JP2018144227A - 研磨装置、及び研磨方法 - Google Patents
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Abstract
Description
ーセルに取り付けたリニアモータにより横方向にトップリングが駆動される方式もある。この方式では、リニアモータのトルク電流(モータ電流)検知による終点検知方法(米国特許出願公開第2014/0020830号)が開示されている。
すなわち所定の位置に停止させて(静止させて)、研磨を行うこともできる。揺動アームの静止時に、揺動アームに加わるアームトルクを検知できる。このため、回転している研磨テーブルに加わるテーブルトルクを検知して終点検知する方式と比較すると、回転により発生するノイズが低減する。ノイズが低減するため、テーブルトルクを検知する方式と比較すると、研磨終点検出の精度が向上する。
れ、前記アーム駆動部の搬送経路を画定するトラックと、前記トラックによって画定された前記経路に沿って、前記アーム駆動部を搬送するキャリッジであって、前記トラックに結合され、前記トラックに沿って可動であるキャリッジとを有するという構成を採っている。
れらの相関算出データ等を含むことができる。
と、中間処理装置と、データ処理装置とを有し、前記基板処理装置と前記中間処理装置は第1の通信手段により接続され、前記基板処理装置と前記データ処理装置は第2の通信手段により接続され、前記第1の通信手段は、前記第2の通信手段よりも高速に通信が可能であり、前記中間処理装置は、前記基板処理装置が取得した信号に基づいて、研磨処理に関するデータセットを作成し、前記データ処理装置は、前記基板処理装置の状態を監視し、前記中間処理装置は前記データセットに基づいて前記研磨の終了を示す研磨終点を検出することを特徴とする研磨装置という構成を採っている。
,P3,P4にはそれぞれ流体路651,652,653,654を介して加圧空気等の加圧流体が供給され、あるいは真空引きがされるようになっている。中央の圧力室P1は円形であり、他の圧力室P2,P3,P4は環状である。これらの圧力室P1,P2,P3,P4は、同心上に配列されている。
ヘッド660にはモータM2が設置されており、トップリングヘッド660とモータM2との相対位置は固定である。このモータM2の回転軸は、図示しない回転伝達機構(歯車など)を介して支持軸667に連結されており、モータM2を回転させることによって、トップリングヘッド660が支持軸667を中心として揺動(スイング)するようになっている。したがって、トップリングヘッド660の揺動運動により、その先端に支持されたトップリング31Aは研磨テーブル30Aの上方の研磨位置と研磨テーブル30Aの側方の搬送位置との間を移動する。なお、本実施形態では、トップリング31Aを揺動させる揺動機構はモータM2から構成される。
機構(減速機)を交換する際に、隣接する機器を取り外す必要もない。
び研磨パッド10を透過した後、アンテナ680aにより受信される。
90の軸心が大幅にぶれることがなく、アトマイジング動作を効果的に行うことができる。また、アトマイザ34Aは、アーム690の旋回位置(アーム690が旋回可能な角度範囲)を固定するためのレバー695を備えている。すなわち、レバー695を操作することにより、アーム690の旋回可能な角度を条件に合わせて調整することができる。レバー695を回すと、アーム690が自由に旋回可能となり、手動によりアーム690を洗浄位置と退避位置との間で移動させる。そして、レバー695を締めると、アーム690の位置が洗浄位置と退避位置のいずれかで固定される。
