JP2017502844A - 超高速レーザおよびビーム光学系を用いた透明材料の切断 - Google Patents
超高速レーザおよびビーム光学系を用いた透明材料の切断 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017502844A JP2017502844A JP2016539263A JP2016539263A JP2017502844A JP 2017502844 A JP2017502844 A JP 2017502844A JP 2016539263 A JP2016539263 A JP 2016539263A JP 2016539263 A JP2016539263 A JP 2016539263A JP 2017502844 A JP2017502844 A JP 2017502844A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- laser beam
- focal line
- burst
- less
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 title description 38
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 title description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 120
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 102
- 238000005553 drilling Methods 0.000 claims abstract description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 73
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 54
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 50
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 7
- 230000004075 alteration Effects 0.000 claims description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 69
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 48
- 230000009102 absorption Effects 0.000 description 45
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 24
- 230000008569 process Effects 0.000 description 19
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 11
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 10
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 230000006870 function Effects 0.000 description 7
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 7
- 241000282575 Gorilla Species 0.000 description 6
- 238000013461 design Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 4
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 4
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 3
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000004925 denaturation Methods 0.000 description 2
- 230000036425 denaturation Effects 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 238000003698 laser cutting Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 2
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 230000035876 healing Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical group 0.000 description 1
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 1
- 239000000087 laser glass Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 1
- 238000001208 nuclear magnetic resonance pulse sequence Methods 0.000 description 1
- 238000011165 process development Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/50—Working by transmitting the laser beam through or within the workpiece
- B23K26/53—Working by transmitting the laser beam through or within the workpiece for modifying or reforming the material inside the workpiece, e.g. for producing break initiation cracks
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/062—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam
- B23K26/0622—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam by shaping pulses
- B23K26/0624—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by direct control of the laser beam by shaping pulses using ultrashort pulses, i.e. pulses of 1ns or less
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/36—Removing material
- B23K26/38—Removing material by boring or cutting
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/36—Removing material
- B23K26/38—Removing material by boring or cutting
- B23K26/382—Removing material by boring or cutting by boring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B33/00—Severing cooled glass
- C03B33/02—Cutting or splitting sheet glass or ribbons; Apparatus or machines therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B33/00—Severing cooled glass
- C03B33/02—Cutting or splitting sheet glass or ribbons; Apparatus or machines therefor
- C03B33/0222—Scoring using a focussed radiation beam, e.g. laser
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
- Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
Abstract
Description
材料にレーザ孔あけする方法であって、
約850nm以下の波長を有するパルスレーザビームを、ビーム伝搬方向に沿って配向されたレーザビーム焦線に集光する工程と、
前記レーザビーム焦線を前記材料内へと向ける工程であって、前記レーザビーム焦線が、前記材料内において誘起吸収を生じ、該誘起吸収が、前記材料内において前記レーザビーム焦線に沿って約300nm以下の直径を有する欠陥線を生成する、工程と
を含む方法である。
前記レーザビームが約775nm以下の波長を有する、実施形態1記載の方法。
前記レーザビームが約600nm以下の波長を有する、実施形態2記載の方法。
前記レーザビームが約532nm以下の波長を有する、実施形態3記載の方法。
前記パルスレーザが、少なくとも2パルス/パルスバーストのパルスバーストを生成する、実施形態1記載の方法。
前記パルスレーザが10W〜150Wのレーザ出力を有し、少なくとも2パルス/パルスバーストのパルスバーストを生成する、実施形態1記載の方法。
前記パルスレーザが10W〜100Wのレーザ出力を有し、少なくとも2〜25パルス/パルスバーストのパルスバーストを生成する、実施形態6記載の方法。
前記パルスレーザが25W〜60Wのレーザ出力を有し、少なくとも2〜25パルス/パルスバーストを有するパルスバーストを生成し、前記欠陥線間の距離が0.5〜10マイクロメートルである、実施形態6記載の方法。
前記パルスレーザが10W〜100Wのレーザ出力を有し、被加工品または前記レーザビームが少なくとも0.25m/秒の速度で互いに対して相対的に平行移動される、実施形態6記載の方法。
(i)前記パルスレーザが10W〜100Wのレーザ出力を有し、(ii)被加工品および前記レーザビームが少なくとも0.4m/秒の速度で互いに対して相対的に平行移動される、実施形態6記載の方法。
前記誘起吸収が、材料内に約75μm以下の深さまでの表面下損傷を生じる、実施形態1記載の方法。
前記誘起吸収が、材料内に約40μm以下の深さまでの表面下損傷を生じる、実施形態1記載の方法。
前記誘起吸収が、約0.5μm以下のRa表面粗さを生じる、実施形態1記載の方法。
前記材料および前記レーザビームを互いに相対的に平行移動させることにより、前記材料内に、該材料を少なくとも2つの部分に分離するよう離間された複数の前記欠陥線を孔あけする工程を更に含む、実施形態1記載の方法。
パルス持続時間が約1ピコ秒より大きく且つ約100ピコ秒未満の範囲内である、実施形態1記載の方法。
前記パルス持続時間が、約5ピコ秒より大きく且つ約20ピコ秒未満の範囲内である、実施形態15記載の方法。
バースト繰り返し率が約1kHz〜2MHzの範囲内である、実施形態1記載の方法。
前記バースト繰り返し率が約10kHz〜650kHzの範囲内である、実施形態17記載の方法。
前記パルスレーザビームが、前記材料において測定された、該材料の厚さ1mm当たり40μJより大きい平均レーザ出力を有する、実施形態1記載の方法。
前記パルスレーザが、約1ナノ秒〜約50ナノ秒の範囲内の持続時間だけ分離された少なくとも2つのパルスのバーストとして生成されるパルスを発するよう構成され、バースト繰り返し周波数が、約1kHz〜約2MHzの範囲内である、実施形態1記載の方法。
前記パルスが約20ナノ秒の持続時間だけ分離された、実施形態20記載の方法。
前記レーザビーム焦線が約0.1mm〜約100mmの範囲内の長さを有する、実施形態1記載の方法。
前記レーザビーム焦線が約0.1mm〜約8mmの範囲内の長さを有する、実施形態22記載の方法。
前記レーザビーム焦線が約0.1μm〜約5μmの範囲内の平均スポット径を有する、実施形態1記載の方法。
材料にレーザ孔あけするシステムであって、
約850nm以下の波長を有するパルスレーザビームを生じるよう構成されたパルスレーザと、
前記レーザのビーム経路上に配置された光学アセンブリであって、該光学アセンブリのビーム発生側において、前記レーザビームを、ビーム伝搬方向に沿って配向されたレーザビーム焦線に変換するよう構成され、該光学アセンブリが、前記レーザビーム焦線を生じるよう構成された球面収差を有する集光光学素子を含み、前記レーザビーム焦線が、前記材料内において誘起吸収を生じるよう構成され、前記誘起吸収が、前記材料内において前記レーザビーム焦線に沿って約300nm以下の直径を有する欠陥線を生成する、光学アセンブリと
を含むことを特徴とするシステム。
前記レーザビームが約775nm以下の波長を有する、実施形態25記載のシステム。
前記レーザビームが約600nm以下の波長を有する、実施形態26記載のシステム。
前記レーザビームが約532nm以下の波長を有する、実施形態27記載のシステム。
前記誘起吸収が、前記材料内に約75μm以下の深さまでの表面下損傷を生じる、実施形態25記載のシステム。
前記誘起吸収が、約0.5μm以下のRa表面粗さを生じる、実施形態25記載のシステム。
前記光学アセンブリが、前記レーザのビーム経路上の前記集光光学素子の前に配置された環状開口部を含み、該環状開口部が、前記レーザビームの中心の1以上の光線を遮断するよう構成されており、前記レーザビームの中心の外側の周辺光線のみが前記集光光学素子に入射することにより、ビーム方向に沿って見たときに、前記パルスレーザビームの各パルスにつき単一のレーザビーム焦線のみが生じる、実施形態25記載のシステム。
前記集光光学素子が、球面にカットされた凸レンズである、実施形態25記載のシステム。
前記集光光学素子が、非球面の自由表面を有する円錐プリズムである、実施形態25記載のシステム。
前記円錐プリズムがアキシコンである、実施形態33記載のシステム。
前記光学アセンブリがデフォーカス光学素子を更に含み、該デフォーカス光学素子が、該デフォーカス光学素子のビーム発生側における該デフォーカス光学素子から或る距離に、前記レーザビーム焦線が生じるよう配置および位置合わせされた、実施形態25記載のシステム。
前記光学アセンブリが第2の集光光学素子を更に含み、前記2つの集光光学素子が、該第2の集光光学素子のビーム発生側における該第2の集光光学素子から或る距離に、前記レーザビーム焦線が生じるよう配置および位置合わせされた、実施形態25記載のシステム。
前記パルスレーザが、約1ナノ秒〜約50ナノ秒の範囲内の持続時間だけ分離された少なくとも2つのパルスのバーストとして生成されるパルスを発するよう構成され、バースト繰り返し周波数が約1kHz〜約2MHzの範囲内である、実施形態25記載のシステム。
前記パルスが約20ナノ秒の持続時間だけ分離された、実施形態37記載のシステム。
前記レーザビーム焦線が0.1mm〜100mmの範囲内の長さを有する、実施形態25記載のシステム。
前記レーザビーム焦線が0.1μm〜5μmの範囲内の平均スポット径を有する、実施形態25記載のシステム。
材料にレーザ孔あけする方法であって、
850nm未満の波長を有するパルスレーザビームを、ビーム伝搬方向に沿って配向されたレーザビーム焦線に集光する工程と、
前記レーザビーム焦線を前記材料内へと向ける工程であって、前記レーザビーム焦線が前記材料内において誘起吸収を生じ、該誘起吸収が、前記材料内において前記レーザビーム焦線に沿って0.5μm未満の内径を有する欠陥線を生成する、工程と、
を含むことを特徴とする方法。
前記欠陥線を生成する前記工程が、0.4μm未満の内径を有する前記欠陥線を生成することを含む、実施形態41記載の方法。
前記欠陥線を生成する前記工程が、0.3μm未満の内径を有する前記欠陥線を生成することを含む、実施形態42記載の方法。
前記欠陥線を生成する前記工程が、0.2μm未満の内径を有する前記欠陥線を生成することを含む、実施形態43記載の方法。
2 パルスレーザビーム
2b レーザビーム焦線
2c 誘起吸収の広範囲の部分
6 光学アセンブリ
Claims (10)
- 材料にレーザ孔あけする方法であって、
約850nm以下の波長を有するパルスレーザビームを、ビーム伝搬方向に沿って配向されたレーザビーム焦線に集光する工程と、
前記レーザビーム焦線を前記材料内へと向ける工程であって、前記レーザビーム焦線が、前記材料内において誘起吸収を生じ、該誘起吸収が、前記材料内において前記レーザビーム焦線に沿って約300nm以下の直径を有する欠陥線を生成するものである工程と
を有してなることを特徴とする方法。 - 材料にレーザ孔あけするシステムであって、
約850nm以下の波長を有するパルスレーザビームを生じるよう構成されたパルスレーザと、
前記レーザのビーム経路上に配置された光学アセンブリであって、該光学アセンブリのビーム発生側において前記レーザビームをビーム伝搬方向に沿って配向されたレーザビーム焦線に変換するよう構成され、該光学アセンブリが、前記レーザビーム焦線を生じるよう構成された球面収差を有する集光光学素子を含み、前記レーザビーム焦線が、前記材料内において誘起吸収を生じるよう構成され、該誘起吸収が、前記材料内において前記レーザビーム焦線に沿って約300nm以下の直径を有する欠陥線を生成する、光学アセンブリと
を備えたシステム。 - 前記誘起吸収が、前記材料内において、約75μm以下の深さまでの表面下損傷を生じる、請求項1または2記載の方法またはシステム。
