CN110842742A - 能够形成高效高平面度的研磨抛光设备及研磨抛光方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种能够形成高效高平面度的研磨抛光设备及研磨抛光方法，所述研磨抛光设备包括底座、设置在所述底座上的抛光盘、及用于固定待抛光件且与所述抛光盘的盘面相对设置的模具盘，所述抛光盘的旋转方向与所述磨具盘的旋转方向一致，抛光盘的转速大于所述模具盘的转速；其中，所述研磨抛光设备还设置有转速盘底座、设置在所述转速盘底座上的转速盘及机械臂，所述机械臂的一端通过连接件与所述转速盘连接，另一端与所述模具盘连接，所述转速盘转动并通过所述机械臂带动所述模具盘转动。所述研磨抛光方法步骤简单、操作方便。分发明的能够形成高效高平面度的研磨抛光设备及研磨抛光方法使得待抛光件抛光更加方便快捷，提高了工作效率及生产效率。

Description

能够形成高效高平面度的研磨抛光设备及研磨抛光方法

技术领域

本发明涉及一种能够形成高效高平面度的研磨抛光设备及研磨抛光方法。

背景技术

模具，工业生产上用以注塑、吹塑、挤出、压铸或锻压成型、冶炼、冲压等方法得到所需产品的各种模子和工具。简而言之，模具是用来制作成型物品的工具，这种工具由各种零件构成，不同的模具由不同的零件构成。它主要通过所成型材料物理状态的改变来实现物品外形的加工。模具最为重要的即是模仁，因此模仁的表面平整度会直接影响到产品质量的好坏。

现有技术中，在模仁的抛光过程中，待抛光件在模具盘的带动下一般做弧形运动，抛光较为片面且麻烦，降低工作效率及生产效率，且抛光精度不高。

发明内容

本发明的目的在于提供一种操作方便、提高抛光效率及生产效率的能够形成高效高平面度的研磨抛光设备及研磨抛光方法。

为达到上述目的，本发明提供如下技术方案：一种能够形成高效高平面度的研磨抛光设备，所述研磨抛光设备包括底座、设置在所述底座上的抛光盘、及用于固定待抛光件且与所述抛光盘的盘面相对设置的模具盘，所述抛光盘的旋转方向与所述磨具盘的旋转方向一致，抛光盘的转速大于所述模具盘的转速；其中，所述研磨抛光设备还设置有转速盘底座、设置在所述转速盘底座上的转速盘及机械臂，所述机械臂的一端通过连接件与所述转速盘连接，另一端与所述模具盘连接，所述转速盘转动并通过所述机械臂带动所述模具盘转动。

进一步地，所述连接件可相对于所述抛光盘纵向伸缩，所述机械臂可相对于所述抛光盘横向伸缩。

进一步地，所述转速盘的直径小于或等于所述模具盘的直径，所述机械臂的长度小于抛光盘的半径。

进一步地，所述转速盘与调速马达连接，所述调速马达的调速范围为10～60转/分钟。

进一步地，所述研磨抛光设备还包括用于夹持所述模具盘的夹持臂，所述夹持臂包括主定位轮及从定位轮，所述主定位轮及从定位轮与所述模具盘的边缘接触。

进一步地，所述夹持臂还包括用于连接所述主定位轮与从定位轮的调节部。

本发明还提供了一种能够形成高效高平面度的研磨抛光方法，所述研磨抛光方法采用如上所述的研磨抛光设备，所述方法包括如下步骤：

将待抛光件与模具盘连接，所述待抛光件的待抛光面与抛光盘面相对，所述模具盘的夹持臂根据所述待抛光件的大小进行调节并将所述待抛光件夹持固定；

调节所述连接件的高度及机械臂的长度，使得所述待抛光件的抛光面与所述抛光盘面接触；

启动抛光盘开关，使得抛光盘旋转，再启动转速盘开关，使得转速盘转动从而通过机械臂转动带动模具盘转动，直至所述待抛光件完成抛光动作，关闭设备。

进一步地，所述使得转速盘转动从而通过机械臂转动带动模具盘转动具体为：

所述转速盘转动带动所述连接件转动，所述连接件沿着所述转速盘的圆周转动从而控制所述机械臂转动以带动所述模具盘转动；其中，所述模具盘转动轨迹的圆心不定。

进一步地，所述转速盘与调速马达连接，所述调速马达的调速范围为10～60转/分钟。

进一步地，所述方法还包括：

在抛光过程中，向所述模具盘及抛光盘喷洒抛光液，以降低所述待抛光件在抛光过程中产生的热量。

本发明的有益效果在于：通过机械臂将转速盘与模具盘连接，转速盘转动带动模具盘在抛光盘上移动，抛光面积大且抛光角度不受限制，克服模具盘因为中心点固定造成的中心线速度低、中心研磨抛光切削量少、研磨抛光磨料难以进入模具盘中心点的问题，从而提高待抛光件抛光后的平整度及光洁度，其光洁度能够达到纳米级，并且提高了抛光效率及工作效率；

