JPH03146558A - オルガノシリコーン処理シリカ及びそれを含む組成物、並びにその組成物の製造方法 - Google Patents

オルガノシリコーン処理シリカ及びそれを含む組成物、並びにその組成物の製造方法

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JPH03146558A
JPH03146558A JP1286388A JP28638889A JPH03146558A JP H03146558 A JPH03146558 A JP H03146558A JP 1286388 A JP1286388 A JP 1286388A JP 28638889 A JP28638889 A JP 28638889A JP H03146558 A JPH03146558 A JP H03146558A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、オルガノシリコーン処理シリカ及びそれを含
むオルガノポリシロキサン組成物並びにその組成物の製
造方法に関する。
〔従来の技術〕
シリコーンゴム、シリコーングリース、シリコーンオイ
ルコンパウンド等のオルガノポリシロキサン組成物には
、流動性の調節、機械的強度の補強、離型性や接着性の
改善、並びに圧縮永久歪み、耐熱性及び耐薬品性の向上
を目的としてシリカ微粉末が配合されている。このシリ
カ微粉末として、ケイ素化合物を酸水素炎中で加水分解
して製造されるヒユームドシリカ、ケイ酸ソーダ等を水
中で加水分解、中和して製造される湿式法シリカ等があ
る。しかし、これらのシリカ微粉末はいずれもその表面
に多数のシラノール基を有するため、これをそのままオ
ルガノポリシロキサンM!Lffi物中に混合、混練す
ると、保存中にストラクチュアリング、クリープハード
ニングなどと呼ばれる擬似架橋を起こし、U放物の流動
性や稠度が著しく低下したり、またゴムでは可塑化もど
りが極めて大きくなるなどの問題が生じる。そこで、従
来のシリカ微粉末のこれらの欠点を改良したものとして
、シリカ微粉末を式: R’、5iCI!、、R’□S
ac l 2.R’SiC13(式中、R4は炭素原子
数1〜8の炭化水素基である)等で表されるクロロシラ
ンや式: (R’3Si) zNll(式中、R4は前
記と同じ)等で表されるシラザン化合物で処理して、シ
リカ微粉末の表面にあるシラノール基をシリル化した処
理シリカが知られている。また、この処理シリカを含む
オルガノポリシロキサン組成物を得る方法として、シリ
カ微粉末とシリコーンゴムを混合した後、前記のシラザ
ン化合物、ジアルキルシランジオール、アルコキシシラ
ン等を混合して反応させ、含有されているシリカ微粉末
の表面のシラノール基を混合過程でシリル化処理する方
法などが知られている。
(米国特許第3,532,664号明細書(特公昭47
−30422号)、特公昭58−8703号、特公昭5
6−34227号〉前記の処理シリカを配合したオルガ
ノポリシロキサン組成物、または前記の方法によって含
有するシリカ微粉末の表面がシリル化されたオルガノポ
リシロキサン組成物では、保存中のストラクチュアリン
グが低減する。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかし、上記従来のシリカ微粉末の処理においては、前
記クロロシラン、シラザン化合物等とシリカ微粉末との
反応によってllCl!、、Nl+3、アルコール等が
副生される問題がある。そのため、これらの副生物を除
去するために多大の時間とエネルギーを必要としたり、
また得られる処理シリカ中にこれらの副生物が残存する
場合には、処理シリカをシリコーンオイルや生ゴムに配
合しても、得られる組成物の耐熱性、離型耐久性、透明
耐久性、及び電気絶縁性等の電気的特性を低下させる問
題があった。また、シリカ微粉末の表面のシラノール基
をシリル化するために、式: 〔ここで、R5は一価炭化水素基である)で表されるシ
リルケテンアセタールを用いる方法(特願昭63−20
8888号)も知られているが、この方法においては、
不快臭を有するイソ酪酸エステルが副生し、問題となる
そこで本発明の目的は、副生物としてHCLNl+ff
等の酸又は塩基性物質もしくはそれらの塩、あるいは不
快臭を有する物質を含有しない極めて高純度のオルガノ
シリコーン処理シリカを提供し、及びそれを含むオルガ
ノポリシロキサン組成物、並びにそのMi戒放物製造方
法を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は、上記課題を解決するものとして、(A)比表
面積50mz/g以上のシリカ微粉末を、(B)式(I
): CH2=CO5i(R2)z       (1)OR
’ 〔式中、R1は炭素原子数1〜8の1価の炭化水素基又
はエーテル結合含有有機基、3個のR2は同一でも異な
ってもよく、炭素原子数1〜18の置換又は非置換の1