- 前記材料および前記レーザビームを互いに相対的に平行移動させることにより、前記材料内に、該材料を少なくとも2つの部分に分離するよう離間された複数の前記欠陥線を孔あけする工程を更に含む、請求項1〜3のいずれか一項記載の方法またはシステム。
- 前記レーザビームのパルス持続時間が約1ピコ秒より大きく且つ約100ピコ秒未満の範囲内である、請求項1〜4のいずれか一項記載の方法またはシステム。
- 前記レーザビーム焦線が、約0.1mm〜約100mmの範囲内の長さを有する、請求項1〜5のいずれか一項記載のシステム。
- 前記光学アセンブリが、前記レーザのビーム経路上の前記集光光学素子の前に配置された環状開口部を含み、該環状開口部が、前記レーザビームの中心の1以上の光線を遮断するよう構成されており、前記レーザビームの中心の外側の周辺光線のみが前記集光光学素子に入射することにより、ビーム方向に沿って見たときに、前記パルスレーザビームの各パルスにつき単一のレーザビーム焦線のみが生じる、請求項2、3、4、または5記載のシステム。
- 前記集光光学素子が、非球面の自由表面を有する円錐プリズムである、請求項2、3、4、5、または6記載のシステム。
- 前記光学アセンブリがデフォーカス光学素子を更に含み、該デフォーカス光学素子が、該デフォーカス光学素子のビーム発生側における該デフォーカス光学素子から或る距離に、前記レーザビーム焦線が生じるよう配置および位置合わせされた、請求項2、3、4、5、6、7、または8記載のシステム。
- 前記欠陥線を生成する前記工程が、0.2μm未満の内径を有する前記欠陥線を生成することを含む、請求項1〜9のいずれか一項記載の方法またはシステム。
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201361917140P | 2013-12-17 | 2013-12-17 | |
US61/917,140 | 2013-12-17 | ||
US201462022888P | 2014-07-10 | 2014-07-10 | |
US62/022,888 | 2014-07-10 | ||
US14/529,801 US9687936B2 (en) | 2013-12-17 | 2014-10-31 | Transparent material cutting with ultrafast laser and beam optics |
US14/529,801 | 2014-10-31 | ||
PCT/US2014/070275 WO2015095014A1 (en) | 2013-12-17 | 2014-12-15 | Transparent material cutting with ultrafast laser and beam optics |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017502844A true JP2017502844A (ja) | 2017-01-26 |
JP2017502844A5 JP2017502844A5 (ja) | 2018-02-01 |
JP6571085B2 JP6571085B2 (ja) | 2019-09-04 |
Family
ID=53367591
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016539263A Active JP6571085B2 (ja) | 2013-12-17 | 2014-12-15 | 超高速レーザおよびビーム光学系を用いた透明材料の切断 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US9687936B2 (ja) |
EP (1) | EP3083126B1 (ja) |
JP (1) | JP6571085B2 (ja) |
CN (1) | CN106170367A (ja) |
MX (1) | MX364462B (ja) |
RU (1) | RU2673258C1 (ja) |
TW (1) | TWI645929B (ja) |
WO (1) | WO2015095014A1 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017066027A (ja) * | 2015-10-01 | 2017-04-06 | 旭硝子株式会社 | パルスレーザを用いてガラス基板に孔を形成する方法、および孔を有するガラス基板を製造する方法 |
JP2020065054A (ja) * | 2018-10-18 | 2020-04-23 | エーエスエム・テクノロジー・シンガポール・ピーティーイー・リミテッド | レーザーパルスを用いた材料の切断 |
JP2020530400A (ja) * | 2017-08-11 | 2020-10-22 | コーニング インコーポレイテッド | 透明な工作物を同期マルチレーザ加工するための装置および方法 |
JP7429284B2 (ja) | 2019-07-26 | 2024-02-07 | コマディール・エス アー | ピボットを中心に配置させる円錐部を備える単結晶型の鉱石、及びその製造方法 |
Families Citing this family (50)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014079478A1 (en) | 2012-11-20 | 2014-05-30 | Light In Light Srl | High speed laser processing of transparent materials |
EP2754524B1 (de) | 2013-01-15 | 2015-11-25 | Corning Laser Technologies GmbH | Verfahren und Vorrichtung zum laserbasierten Bearbeiten von flächigen Substraten, d.h. Wafer oder Glaselement, unter Verwendung einer Laserstrahlbrennlinie |
EP2781296B1 (de) | 2013-03-21 | 2020-10-21 | Corning Laser Technologies GmbH | Vorrichtung und verfahren zum ausschneiden von konturen aus flächigen substraten mittels laser |
US20150059411A1 (en) * | 2013-08-29 | 2015-03-05 | Corning Incorporated | Method of separating a glass sheet from a carrier |
US20150165560A1 (en) | 2013-12-17 | 2015-06-18 | Corning Incorporated | Laser processing of slots and holes |
US11556039B2 (en) | 2013-12-17 | 2023-01-17 | Corning Incorporated | Electrochromic coated glass articles and methods for laser processing the same |
US9517963B2 (en) | 2013-12-17 | 2016-12-13 | Corning Incorporated | Method for rapid laser drilling of holes in glass and products made therefrom |
US9815730B2 (en) | 2013-12-17 | 2017-11-14 | Corning Incorporated | Processing 3D shaped transparent brittle substrate |
US10442719B2 (en) | 2013-12-17 | 2019-10-15 | Corning Incorporated | Edge chamfering methods |
US9850160B2 (en) | 2013-12-17 | 2017-12-26 | Corning Incorporated | Laser cutting of display glass compositions |
US9676167B2 (en) | 2013-12-17 | 2017-06-13 | Corning Incorporated | Laser processing of sapphire substrate and related applications |
US9701563B2 (en) | 2013-12-17 | 2017-07-11 | Corning Incorporated | Laser cut composite glass article and method of cutting |