とに区画されている。第1洗浄室190内には、縦方向に沿って配列された上側一次洗浄モジュール201Aおよび下側一次洗浄モジュール201Bが配置されている。上側一次洗浄モジュール201Aは下側一次洗浄モジュール201Bの上方に配置されている。同様に、第2洗浄室192内には、縦方向に沿って配列された上側二次洗浄モジュール202Aおよび下側二次洗浄モジュール202Bが配置されている。上側二次洗浄モジュール202Aは下側二次洗浄モジュール202Bの上方に配置されている。一次および二次洗浄モジュール201A,201B,202A,202Bは、洗浄液を用いてウェハを洗浄する洗浄機である。これらの一次および二次洗浄モジュール201A,201B,202A,202Bは垂直方向に沿って配列されているので、フットプリント面積が小さいという利点が得られる。
よって洗浄される際の移動経路のことである。例えば、図30に示すように、1つのウェハを、第1搬送ロボット209、上側一次洗浄モジュール201A、第1搬送ロボット209、上側二次洗浄モジュール202A、第2搬送ロボット210、そして上側乾燥モジュール205Aの順で搬送し(洗浄ライン1参照)、これと並列して、他のウェハを、第1搬送ロボット209、下側一次洗浄モジュール201B、第1搬送ロボット209、下側二次洗浄モジュール202B、第2搬送ロボット210、そして下側乾燥モジュール205Bの順で搬送することができる(洗浄ライン2参照)。このように2つの並列する洗浄ラインにより、複数(典型的には2枚)のウェハをほぼ同時に洗浄および乾燥することができる。
乾燥気体として、N2ガスまたは乾燥空気などが貯留されており、ガスノズル464を通じて半導体ウェハ16の裏面に乾燥気体が供給されるようになっている。
ムトルク検知部26と、アームトルク検知部26が検知したアームトルクに基づいて、研磨の終了を示す研磨終点を検出する終点検出部28とを有する。
、揺動軸モータ14を駆動できる3相(U相、V相、W相)の電流である。電流値18bは揺動軸モータ14に供給される。
、整流、実効値変換等の処理のうちの少なくとも1つの処理をしたのちに、終点検出部28に、アームトルクとして出力する。
膜構成を参考として図11に示す。
データ92とデータ94を比較すると、回転トルクのデータ92と、アームトルクのデータ94は、同一の傾向を示す。すなわち、回転トルクのデータ92が増加するときは、アームトルクのデータ94は増加する傾向があり、回転トルクのデータ92が減少するときは、アームトルクのデータ94は減少する傾向がある。また、データ92と、データ94の間に時間遅れはない。データ92よりも、データ94の方が変化量が大きい。これらのことから、アームトルクのデータ94を用いて研磨摩擦力の測定を行うことが好ましいことがわかる。
加のトルク(電流)を発生させる必要があった。外力/外乱としては、例えば、研磨テー
ブル30Aの回転軸の軸受の転がり摩擦力や、テーブルの回転軸に連結したロータリージョイントの摺動抵抗力がある。これらの力の変動を補償するためのトルク電流は、テーブルモータの回転トルクのノイズ成分といえる。2)研磨テーブル30Aの回転数を一定にするための回転センサの検出誤差(回転数の補正誤差)が、研磨テーブル30Aの回転速度の10倍以上の周波数で発生する場合があった。このとき、回転センサが出力する信号に
応じて、補償回路で検出誤差を処理した後のトルク指令値に、10倍以上の周波数の成分が含まれていた。これにより、不要な電流が発生していた。仮に、回転速度周波数の10倍の周波数を有する不要な電流成分があると、テーブル回転挙動への影響は10%あり、この成分は研磨プロセスに影響する。残りの90%の不要電流成分は、テーブルモータの回転トルクのノイズ成分といえる。
プリングの回転モータのトルクとを併用した終点判定方法が開示されている。
ことになる。しかし、トップリングの回転の変動と、テーブルの回転の変動による誤差等による摩擦力検知信号の誤差があり、高精度の終点検知が難しい。又、1個の回転テーブルに複数トップリングがある時は、テーブルの回転が複数のトップリング31Aの影響により、複雑に変動するため、トップリング31A毎の正確な摩擦力の変動をとらえることが困難となる。図33〜図36に示す実施形態によれば、トップリングの回転の変動と、テーブルの回転の変動による誤差が低減し、また複数のトップリング31Aの影響も低減するため、これらの課題を解決できる。