価の炭化水素基もしくはエーテル結合含有有機基である
〕 で表されるトリオルガノ(1−アルコキシビニロキシ)
シラン で処理してなるオルガノシリコーン処理シリカを提供す
るものである。
本発明で用いられる(A)のシリカ微粉末としては、例
えば、ヒユームドシリカ等の乾式シリカ;湿式シリカな
どが挙げられる。このシリカ微粉末の比表面積は50m
2/g以上、好ましくは100 rs”7g以上であり
、特に、シリコーンゴムに配合して高い引き裂き強度を
得るためには、比表面積が200〜400 m27gで
あることが好ましく、またヒユームドシリカがより好ま
しい。使用するシリカ微粉末の比表面積が50m27g
未満であると、得られる処理シリカをシリコーンゴムに
配合しても機械的強度を十分に向上させることができな
い。このシリカ微粉末の具体例としては、デグッサ社の
アエロジル−130,200,300,380、キャボ
ット社のMS5、MS−7、日本シリカ社のニブシルV
N−3、L P、 E220 、A−330などが挙げ
られる。
また、(A)のシリカ微粉末として、シリル化処理が不
十分な処理シリカを用いても、さらに高処理度のシリカ
を得ることができる。
本発明で用いられる(B)のトリオルガノ(1−アルコ
キシビニロキシ)シランは、前記式(1)で表されるも
のである。式(I)中、R1は炭素原子数1〜8、好ま
しくは1〜3の、1価の炭化水素基又はエーテル結合含
有有機基である。1価の炭化水素基としては、例えば、
メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基;ビニ
ル基、アリル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニ
ル基等の脂肪族又は脂環式の不飽和炭化水素基;フェニ
ル基、トリル基、ベンジル基等の芳香族炭化水素基など
が挙げられる。エーテル結合含有有機基としては、例え
ば、メトキシエチル基、エトキシエチル基、アリロキシ
エチル基等が挙げられる。
また、3個のR2は同一でも異なってもよく、炭素原子
数1〜18、好ましくは1〜3の、非置換又は置換の1
価の炭化水素基、もしくはエーテル結合含有有機基であ
る。非置換の1価の炭化水素基としては、例えば、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基
;ビニル基、アリル基、シクロペンテニル基、シクロへ
キセニル基等の脂肪族又は脂環式の不飽和炭化水素基;
フェニル基、トリル基、ベンジル基等の芳香族炭化水素
基などが挙げられる。置換の1価の炭化水素基としは、
例えば、前記非置換の炭化水素基の炭素原子に結合して
いる水素原子の1部又は全部が、塩素、フッ素等のハロ
ゲン原子、あるいはシアノ基、ニトリル基、アルコキシ
基等で置換された基、並びに式(II): C,F2.、I−(R’)T       (U )〔
ここで、pは工〜1oの整数、qは0又は1であり、R
6は炭素原子数2〜11の非置換又は置換の2価の炭化
水素基である。ただし、pとRhの炭素原子数の合計は
18を超えないものとする。このR&としては、例えば
、メチレン基、エチレン基、エチリデン基、トリメチレ
ン基、フェニルエチレン基、あるいは弐: CHt(トCH2CIIt − で表される基等の基;これらの基の炭素原子に結合して
いる水素原子の1部又は全部が、塩素、フッ素等のハロ
ゲン原子等で置換された基、例えば、式: %式% 等で表される基などが挙げられる] で表される基などが挙げられる。
前記式(n)で表される基の具体例としては、下記式: %式% 等で表される基などが挙げられる。
エーテル結合含有有機基としては、例えば、メトキシエ
チル基、エトキシエチル基、アリロキシエチル基等の基
;あるいは、これらの基の炭素原子に結合している水素
原子の1部又は全部が、塩素、フッ素等のハロゲン原子
などで置換された基、並びに、式(■): R,−R7−(II[) 〔ここでRrは、下記式(IV)又は(V):C,FZ
r−1−eR”)−r−0(■)〔ここで、rは1〜1
0の整数、SはO又はl、R6は前記式(II)と同じ
である〕 F −(Ct Fzt 0hr(R60)y−(V )
〔ここで、tは1〜3の整数、Uは1〜5の整数であり
、VはO〜1の整数であり、R6は前記式(n)と同し
である] で表される基であり、R7は前記式(II)におけるR
6と同じである。ただし、R1とR7の炭素原子数の合
計は1〜18である〕 で表される基などが挙げられる。
前記式(IV)又は(V)で表される基R,の具体例と
しては、例えば、下記式: %式%) (ここで、Cは1〜12の整数、mはO〜2の整数であ
る) F(CFCF20)、、CFCI(20CF3    
 CF。
〔ここで、nは1〜4の整数である F(CFCFJ)、ICFCFZO CFff    CFl 〔ここで、Wは1〜4の整数である CF。
CF 3CF ZCF zOcFcH□0〕 〕 CF、     CF。
F(CFCFzO)4CFCFZO− F (CF zcF zCF zo) 2CF ZCF
 ZCH□OCF 3CF 20 (CF zCF z
o) zCF zOcF zcF zo−等で表される
基などが挙げられる。
前記式(II)で表される基の具体例としては、下記式
: %式% (6 ( 等で表される基などが挙げられる。
この式(I)で表されるトリオルガノ(1−アルコキシ
ビニロキシ)シランの具体例としては、下記式: %式%) ) CH。
0C211゜ CH。
〔ここで、 Cは2〜5の整数である] CI。
CH。
〔ここで、 Cは前記と同じである〕
等で表されるものなどが挙げられる。
以上のトリオルガノ (l−アルコキシビニロキ シ)シランは1種類単独でも2種類以上を組合わせても
用いられる。
このトリオルガノ(1−アルコキシビニロキシ)シラン
は、(A)のシリカ微粉末を処理した後、副生ずる酢酸
エステルや未反応のトリオルガノ(l−アルコキシビニ
ロキシ)シランを容易に除去できる点で、低分子量のも
のが好ましい。この点で、式(I)において、R1がメ
チル基、エチル基又ハフロビル基であり、R2がメチル
基又はビニル基であるものが好ましい。
本発明で用いられる(B)の式(I)で表されるトリオ
ルガノ(l−アルコキシビニロキシ)シランは、例えば
、ジイソプロピルアミン((1−CJt) Jt+ )
と、ブチルリチウム(Li−CrlL )とを反応させ
てLDA試薬((i  C3H?) zN−Li )を
台底した後、70〜−80℃程度の低温下、下記式:%
式% 〔ここで、R1は前記式N)で定義したとおりである〕 で表される酢酸エステル化合物を滴下して反応させて下
記式: %式% で表されるリチウムーエノラート化合物を生成させる。
次に、−70〜−80°C程度の低温下、下記式:%式
%() (ここで、Xはハロゲン原子、R2は前記式(1)で 
定義したとおりである) で表されるトリオルガノハロシランを滴下して反応させ
ることにより得ることができる。得られた反応混合物は
濾別して蒸留することにより単離することができる。(
八insworth et al、、J、Organo
metChem、 46 (1972) p59〜71
)本発明の処理シリカの製造における(13)のトリオ
ルガノ(1−アルコキシビニロキシ)シランの使用量は
、通常、(A)のシリカ微粉末100重量部当たり好ま
しくは0.5〜100重量部、さらに好ましくは10〜
50重量部である。このトリオルガノ(1−アルコキシ
ビニロキシ)シランの使用量が少なすぎるとシリカ微粉
末の表面のシラノール基のシリル化が不十分となり、得
られる処理シリカをゴム組成物に配合した場合、クリー
プハードニングが大きくなったり、また湿気硬化型のl
液RTVに配合した場合には経時的な増粘を防止するた
めに多量の架橋剤を必要とするなどの不都合を生じる。
多すぎると反応終了後に除去すべき未反応物がそれだけ
増加するので好ましくない。
本発明のフルオロシリコーン処理シリカの製造において
は、上記(A)のシリカ微粉末の所定量を反応器に仕込
み、室温下に攪拌しながら、(B)のトリオルガノ(l
−アルコキシビニロキシ)シランを滴下又はスプレー等
により添加するだけでも、通常は発熱し、酢酸エステル
化合物を副生しながら反応が進行する。この状態で数十
分から数日間勢威後、加熱下又は加熱減圧下に酢酸エス
テル化合物等の副生物又は未反応のトリオルガノ(1−
アルコキシビニロキシ)シランを除去すれば、本発明の
オルガノシリコーン処理シリカを得ることができる。こ
の反応は、室温でも進行するが、さらに室温以上で20
0 ’C以下程度の温度に加熱して促進させることがで
き、例えば、反応時間を1時間以内に短縮することもで
きる。また、反応に際して、シリカ微粉末の表面の不安
定なシロキサン結合をシラノール基に変えておき、使用
する(A)のシリカ微粉末を予め、40°C1相対湿度
80%程度の雰囲気中に静置して調湿しておくとシリル
化が十分に行われる点で好ましい。さらに、(B)のト
リオルガノ(l−アルコキシビニロキシ)シランの1種
又は2種以上を適当に選択して使用することにより、得
られる処理シリカの表面にビニル基等の官能基を所定量
導入することもできる。
この処理シリカの製造において、必要に応じて適当な不
活性有機溶媒を使用してもよい。用いられる不活性有機
溶媒としては、例えば、ヘキサン、ベンゼン、トルエン
、キシレン等の炭化水素系溶剤;トリクロロエタン、ト
リクロロトリフルオロエタン等のハロゲン化炭化水素系
溶剤などが挙げられる。これらは1種単独でも2種以上
を組合わせても用いられる。
以上のようにして得られる本発明のオルガノシリコーン
処理シリカは、オルガノポリシロキサンに配合して、例
えば、 (イ)一般単位式(II): (R3)a(OH)bSiOn−−−b       
(n )〔式中、R3は炭素原子数l〜10の置換又は
非置換の1価の炭化水素基を示し、aは1.90〜3.
0の数であり、bは0〜1.0の数であり、a+bは1
.90〜3.0である]で表されるオルガノポリシロキ
サン 及び (υ)前記オルガノシリコーン処理シリカを含有してな
るオルガノポリシロキサン組成物を得ることができる。
(イ)のオルガノポリシロキサンは前記一般単位式(1
)で表されるものであるが、式中、R3は炭素原子数1
−10、好ましくは1〜6の置換又は非置換の1価の炭
化水素基を示し、例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基等のアルキル基;ビニル基、アリル基、シクロペン
テニル基、ヘキセニル基等の脂肪族又は脂環式不飽和炭
化水素基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ベンジ
ル基等の芳香族炭化水素基;これらの炭化水素基に結合
している水素原子の1部又全部を、塩素、フッ素等のハ
ロゲン原子、シアノ基、アルコキシ基、アミノ基等で置
換したもの、例えば、クロロプロピル基、シアノエチル
基、メトキシエチル基、3.3.3− )リフルオロプ
ロピル基等が挙げられる。
aは1.90〜3.0、好ましくは1.96〜2.40
の数であり、bはO〜1.O1好ましくはO〜0.40
の数であり、a+bは1.90〜3.0 、好ましくは
1.96〜2.40である。これらの式(1)で表され
るオルガノポリシロキサンは1種単独でも2種以上を組
み合わせても用いられる。
この(イ)のオルガノポリシロキサンは、重合度が、通
常、10000以下のものであり、低粘度の液状のもの
からガム状のものまでが含まれる。特に、液状のシリコ
ーンゴム組成物を得る場合には、25°Cにおける粘度
が500〜100000 cStのものが好ましい。
この (イ) のオルガノポリシロキサンの具体例と しては、 例えば、 下記式: CI+。
(CH3)3sio→Sigh−Si (CI+3) 
3CH。
(式中、dS e、f、g、h、i、j、o、s。
t、u、x及びyは0又は正の整数) などで表されるものが挙げられる。
これらのオルガノポリシロキサンは、工業的に周知の方
法によって製造することができ、例えば、式: 〔ここで、R1は前記一般単位式(1)で定義したもの
と同じものであり、2 は、例えば、3〜8である〕 で表される、シクロトリシロキサン、シクロテトラシロ
キサン等の環状シロキサンと、トリオルガノジシロキサ
ン又は微量の水とを、酸もしくはアルカリ触媒の存在下
に平衡反応や開環重合反応等を行わせることによって得
ることができる。
(イ)のオルガノポリシロキサンと(ロ)のオルガノシ
リコーン処理シリカの混合・(ri練は、前記の(ロ)
の処理シリカを(イ)のオルガノポリシロキサンに、通
常、例えば、(イ)のオルガノポリシロキサン100重
量部に対して1〜100重量部の割合で配合すればよい
このオルガノポリシロキサン組成物の製造は、例えば、
まず、前記のとおり、(A)のシリカ微粉末ヲ、(B)
のトリオルガノ(l−アルコキシビニロキシ)シランを
用いて処理して(ロ)のオルガノシリコーン処理シリカ
を調製し、得られた(口)のオルガノシリコーン処理シ
リカ1〜100重量部と前記(イ)のオルガノポリシロ
キサン100重量部を混合する方法によって行うことが
できる。混合は、通常の方法、例えば、プラネタリ−ミ
キサ、ニーグー、バンバリーミキサ−等の攪拌機、ある
いは3本ロールミル、2本ロールミル等を用いて行えば
よい。
また、このオルガノポリシロキサン組成物の製造は、(
イ)のオルガノポリシロキサンに直接、(A)  シリ
カ微粉末及び(B)トリオルガノ(1−アルコキシビニ
ロキシ)シランを混練する方法によって行うこともでき
る。例えば、 (イ)前記一般単位式(1)で表されるオルガノポリシ
ロキサン      100重量部、(A)比表面積5
0m”/g以上のシリカ微粉末10〜100重量部 及び (B)前記式(II)で表されるトリオルガノ(1−ア
ルコキシビニロキシ)シラン 0.1〜200重量部 を混練する工程を有する製造方法によって行うことがで
きる。
以下、この製造方法を説明するが、シリカ微粉末の好ま
しい使用量、トリオルガノ(l−アルコキシビニロキシ
)シランの使用量、並びに各成分を直接配合して混練す
ることを除いては前記の方法と同様であるので、以下、
この製造方法において特に注意すべき点について説明す
る。
この製造方法において、例えば、(A)のシリカ微粉末
の使用量はオルガノポリシロキサン100重量部に対し
て10〜100重量部、好ましくは20〜50重量部で
ある。また(B)のトリオルガノ(l−アルコキシビニ
ロキシ)シランの使用量は、例えば、オルガノポリシロ
キサ7100重量部に対して0.1〜200重量部、好
ましくは2〜50重量部である。
(B)のトリオルガノ(l−アルコキシビニロキシ)シ
ランの使用量が少なすぎると、トリオルガノ(l−アル
コキシビニロキシ)シランによるシリカ微粉末の表面の
シリル化が十分に行われず、また多すぎると反応終了後
の未反応の(B)のシランの回収などの後処理に多大の
時間とエネルギーを要するため経済的に不利である。
このオルガノポリシロキサン組成物の製造方法において
、上記(() 、(A)及び(B)成分を密閉雰囲気下
、室温で混合することにより、(A)のシリカ微t−a
末の表面のシラノール基と(B)のトリオルガノ(1−
アルコキシビニロキシ)シランとが反応し、シラノール
基のシリル化が進行していくが、さらに例えば、100
″C前後に加熱すると反応が促進される。その後、例え
ば、160 ’C程度に反応混合物を加熱し、反応によ
り生成した酢酸エステル、低分子量のシラノールやシロ
キサン、未反応のトリオルガノ(1−アルコキシビニロ
キシ)シラン等を加熱処理又は加熱減圧処理して除去す
ればよい。
以上のようにして得られる本発明のオルガノポリシロキ
サン組成物を硬化させるためには、用途、硬化方法、用
いられる(イ)のオルガノポリシロキサン、(A)のシ
リカ微粉末、(B)のトリオルガノ(l−アルコキシビ
ニロキシ)シランの種類等にしたがって、適当な架橋剤
、触媒等を添加すればよい。例えば、熱加硫ゴムでは、
有機過酸化物を添加して加熱、加圧により架橋・硬化さ
せればよく、また付加反応硬化型の液状ゴムでは、(八
〉のオルガノポリシロキサンとしてビニル基を含有する
オルガノポリシロキサンを用い、架橋剤として多官能性
のハイドロジエンポリシロキサン、触媒として触媒量の
白金触媒を添加して室温又は加熱下に硬化させることが
できる。縮合型の液状ゴムでは、(A)のオルガノポリ
シロキサンとして、例えば、末端にシラノール基を有す
るシロキサンを使用し、架橋剤としてアセトキシシラン
、アルコキシシラン又はその部分加水分解物等のシラノ
ール基と架橋し得る多官能性のケイ素化合物を使用して
硬化させることができる。
本発明により提供されるオルガノポリシロキサン組成物
は、オルガノポリシロキサン組成物の用途、要求性能、
性状等にしたがって適宜添加される添加剤を含んでいて
もよい。この添加剤としては、例えば、顔料、耐熱性向
上剤、接着助剤、離型剤、耐油性向上剤等が挙げられる
〔実施例〕
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明の詳細な説明す
る。
実施例1 シリカ微粉末(比表面積310 m”7g、日本アエロ
ジル社製、アエロジル300) 20gをフラスコに仕
込み、室温下、攪拌しながらトリメチル(l−エトキシ
ビニロキシ)シラン5.Ogをゆっくり滴下して反応さ
せたところ、ただちに発熱と酢酸エチル臭の発生が認め
られた。密閉雰囲気下、1時間攪拌した。次に、室温下
、16時間静置して熟成させた後、反応混合物をホーロ
ー皿に移し、ドラフト内で約2時間風乾させた後、熱風
循環炉にて150 ’Cで約16時間熱処理し、副生し
た酢酸エチル及び未反応のシランを除去して白色微粉末
状の処理シリカ22.3gを得た。
得られた処理シリカの比表面積、炭素含有量、塩素含有
量及びアンモニア含有量を測定したところ、それぞれ1
17 m”7g、4.8重量%、25ppm及び1 p
pra以下であった。また、この処理シリカ1.hを容
器に入れ、トルエン40g及びイオン交換水100gを
加え、1時間振とうした後、下層に抽出される水の電気
伝導度(以下、「抽出水電気伝導度」という)を測定し
たところ、1.1 μS/craであった。
さらに、この処理シリカをガラス瓶に水とともに入れ、
振とうして水による濡れ試験に供したところ、処理シリ
カはすべて水面上に浮上し、撥水性を有することがわか
った。また、得られた処理シリカを50メツシユの篩に
掛けたところ、篩上が0.6%あった。
比、較例1 実施例1で使用したものと同じシリカ微粉末20gをフ
ラスコに仕込み、室温下、攪拌しながらイオン交換水2
gを滴下した後、ヘキサメチルジシラザン460gを徐
々に滴下したところ、穏やかな発熱とアンモニア臭の発
生が認められた。次に、密閉雰囲気下、1時間攪拌した
後、室温下、約16時間静置して熟成させた。得られた
反応混合物を実施例1と同様に処理して白色微粉末状の
処理シリカ22.0gを得た。
得られた処理シリカの比表面積、炭素含有量、塩素含有
量、アンモニア含有量及び抽出水電気伝導度を測定した
ところ、それぞれ186 m”7g、4.3重量%、3
0ppm 、35ppm及び2.3 us/cmであっ
た。
また、この処理シリカを実施例1と同様にして水による
濡れ試験に供したところ、処理シリカはすべて水面上に
浮上し、撥水性を有することがわかった。さらに得られ
た処理シリカの50メツシユの篩上は5%であった。
実施例2 比表面積200 m”7gのシリカ微粉末(日本アエロ
ジル社製、アエロジル200) 10gをフラスコに仕
込み、室温下に攪拌しながら、式: %式%) で表される化合物50重量%と弐: I C2H5OC−CIl□−Si (Cth) yで表さ
れる化合物50重量% とからなる混合物2.0gを徐々に滴下した。ただちに
発熱と酢酸エチル臭の発生が認められた。次に、密閉雰
囲気下、30分間撹拌した後、100 ’Cに昇温して
約2時間攪拌し、反応混合物として粉体を得た。この粉
体をアルミトレーに移し、120°Cの真空乾燥機に約
2時間攪拌部、副生した酢酸メチル及び未反応シランを
除去し、白色微粉末状の処理シリカ10.7gを得た。
得られた処理シリカの比表面積、炭素含有量、塩素含有
量及びアンモニア含有量を測定したところ、それぞれ1
20 m”7g、3.3重量%、25ppm及び1 p
pm以下であった。また、この処理シリカを実施例1と
同様にして水による濡れ試験に供したところ、処理シリ
カはすべて水面上に浮上し、良好な撥水性を有すること
がわかった。
実施例3 比表面積200 m2/gのシリカ微粉末(日本アエロ
ジル社製、アエロジル200) 10gをフラスコに仕
込み、室温下に撹拌しながら、式: %式% ( で表される含フツ素エトキシビニロキシシラン10.4
 gをゆっくりと滴下した。ただちに発熱と酢酸エチル
臭の発生が認められた0次に、密閉雰囲気下、1時間撹
拌した後、室温下に約16時間静置して熟成させたとこ
ろ、粉体の反応混合物を得た。
この粉体をアルミトレーに移し、150℃の真空乾燥機
に約16時量大れて、副生した酢酸メチル及び未反応シ
ランを除去し、白色微粉末状の処理シリカ14.9gを
得た。
得られた処理シリカの比表面積、炭素含有量、フッ素含
有量、塩素含有量及びアンモニア含有量を測定したとこ
ろ、それぞれ110 m”7g、 9.7重量%、15
.0重量%、20ppm及び1 ppm以下であった。
また、この処理シリカを実施例1と同様にして水による
濡れ試験に供したところ、処理シリカはすべて水面上に
浮上し、良好な撥水性を有することがわかった。
実施例4 分子鎖両末端がビニル基で封鎖された粘度5000cS
tのジメチルポリシロキサン100重量部、実施例1で
得られた処理シリカ10重量部、式:%式%) (3 で表されるビニルシロキサンと、塩化白金酸とから調製
された実質的に塩素分を含まない白金触媒(pt濃度:
1.0重量%、トルエン溶液)0.1重量部及び式: 
 (CHz=CH(CH:+)SiO) 4で表される
シクロテトラシロキサン0.2重量部を均一に混合し、
3本ロールで混練して各成分が均一に分散された混練物
を調製した。得られた混練物110.3重量部に、平均
式: で表されるメチルハイドロジエンポリシロキサン2.3
重量部を添加して均一に混合し、脱泡させて組成物を得
た。
得られた組成物の硬化物について下記の方法にしたがっ
て、離型性試験を行い、また硬化物の硬さ、伸び、引張
強さ及び比重を測定した。
凰を仕拭駄 真空脱泡した組成物を、7 X 7 Xl、5 cmの
アクリル樹脂製の箱形の型に入れた5 X 5 Xo、
5 cmの鏡面状金属ブロックの鏡面に塗布した。室温
下に24時間放置して硬化させた後、型から取り出して
さらに2日間熟成、硬化させ、組成物の硬化物からなる
雌型を得た。得られた雌型に、ビスフェノール型の液状
エポキシ樹脂に架橋剤としてトリエチレンテトラミンを
主成分とする硬化剤を混合してなる樹脂組成物を流し込
み、80°Cで30分間硬化させ、得られた成形品を脱
型した。この樹脂組成物の流し込みから、成形品の脱型
までの操作を繰り返し、次の基準で離型性及び離型耐久
性を評価した。
■離型性 離型性を下記の基準で評価した。
A−・・・・・−した  0    ると にほとんL
且症り星図 B−・−AとCの 日 ■離型耐久性 脱型回数に対する成形品の光反射率の変化を測定した。
脱型回数20回までの成形品の表面の光反射率の変化を
図1に示す。
の      び      さ  び 重12X15
X0.2 cmの金型に組成物を入れ、上面をステンレ
ススチール製の仮で平滑にならし、室温下に24時間放
置して硬化させた後、金型から取り出してさらに2日間
熟成・硬化させ硬化シートを得た。この硬化シートから
JIS K6301に準拠して、ダンベル型試験片を打
抜き、その硬さ、伸び及び引張強さを測定した。また硬
化シートの比重を測定した。
結果を表1に示す。
比較例2 実施例4において、用いる処理シリカを比較例1で得ら
れた処理シリカに変更した以外は、同一の配合処方でm
酸物を調製し、離型性及び離型耐久性を評価し、また硬
化物の硬さ、伸び及び引張強さ、並びに比重を測定した
。結果を表1及び図1に示す。
表1 実施例5 分子鎖両末端が水酸基で封鎖された粘度20200cS
 tのジメチルポリシロキサン100重量部、実施例1
で得られた処理シリカ15重量部、ビニルトリイソプロ
ペノキシシラン7.0重量部及び式:%式%) で表されるグアニジル基含有有機ケイ素化合物0.5重
量部を湿気を遮断した状態で混合し、組成物を作製した
得られた組成物を厚さ21II11のシートに底形し、
20°Cで相対湿度55%の雰囲気中に7日間放置して
硬化させ、シート状の硬化物を得た。このシート状の硬
化物からJIS K6301に準じてダンベル形試験片
を打抜き、その硬さ、引張強さ及び伸びを測定した。ま
たシート状の硬化物を230°Cで7日間加熱処理して
劣化させた後、同様にJIS K6301に準じてダン
ベル形試験片を打抜き、その加熱劣化後の硬化物の硬さ
、引張強さ及び伸びを測定し、硬化物の耐熱性の指標と
した。
また、得られた組成物を厚さ1ffIIfiのシートに
底形し、20°Cで相対湿度55%の雰囲気中に7日間
放置して硬化させ、シート状の硬化物を得た。このシー
ト状の硬化物について、JIS C2123に準じて体
積抵抗率、絶縁破壊強さ、誘電率及び誘電正接を測定し
た。結果を表2に示す。
比較例3 処理シリカとして比較例1で得られた処理シリカを用い
た以外は、実施例5と同様にして組成物を調製し、同様
に硬化物の硬さ、伸び及び引張強さ、加熱劣化後の硬化
物の硬さ、伸び及び引張強さ、並びに硬化物の体積抵抗
率、絶縁破壊強さ、誘電率及び誘電正接を測定した。結
果を表2に示す。
比較例4 処理シリカとして、ジメチルクロロシランで処理された
処理シリカ(日本アエロジル社製、アエロジルR−97
2)を用いた以外は、実施例4と同様にして組成物を調
製し、同様に硬化物の硬さ、伸び及び引張強さ、加熱劣
化後の硬化物の硬さ、伸び及び引張強さ、並びに硬化物
の体積抵抗率、絶縁破壊強さ、誘電率及び誘電正接を測
定した。結果を表2に示す。
表 実施例6 ニーダ−に、 分子鎖両末端がビニル基で封鎖さ れた粘度10000cstのジメチルポリシロキサン0 重量部及び式: %式%) で表されるトリメチル(1−エトキシビニロキシ)シラ
ン7.5重量部を仕込んで、均一に混合した後、シリカ
微粉末(日本アエロジル社製、アエロジル200) 3
0重量部を徐々に添加した。シリカ微粉末を添加するに
つれて、発熱と酢酸エチル臭の発生が認められた。シリ
カ微粉末の全量を添加した後、密閉雰囲気下、室温でさ
らに1時間撹拌、混合した。次に、80°Cで1時間熟
成混合させた後、ニダーの蓋を開けて160°Cに昇温
し3時間攪拌混合して副生じた酢酸エチル及び未反応シ
ランを揮散させ、組成物を得た。
得られた組成物120重量部に、前記■のジメチルポリ
シロキサ710重量部、実施例4で使用したものと同し
白金触媒0.2重量部、及びエチニルシクロヘキサノー
ルの50%トルエン溶液0.15重量部を加え、3本ロ
ールで均一に混練してゴム組成物を調整した。
得られたゴム組成物の粘度を測定したところ、7400
ポアズであり、また粘度の促進劣化試験として105°
Cで6時間エージングした後の粘度は8900ポアズで
あり、高粘度のものでありながら良好な粘度安定性を示
した。また、このゴム組成物130重量部に、実施例4
で使用したものと同じメチルハイドロジエンポリシロキ
サン1.7重量部を加えて均一に混合し、脱泡後、金型
に注入し、150 ’Cで10分間プレス加硫して成形
し、12X15X0.2 cmのシートを2枚作製した
。得られたシートのうちの1枚を200″Cで4時間ア
フターキュアし、もう1枚のシートにはアフターキュア
を施さずに、それぞれのシートをJIS K6301に
準拠して硬化後の強度を測定した。結果を表3に示す。
表3 〔発明の効果〕 本発明のオルガノシリコーン処理シリカは、製造工程に
おける副生物としてHCf、Nl+、等の酸又は塩基性
物質もしくはそれらの塩、イソ酪酸エステルなどの刺激
臭、不快臭又は腐蝕性を有する物質を含有しない極めて
高純度のものである。そのため、シリカ粒子同士の縮合
又は凝集による粗粒の生成が極めて少なく均一な粒径の
ものが得られる。また、製造時に刺激臭、不快臭又は腐
蝕性を有する物質が副生しないため、作業環境衛生上ま
た製造用の機器の材質の選択上、好都合である。
このオルガノシリコーン処理シリカを含む本発明のオル
ガノポリシロキサン組成物は、該副生物が含有しないた
め、保存時にストラクチュアリング、クリープハードニ
ング等の擬似架橋を起こさず、粘度、稠度、可塑度等が
変化せず、実用上の利点が大きく、また耐熱性、離型耐
久性、透明耐久性、及び電気絶縁性等の電気的特性にお
いても優れたものである。
【図面の簡単な説明】
図iは実施例4及び比較例2で得られた組成物の硬化物
の離型性試験において測定した、脱型回数に対する成形
品表面の光反射率の変化を示すグラフである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)(A)比表面積50m^2/g以上のシリカ微粉
    末を、(B)式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R^1は炭素原子数1〜8の1価の炭化水素基
    又はエーテル結合含有有機基、3 個のR^2は同一でも異なってもよく、炭素原子数1〜
    18の置換又は非置換の1価の炭化水素基もしくはエー
    テル結合含有有機基 である〕 で表されるトリオルガノ(1−アルコキシビニロキシ)
    シラン で処理してなるオルガノシリコーン処理シリカ。 (2)請求項1のオルガノシリコーン処理シリカを含む
    組成物であって、 (イ)一般単位式(II): (R^3)_a(OH)_bSiO_4_−_a_−_
    b(II)〔式中、R^3は炭素原子数1〜10の置換又
    は非置換の1価の炭化水素基を示し、aは 1.90〜3.0の数であり、bは0〜1.0の数であ
    り、a+bは1.90〜3.0である〕で表されるオル
    ガノポリシロキサン 及び (ロ)(A)比表面積50m^2/g以上のシリカ微粉
    末を、 (B)式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R^1は炭素原子数1〜8の1価の炭化水素基
    又はエーテル結合含有有機基、3 個のR^2は同一でも異なってもよく、炭素原子数1〜
    18の置換又は非置換の1価の炭化水素基もしくはエー
    テル結合含有有機基 である〕 で表されるトリオルガノ(1−アルコキシビニロキシ)
    シラン で処理してなるオルガノシリコーン処理シリカを含有し
    てなるオルガノポリシロキサン組成物。 (3)請求項2のオルガノポリシロキサン組成物の製造
    方法であって、前記(ロ)のオルガノシリコーン処理シ
    リカ1〜100重量部を、前記(イ)のオルガノポリシ
    ロキサン100重量部と混合する工程を有する方法。 (4)請求項2のオルガノポリシロキサン組成物の製造
    方法であって、前記(イ)のオルガノポリシロキサン1
    00重量部、前記(A)のシリカ微粉末10〜100重
    量部及び前記(B)のトリオルガノ(1−アルコキシビ
    ニロキシ)シラン0.1〜200重量部を混練する工程
    を有する方法。
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