US20150166393A1 (en) * | 2013-12-17 | 2015-06-18 | Corning Incorporated | Laser cutting of ion-exchangeable glass substrates |
CN106687419A (zh) | 2014-07-08 | 2017-05-17 | 康宁股份有限公司 | 用于激光处理材料的方法和设备 |
EP3536440A1 (en) | 2014-07-14 | 2019-09-11 | Corning Incorporated | Glass article with a defect pattern |
EP3169477B1 (en) * | 2014-07-14 | 2020-01-29 | Corning Incorporated | System for and method of processing transparent materials using laser beam focal lines adjustable in length and diameter |
CN208586209U (zh) | 2014-07-14 | 2019-03-08 | 康宁股份有限公司 | 一种用于在工件中形成限定轮廓的多个缺陷的系统 |
WO2016010991A1 (en) | 2014-07-14 | 2016-01-21 | Corning Incorporated | Interface block; system for and method of cutting a substrate being transparent within a range of wavelengths using such interface block |
US10047001B2 (en) | 2014-12-04 | 2018-08-14 | Corning Incorporated | Glass cutting systems and methods using non-diffracting laser beams |
CN107406293A (zh) | 2015-01-12 | 2017-11-28 | 康宁股份有限公司 | 使用多光子吸收方法来对经热回火的基板进行激光切割 |
WO2016138054A1 (en) | 2015-02-27 | 2016-09-01 | Corning Incorporated | Optical assembly having microlouvers |
KR102546692B1 (ko) | 2015-03-24 | 2023-06-22 | 코닝 인코포레이티드 | 디스플레이 유리 조성물의 레이저 절단 및 가공 |
JP2018516215A (ja) | 2015-03-27 | 2018-06-21 | コーニング インコーポレイテッド | 気体透過性窓、および、その製造方法 |
WO2016183148A1 (en) | 2015-05-13 | 2016-11-17 | Corning Incorporated | Light guides with reduced hot spots and methods for making the same |
WO2017011296A1 (en) * | 2015-07-10 | 2017-01-19 | Corning Incorporated | Methods of continuous fabrication of holes in flexible substrate sheets and products relating to the same |
DE102015111490A1 (de) * | 2015-07-15 | 2017-01-19 | Schott Ag | Verfahren und Vorrichtung zum lasergestützten Abtrennen eines Teilstücks von einem flächigen Glaselement |
CN107926111A (zh) * | 2015-08-21 | 2018-04-17 | 康宁股份有限公司 | 在挠性基料中连续制造特征的方法和与此相关的产品 |
CN109311725B (zh) | 2016-05-06 | 2022-04-26 | 康宁股份有限公司 | 从透明基材激光切割及移除轮廓形状 |
US10410883B2 (en) | 2016-06-01 | 2019-09-10 | Corning Incorporated | Articles and methods of forming vias in substrates |
US10794679B2 (en) | 2016-06-29 | 2020-10-06 | Corning Incorporated | Method and system for measuring geometric parameters of through holes |
WO2018022476A1 (en) | 2016-07-29 | 2018-02-01 | Corning Incorporated | Apparatuses and methods for laser processing |
KR102423775B1 (ko) | 2016-08-30 | 2022-07-22 | 코닝 인코포레이티드 | 투명 재료의 레이저 가공 |
KR102078294B1 (ko) | 2016-09-30 | 2020-02-17 | 코닝 인코포레이티드 | 비-축대칭 빔 스폿을 이용하여 투명 워크피스를 레이저 가공하기 위한 기기 및 방법 |
EP3848333A1 (en) * | 2016-10-24 | 2021-07-14 | Corning Incorporated | Substrate processing station for laser-based machining of sheet-like glass substrates |
US10752534B2 (en) | 2016-11-01 | 2020-08-25 | Corning Incorporated | Apparatuses and methods for laser processing laminate workpiece stacks |
US10688599B2 (en) | 2017-02-09 | 2020-06-23 | Corning Incorporated | Apparatus and methods for laser processing transparent workpieces using phase shifted focal lines |
JP2020513118A (ja) | 2017-04-12 | 2020-04-30 | サン−ゴバン グラス フランス | エレクトロクロミック構造およびエレクトロクロミック構造の分離方法 |
DE102017208290A1 (de) * | 2017-05-17 | 2018-11-22 | Schott Ag | Vorrichtung und Verfahren zum Bearbeiten eines Werkstücks entlang einer vorbestimmten Bearbeitungslinie |
US10580725B2 (en) | 2017-05-25 | 2020-03-03 | Corning Incorporated | Articles having vias with geometry attributes and methods for fabricating the same |
US11078112B2 (en) | 2017-05-25 | 2021-08-03 | Corning Incorporated | Silica-containing substrates with vias having an axially variable sidewall taper and methods for forming the same |
US10626040B2 (en) | 2017-06-15 | 2020-04-21 | Corning Incorporated | Articles capable of individual singulation |
US10947148B2 (en) | 2017-08-07 | 2021-03-16 | Seagate Technology Llc | Laser beam cutting/shaping a glass substrate |
US10689286B2 (en) | 2017-10-13 | 2020-06-23 | Seagate Technology Llc | Separation of glass shapes using engineered induced thermal gradients after process cutting |