能である。図36の別の形態として、トラック自体が回転可能な形態がある。この形態では、トラック自体が回転して、トップリングを別のテーブル部に移動可能である。その時に少量の移動調整がキャリッジによって行われる。
属膜の研磨と絶縁膜の研磨により、残膜を形成することが必要な場合がある。金属膜の研磨と絶縁膜の研磨を行う必要があり、金属膜の研磨と絶縁膜の研磨のいずれであるかに応じて、トルク変動検知と光学式検知を使い分けることが可能となる。
b)は、光学式センサ724の拡大図であり、図38(c)は、渦電流式センサ730の拡
大図である。渦電流式センサ730は、研磨テーブル30A内に配置される。渦電流式センサ730は、半導体ウェハ16に磁場を生成し、生成した磁場の強度を検知する。終点検出部28は、アームトルク検知部26が検知したアームトルクと、光学式センサ724が計測した半導体ウェハ16からの反射光の強度と、渦電流式センサ730が計測した磁場の強度とに基づいて、研磨の終了を示す研磨終点を検出する。
0Aのトルク変動をTCMにより検出する。これにより、トップリング31Aが研磨テーブル30Aの中心部にある時、トップリング31Aが研磨テーブル30Aの一方の端部に移動した時、トップリング31Aが研磨テーブル30Aの他方の端部に移動した時のトルク変動により、トップリング31Aの試料への押圧が異なる要因を見つけることが可能となる。要因が見つかると、試料への押圧を均一化するために、トップリング31Aの表面の押圧の調整を行う等のフィードバックを行うことができる。
i.アームトルク検知+テーブルトルク検知
ii.アームトルク検知+光学式検知
iii.アームトルク検知+渦電流検知
iv.アームトルク検知+マイクロ波センサによる光学式検知
v.アームトルク検知+光学式検知+テーブルトルク検知
vi.アームトルク検知+光学式検知+渦電流検知
vii.アームトルク検知+光学式検知+マイクロ波センサによる光学式検知
viii.アームトルク検知+渦電流検知+テーブルトルク検知
ix.アームトルク検知+渦電流検知+マイクロ波センサによる光学式検知
x.アームトルク検知+テーブルトルク検知+マイクロ波センサによる光学式検知
xi.この他、アームトルク検知と組み合わせるいかなるセンサの組合せをも含む。
CVD又はコーティングにより製造される。図39(a)、39(b)は、絶縁膜を研磨する例である。図39(a)は、研磨前の状態を示し、図39(b)は、研磨後の状態を示す。膜732は、シリコンである。膜732の上に、SiO2(熱酸化膜)やSiN等の絶縁膜である膜734が形成されている。膜734の上に、成膜による酸化膜(SiO2)やガラス材(SOG、BPSG)等の絶縁膜である膜736が形成されている。膜736は、
図39(b)に示す状態まで研磨される。
この時は、光学式検知+トルク検知が好ましい。
ることがあるためである。
終点検出の判定に用いるデータセットの作成と、作成されたデータセットによる判定例の
蓄積による学習と、学習効果による精度向上、学習された判定機能により判断され更新された研磨パラメータ、この研磨パラメータの高速な制御系への反映を実現する高速通信処理系、等が実現できる。これらは、図42以前に示した全ての実施例に対して適用可能である。
装置・機器相互の情報通信に用いて、装置・機器の管理を行うことが可能である。
されたデータ処理装置(クラウド等)にデータを蓄積し、クラウド等に蓄積されたデータを分析し、分析結果に応じて基板処理装置を制御する実施形態について説明する。図44は、この実施形態の構成を示す。
・ 揺動軸モータ14のトルク変動に関する測定信号又は測定データ
・ SOPM(光学式センサ)の測定信号又は測定データ
・ 渦電流センサの測定信号又は測定データ
・ 上記の1つ又は複数の組合せの測定信号又は測定データ
2.インターネット等の通信手段の機能及び構成としては、以下が可能である。
・ 上記の測定信号又は測定データを含む信号又はデータを、ネットワーク766に接続
されたデータ処理装置768に伝送する。
・ ネットワーク766は、インターネット又は高速通信等の通信手段でよい。例えば、
基板処理装置、ゲートウェイ、インターネット、クラウド、インターネット、データ処理装置という順序で接続されたネットワーク766が可能である。高速通信としては、高速光通信、高速無線通信等がある。また、高速無線通信としては、Wi-Fi (登録商標), Bluetooth(登録商標), Wi-Max(登録商標),3G, LTE等が考えられる。これ以外の高速無線通信
も適用可能である。なお、クラウドをデータ処理装置とすることも可能である。
・ データ処理装置768が、工場内に設置される場合は、工場内にある1台もしくは複
数の基板処理装置からの信号を処理することが可能である。
・ データ処理装置768が、工場外に設置される場合は、工場内にある1台もしくは複
数の基板処理装置からの信号を、工場外部に伝達し、処理することが可能である。このときは、国内又は外国に設置されたデータ処理装置との接続が可能である。
3.クラウド等に蓄積されたデータをデータ処理装置768が分析し、分析結果に応じて基板処理装置764を制御することに関しては、以下のようなことが可能である。
・ 測定信号又は測定データが処理された後に、制御信号又は制御データとして基板処理
装置764に伝達することができる。
・ データを受取った基板処理装置764はそのデータに基づいて、研磨処理に関する研
磨パラメータを更新して研磨動作を行う、また、データ処理装置768からのデータが、終点が検知されたことを示す信号/データの場合、終点が検知されたと判断して、研磨を終了する。研磨パラメータとしては、(1)半導体ウェハ16の4つの領域、すなわち、中央部、内側中間部、外側中間部、および周縁部に対する押圧力、(2)研磨時間、(3)研磨テーブル30Aやトップリング31Aの回転数、(4)研磨終点の判定のための閾値等がある。
る。
部65による研磨制御、更新した終点検知という順序である。
ンサの測定信号・ 渦電流センサの測定信号・研磨パッド10上でのトップリング31A
の位置・ スラリと薬液の流量/種類、それらの相関算出データ等を含むことができる。
制御に関するステータス信号と他のステータス信号を一緒にして、通信回線L3にて第1の処理装置772に送り、第1の処理装置772でデータ処理・自動学習・制御パラメータ更新を行い、各々の基板処理装置764に、処理結果を含む信号を送ることが可能である。図47に示す形態およびそれを変更した別の形態では、複数の基板処理装置764に対して1個の第1の処理装置772により対応可能である。これらの形態では、工場外への通信については、図46の形態と同様である。
磨条件)選択が行われる。その時、膜構造に関して、次の特徴により、膜の分類を行うこ
とが可能である。(1)酸化膜または絶縁膜を薄くする、(2)金属膜または導電膜を薄くする、(3)下層との境界面まで研磨する(導電層と絶縁層の境界面等)、(4)成膜部をパターン境界部まで研磨する(配線材料や絶縁材料の成膜後の不要部の研磨等)。この分類に対応して、データセットとしては、センサの種類について、全ての種類のセンサからのデータを取込んで作成する場合と、当該膜の研磨状態の検知に関して、膜に適した種類のセンサからのデータを選択して、データセットを作成する場合がある。
時、回数を重ねるごとにデータを学習データとして利用して、判断機能(優先割合係数の変更等)において、学習による判断機能の更新を行い、より高い精度の終点検知となるよう改良していくことが可能である。
含まれることはもちろんである。また、上述した課題の少なくとも一部を解決できる範囲、または、効果の少なくとも一部を奏する範囲において、特許請求の範囲および明細書に記載された各構成要素の任意の組み合わせ、または、省略が可能である。
10…研磨パッド
14…揺動軸モータ
16…半導体ウェハ
24…トップリング本体
26…アームトルク検知部
28…終点検出部
30A…研磨テーブル
31A…トップリング
63…研磨部
64…洗浄部
65…制御部
