。
は、(A)のシリカ微粉末を処理した後、副生ずる酢酸
エステルや未反応のトリオルガノ(l−アルコキシビニ
ロキシ)シランを容易に除去できる点で、低分子量のも
のが好ましい。この点で、式(I)において、R1がメ
チル基、エチル基又ハフロビル基であり、R2がメチル
基又はビニル基であるものが好ましい。
本発明で用いられる(B)の式(I)で表されるトリオ
ルガノ(l−アルコキシビニロキシ)シランは、例えば
、ジイソプロピルアミン((1−CJt) Jt+ )
と、ブチルリチウム(Li−CrlL )とを反応させ
てLDA試薬((i C3H?) zN−Li )を
台底した後、70〜−80℃程度の低温下、下記式:%
式% 〔ここで、R1は前記式N)で定義したとおりである〕 で表される酢酸エステル化合物を滴下して反応させて下
記式: %式% で表されるリチウムーエノラート化合物を生成させる。
ルガノ(l−アルコキシビニロキシ)シランは、例えば
、ジイソプロピルアミン((1−CJt) Jt+ )
と、ブチルリチウム(Li−CrlL )とを反応させ
てLDA試薬((i C3H?) zN−Li )を
台底した後、70〜−80℃程度の低温下、下記式:%
式% 〔ここで、R1は前記式N)で定義したとおりである〕 で表される酢酸エステル化合物を滴下して反応させて下
記式: %式% で表されるリチウムーエノラート化合物を生成させる。
次に、−70〜−80°C程度の低温下、下記式:%式
%() (ここで、Xはハロゲン原子、R2は前記式(1)で
定義したとおりである) で表されるトリオルガノハロシランを滴下して反応させ
ることにより得ることができる。得られた反応混合物は
濾別して蒸留することにより単離することができる。(
八insworth et al、、J、Organo
metChem、 46 (1972) p59〜71
)本発明の処理シリカの製造における(13)のトリオ
ルガノ(1−アルコキシビニロキシ)シランの使用量は
、通常、(A)のシリカ微粉末100重量部当たり好ま
しくは0.5〜100重量部、さらに好ましくは10〜
50重量部である。このトリオルガノ(1−アルコキシ
ビニロキシ)シランの使用量が少なすぎるとシリカ微粉
末の表面のシラノール基のシリル化が不十分となり、得
られる処理シリカをゴム組成物に配合した場合、クリー
プハードニングが大きくなったり、また湿気硬化型のl
液RTVに配合した場合には経時的な増粘を防止するた
めに多量の架橋剤を必要とするなどの不都合を生じる。
%() (ここで、Xはハロゲン原子、R2は前記式(1)で
定義したとおりである) で表されるトリオルガノハロシランを滴下して反応させ
ることにより得ることができる。得られた反応混合物は
濾別して蒸留することにより単離することができる。(
八insworth et al、、J、Organo
metChem、 46 (1972) p59〜71
)本発明の処理シリカの製造における(13)のトリオ
ルガノ(1−アルコキシビニロキシ)シランの使用量は
、通常、(A)のシリカ微粉末100重量部当たり好ま
しくは0.5〜100重量部、さらに好ましくは10〜
50重量部である。このトリオルガノ(1−アルコキシ
ビニロキシ)シランの使用量が少なすぎるとシリカ微粉
末の表面のシラノール基のシリル化が不十分となり、得
られる処理シリカをゴム組成物に配合した場合、クリー
プハードニングが大きくなったり、また湿気硬化型のl
液RTVに配合した場合には経時的な増粘を防止するた
めに多量の架橋剤を必要とするなどの不都合を生じる。
多すぎると反応終了後に除去すべき未反応物がそれだけ
増加するので好ましくない。
増加するので好ましくない。
本発明のフルオロシリコーン処理シリカの製造において
は、上記(A)のシリカ微粉末の所定量を反応器に仕込
み、室温下に攪拌しながら、(B)のトリオルガノ(l
−アルコキシビニロキシ)シランを滴下又はスプレー等
により添加するだけでも、通常は発熱し、酢酸エステル
化合物を副生しながら反応が進行する。この状態で数十
分から数日間勢威後、加熱下又は加熱減圧下に酢酸エス
テル化合物等の副生物又は未反応のトリオルガノ(1−
アルコキシビニロキシ)シランを除去すれば、本発明の
オルガノシリコーン処理シリカを得ることができる。こ
の反応は、室温でも進行するが、さらに室温以上で20
0 ’C以下程度の温度に加熱して促進させることがで
き、例えば、反応時間を1時間以内に短縮することもで
きる。また、反応に際して、シリカ微粉末の表面の不安
定なシロキサン結合をシラノール基に変えておき、使用
する(A)のシリカ微粉末を予め、40°C1相対湿度
80%程度の雰囲気中に静置して調湿しておくとシリル
化が十分に行われる点で好ましい。さらに、(B)のト
リオルガノ(l−アルコキシビニロキシ)シランの1種
又は2種以上を適当に選択して使用することにより、得
られる処理シリカの表面にビニル基等の官能基を所定量
導入することもできる。
は、上記(A)のシリカ微粉末の所定量を反応器に仕込
み、室温下に攪拌しながら、(B)のトリオルガノ(l
−アルコキシビニロキシ)シランを滴下又はスプレー等
により添加するだけでも、通常は発熱し、酢酸エステル
化合物を副生しながら反応が進行する。この状態で数十
分から数日間勢威後、加熱下又は加熱減圧下に酢酸エス
テル化合物等の副生物又は未反応のトリオルガノ(1−
アルコキシビニロキシ)シランを除去すれば、本発明の
オルガノシリコーン処理シリカを得ることができる。こ
の反応は、室温でも進行するが、さらに室温以上で20
0 ’C以下程度の温度に加熱して促進させることがで
き、例えば、反応時間を1時間以内に短縮することもで
きる。また、反応に際して、シリカ微粉末の表面の不安
定なシロキサン結合をシラノール基に変えておき、使用
する(A)のシリカ微粉末を予め、40°C1相対湿度
80%程度の雰囲気中に静置して調湿しておくとシリル
化が十分に行われる点で好ましい。さらに、(B)のト
リオルガノ(l−アルコキシビニロキシ)シランの1種
又は2種以上を適当に選択して使用することにより、得
られる処理シリカの表面にビニル基等の官能基を所定量
導入することもできる。
この処理シリカの製造において、必要に応じて適当な不
活性有機溶媒を使用してもよい。用いられる不活性有機
溶媒としては、例えば、ヘキサン、ベンゼン、トルエン
、キシレン等の炭化水素系溶剤;トリクロロエタン、ト
リクロロトリフルオロエタン等のハロゲン化炭化水素系
溶剤などが挙げられる。これらは1種単独でも2種以上
を組合わせても用いられる。
活性有機溶媒を使用してもよい。用いられる不活性有機
溶媒としては、例えば、ヘキサン、ベンゼン、トルエン
、キシレン等の炭化水素系溶剤;トリクロロエタン、ト
リクロロトリフルオロエタン等のハロゲン化炭化水素系
溶剤などが挙げられる。これらは1種単独でも2種以上
を組合わせても用いられる。
以上のようにして得られる本発明のオルガノシリコーン
処理シリカは、オルガノポリシロキサンに配合して、例
えば、 (イ)一般単位式(II): (R3)a(OH)bSiOn−−−b
(n )〔式中、R3は炭素原子数l〜10の置換又は
非置換の1価の炭化水素基を示し、aは1.90〜3.