转速盘可根据抛光程度进行调速，从而提高了抛光精度，步骤简单且操作方便。

上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本发明的较佳实施例并配合附图详细说明如后。

附图说明

图1为本发明的能够形成高效高平面度的研磨抛光设备的结构示意图。

图2为本发明的能够形成高效高平面度的研磨抛光方法的流程示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。

请参见图1，本发明的一较佳实施例中的一种能够形成高效高平面度的研磨抛光设备包括底座1、设置在所述底座1上的抛光盘2、及用于固定待抛光件且与所述抛光盘2的盘面相对设置的模具盘8，所述抛光盘2的旋转方向与所述磨具盘的旋转方向一致，抛光盘2的转速小于所述模具盘8的转速。通过将抛光盘2的转速设置大于所述模具盘8的转速，从而使得待抛光件与高速的抛光盘2面接触，达到提高抛光效率的结果。

所述研磨抛光设备还设置有转速盘底座3、固定设置在所述转速盘底座3上的转速盘4及机械臂6，所述机械臂6的一端通过连接件5与所述转速盘4连接，另一端与所述模具盘8连接，所述转速盘4转动并通过所述机械臂6带动所述模具盘8转动。所述连接件5可相对于所述抛光盘2纵向伸缩，所述机械臂6可相对于所述抛光盘2横向伸缩。通过调节连接件5与机械臂6，可更好的将所述待抛光件与所述抛光盘2面接触使其抛光，从而提高工作效率及抛光精度。在本实施例中，所述转速底座1及转速盘4设置在所述抛光盘2的一侧，诚然，在其他实施例中，所述转速底座1及转速盘4也可设置在所述研磨抛光设备的其他位置或独立设置，根据实际情况而定。所述转速盘4的直径小于或等于所述模具盘8的直径，所述机械臂6的长度小于抛光盘2的半径，以使得所述模具盘8在抛光过程中不会运转到抛光盘2外，从而保护待抛光件及模具盘8。所述转速盘4与调速马达(未图示)连接，所述调速马达的调速范围为10～60转/分钟。所述调速马达控制所述转速盘4的转速，以适应待抛光件的抛光要求，提高工作效率。

所述研磨抛光设备还包括用于夹持所述模具盘8的夹持臂7，所述夹持臂7包括主定位轮71及从定位轮73，所述主定位轮71及从定位轮73与所述模具盘8的边缘接触。主定位轮71预先固定待抛光件的一侧，然后从定位轮73固定所述待抛光件的另一侧，使得待抛光件固定不会脱落。所述夹持臂7还包括用于连接所述主定位轮71与从定位轮73的调节部72，所述调节部72可根据待抛光件的大小对主定位轮71及从定位轮73之间的距离进行调节。在本实施例中，所述调节部72为弧形结构，以更好的与所述模具盘8贴合。诚然，在其他实施例中，所述调节部72的结构也可为其他，根据实际情况而定。

研磨抛光设备通过机械臂将转速盘与模具盘连接，转速盘转动带动模具盘在抛光盘上转动，抛光面积大且抛光角度不受限制，克服模具盘因为中心点固定造成的中心线速度低、中心研磨抛光切削量少、研磨抛光磨料难以进入模具盘中心点的问题，从而提高待抛光件抛光后的平整度及光洁度，其光洁度能够达到纳米级，并且提高了抛光效率及工作效率。

本发明还提供了一种能够形成高效高平面度的研磨抛光方法，如图2所示。

方法包括如下步骤：

将待抛光件与模具盘8连接，所述待抛光件的待抛光面与抛光盘2面相对，所述模具盘8的夹持臂7根据所述待抛光件的大小进行调节并将所述待抛光件夹持固定；

调节所述连接件5的高度及机械臂6的长度，使得所述待抛光件的抛光面与所述抛光盘2面接触；

启动抛光盘2开关，使得抛光盘2旋转，再启动转速盘4开关，使得转速盘4转动从而通过机械臂6转动带动模具盘8转动，直至所述待抛光件完成抛光动作，关闭设备。

更为具体的，所述使得转速盘4转动从而通过机械臂6转动带动模具盘8转动具体为：

所述转速盘4转动带动所述连接件5转动，所述连接件5沿着所述转速盘4的圆周转动从而控制所述机械臂6转动以带动所述模具盘8转动；其中，所述模具盘8转动轨迹的圆心不定。所述模具盘8的运动轨迹为动圆轨迹，圆心不固定，使得所述待抛光件无死角抛光，也可使待抛光件不在一个区域抛光，从而达到保护抛光盘2面及提高抛光精度、工作效率的效果。所述转速盘4与调速马达连接，所述调速马达的调速范围为10～60转/分钟。所述调速马达控制所述转速盘4的转速，以适应待抛光件的抛光要求，提高工作效率。在本实施例中，所述调速马达的调速范围也可为其他，根据实际情况而定。