US11554984B2 (en) | 2018-02-22 | 2023-01-17 | Corning Incorporated | Alkali-free borosilicate glasses with low post-HF etch roughness |
TWI677395B (zh) * | 2018-03-31 | 2019-11-21 | 財團法人工業技術研究院 | 硬脆材料切割方法及其裝置 |
CN110039205B (zh) * | 2019-04-30 | 2021-07-20 | 大族激光科技产业集团股份有限公司 | Led晶圆片的加工方法 |
RU2720791C1 (ru) * | 2019-09-06 | 2020-05-13 | Общество с ограниченной ответственностью "НАУЧНО-ТЕХНИЧЕСКОЕ ОБЪЕДИНЕНИЕ "ИРЭ-Полюс" (ООО НТО "ИРЭ-Полюс") | Способ лазерной обработки прозрачного хрупкого материала и устройство его реализующее |
CN110711937B (zh) * | 2019-11-14 | 2022-01-04 | 安徽同兴科技发展有限责任公司 | 一种切割机激光对焦的参数确定方法 |
CN114178710A (zh) * | 2020-08-24 | 2022-03-15 | 奥特斯(中国)有限公司 | 部件承载件及其制造方法 |
CN112372151A (zh) * | 2020-10-29 | 2021-02-19 | 大昶(重庆)电子科技有限公司 | 一种玻璃用镭切设备及其生产工艺 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006130691A (ja) * | 2004-11-02 | 2006-05-25 | Shibuya Kogyo Co Ltd | 脆性材料の割断方法とその装置 |
JP2010042424A (ja) * | 2008-08-11 | 2010-02-25 | Omron Corp | レーザ加工方法、レーザ加工装置、光学素子の製造方法、および光学素子 |
WO2012070490A1 (ja) * | 2010-11-24 | 2012-05-31 | 株式会社フジクラ | 微細孔の製造方法および微細孔を有する基体 |
JP2013536081A (ja) * | 2010-07-12 | 2013-09-19 | フィレイザー ユーエスエー エルエルシー | レーザーフィラメント形成による材料加工方法 |
WO2013153195A1 (fr) * | 2012-04-13 | 2013-10-17 | Centre National De La Recherche Scientifique - Cnrs | Dispositif et methode de nano-usinage par laser |
Family Cites Families (86)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1790397A (en) | 1931-01-27 | Glass workins machine | ||
US3647410A (en) | 1969-09-09 | 1972-03-07 | Owens Illinois Inc | Glass ribbon machine blow head mechanism |
US3775084A (en) | 1970-01-02 | 1973-11-27 | Owens Illinois Inc | Pressurizer apparatus for glass ribbon machine |
US4646308A (en) | 1985-09-30 | 1987-02-24 | Spectra-Physics, Inc. | Synchronously pumped dye laser using ultrashort pump pulses |
US4918751A (en) | 1987-10-05 | 1990-04-17 | The University Of Rochester | Method for optical pulse transmission through optical fibers which increases the pulse power handling capacity of the fibers |
US4764930A (en) | 1988-01-27 | 1988-08-16 | Intelligent Surgical Lasers | Multiwavelength laser source |
US4907586A (en) | 1988-03-31 | 1990-03-13 | Intelligent Surgical Lasers | Method for reshaping the eye |
US5040182A (en) | 1990-04-24 | 1991-08-13 | Coherent, Inc. | Mode-locked laser |
ATE218904T1 (de) | 1991-11-06 | 2002-06-15 | Shui T Lai | Vorrichtung für hornhautchirurgie |
US5265107A (en) | 1992-02-05 | 1993-11-23 | Bell Communications Research, Inc. | Broadband absorber having multiple quantum wells of different thicknesses |
CA2112843A1 (en) | 1993-02-04 | 1994-08-05 | Richard C. Ujazdowski | Variable repetition rate picosecond laser |
JPH06318756A (ja) | 1993-05-06 | 1994-11-15 | Toshiba Corp | レ−ザ装置 |
US5637244A (en) * | 1993-05-13 | 1997-06-10 | Podarok International, Inc. | Method and apparatus for creating an image by a pulsed laser beam inside a transparent material |
US6489589B1 (en) | 1994-02-07 | 2002-12-03 | Board Of Regents, University Of Nebraska-Lincoln | Femtosecond laser utilization methods and apparatus and method for producing nanoparticles |
US5436925A (en) | 1994-03-01 | 1995-07-25 | Hewlett-Packard Company | Colliding pulse mode-locked fiber ring laser using a semiconductor saturable absorber |
US5400350A (en) | 1994-03-31 | 1995-03-21 | Imra America, Inc. | Method and apparatus for generating high energy ultrashort pulses |
US5778016A (en) | 1994-04-01 | 1998-07-07 | Imra America, Inc. | Scanning temporal ultrafast delay methods and apparatuses therefor |
JP2526806B2 (ja) | 1994-04-26 | 1996-08-21 | 日本電気株式会社 | 半導体レ―ザおよびその動作方法 |
WO1995031023A1 (en) | 1994-05-09 | 1995-11-16 | Massachusetts Institute Of Technology | Dispersion-compensated laser using prismatic end elements |
US6016324A (en) | 1994-08-24 | 2000-01-18 | Jmar Research, Inc. | Short pulse laser system |
US5776220A (en) | 1994-09-19 | 1998-07-07 | Corning Incorporated | Method and apparatus for breaking brittle materials |
US5696782A (en) | 1995-05-19 | 1997-12-09 | Imra America, Inc. | High power fiber chirped pulse amplification systems based on cladding pumped rare-earth doped fibers |