101…研磨面
108…旋回軸
110…揺動アーム
111…トップリングシャフト
112…回転筒
117…揺動アームシャフト
以上説明したように、本発明は以下の形態を有する。
[形態1]
研磨パッドと、前記研磨パッドに対向して配置される研磨物との間で研磨を行うための研磨装置であって、
前記研磨パッドを保持するための研磨テーブルと、
前記研磨物を保持するための保持部と、
前記保持部を保持するための揺動アームと、
前記揺動アームを揺動するためのアーム駆動部と、
前記揺動アームに加わるアームトルクを直接または間接に検知するアームトルク検知部と、
前記アームトルク検知部が検知した前記アームトルクに基づいて、前記研磨の終了を示す研磨終点を検出する終点検出部と、を有することを特徴とする研磨装置。
[形態2]
前記保持部と前記揺動アームと前記アーム駆動部と前記トルク検知部は、組を構成し、前記組は、複数組あることを特徴とする形態1記載の研磨装置。
[形態3]
前記研磨装置は、前記研磨テーブルを回転駆動するテーブル駆動部と、
前記研磨テーブルに加わるテーブルトルクを検知するテーブルトルク検知部とを有し、
前記終点検出部は、前記アームトルク検知部が検知した前記アームトルクと、前記テーブルトルク検知部が検知した前記テーブルトルクに基づいて、前記研磨の終了を示す研磨終点を検出することを特徴とする形態1または2記載の研磨装置。
[形態4]
前記保持部の重量の、前記揺動アームの重量に対する比は、0.3から1.5であることを特徴とする、形態1ないし3のいずれか1項に記載の研磨装置。
[形態5]
前記揺動アームの、前記アーム駆動部への接続部において、前記アームトルク検知部は、前記揺動アームに加わる前記アームトルクを検知することを特徴とする、形態1ないし4のいずれか1項に記載の研磨装置。
[形態6]
前記アーム駆動部は、前記揺動アームを回転させる回転モータであり、
前記アームトルク検知部は、前記回転モータの電流値から、前記揺動アームに加わる前記アームトルクを検知することを特徴とする、形態1ないし5のいずれか1項に記載の研磨装置。
[形態7]
前記アーム駆動部は、前記揺動アームを回転させる回転モータであり、
前記アームトルク検知部は、前記回転モータの電流値を検知し、
前記終点検出部は、前記回転モータの電流値の微分値に基づいて、前記研磨の終了を示す研磨終点を検出することを特徴とする、形態1ないし5のいずれか1項に記載の研磨装置。
[形態8]
前記揺動アームは複数のアームを有し、前記複数のアーム同士の接合部において、前記アームトルク検知部は、前記揺動アームに加わる前記アームトルクを検知することを特徴とする、形態1ないし4のいずれか1項に記載の研磨装置。
[形態9]
前記研磨装置は、回転軸の周りに回転可能なカルーセルを有し、前記アーム駆動部は、前記カルーセルに取り付けられることを特徴とする、形態1ないし8のいずれか1項に記載の研磨装置。
[形態10]
前記研磨装置は、
支持フレームと、 前記支持フレームに取り付けられ、前記アーム駆動部の搬送経路を画定するトラックと、 前記トラックによって画定された前記経路に沿って、前記アーム駆動部を搬送するキャリッジであって、前記トラックに結合され、前記トラックに沿って可動であるキャリッジとを有することを特徴とする、形態1ないし8のいずれか1項に記載の研磨装置。
[形態11]
前記研磨装置は、
前記研磨物を研磨する研磨部と、
前記研磨物を洗浄し乾燥させる洗浄部と、
前記研磨部と前記洗浄部との間を分離する隔壁と、
前記隔壁の開口を介して研磨後の前記研磨物を前記研磨部から前記洗浄部へ搬送する搬送機構と、
側壁を有して、前記研磨部と前記洗浄部と前記搬送機構とを内部に収納する筐体とを有し、
前記洗浄部は、研磨後の前記研磨物を洗浄液により洗浄する洗浄手段と、洗浄後の前記研磨物を乾燥させる乾燥手段と、前記洗浄手段と乾燥手段間を水平および昇降自在に前記研磨物の受け渡しが可能な搬送手段とを有し、
前記研磨部は、前記研磨テーブルと、前記保持部と、前記揺動アームと、前記アーム駆動部とを有することを特徴とする、形態1ないし9のいずれか1項に記載の研磨装置。