更为具体的，所述方法还包括：

在抛光过程中，向所述模具盘8及抛光盘2喷洒抛光液，以降低所述待抛光件在抛光过程中产生的热量，从而达到保护抛光盘2、模具盘8及待抛光件的效果，也间接的提高了抛光的工作效率及精度。

综上所述：通过机械臂6将转速盘4与模具盘8连接，转速盘4转动带动模具盘8在抛光盘2上转动，抛光面积大且抛光角度不受限制，提高了抛光效率及工作效率，克服模具盘因为中心点固定造成的中心线速度低、中心研磨抛光切削量少、研磨抛光磨料难以进入模具盘中心点的问题，从而提高待抛光件抛光后的平整度及光洁度，其光洁度能够达到纳米级，并且提高了抛光效率及工作效率；

转速盘4可根据抛光程度进行调速，从而提高了抛光精度，步骤简单且操作方便。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种能够形成高效高平面度的研磨抛光设备，其特征在于，所述研磨抛光设备包括底座、设置在所述底座上的抛光盘、及用于固定待抛光件且与所述抛光盘的盘面相对设置的模具盘，所述抛光盘的旋转方向与所述模具盘的旋转方向一致，抛光盘的转速大于所述模具盘的转速；其中，所述研磨抛光设备还设置有转速盘底座、设置在所述转速盘底座上的转速盘及机械臂，所述机械臂的一端通过连接件与所述转速盘连接，另一端与所述模具盘连接，所述转速盘转动并通过所述机械臂带动所述模具盘转动。

2.如权利要求1所述的能够形成高效高平面度的研磨抛光设备，其特征在于，所述连接件可相对于所述抛光盘纵向伸缩，所述机械臂可相对于所述抛光盘横向伸缩。

3.如权利要求1所述的能够形成高效高平面度的研磨抛光设备，其特征在于，所述转速盘的直径小于或等于所述模具盘的直径，所述机械臂的长度小于抛光盘的半径。

4.如权利要求1所述的能够形成高效高平面度的研磨抛光设备，其特征在于，所述转速盘与调速马达连接，所述调速马达的调速范围为10～60转/分钟。

5.如权利要求1所述的能够形成高效高平面度的研磨抛光设备，其特征在于，所述研磨抛光设备还包括用于夹持所述模具盘的夹持臂，所述夹持臂包括主定位轮及从定位轮，所述主定位轮及从定位轮与所述模具盘的边缘接触。

6.如权利要求5所述的能够形成高效高平面度的研磨抛光设备，其特征在于，所述夹持臂还包括用于连接所述主定位轮与从定位轮的调节部。

7.一种能够形成高效高平面度的研磨抛光方法，所述研磨抛光方法采用如权利要求1至6中任意一项所述的研磨抛光设备，其特征在于，所述方法包括如下步骤：

将待抛光件与模具盘连接，所述待抛光件的待抛光面与抛光盘面相对，所述模具盘的夹持臂根据所述待抛光件的大小进行调节并将所述待抛光件夹持固定；

调节所述连接件的高度及机械臂的长度，使得所述待抛光件的抛光面与所述抛光盘面接触；

启动抛光盘开关，使得抛光盘旋转，再启动转速盘开关，使得转速盘转动从而通过机械臂转动带动模具盘转动，直至所述待抛光件完成抛光动作，关闭设备。

8.如权利要求7所述的能够形成高效高平面度的研磨抛光方法，其特征在于，所述使得转速盘转动从而通过机械臂转动带动模具盘转动具体为：

所述转速盘转动带动所述连接件转动，所述连接件沿着所述转速盘的圆周转动从而控制所述机械臂转动以带动所述模具盘转动；其中，所述模具盘转动轨迹的圆心不定。

9.如权利要求7所述的能够形成高效高平面度的研磨抛光方法，其特征在于，所述转速盘与调速马达连接，所述调速马达的调速范围为10～60转/分钟。

10.如权利要求7所述的能够形成高效高平面度的研磨抛光方法，其特征在于，所述方法还包括：

在抛光过程中，向所述模具盘及抛光盘喷洒抛光液，以降低所述待抛光件在抛光过程中产生的热量。

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