JPH09207343A (ja) * | 1995-11-29 | 1997-08-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レーザ加工方法 |
US5736709A (en) | 1996-08-12 | 1998-04-07 | Armco Inc. | Descaling metal with a laser having a very short pulse width and high average power |
US7353829B1 (en) | 1996-10-30 | 2008-04-08 | Provectus Devicetech, Inc. | Methods and apparatus for multi-photon photo-activation of therapeutic agents |
US6156030A (en) | 1997-06-04 | 2000-12-05 | Y-Beam Technologies, Inc. | Method and apparatus for high precision variable rate material removal and modification |
BE1011208A4 (fr) * | 1997-06-11 | 1999-06-01 | Cuvelier Georges | Procede de decalottage de pieces en verre. |
DE19728766C1 (de) | 1997-07-07 | 1998-12-17 | Schott Rohrglas Gmbh | Verwendung eines Verfahrens zur Herstellung einer Sollbruchstelle bei einem Glaskörper |
US6078599A (en) | 1997-07-22 | 2000-06-20 | Cymer, Inc. | Wavelength shift correction technique for a laser |
DE19750320C1 (de) | 1997-11-13 | 1999-04-01 | Max Planck Gesellschaft | Verfahren und Vorrichtung zur Lichtpulsverstärkung |
GB2335603B (en) | 1997-12-05 | 2002-12-04 | Thermolase Corp | Skin enhancement using laser light |
US6501578B1 (en) | 1997-12-19 | 2002-12-31 | Electric Power Research Institute, Inc. | Apparatus and method for line of sight laser communications |
JPH11197498A (ja) | 1998-01-13 | 1999-07-27 | Japan Science & Technology Corp | 無機材料内部の選択的改質方法及び内部が選択的に改質された無機材料 |
US6272156B1 (en) | 1998-01-28 | 2001-08-07 | Coherent, Inc. | Apparatus for ultrashort pulse transportation and delivery |
JPH11269683A (ja) | 1998-03-18 | 1999-10-05 | Armco Inc | 金属表面から酸化物を除去する方法及び装置 |
US6160835A (en) | 1998-03-20 | 2000-12-12 | Rocky Mountain Instrument Co. | Hand-held marker with dual output laser |
US6256328B1 (en) | 1998-05-15 | 2001-07-03 | University Of Central Florida | Multiwavelength modelocked semiconductor diode laser |
JPH11347758A (ja) | 1998-06-10 | 1999-12-21 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 超精密加工装置 |
US6407360B1 (en) | 1998-08-26 | 2002-06-18 | Samsung Electronics, Co., Ltd. | Laser cutting apparatus and method |
EA199900040A1 (ru) * | 1998-10-13 | 1999-10-28 | Ооо "Лазтекс" | Способ резки пластин хрупких материалов |
US7649153B2 (en) * | 1998-12-11 | 2010-01-19 | International Business Machines Corporation | Method for minimizing sample damage during the ablation of material using a focused ultrashort pulsed laser beam |
US6445491B2 (en) | 1999-01-29 | 2002-09-03 | Irma America, Inc. | Method and apparatus for optical sectioning and imaging using time-gated parametric image amplification |
US6381391B1 (en) | 1999-02-19 | 2002-04-30 | The Regents Of The University Of Michigan | Method and system for generating a broadband spectral continuum and continuous wave-generating system utilizing same |
US6484052B1 (en) | 1999-03-30 | 2002-11-19 | The Regents Of The University Of California | Optically generated ultrasound for enhanced drug delivery |
US6373565B1 (en) | 1999-05-27 | 2002-04-16 | Spectra Physics Lasers, Inc. | Method and apparatus to detect a flaw in a surface of an article |
US6449301B1 (en) | 1999-06-22 | 2002-09-10 | The Regents Of The University Of California | Method and apparatus for mode locking of external cavity semiconductor lasers with saturable Bragg reflectors |
US6573026B1 (en) | 1999-07-29 | 2003-06-03 | Corning Incorporated | Femtosecond laser writing of glass, including borosilicate, sulfide, and lead glasses |
US6339208B1 (en) | 2000-01-19 | 2002-01-15 | General Electric Company | Method of forming cooling holes |
US6552301B2 (en) | 2000-01-25 | 2003-04-22 | Peter R. Herman | Burst-ultrafast laser machining method |
JP4659300B2 (ja) | 2000-09-13 | 2011-03-30 | 浜松ホトニクス株式会社 | レーザ加工方法及び半導体チップの製造方法 |
KR100673073B1 (ko) | 2000-10-21 | 2007-01-22 | 삼성전자주식회사 | 레이저 빔을 이용한 비금속 기판의 절단 방법 및 장치 |
SG108262A1 (en) | 2001-07-06 | 2005-01-28 | Inst Data Storage | Method and apparatus for cutting a multi-layer substrate by dual laser irradiation |