[形態12]
前記終点検出部は、前記研磨物に光を当て、前記研磨物からの反射光の強度を計測する光学式センサを有し、
前記終点検出部は、前記アームトルク検知部が検知した前記アームトルクと、前記光学式センサが計測した前記研磨物からの反射光の強度とに基づいて、前記研磨の終了を示す研磨終点を検出することを特徴とする、形態1ないし11のいずれか1項に記載の研磨装置。
[形態13]
前記終点検出部は、
研磨時に前記研磨物と対向可能な、前記研磨テーブル内の位置に組込まれるウィンドウを有し、
前記ウィンドウの下部に、前記光学式センサが配置されることを特徴とする、形態12記載の研磨装置。
[形態14]
前記研磨テーブルは、研磨時に前記研磨物と対向可能な、前記研磨テーブル内の位置に開口を有し、
前記光学式センサは、前記ウィンドウの下部に配置され、
前記光学式センサは、洗浄用の流体を前記開口内に供給する流体供給部を有することを特徴とする、形態12記載の研磨装置。
[形態15]
前記終点検出部は、前記研磨物に磁場を生成し、生成した前記磁場の強度を検知する渦電流式センサを有し、
前記終点検出部は、前記アームトルク検知部が検知した前記アームトルクと、前記渦電流式センサが計測した前記磁場の強度とに基づいて、前記研磨の終了を示す研磨終点を検出することを特徴とする形態1ないし14のいずれか1項に記載の研磨装置。
[形態16]
研磨パッドと、前記研磨パッドに対向して配置される研磨物との間で研磨を行う研磨方法において、
前記研磨パッドを研磨テーブルに保持し、
揺動アームが、前記研磨物を保持する保持部を保持し、
アーム駆動部が前記揺動アームを揺動し、
前記揺動アームに加わるアームトルクを直接または間接に検知し、
検知した前記アームトルクに基づいて、前記研磨の終了を示す研磨終点を検出することを特徴とする研磨方法。
[形態17]
前記揺動アームは複数のアームを有し、前記複数のアーム同士の接合部において、前記揺動アームに加わる前記アームトルクを検知することを特徴とする、形態16に記載の研磨方法。
Claims (17)
- 研磨パッドと、前記研磨パッドに対向して配置される研磨物との間で研磨を行うための研磨装置であって、
前記研磨パッドを保持するための研磨テーブルと、
前記研磨物を保持するための保持部と、
前記保持部を保持するための揺動アームと、
前記揺動アームを揺動するためのアーム駆動部と、
前記揺動アームに加わるアームトルクを直接または間接に検知するアームトルク検知部と、
前記アームトルク検知部が検知した前記アームトルクに基づいて、前記研磨の終了を示す研磨終点を検出する終点検出部と、を有することを特徴とする研磨装置。 - 前記保持部と前記揺動アームと前記アーム駆動部と前記トルク検知部は、組を構成し、前記組は、複数組あることを特徴とする請求項1記載の研磨装置。
- 前記研磨装置は、前記研磨テーブルを回転駆動するテーブル駆動部と、
前記研磨テーブルに加わるテーブルトルクを検知するテーブルトルク検知部とを有し、
前記終点検出部は、前記アームトルク検知部が検知した前記アームトルクと、前記テーブルトルク検知部が検知した前記テーブルトルクに基づいて、前記研磨の終了を示す研磨終点を検出することを特徴とする請求項1または2記載の研磨装置。 - 前記保持部の重量の、前記揺動アームの重量に対する比は、0.3から1.5であることを特徴とする、請求項1ないし3のいずれか1項に記載の研磨装置。
- 前記揺動アームの、前記アーム駆動部への接続部において、前記アームトルク検知部は、前記揺動アームに加わる前記アームトルクを検知することを特徴とする、請求項1ないし4のいずれか1項に記載の研磨装置。
- 前記アーム駆動部は、前記揺動アームを回転させる回転モータであり、
前記アームトルク検知部は、前記回転モータの電流値から、前記揺動アームに加わる前記アームトルクを検知することを特徴とする、請求項1ないし5のいずれか1項に記載の研磨装置。 - 前記アーム駆動部は、前記揺動アームを回転させる回転モータであり、
前記アームトルク検知部は、前記回転モータの電流値を検知し、
前記終点検出部は、前記回転モータの電流値の微分値に基づいて、前記研磨の終了を示す研磨終点を検出することを特徴とする、請求項1ないし5のいずれか1項に記載の研磨装置。 - 前記揺動アームは複数のアームを有し、前記複数のアーム同士の接合部において、前記アームトルク検知部は、前記揺動アームに加わる前記アームトルクを検知することを特徴とする、請求項1ないし4のいずれか1項に記載の研磨装置。
- 前記研磨装置は、回転軸の周りに回転可能なカルーセルを有し、前記アーム駆動部は、前記カルーセルに取り付けられることを特徴とする、請求項1ないし8のいずれか1項に記載の研磨装置。
- 前記研磨装置は、
支持フレームと、
前記支持フレームに取り付けられ、前記アーム駆動部の搬送経路を画定するトラックと、
前記トラックによって画定された前記経路に沿って、前記アーム駆動部を搬送するキャリッジであって、前記トラックに結合され、前記トラックに沿って可動であるキャリッジとを有することを特徴とする、請求項1ないし8のいずれか1項に記載の研磨装置。 - 前記研磨装置は、
前記研磨物を研磨する研磨部と、
前記研磨物を洗浄し乾燥させる洗浄部と、
前記研磨部と前記洗浄部との間を分離する隔壁と、
前記隔壁の開口を介して研磨後の前記研磨物を前記研磨部から前記洗浄部へ搬送する搬送機構と、
側壁を有して、前記研磨部と前記洗浄部と前記搬送機構とを内部に収納する筐体とを有し、
前記洗浄部は、研磨後の前記研磨物を洗浄液により洗浄する洗浄手段と、洗浄後の前記研磨物を乾燥させる乾燥手段と、前記洗浄手段と乾燥手段間を水平および昇降自在に前記研磨物の受け渡しが可能な搬送手段とを有し、
前記研磨部は、前記研磨テーブルと、前記保持部と、前記揺動アームと、前記アーム駆動部とを有することを特徴とする、請求項1ないし9のいずれか1項に記載の研磨装置。 - 前記終点検出部は、前記研磨物に光を当て、前記研磨物からの反射光の強度を計測する光学式センサを有し、
前記終点検出部は、前記アームトルク検知部が検知した前記アームトルクと、前記光学式センサが計測した前記研磨物からの反射光の強度とに基づいて、前記研磨の終了を示す研磨終点を検出することを特徴とする、請求項1ないし11のいずれか1項に記載の研磨装置。 - 前記終点検出部は、
研磨時に前記研磨物と対向可能な、前記研磨テーブル内の位置に組込まれるウィンドウを有し、
前記ウィンドウの下部に、前記光学式センサが配置されることを特徴とする、請求項12記載の研磨装置。 - 前記研磨テーブルは、研磨時に前記研磨物と対向可能な、前記研磨テーブル内の位置に開口を有し、
前記光学式センサは、前記ウィンドウの下部に配置され、
前記光学式センサは、洗浄用の流体を前記開口内に供給する流体供給部を有することを特徴とする、請求項12記載の研磨装置。 - 前記終点検出部は、前記研磨物に磁場を生成し、生成した前記磁場の強度を検知する渦電流式センサを有し、
前記終点検出部は、前記アームトルク検知部が検知した前記アームトルクと、前記渦電流式センサが計測した前記磁場の強度とに基づいて、前記研磨の終了を示す研磨終点を検出することを特徴とする請求項1ないし14のいずれか1項に記載の研磨装置。 - 研磨パッドと、前記研磨パッドに対向して配置される研磨物との間で研磨を行う研磨方法において、
前記研磨パッドを研磨テーブルに保持し、
揺動アームが、前記研磨物を保持する保持部を保持し、
アーム駆動部が前記揺動アームを揺動し、
前記揺動アームに加わるアームトルクを直接または間接に検知し、
検知した前記アームトルクに基づいて、前記研磨の終了を示す研磨終点を検出することを特徴とする研磨方法。 - 前記揺動アームは複数のアームを有し、前記複数のアーム同士の接合部において、前記揺動アームに加わる前記アームトルクを検知することを特徴とする、請求項16に記載の研磨方法。
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