0の数であり、bは0〜1.0の数であり、a+bは1
.90〜3.0である]で表されるオルガノポリシロキ
サン 及び (υ)前記オルガノシリコーン処理シリカを含有してな
るオルガノポリシロキサン組成物を得ることができる。
処理シリカは、オルガノポリシロキサンに配合して、例
えば、 (イ)一般単位式(II): (R3)a(OH)bSiOn−−−b
(n )〔式中、R3は炭素原子数l〜10の置換又は
非置換の1価の炭化水素基を示し、aは1.90〜3.
0の数であり、bは0〜1.0の数であり、a+bは1
.90〜3.0である]で表されるオルガノポリシロキ
サン 及び (υ)前記オルガノシリコーン処理シリカを含有してな
るオルガノポリシロキサン組成物を得ることができる。
(イ)のオルガノポリシロキサンは前記一般単位式(1
)で表されるものであるが、式中、R3は炭素原子数1
−10、好ましくは1〜6の置換又は非置換の1価の炭
化水素基を示し、例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基等のアルキル基;ビニル基、アリル基、シクロペン
テニル基、ヘキセニル基等の脂肪族又は脂環式不飽和炭
化水素基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ベンジ
ル基等の芳香族炭化水素基;これらの炭化水素基に結合
している水素原子の1部又全部を、塩素、フッ素等のハ
ロゲン原子、シアノ基、アルコキシ基、アミノ基等で置
換したもの、例えば、クロロプロピル基、シアノエチル
基、メトキシエチル基、3.3.3− )リフルオロプ
ロピル基等が挙げられる。
)で表されるものであるが、式中、R3は炭素原子数1
−10、好ましくは1〜6の置換又は非置換の1価の炭
化水素基を示し、例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基等のアルキル基;ビニル基、アリル基、シクロペン
テニル基、ヘキセニル基等の脂肪族又は脂環式不飽和炭
化水素基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ベンジ
ル基等の芳香族炭化水素基;これらの炭化水素基に結合
している水素原子の1部又全部を、塩素、フッ素等のハ
ロゲン原子、シアノ基、アルコキシ基、アミノ基等で置
換したもの、例えば、クロロプロピル基、シアノエチル
基、メトキシエチル基、3.3.3− )リフルオロプ
ロピル基等が挙げられる。
aは1.90〜3.0、好ましくは1.96〜2.40
の数であり、bはO〜1.O1好ましくはO〜0.40
の数であり、a+bは1.90〜3.0 、好ましくは
1.96〜2.40である。これらの式(1)で表され
るオルガノポリシロキサンは1種単独でも2種以上を組
み合わせても用いられる。
の数であり、bはO〜1.O1好ましくはO〜0.40
の数であり、a+bは1.90〜3.0 、好ましくは
1.96〜2.40である。これらの式(1)で表され
るオルガノポリシロキサンは1種単独でも2種以上を組
み合わせても用いられる。
この(イ)のオルガノポリシロキサンは、重合度が、通
常、10000以下のものであり、低粘度の液状のもの
からガム状のものまでが含まれる。特に、液状のシリコ
ーンゴム組成物を得る場合には、25°Cにおける粘度
が500〜100000 cStのものが好ましい。
常、10000以下のものであり、低粘度の液状のもの
からガム状のものまでが含まれる。特に、液状のシリコ
ーンゴム組成物を得る場合には、25°Cにおける粘度
が500〜100000 cStのものが好ましい。
この
(イ)
のオルガノポリシロキサンの具体例と
しては、
例えば、
下記式:
CI+。
(CH3)3sio→Sigh−Si (CI+3)
3CH。
3CH。
(式中、dS e、f、g、h、i、j、o、s。
t、u、x及びyは0又は正の整数)
などで表されるものが挙げられる。
これらのオルガノポリシロキサンは、工業的に周知の方
法によって製造することができ、例えば、式: 〔ここで、R1は前記一般単位式(1)で定義したもの
と同じものであり、2 は、例えば、3〜8である〕 で表される、シクロトリシロキサン、シクロテトラシロ
キサン等の環状シロキサンと、トリオルガノジシロキサ
ン又は微量の水とを、酸もしくはアルカリ触媒の存在下
に平衡反応や開環重合反応等を行わせることによって得
ることができる。
法によって製造することができ、例えば、式: 〔ここで、R1は前記一般単位式(1)で定義したもの
と同じものであり、2 は、例えば、3〜8である〕 で表される、シクロトリシロキサン、シクロテトラシロ
キサン等の環状シロキサンと、トリオルガノジシロキサ
ン又は微量の水とを、酸もしくはアルカリ触媒の存在下
に平衡反応や開環重合反応等を行わせることによって得
ることができる。
(イ)のオルガノポリシロキサンと(ロ)のオルガノシ
リコーン処理シリカの混合・(ri練は、前記の(ロ)
の処理シリカを(イ)のオルガノポリシロキサンに、通
常、例えば、(イ)のオルガノポリシロキサン100重
量部に対して1〜100重量部の割合で配合すればよい
。
リコーン処理シリカの混合・(ri練は、前記の(ロ)
の処理シリカを(イ)のオルガノポリシロキサンに、通
常、例えば、(イ)のオルガノポリシロキサン100重
量部に対して1〜100重量部の割合で配合すればよい
。
このオルガノポリシロキサン組成物の製造は、例えば、
まず、前記のとおり、(A)のシリカ微粉末ヲ、(B)
のトリオルガノ(l−アルコキシビニロキシ)シランを
用いて処理して(ロ)のオルガノシリコーン処理シリカ
を調製し、得られた(口)のオルガノシリコーン処理シ
リカ1〜100重量部と前記(イ)のオルガノポリシロ
キサン100重量部を混合する方法によって行うことが
できる。混合は、通常の方法、例えば、プラネタリ−ミ
キサ、ニーグー、バンバリーミキサ−等の攪拌機、ある
いは3本ロールミル、2本ロールミル等を用いて行えば
よい。
まず、前記のとおり、(A)のシリカ微粉末ヲ、(B)
のトリオルガノ(l−アルコキシビニロキシ)シランを
用いて処理して(ロ)のオルガノシリコーン処理シリカ
を調製し、得られた(口)のオルガノシリコーン処理シ
リカ1〜100重量部と前記(イ)のオルガノポリシロ
キサン100重量部を混合する方法によって行うことが
できる。混合は、通常の方法、例えば、プラネタリ−ミ
キサ、ニーグー、バンバリーミキサ−等の攪拌機、ある
いは3本ロールミル、2本ロールミル等を用いて行えば
よい。
また、このオルガノポリシロキサン組成物の製造は、(
イ)のオルガノポリシロキサンに直接、(A) シリ
カ微粉末及び(B)トリオルガノ(1−アルコキシビニ
ロキシ)シランを混練する方法によって行うこともでき
る。例えば、 (イ)前記一般単位式(1)で表されるオルガノポリシ
ロキサン 100重量部、(A)比表面積5
0m”/g以上のシリカ微粉末10〜100重量部 及び (B)前記式(II)で表されるトリオルガノ(1−ア
ルコキシビニロキシ)シラン 0.1〜200重量部 を混練する工程を有する製造方法によって行うことがで
きる。
イ)のオルガノポリシロキサンに直接、(A) シリ
カ微粉末及び(B)トリオルガノ(1−アルコキシビニ
ロキシ)シランを混練する方法によって行うこともでき
る。例えば、 (イ)前記一般単位式(1)で表されるオルガノポリシ
ロキサン 100重量部、(A)比表面積5
0m”/g以上のシリカ微粉末10〜100重量部 及び (B)前記式(II)で表されるトリオルガノ(1−ア
ルコキシビニロキシ)シラン 0.1〜200重量部 を混練する工程を有する製造方法によって行うことがで
きる。
以下、この製造方法を説明するが、シリカ微粉末の好ま
しい使用量、トリオルガノ(l−アルコキシビニロキシ
)シランの使用量、並びに各成分を直接配合して混練す
ることを除いては前記の方法と同様であるので、以下、
この製造方法において特に注意すべき点について説明す
る。
しい使用量、トリオルガノ(l−アルコキシビニロキシ
)シランの使用量、並びに各成分を直接配合して混練す
ることを除いては前記の方法と同様であるので、以下、
この製造方法において特に注意すべき点について説明す
る。
この製造方法において、例えば、(A)のシリカ微粉末
の使用量はオルガノポリシロキサン100重量部に対し
て10〜100重量部、好ましくは20〜50重量部で
ある。また(B)のトリオルガノ(l−アルコキシビニ
ロキシ)シランの使用量は、例えば、オルガノポリシロ
キサ7100重量部に対して0.1〜200重量部、好
ましくは2〜50重量部である。
の使用量はオルガノポリシロキサン100重量部に対し
て10〜100重量部、好ましくは20〜50重量部で
ある。また(B)のトリオルガノ(l−アルコキシビニ
ロキシ)シランの使用量は、例えば、オルガノポリシロ
キサ7100重量部に対して0.1〜200重量部、好
ましくは2〜50重量部である。
(B)のトリオルガノ(l−アルコキシビニロキシ)シ
ランの使用量が少なすぎると、トリオルガノ(l−アル
コキシビニロキシ)シランによるシリカ微粉末の表面の
シリル化が十分に行われず、また多すぎると反応終了後
の未反応の(B)のシランの回収などの後処理に多大の
時間とエネルギーを要するため経済的に不利である。
ランの使用量が少なすぎると、トリオルガノ(l−アル
コキシビニロキシ)シランによるシリカ微粉末の表面の
シリル化が十分に行われず、また多すぎると反応終了後
の未反応の(B)のシランの回収などの後処理に多大の
時間とエネルギーを要するため経済的に不利である。
このオルガノポリシロキサン組成物の製造方法において
、上記(() 、(A)及び(B)成分を密閉雰囲気下
、室温で混合することにより、(A)のシリカ微t−a
末の表面のシラノール基と(B)のトリオルガノ(1−
アルコキシビニロキシ)シランとが反応し、シラノール
基のシリル化が進行していくが、さらに例えば、100
″C前後に加熱すると反応が促進される。その後、例え
ば、160 ’C程度に反応混合物を加熱し、反応によ
り生成した酢酸エステル、低分子量のシラノールやシロ
キサン、未反応のトリオルガノ(1−アルコキシビニロ
キシ)シラン等を加熱処理又は加熱減圧処理して除去す
ればよい。
、上記(() 、(A)及び(B)成分を密閉雰囲気下
、室温で混合することにより、(A)のシリカ微t−a
末の表面のシラノール基と(B)のトリオルガノ(1−
アルコキシビニロキシ)シランとが反応し、シラノール
基のシリル化が進行していくが、さらに例えば、100
″C前後に加熱すると反応が促進される。その後、例え
ば、160 ’C程度に反応混合物を加熱し、反応によ
り生成した酢酸エステル、低分子量のシラノールやシロ
キサン、未反応のトリオルガノ(1−アルコキシビニロ
キシ)シラン等を加熱処理又は加熱減圧処理して除去す
ればよい。
以上のようにして得られる本発明のオルガノポリシロキ
サン組成物を硬化させるためには、用途、硬化方法、用
いられる(イ)のオルガノポリシロキサン、(A)のシ
リカ微粉末、(B)のトリオルガノ(l−アルコキシビ
ニロキシ)シランの種類等にしたがって、適当な架橋剤
、触媒等を添加すればよい。例えば、熱加硫ゴムでは、
有機過酸化物を添加して加熱、加圧により架橋・硬化さ
せればよく、また付加反応硬化型の液状ゴムでは、(八
〉のオルガノポリシロキサンとしてビニル基を含有する
オルガノポリシロキサンを用い、架橋剤として多官能性
のハイドロジエンポリシロキサン、触媒として触媒量の
白金触媒を添加して室温又は加熱下に硬化させることが
できる。縮合型の液状ゴムでは、(A)のオルガノポリ
シロキサンとして、例えば、末端にシラノール基を有す
るシロキサンを使用し、架橋剤としてアセトキシシラン
、アルコキシシラン又はその部分加水分解物等のシラノ
ール基と架橋し得る多官能性のケイ素化合物を使用して
硬化させることができる。
サン組成物を硬化させるためには、用途、硬化方法、用
いられる(イ)のオルガノポリシロキサン、(A)のシ
リカ微粉末、(B)のトリオルガノ(l−アルコキシビ
ニロキシ)シランの種類等にしたがって、適当な架橋剤
、触媒等を添加すればよい。例えば、熱加硫ゴムでは、
有機過酸化物を添加して加熱、加圧により架橋・硬化さ
せればよく、また付加反応硬化型の液状ゴムでは、(八
〉のオルガノポリシロキサンとしてビニル基を含有する
オルガノポリシロキサンを用い、架橋剤として多官能性
のハイドロジエンポリシロキサン、触媒として触媒量の
白金触媒を添加して室温又は加熱下に硬化させることが
できる。縮合型の液状ゴムでは、(A)のオルガノポリ
シロキサンとして、例えば、末端にシラノール基を有す
るシロキサンを使用し、架橋剤としてアセトキシシラン
、アルコキシシラン又はその部分加水分解物等のシラノ
ール基と架橋し得る多官能性のケイ素化合物を使用して
硬化させることができる。
本発明により提供されるオルガノポリシロキサン組成物
は、オルガノポリシロキサン組成物の用途、要求性能、
性状等にしたがって適宜添加される添加剤を含んでいて
もよい。この添加剤としては、例えば、顔料、耐熱性向
上剤、接着助剤、離型剤、耐油性向上剤等が挙げられる
。
は、オルガノポリシロキサン組成物の用途、要求性能、
性状等にしたがって適宜添加される添加剤を含んでいて
もよい。この添加剤としては、例えば、顔料、耐熱性向
上剤、接着助剤、離型剤、耐油性向上剤等が挙げられる
。
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明の詳細な説明す
る。
る。
実施例1
シリカ微粉末(比表面積310 m”7g、日本アエロ
ジル社製、アエロジル300) 20gをフラスコに仕
込み、室温下、攪拌しながらトリメチル(l−エトキシ
ビニロキシ)シラン5.Ogをゆっくり滴下して反応さ
せたところ、ただちに発熱と酢酸エチル臭の発生が認め
られた。密閉雰囲気下、1時間攪拌した。次に、室温下
、16時間静置して熟成させた後、反応混合物をホーロ
ー皿に移し、ドラフト内で約2時間風乾させた後、熱風
循環炉にて150 ’Cで約16時間熱処理し、副生し
た酢酸エチル及び未反応のシランを除去して白色微粉末
状の処理シリカ22.3gを得た。
ジル社製、アエロジル300) 20gをフラスコに仕
込み、室温下、攪拌しながらトリメチル(l−エトキシ
ビニロキシ)シラン5.Ogをゆっくり滴下して反応さ
せたところ、ただちに発熱と酢酸エチル臭の発生が認め
られた。密閉雰囲気下、1時間攪拌した。次に、室温下
、16時間静置して熟成させた後、反応混合物をホーロ
ー皿に移し、ドラフト内で約2時間風乾させた後、熱風
循環炉にて150 ’Cで約16時間熱処理し、副生し
た酢酸エチル及び未反応のシランを除去して白色微粉末
状の処理シリカ22.3gを得た。
得られた処理シリカの比表面積、炭素含有量、塩素含有
量及びアンモニア含有量を測定したところ、それぞれ1
17 m”7g、4.8重量%、25ppm及び1 p
pra以下であった。また、この処理シリカ1.hを容
器に入れ、トルエン40g及びイオン交換水100gを
加え、1時間振とうした後、下層に抽出される水の電気
伝導度(以下、「抽出水電気伝導度」という)を測定し
たところ、1.1 μS/craであった。
量及びアンモニア含有量を測定したところ、それぞれ1
17 m”7g、4.8重量%、25ppm及び1 p
pra以下であった。また、この処理シリカ1.hを容
器に入れ、トルエン40g及びイオン交換水100gを
加え、1時間振とうした後、下層に抽出される水の電気
伝導度(以下、「抽出水電気伝導度」という)を測定し
たところ、1.1 μS/craであった。
さらに、この処理シリカをガラス瓶に水とともに入れ、
振とうして水による濡れ試験に供したところ、処理シリ
カはすべて水面上に浮上し、撥水性を有することがわか
った。また、得られた処理シリカを50メツシユの篩に
掛けたところ、篩上が0.6%あった。
振とうして水による濡れ試験に供したところ、処理シリ
カはすべて水面上に浮上し、撥水性を有することがわか
った。また、得られた処理シリカを50メツシユの篩に
掛けたところ、篩上が0.6%あった。
比、較例1
実施例1で使用したものと同じシリカ微粉末20gをフ
ラスコに仕込み、室温下、攪拌しながらイオン交換水2
gを滴下した後、ヘキサメチルジシラザン460gを徐
々に滴下したところ、穏やかな発熱とアンモニア臭の発
生が認められた。次に、密閉雰囲気下、1時間攪拌した
後、室温下、約16時間静置して熟成させた。得られた
反応混合物を実施例1と同様に処理して白色微粉末状の
処理シリカ22.0gを得た。
ラスコに仕込み、室温下、攪拌しながらイオン交換水2
gを滴下した後、ヘキサメチルジシラザン460gを徐
々に滴下したところ、穏やかな発熱とアンモニア臭の発
生が認められた。次に、密閉雰囲気下、1時間攪拌した
後、室温下、約16時間静置して熟成させた。得られた
反応混合物を実施例1と同様に処理して白色微粉末状の
処理シリカ22.0gを得た。
得られた処理シリカの比表面積、炭素含有量、塩素含有
量、アンモニア含有量及び抽出水電気伝導度を測定した
ところ、それぞれ186 m”7g、4.3重量%、3
0ppm 、35ppm及び2.3 us/cmであっ
た。
量、アンモニア含有量及び抽出水電気伝導度を測定した
ところ、それぞれ186 m”7g、4.3重量%、3
0ppm 、35ppm及び2.3 us/cmであっ
た。
また、この処理シリカを実施例1と同様にして水による
濡れ試験に供したところ、処理シリカはすべて水面上に
浮上し、撥水性を有することがわかった。さらに得られ
た処理シリカの50メツシユの篩上は5%であった。
濡れ試験に供したところ、処理シリカはすべて水面上に
浮上し、撥水性を有することがわかった。さらに得られ
た処理シリカの50メツシユの篩上は5%であった。
実施例2
比表面積200 m”7gのシリカ微粉末(日本アエロ
ジル社製、アエロジル200) 10gをフラスコに仕
込み、室温下に攪拌しながら、式: %式%) で表される化合物50重量%と弐: I C2H5OC−CIl□−Si (Cth) yで表さ
れる化合物50重量% とからなる混合物2.0gを徐々に滴下した。ただちに
発熱と酢酸エチル臭の発生が認められた。次に、密閉雰
囲気下、30分間撹拌した後、100 ’Cに昇温して
約2時間攪拌し、反応混合物として粉体を得た。この粉
体をアルミトレーに移し、120°Cの真空乾燥機に約
2時間攪拌部、副生した酢酸メチル及び未反応シランを
除去し、白色微粉末状の処理シリカ10.7gを得た。
ジル社製、アエロジル200) 10gをフラスコに仕
込み、室温下に攪拌しながら、式: %式%) で表される化合物50重量%と弐: I C2H5OC−CIl□−Si (Cth) yで表さ
れる化合物50重量% とからなる混合物2.0gを徐々に滴下した。ただちに
発熱と酢酸エチル臭の発生が認められた。次に、密閉雰
囲気下、30分間撹拌した後、100 ’Cに昇温して
約2時間攪拌し、反応混合物として粉体を得た。この粉
体をアルミトレーに移し、120°Cの真空乾燥機に約
2時間攪拌部、副生した酢酸メチル及び未反応シランを
除去し、白色微粉末状の処理シリカ10.7gを得た。
得られた処理シリカの比表面積、炭素含有量、塩素含有
量及びアンモニア含有量を測定したところ、それぞれ1
20 m”7g、3.3重量%、25ppm及び1 p
pm以下であった。また、この処理シリカを実施例1と
同様にして水による濡れ試験に供したところ、処理シリ
カはすべて水面上に浮上し、良好な撥水性を有すること
がわかった。
量及びアンモニア含有量を測定したところ、それぞれ1
20 m”7g、3.3重量%、25ppm及び1 p
pm以下であった。また、この処理シリカを実施例1と
同様にして水による濡れ試験に供したところ、処理シリ
カはすべて水面上に浮上し、良好な撥水性を有すること
がわかった。
実施例3
比表面積200 m2/gのシリカ微粉末(日本アエロ
ジル社製、アエロジル200) 10gをフラスコに仕
込み、室温下に撹拌しながら、式: %式% ( で表される含フツ素エトキシビニロキシシラン10.4
gをゆっくりと滴下した。ただちに発熱と酢酸エチル
臭の発生が認められた0次に、密閉雰囲気下、1時間撹
拌した後、室温下に約16時間静置して熟成させたとこ
ろ、粉体の反応混合物を得た。
ジル社製、アエロジル200) 10gをフラスコに仕
込み、室温下に撹拌しながら、式: %式% ( で表される含フツ素エトキシビニロキシシラン10.4
gをゆっくりと滴下した。ただちに発熱と酢酸エチル
臭の発生が認められた0次に、密閉雰囲気下、1時間撹
拌した後、室温下に約16時間静置して熟成させたとこ
ろ、粉体の反応混合物を得た。
この粉体をアルミトレーに移し、150℃の真空乾燥機
に約16時量大れて、副生した酢酸メチル及び未反応シ
ランを除去し、白色微粉末状の処理シリカ14.9gを
得た。
に約16時量大れて、副生した酢酸メチル及び未反応シ
ランを除去し、白色微粉末状の処理シリカ14.9gを
得た。
得られた処理シリカの比表面積、炭素含有量、フッ素含
有量、塩素含有量及びアンモニア含有量を測定したとこ
ろ、それぞれ110 m”7g、 9.7重量%、15
.0重量%、20ppm及び1 ppm以下であった。
有量、塩素含有量及びアンモニア含有量を測定したとこ
ろ、それぞれ110 m”7g、 9.7重量%、15
.0重量%、20ppm及び1 ppm以下であった。
また、この処理シリカを実施例1と同様にして水による
濡れ試験に供したところ、処理シリカはすべて水面上に
浮上し、良好な撥水性を有することがわかった。
濡れ試験に供したところ、処理シリカはすべて水面上に
浮上し、良好な撥水性を有することがわかった。
実施例4
分子鎖両末端がビニル基で封鎖された粘度5000cS
tのジメチルポリシロキサン100重量部、実施例1で
得られた処理シリカ10重量部、式:%式%) (3 で表されるビニルシロキサンと、塩化白金酸とから調製
された実質的に塩素分を含まない白金触媒(pt濃度:
1.0重量%、トルエン溶液)0.1重量部及び式:
(CHz=CH(CH:+)SiO) 4で表される
シクロテトラシロキサン0.2重量部を均一に混合し、
3本ロールで混練して各成分が均一に分散された混練物
を調製した。得られた混練物110.3重量部に、平均
式: で表されるメチルハイドロジエンポリシロキサン2.3
重量部を添加して均一に混合し、脱泡させて組成物を得
た。
tのジメチルポリシロキサン100重量部、実施例1で
得られた処理シリカ10重量部、式:%式%) (3 で表されるビニルシロキサンと、塩化白金酸とから調製
された実質的に塩素分を含まない白金触媒(pt濃度:
1.0重量%、トルエン溶液)0.1重量部及び式:
(CHz=CH(CH:+)SiO) 4で表される
シクロテトラシロキサン0.2重量部を均一に混合し、
3本ロールで混練して各成分が均一に分散された混練物
を調製した。得られた混練物110.3重量部に、平均
式: で表されるメチルハイドロジエンポリシロキサン2.3
重量部を添加して均一に混合し、脱泡させて組成物を得
た。
得られた組成物の硬化物について下記の方法にしたがっ
て、離型性試験を行い、また硬化物の硬さ、伸び、引張
強さ及び比重を測定した。
て、離型性試験を行い、また硬化物の硬さ、伸び、引張
強さ及び比重を測定した。
凰を仕拭駄
真空脱泡した組成物を、7 X 7 Xl、5 cmの
アクリル樹脂製の箱形の型に入れた5 X 5 Xo、
5 cmの鏡面状金属ブロックの鏡面に塗布した。室温
下に24時間放置して硬化させた後、型から取り出して
さらに2日間熟成、硬化させ、組成物の硬化物からなる
雌型を得た。得られた雌型に、ビスフェノール型の液状
エポキシ樹脂に架橋剤としてトリエチレンテトラミンを
主成分とする硬化剤を混合してなる樹脂組成物を流し込
み、80°Cで30分間硬化させ、得られた成形品を脱
型した。この樹脂組成物の流し込みから、成形品の脱型
までの操作を繰り返し、次の基準で離型性及び離型耐久
性を評価した。
アクリル樹脂製の箱形の型に入れた5 X 5 Xo、
5 cmの鏡面状金属ブロックの鏡面に塗布した。室温
下に24時間放置して硬化させた後、型から取り出して
さらに2日間熟成、硬化させ、組成物の硬化物からなる
雌型を得た。得られた雌型に、ビスフェノール型の液状
エポキシ樹脂に架橋剤としてトリエチレンテトラミンを
主成分とする硬化剤を混合してなる樹脂組成物を流し込
み、80°Cで30分間硬化させ、得られた成形品を脱
型した。この樹脂組成物の流し込みから、成形品の脱型
までの操作を繰り返し、次の基準で離型性及び離型耐久
性を評価した。
■離型性
離型性を下記の基準で評価した。
A−・・・・・−した 0 ると にほとんL
且症り星図 B−・−AとCの 日 ■離型耐久性 脱型回数に対する成形品の光反射率の変化を測定した。
且症り星図 B−・−AとCの 日 ■離型耐久性 脱型回数に対する成形品の光反射率の変化を測定した。
脱型回数20回までの成形品の表面の光反射率の変化を
図1に示す。
図1に示す。
の び さ び 重12X15
X0.2 cmの金型に組成物を入れ、上面をステンレ
ススチール製の仮で平滑にならし、室温下に24時間放
置して硬化させた後、金型から取り出してさらに2日間
熟成・硬化させ硬化シートを得た。この硬化シートから
JIS K6301に準拠して、ダンベル型試験片を打
抜き、その硬さ、伸び及び引張強さを測定した。また硬
化シートの比重を測定した。
X0.2 cmの金型に組成物を入れ、上面をステンレ
ススチール製の仮で平滑にならし、室温下に24時間放
置して硬化させた後、金型から取り出してさらに2日間
熟成・硬化させ硬化シートを得た。この硬化シートから
JIS K6301に準拠して、ダンベル型試験片を打
抜き、その硬さ、伸び及び引張強さを測定した。また硬
化シートの比重を測定した。
結果を表1に示す。
比較例2
実施例4において、用いる処理シリカを比較例1で得ら
れた処理シリカに変更した以外は、同一の配合処方でm
酸物を調製し、離型性及び離型耐久性を評価し、また硬
化物の硬さ、伸び及び引張強さ、並びに比重を測定した
。結果を表1及び図1に示す。
れた処理シリカに変更した以外は、同一の配合処方でm
酸物を調製し、離型性及び離型耐久性を評価し、また硬
化物の硬さ、伸び及び引張強さ、並びに比重を測定した
。結果を表1及び図1に示す。
表1
実施例5
分子鎖両末端が水酸基で封鎖された粘度20200cS
tのジメチルポリシロキサン100重量部、実施例1
で得られた処理シリカ15重量部、ビニルトリイソプロ
ペノキシシラン7.0重量部及び式:%式%) で表されるグアニジル基含有有機ケイ素化合物0.5重
量部を湿気を遮断した状態で混合し、組成物を作製した
。
tのジメチルポリシロキサン100重量部、実施例1
で得られた処理シリカ15重量部、ビニルトリイソプロ
ペノキシシラン7.0重量部及び式:%式%) で表されるグアニジル基含有有機ケイ素化合物0.5重
量部を湿気を遮断した状態で混合し、組成物を作製した
。
得られた組成物を厚さ21II11のシートに底形し、
20°Cで相対湿度55%の雰囲気中に7日間放置して
硬化させ、シート状の硬化物を得た。このシート状の硬
化物からJIS K6301に準じてダンベル形試験片
を打抜き、その硬さ、引張強さ及び伸びを測定した。ま
たシート状の硬化物を230°Cで7日間加熱処理して
劣化させた後、同様にJIS K6301に準じてダン
ベル形試験片を打抜き、その加熱劣化後の硬化物の硬さ
、引張強さ及び伸びを測定し、硬化物の耐熱性の指標と
した。
20°Cで相対湿度55%の雰囲気中に7日間放置して
硬化させ、シート状の硬化物を得た。このシート状の硬
化物からJIS K6301に準じてダンベル形試験片
を打抜き、その硬さ、引張強さ及び伸びを測定した。ま
たシート状の硬化物を230°Cで7日間加熱処理して
劣化させた後、同様にJIS K6301に準じてダン
ベル形試験片を打抜き、その加熱劣化後の硬化物の硬さ
、引張強さ及び伸びを測定し、硬化物の耐熱性の指標と
した。
また、得られた組成物を厚さ1ffIIfiのシートに
底形し、20°Cで相対湿度55%の雰囲気中に7日間
放置して硬化させ、シート状の硬化物を得た。このシー
ト状の硬化物について、JIS C2123に準じて体
積抵抗率、絶縁破壊強さ、誘電率及び誘電正接を測定し
た。結果を表2に示す。
底形し、20°Cで相対湿度55%の雰囲気中に7日間
放置して硬化させ、シート状の硬化物を得た。このシー
ト状の硬化物について、JIS C2123に準じて体
積抵抗率、絶縁破壊強さ、誘電率及び誘電正接を測定し
た。結果を表2に示す。
比較例3
処理シリカとして比較例1で得られた処理シリカを用い
た以外は、実施例5と同様にして組成物を調製し、同様
に硬化物の硬さ、伸び及び引張強さ、加熱劣化後の硬化
物の硬さ、伸び及び引張強さ、並びに硬化物の体積抵抗
率、絶縁破壊強さ、誘電率及び誘電正接を測定した。結
果を表2に示す。
た以外は、実施例5と同様にして組成物を調製し、同様
に硬化物の硬さ、伸び及び引張強さ、加熱劣化後の硬化
物の硬さ、伸び及び引張強さ、並びに硬化物の体積抵抗
率、絶縁破壊強さ、誘電率及び誘電正接を測定した。結
果を表2に示す。
比較例4
処理シリカとして、ジメチルクロロシランで処理された
処理シリカ(日本アエロジル社製、アエロジルR−97
2)を用いた以外は、実施例4と同様にして組成物を調
製し、同様に硬化物の硬さ、伸び及び引張強さ、加熱劣
化後の硬化物の硬さ、伸び及び引張強さ、並びに硬化物
の体積抵抗率、絶縁破壊強さ、誘電率及び誘電正接を測
定した。結果を表2に示す。
処理シリカ(日本アエロジル社製、アエロジルR−97
2)を用いた以外は、実施例4と同様にして組成物を調
製し、同様に硬化物の硬さ、伸び及び引張強さ、加熱劣
化後の硬化物の硬さ、伸び及び引張強さ、並びに硬化物
の体積抵抗率、絶縁破壊強さ、誘電率及び誘電正接を測
定した。結果を表2に示す。
表
実施例6
ニーダ−に、
分子鎖両末端がビニル基で封鎖さ
れた粘度10000cstのジメチルポリシロキサン0
重量部及び式:
%式%)
で表されるトリメチル(1−エトキシビニロキシ)シラ
ン7.5重量部を仕込んで、均一に混合した後、シリカ
微粉末(日本アエロジル社製、アエロジル200) 3
0重量部を徐々に添加した。シリカ微粉末を添加するに
つれて、発熱と酢酸エチル臭の発生が認められた。シリ
カ微粉末の全量を添加した後、密閉雰囲気下、室温でさ
らに1時間撹拌、混合した。次に、80°Cで1時間熟
成混合させた後、ニダーの蓋を開けて160°Cに昇温
し3時間攪拌混合して副生じた酢酸エチル及び未反応シ
ランを揮散させ、組成物を得た。
ン7.5重量部を仕込んで、均一に混合した後、シリカ
微粉末(日本アエロジル社製、アエロジル200) 3
0重量部を徐々に添加した。シリカ微粉末を添加するに
つれて、発熱と酢酸エチル臭の発生が認められた。シリ
カ微粉末の全量を添加した後、密閉雰囲気下、室温でさ
らに1時間撹拌、混合した。次に、80°Cで1時間熟
成混合させた後、ニダーの蓋を開けて160°Cに昇温
し3時間攪拌混合して副生じた酢酸エチル及び未反応シ
ランを揮散させ、組成物を得た。
得られた組成物120重量部に、前記■のジメチルポリ
シロキサ710重量部、実施例4で使用したものと同し
白金触媒0.2重量部、及びエチニルシクロヘキサノー
ルの50%トルエン溶液0.15重量部を加え、3本ロ
ールで均一に混練してゴム組成物を調整した。
シロキサ710重量部、実施例4で使用したものと同し
白金触媒0.2重量部、及びエチニルシクロヘキサノー
ルの50%トルエン溶液0.15重量部を加え、3本ロ
ールで均一に混練してゴム組成物を調整した。
得られたゴム組成物の粘度を測定したところ、7400
ポアズであり、また粘度の促進劣化試験として105°
Cで6時間エージングした後の粘度は8900ポアズで
あり、高粘度のものでありながら良好な粘度安定性を示
した。また、このゴム組成物130重量部に、実施例4
で使用したものと同じメチルハイドロジエンポリシロキ
サン1.7重量部を加えて均一に混合し、脱泡後、金型
に注入し、150 ’Cで10分間プレス加硫して成形
し、12X15X0.2 cmのシートを2枚作製した
。得られたシートのうちの1枚を200″Cで4時間ア
フターキュアし、もう1枚のシートにはアフターキュア
を施さずに、それぞれのシートをJIS K6301に
準拠して硬化後の強度を測定した。結果を表3に示す。
ポアズであり、また粘度の促進劣化試験として105°
Cで6時間エージングした後の粘度は8900ポアズで
あり、高粘度のものでありながら良好な粘度安定性を示
した。また、このゴム組成物130重量部に、実施例4
で使用したものと同じメチルハイドロジエンポリシロキ
サン1.7重量部を加えて均一に混合し、脱泡後、金型
に注入し、150 ’Cで10分間プレス加硫して成形
し、12X15X0.2 cmのシートを2枚作製した
。得られたシートのうちの1枚を200″Cで4時間ア
フターキュアし、もう1枚のシートにはアフターキュア
を施さずに、それぞれのシートをJIS K6301に
準拠して硬化後の強度を測定した。結果を表3に示す。
表3
〔発明の効果〕
本発明のオルガノシリコーン処理シリカは、製造工程に
おける副生物としてHCf、Nl+、等の酸又は塩基性
物質もしくはそれらの塩、イソ酪酸エステルなどの刺激
臭、不快臭又は腐蝕性を有する物質を含有しない極めて
高純度のものである。そのため、シリカ粒子同士の縮合
又は凝集による粗粒の生成が極めて少なく均一な粒径の
ものが得られる。また、製造時に刺激臭、不快臭又は腐
蝕性を有する物質が副生しないため、作業環境衛生上ま
た製造用の機器の材質の選択上、好都合である。
おける副生物としてHCf、Nl+、等の酸又は塩基性
物質もしくはそれらの塩、イソ酪酸エステルなどの刺激
臭、不快臭又は腐蝕性を有する物質を含有しない極めて
高純度のものである。そのため、シリカ粒子同士の縮合
又は凝集による粗粒の生成が極めて少なく均一な粒径の
ものが得られる。また、製造時に刺激臭、不快臭又は腐
蝕性を有する物質が副生しないため、作業環境衛生上ま
た製造用の機器の材質の選択上、好都合である。
このオルガノシリコーン処理シリカを含む本発明のオル
ガノポリシロキサン組成物は、該副生物が含有しないた
め、保存時にストラクチュアリング、クリープハードニ
ング等の擬似架橋を起こさず、粘度、稠度、可塑度等が
変化せず、実用上の利点が大きく、また耐熱性、離型耐
久性、透明耐久性、及び電気絶縁性等の電気的特性にお
いても優れたものである。
ガノポリシロキサン組成物は、該副生物が含有しないた
め、保存時にストラクチュアリング、クリープハードニ
ング等の擬似架橋を起こさず、粘度、稠度、可塑度等が
変化せず、実用上の利点が大きく、また耐熱性、離型耐
久性、透明耐久性、及び電気絶縁性等の電気的特性にお
いても優れたものである。
図iは実施例4及び比較例2で得られた組成物の硬化物
の離型性試験において測定した、脱型回数に対する成形
品表面の光反射率の変化を示すグラフである。
の離型性試験において測定した、脱型回数に対する成形
品表面の光反射率の変化を示すグラフである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)(A)比表面積50m^2/g以上のシリカ微粉
末を、(B)式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R^1は炭素原子数1〜8の1価の炭化水素基
又はエーテル結合含有有機基、3 個のR^2は同一でも異なってもよく、炭素原子数1〜
18の置換又は非置換の1価の炭化水素基もしくはエー
テル結合含有有機基 である〕 で表されるトリオルガノ(1−アルコキシビニロキシ)
シラン で処理してなるオルガノシリコーン処理シリカ。 (2)請求項1のオルガノシリコーン処理シリカを含む
組成物であって、 (イ)一般単位式(II): (R^3)_a(OH)_bSiO_4_−_a_−_
b(II)〔式中、R^3は炭素原子数1〜10の置換又
は非置換の1価の炭化水素基を示し、aは 1.90〜3.0の数であり、bは0〜1.0の数であ
り、a+bは1.90〜3.0である〕で表されるオル
ガノポリシロキサン 及び (ロ)(A)比表面積50m^2/g以上のシリカ微粉
末を、 (B)式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R^1は炭素原子数1〜8の1価の炭化水素基
又はエーテル結合含有有機基、3 個のR^2は同一でも異なってもよく、炭素原子数1〜
18の置換又は非置換の1価の炭化水素基もしくはエー
テル結合含有有機基 である〕 で表されるトリオルガノ(1−アルコキシビニロキシ)
シラン で処理してなるオルガノシリコーン処理シリカを含有し
てなるオルガノポリシロキサン組成物。 (3)請求項2のオルガノポリシロキサン組成物の製造
方法であって、前記(ロ)のオルガノシリコーン処理シ
リカ1〜100重量部を、前記(イ)のオルガノポリシ
ロキサン100重量部と混合する工程を有する方法。 (4)請求項2のオルガノポリシロキサン組成物の製造
方法であって、前記(イ)のオルガノポリシロキサン1
00重量部、前記(A)のシリカ微粉末10〜100重
量部及び前記(B)のトリオルガノ(1−アルコキシビ
ニロキシ)シラン0.1〜200重量部を混練する工程
を有する方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1286388A JPH0633343B2 (ja) | 1989-11-02 | 1989-11-02 | オルガノシリコーン処理シリカ及びそれを含む組成物、並びにその組成物の製造方法 |
US07/606,870 US5200440A (en) | 1989-11-02 | 1990-10-31 | Organosilicone-treated silica and a composition containing it |
DE4034976A DE4034976B4 (de) | 1989-11-02 | 1990-11-02 | Mit einer Organosiliciumverbindung behandeltes Siliciumdioxid und dessen Verwendung |
FR9013616A FR2659658B1 (fr) | 1989-11-02 | 1990-11-02 | Silice traitee par un organosilicone et composition la contenant. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1286388A JPH0633343B2 (ja) | 1989-11-02 | 1989-11-02 | オルガノシリコーン処理シリカ及びそれを含む組成物、並びにその組成物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03146558A true JPH03146558A (ja) | 1991-06-21 |
JPH0633343B2 JPH0633343B2 (ja) | 1994-05-02 |
Family
ID=17703754
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1286388A Expired - Lifetime JPH0633343B2 (ja) | 1989-11-02 | 1989-11-02 | オルガノシリコーン処理シリカ及びそれを含む組成物、並びにその組成物の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5200440A (ja) |
JP (1) | JPH0633343B2 (ja) |
DE (1) | DE4034976B4 (ja) |
FR (1) | FR2659658B1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001139814A (ja) * | 1999-11-11 | 2001-05-22 | Dow Corning Toray Silicone Co Ltd | シリコーンゴム組成物およびその製造方法 |
JP2008106186A (ja) * | 2006-10-27 | 2008-05-08 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 金属酸化物粒子−シリコーン樹脂複合体とそれを備えた光学部材及び発光装置並びに金属酸化物粒子−シリコーン樹脂複合体の製造方法 |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4015703A1 (de) * | 1990-05-16 | 1991-11-21 | Basf Lacke & Farben | Verfahren zum beschichten elektrisch leitfaehiger substrate und kathodisch abscheidbarer waessriger elektrotauchlack |
JP2741436B2 (ja) * | 1991-06-24 | 1998-04-15 | 信越化学工業株式会社 | 表面処理アルミナ及びそれを含有する熱伝導性シリコーン組成物 |
JP2788212B2 (ja) * | 1994-11-11 | 1998-08-20 | 横浜ゴム株式会社 | 表面処理カーボンブラック及びそれを用いたゴム組成物 |
US5623028A (en) * | 1995-12-01 | 1997-04-22 | General Electric Company | Heat cured rubbers |
US6255738B1 (en) | 1996-09-30 | 2001-07-03 | Tessera, Inc. | Encapsulant for microelectronic devices |
US5908660A (en) * | 1997-09-03 | 1999-06-01 | Dow Corning Corporation | Method of preparing hydrophobic precipitated silica |
EP0924239B1 (en) * | 1997-12-22 | 2004-11-24 | General Electric Company | Durable hydrophilic coating for textiles |
US5998515A (en) * | 1997-12-29 | 1999-12-07 | General Electric Company | Liquid injection molding silicone elastomers having primerless adhesion |
US5977220A (en) * | 1997-12-29 | 1999-11-02 | General Electric Company | Process for imparting low compression set to liquid injection moldable silicone elastomers |
US5998516A (en) * | 1997-12-29 | 1999-12-07 | General Electric Company | Liquid injection molding silcone elastomers having low compression set |
CN100386372C (zh) * | 2002-03-01 | 2008-05-07 | 罗狄亚化学公司 | 预处理二氧化硅作为稳定剂的用途 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3635743A (en) * | 1969-01-06 | 1972-01-18 | Gen Electric | Reinforcing silica filler |
JPS5566951A (en) * | 1978-11-13 | 1980-05-20 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Primer composition |
JPS57179210A (en) * | 1981-04-28 | 1982-11-04 | Sunstar Giken Kk | Room temperature curing elastic composition |
GB8320086D0 (en) * | 1983-07-26 | 1983-08-24 | Ciba Geigy Ag | Spherical fused silica |
JPS6198763A (ja) * | 1984-10-22 | 1986-05-17 | Toshiba Silicone Co Ltd | シリコ−ンゴム組成物 |
US4983679A (en) * | 1986-05-29 | 1991-01-08 | E. I. Dupont De Nemours And Company | β-(keto or sulfonyl)esters from reaction of silylketene acetal and acyl or sulfonyl compound |
JPS636062A (ja) * | 1986-06-25 | 1988-01-12 | Toray Silicone Co Ltd | シリカ微粉末の表面改質方法 |
JP2614478B2 (ja) * | 1988-02-01 | 1997-05-28 | 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 | フィルム状シリコーンゴム接着剤 |
DE3805534A1 (de) * | 1988-02-23 | 1989-08-31 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung von perfluoralkylverbindungen sowie das pentafluoraethyl-trimethylsilan |
US4985477A (en) * | 1988-05-13 | 1991-01-15 | Dow Corning Corporation | Method of producing treated silica filler for silicone rubber |
JPH0259417A (ja) * | 1988-08-23 | 1990-02-28 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 疎水性シリカの製造方法 |
US5008305A (en) * | 1989-02-06 | 1991-04-16 | Dow Corning Corporation | Treated silica for reinforcing silicone elastomer |
-
1989
- 1989-11-02 JP JP1286388A patent/JPH0633343B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-10-31 US US07/606,870 patent/US5200440A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-11-02 FR FR9013616A patent/FR2659658B1/fr not_active Expired - Fee Related
- 1990-11-02 DE DE4034976A patent/DE4034976B4/de not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001139814A (ja) * | 1999-11-11 | 2001-05-22 | Dow Corning Toray Silicone Co Ltd | シリコーンゴム組成物およびその製造方法 |
JP4528392B2 (ja) * | 1999-11-11 | 2010-08-18 | 東レ・ダウコーニング株式会社 | シリコーンゴム組成物およびその製造方法 |
JP2008106186A (ja) * | 2006-10-27 | 2008-05-08 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 金属酸化物粒子−シリコーン樹脂複合体とそれを備えた光学部材及び発光装置並びに金属酸化物粒子−シリコーン樹脂複合体の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5200440A (en) | 1993-04-06 |
FR2659658B1 (fr) | 1993-07-30 |
DE4034976B4 (de) | 2004-12-02 |
JPH0633343B2 (ja) | 1994-05-02 |
DE4034976A1 (de) | 1991-05-23 |
FR2659658A1 (fr) | 1991-09-20 |
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