US6552298B1 (en) * | 2001-09-28 | 2003-04-22 | Corning Incorporated | Apparatus and method for making a lens on the end of an optical waveguide fiber |
FR2855084A1 (fr) * | 2003-05-22 | 2004-11-26 | Air Liquide | Optique de focalisation pour le coupage laser |
JP2005138143A (ja) | 2003-11-06 | 2005-06-02 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザ光線を利用する加工装置 |
JP4418282B2 (ja) | 2004-03-31 | 2010-02-17 | 株式会社レーザーシステム | レーザ加工方法 |
US7804043B2 (en) | 2004-06-15 | 2010-09-28 | Laserfacturing Inc. | Method and apparatus for dicing of thin and ultra thin semiconductor wafer using ultrafast pulse laser |
JP4222296B2 (ja) | 2004-11-22 | 2009-02-12 | 住友電気工業株式会社 | レーザ加工方法とレーザ加工装置 |
JP4490883B2 (ja) | 2005-07-19 | 2010-06-30 | 株式会社レーザーシステム | レーザ加工装置およびレーザ加工方法 |
RU2288196C1 (ru) * | 2005-08-26 | 2006-11-27 | Борис Григорьевич Бердитчевский | Способ создания цветных изображений в прозрачных стеклах |
US9138913B2 (en) * | 2005-09-08 | 2015-09-22 | Imra America, Inc. | Transparent material processing with an ultrashort pulse laser |
DE102006042280A1 (de) | 2005-09-08 | 2007-06-06 | IMRA America, Inc., Ann Arbor | Bearbeitung von transparentem Material mit einem Ultrakurzpuls-Laser |
EP1875983B1 (en) | 2006-07-03 | 2013-09-11 | Hamamatsu Photonics K.K. | Laser processing method and chip |
US8168514B2 (en) | 2006-08-24 | 2012-05-01 | Corning Incorporated | Laser separation of thin laminated glass substrates for flexible display applications |
DE102007024700A1 (de) * | 2007-05-25 | 2008-12-04 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur Materialbearbeitung mit Laserstrahlung sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
JP5345334B2 (ja) | 2008-04-08 | 2013-11-20 | 株式会社レミ | 脆性材料の熱応力割断方法 |
US20100252959A1 (en) | 2009-03-27 | 2010-10-07 | Electro Scientific Industries, Inc. | Method for improved brittle materials processing |
KR101561729B1 (ko) | 2009-05-06 | 2015-10-19 | 코닝 인코포레이티드 | 유리 기판의 캐리어 |
CN102596830A (zh) * | 2009-08-28 | 2012-07-18 | 康宁股份有限公司 | 利用激光从化学强化玻璃基板切割出制品的方法 |
US20120234807A1 (en) | 2009-12-07 | 2012-09-20 | J.P. Sercel Associates Inc. | Laser scribing with extended depth affectation into a workplace |
RU2459691C2 (ru) * | 2010-11-29 | 2012-08-27 | Юрий Георгиевич Шретер | Способ отделения поверхностного слоя полупроводникового кристалла (варианты) |
US8539794B2 (en) | 2011-02-01 | 2013-09-24 | Corning Incorporated | Strengthened glass substrate sheets and methods for fabricating glass panels from glass substrate sheets |
US8933367B2 (en) | 2011-02-09 | 2015-01-13 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Laser processing method |
WO2012108052A1 (ja) | 2011-02-10 | 2012-08-16 | 信越ポリマー株式会社 | 単結晶基板製造方法および内部改質層形成単結晶部材 |
DE102011000768B4 (de) | 2011-02-16 | 2016-08-18 | Ewag Ag | Laserbearbeitungsverfahren und Laserbearbeitungsvorrichtung mit umschaltbarer Laseranordnung |
KR101120471B1 (ko) | 2011-08-05 | 2012-03-05 | (주)지엘코어 | 다중 초점 방식의 펄스 레이저를 이용한 취성 재료 절단 장치 |
US10239160B2 (en) | 2011-09-21 | 2019-03-26 | Coherent, Inc. | Systems and processes that singulate materials |
TW201343296A (zh) | 2012-03-16 | 2013-11-01 | Ipg Microsystems Llc | 使一工件中具有延伸深度虛飾之雷射切割系統及方法 |
CN102672355B (zh) | 2012-05-18 | 2015-05-13 | 杭州士兰明芯科技有限公司 | Led衬底的划片方法 |
US9938180B2 (en) * | 2012-06-05 | 2018-04-10 | Corning Incorporated | Methods of cutting glass using a laser |
WO2014079478A1 (en) | 2012-11-20 | 2014-05-30 | Light In Light Srl | High speed laser processing of transparent materials |
EP2754524B1 (de) | 2013-01-15 | 2015-11-25 | Corning Laser Technologies GmbH | Verfahren und Vorrichtung zum laserbasierten Bearbeiten von flächigen Substraten, d.h. Wafer oder Glaselement, unter Verwendung einer Laserstrahlbrennlinie |
US9102007B2 (en) * | 2013-08-02 | 2015-08-11 | Rofin-Sinar Technologies Inc. | Method and apparatus for performing laser filamentation within transparent materials |
US10005152B2 (en) * | 2013-11-19 | 2018-06-26 | Rofin-Sinar Technologies Llc | Method and apparatus for spiral cutting a glass tube using filamentation by burst ultrafast laser pulses |
US9517929B2 (en) * | 2013-11-19 | 2016-12-13 | Rofin-Sinar Technologies Inc. | Method of fabricating electromechanical microchips with a burst ultrafast laser pulses |
DE102013223637B4 (de) * | 2013-11-20 | 2018-02-01 | Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh | Verfahren zum Behandeln eines lasertransparenten Substrats zum anschließenden Trennen des Substrats |
-
2014
- 2014-10-31 US US14/529,801 patent/US9687936B2/en active Active
- 2014-12-15 JP JP2016539263A patent/JP6571085B2/ja active Active
- 2014-12-15 WO PCT/US2014/070275 patent/WO2015095014A1/en active Application Filing
- 2014-12-15 MX MX2016007974A patent/MX364462B/es active IP Right Grant
- 2014-12-15 EP EP14822005.6A patent/EP3083126B1/en active Active
- 2014-12-15 CN CN201480075659.1A patent/CN106170367A/zh active Pending
- 2014-12-15 RU RU2016128888A patent/RU2673258C1/ru not_active IP Right Cessation
- 2014-12-17 TW TW103144125A patent/TWI645929B/zh not_active IP Right Cessation
-
2017
- 2017-06-08 US US15/617,622 patent/US20170266757A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006130691A (ja) * | 2004-11-02 | 2006-05-25 | Shibuya Kogyo Co Ltd | 脆性材料の割断方法とその装置 |
JP2010042424A (ja) * | 2008-08-11 | 2010-02-25 | Omron Corp | レーザ加工方法、レーザ加工装置、光学素子の製造方法、および光学素子 |
JP2013536081A (ja) * | 2010-07-12 | 2013-09-19 | フィレイザー ユーエスエー エルエルシー | レーザーフィラメント形成による材料加工方法 |
WO2012070490A1 (ja) * | 2010-11-24 | 2012-05-31 | 株式会社フジクラ | 微細孔の製造方法および微細孔を有する基体 |
WO2013153195A1 (fr) * | 2012-04-13 | 2013-10-17 | Centre National De La Recherche Scientifique - Cnrs | Dispositif et methode de nano-usinage par laser |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017066027A (ja) * | 2015-10-01 | 2017-04-06 | 旭硝子株式会社 | パルスレーザを用いてガラス基板に孔を形成する方法、および孔を有するガラス基板を製造する方法 |
JP2020530400A (ja) * | 2017-08-11 | 2020-10-22 | コーニング インコーポレイテッド | 透明な工作物を同期マルチレーザ加工するための装置および方法 |
JP2020065054A (ja) * | 2018-10-18 | 2020-04-23 | エーエスエム・テクノロジー・シンガポール・ピーティーイー・リミテッド | レーザーパルスを用いた材料の切断 |
KR20200043917A (ko) * | 2018-10-18 | 2020-04-28 | 에이에스엠 테크놀러지 싱가포르 피티이 엘티디 | 레이저 펄스를 사용한 재료 절단 |
KR102356121B1 (ko) * | 2018-10-18 | 2022-01-28 | 에이에스엠 테크놀러지 싱가포르 피티이 엘티디 | 레이저 펄스를 사용한 재료 절단 |
JP7429284B2 (ja) | 2019-07-26 | 2024-02-07 | コマディール・エス アー | ピボットを中心に配置させる円錐部を備える単結晶型の鉱石、及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2015095014A1 (en) | 2015-06-25 |
JP6571085B2 (ja) | 2019-09-04 |
EP3083126A1 (en) | 2016-10-26 |
MX2016007974A (es) | 2017-01-11 |
RU2673258C1 (ru) | 2018-11-23 |
CN106170367A (zh) | 2016-11-30 |
US20150166397A1 (en) | 2015-06-18 |
TW201524651A (zh) | 2015-07-01 |
RU2016128888A (ru) | 2018-01-23 |
EP3083126B1 (en) | 2020-02-26 |
TWI645929B (zh) | 2019-01-01 |
MX364462B (es) | 2019-04-26 |
US9687936B2 (en) | 2017-06-27 |
US20170266757A1 (en) | 2017-09-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6571085B2 (ja) | 超高速レーザおよびビーム光学系を用いた透明材料の切断 | |
JP7119028B2 (ja) | 長さおよび直径の調節可能なレーザビーム焦線を用いて透明材料を加工するためのシステムおよび方法 | |
US10233112B2 (en) | Laser processing of slots and holes | |
US10179748B2 (en) | Laser processing of sapphire substrate and related applications | |
US10252931B2 (en) | Laser cutting of thermally tempered substrates | |
US10377658B2 (en) | Apparatuses and methods for laser processing | |
KR20190070340A (ko) | 유리 기판에서 홀 및 슬롯의 생성 | |
CN106029589B (zh) | 激光切割复合材料玻璃制品和切割方法 | |
KR20190043586A (ko) | 투명 재료의 레이저 가공 | |
JP2017504553A (ja) | ガラスの3d形成 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171208 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20171208 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180118 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180828 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180912 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20181212 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190208 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190710 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190807 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6571085 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |