JP2017502310A - 分子をプローブし、検出し、及び分析するための、外部光源を備えた集積デバイス - Google Patents
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Abstract
Description
する。理解され得るように、チップ、受け入れ機器、及び/又はコンピュータの上の集積及びコンピューティング知能は、ユーザから必要とされる技能レベルを低減させる。
ルギー・カップリング・エレメントが、サンプル・ウェルに隣接して位置付けされており、サンプル・ウェルから放出される放射線を、放出される放射線の波長に依存する複数の異なる空間的な分布の中へ方向付けするように構成されている。いくつかの実施形態では、少なくとも1つのセンサーが、複数のマーカのそれぞれに関する放射線パターンの少なくとも一部分の空間的な分布を検出するように構成されている複数のセンサーである。いくつかの実施形態では、集積デバイスが、少なくとも1つのソーティング・エレメントをさらに含み、少なくとも1つのソーティング・エレメントが、サンプル・ウェルと複数のセンサーとの間に位置付けされており、特定の波長のエミッション・エネルギーを複数のセンサーのうちの1つのセンサーに方向付けするように構成されている。
ンプル・ウェルが、複数の同心円状のグレーチング構造体のうちの1つに対して中心を合わせられている。いくつかの実施形態では、複数の表面エネルギー・カップリング・エレメントが、複数のナノ・アンテナ構造体であり、それぞれのサンプル・ウェルが、複数のナノ・アンテナ構造体のうちの1つの付近に位置付けされている。いくつかの実施形態では、集積デバイスを形成する方法が、複数のソーティング・エレメントを形成する工程をさらに含み、それぞれのソーティング・エレメントが、複数のサンプル・ウェルのうちの1つのサンプル・ウェルと複数のセンサー領域のうちの1つのセンサー領域との間に位置付けされており、特定の波長のエミッション・エネルギーを複数のセンサーのうちの1つのセンサーに方向付けするように構成されている。
給源、及び、第1のピクセルのセンサー領域の複数のセンサーから読み出し信号を受け取るための読み出し回路を有している。方法は、励起エネルギーによって第1のマーカを照射する工程と、第1のピクセルのセンサー領域の複数のセンサーからの読み出し信号から、第1のマーカによって発生するエミッション・エネルギーの空間的な分布を検出する工程と、をさらに含む。
づいて区別可能である。いくつかの実施形態では、プライミング場所が、ターゲット核酸分子に相補的なプライマーを含む。いくつかの実施形態では、重合酵素が、サンプル・ウェルの中に固定化されている。いくつかの実施形態では、重合酵素が、サンプル・ウェルの底部部分において固定化されている。いくつかの実施形態では、重合酵素が、サンプル・ウェルの表面に取り付けられるリンカーを使用して固定化されている。いくつかの実施形態では、重合酵素が、鎖置換活性を示す。いくつかの実施形態では、ヌクレオチド又はヌクレオチド類似体が、少なくとも1つの励起エネルギー供給源からの励起エネルギーによって励起が起こると、エミッションを放出する。いくつかの実施形態では、励起エネルギー供給源が、レーザ光供給源であり、レーザ光供給源は、少なくとも1つの導波路を通してサンプル・ウェルに動作可能にカップリングされており、励起エネルギーは、少なくとも1つの導波路を通してレーザ光供給源からサンプル・ウェルへ方向付けされる。いくつかの実施形態では、サンプル・ウェルが、複数のサンプル・ウェルの間にある。いくつかの実施形態では、複数のサンプル・ウェルが、集積デバイスの一部である。いくつかの実施形態では、励起エネルギーが、集積デバイスから分離している少なくとも1つの励起エネルギー供給源によって提供される。いくつかの実施形態では、センサーが、集積デバイスの一部である。
る工程であって、第1のエミッションは、異なるタイプの核酸サブユニットの中からの1つのタイプの核酸サブユニットに関連付けられる、工程と、からなることが可能である。方法は、受け取られた第1のエミッションを表す第1の信号及び第2の信号を、センサーによって作り出す工程と、第1の信号及び第2の信号を分析する工程と、第1の信号及び第2の信号の分析に基づいて、核酸サブユニットのタイプを特定する工程と、をさらに含むことが可能である。
の半導体デバイスからなる。いくつかの実施形態では、第1の構造体が、励起領域の中の励起エネルギーの強度を増加させるマイクロ光学的な構造体又はナノ光学的な構造体からなる。
れるエントランス・アパーチャからなる。いくつかの実施形態では、エントランス・アパーチャの直径が、励起エネルギーの特性波長よりも小さい。いくつかの実施形態では、アパーチャの直径が、おおよそ30ナノメートルからおおよそ250ナノメートルの間である。いくつかの実施形態では、アパーチャの直径が、おおよそ500ナノメートルよりも小さい。
け取るように、及び、変換されたエネルギーをサンプルに非放射で送達するように配置されている。いくつかの実施形態では、励起エネルギーが、フェルスター共鳴エネルギー移動(FRET)、ダブル電子エネルギー伝達、又はデクスター・エネルギー移動(DET)を介して、サンプルに送達される。
ることが可能である。いくつかの実施形態では、半導体層とエネルギー伝達粒子の層との間のエネルギー伝達、又は、エネルギー伝達粒子の層とサンプルとの間のエネルギー伝達が、非放射的である。いくつかの態様では、半導体デバイスが、サンプル・ウェルに隣接して形成された少なくとも1つの半導体層からなり、集積デバイスが、サンプル・ウェルの中のサンプルにコンジュゲートされた少なくとも1つのエネルギー伝達粒子をさらに含み、少なくとも1つのエネルギー伝達粒子は、少なくとも1つの半導体層からサンプルへエネルギーを伝達するように適合されている。いくつかの実施形態によれば、半導体層と少なくとも1つのエネルギー伝達粒子との間のエネルギー伝達、又は、少なくとも1つのエネルギー伝達粒子とサンプルとの間のエネルギー伝達が、非放射的である。いくつかの態様では、半導体層と少なくとも1つのエネルギー伝達粒子との間のエネルギー伝達、及び、少なくとも1つのエネルギー伝達粒子とサンプルとの間のエネルギー伝達が、非放射的である。いくつかの実施形態では、半導体デバイスが、p−n接合を含む。いくつかの実施形態では、半導体デバイスが、有機半導体からなる。いくつかの実施形態では、半導体デバイスが、無機半導体からなる。いくつかの態様によれば、少なくとも1つの半導体層からサンプルへ伝達されるエネルギーの少なくともいくらかは、フェルスター共鳴エネルギー移動(FRET)を介する。
ける励起エネルギーの量を抑制するように構成されている波長差別フィルターからなる。いくつかの態様では、波長差別フィルターが、多層スタックからなる。いくつかの実施形態では、波長差別フィルターが、周波数選択性表面からなる。周波数選択性表面は、周波数選択性表面を横断する光学的な放射線の振幅及び/又は位相に影響を及ぼす振幅及び/又は位相構造体を含む、ピクセルの中にパターニングされた層からなることが可能である。いくつかの実施形態によれば、センシング・システムが、少なくともいくらかの励起エネルギーをブロックする光シールドからなる。いくつかの実施形態では、センシング・システムが、少なくとも1つの光学位相マスクからなる。位相マスクは、位相マスクを横断する光学的な放射線の位相に影響を及ぼす位相構造体を含む、ピクセルの中のパターニングされた層からなることが可能である。いくつかの実施形態では、位相マスクは、位相マスクを横断する光学的な放射線の振幅に目に見えて影響を及ぼさないことが可能である。
形態によれば、少なくとも1つの分子又は量子ドットが、サンプル・ウェルに隣接してデバイスの中に配置され、受け取られるエネルギーを電気信号に変換し、電気信号は、CMOS回路によって検出される。いくつかの実施形態では、半導体デバイスが、サンプル・ウェルに隣接して位置付けされているp−n接合を含み、受け取られるエネルギーを電気信号に変換するように構成されており、電気信号は、CMOS回路によって検出される。
ーティング・デバイスからデータを受信するための、通信インターフェースを含む。いくつかの実施形態では、通信インターフェースが、USBインターフェース、Thunderboltインターフェース、及び/又は高速デジタル・インターフェースからなる。いくつかの態様では、コンピューティング・デバイスが、パーソナル・コンピュータ、ラップトップ・コンピュータ、タブレット・コンピュータ、パーソナル・デジタル・アシスタント、スマート・フォン、又はモバイル・デバイスからなる。いくつかの実施形態によれば、回路が、マルチ・チャネル・アナログ−デジタル・コンバータを含むCMOS回路からなる。いくつかの態様では、CMOS回路が、少なくとも1つのフィールド・プログラマブル・ゲート・アレイ(FPGA)、及び/又は、少なくとも1つの特定用途向け集積回路(ASIC)を含む。いくつかの実施形態では、少なくとも1つのサンプル・ウェルが、金属層の中に形成されている。
含まれ得る。
置され得る。
「タグ」という用語は、本開示において、分析されることになるサンプルに取り付けられているか、又は、サンプルと反応させられ得る反応物質に取り付けられている、タグ、プローブ、マーカ、又はレポータを表すために使用され得る。
「エミッション」という用語は、本開示において、タグ及び/又はサンプルからのエミッションを表すために使用され得る。これは、放射エミッション(たとえば、光学的なエミッション)、又は、非放射エネルギー伝達(たとえば、デクスター・エネルギー移動もしくはフェルスター共鳴エネルギー移動)を含むことが可能である。エミッションは、サンプル・ウェルの中のサンプル及び/又はタグの励起から結果として生じる。
程において、第1のエレメント及び第2のエレメントの両方のパターンを含むことからなることが可能であり、又は、第1のエレメントの製作された構造体の特徴を使用して、第2のエレメントを形成することからなることが可能である。
図面に関連して実施形態を説明するときに、方向参照(「上方」、「下方」、「上部」、「底部」、「左」、「右」、「水平方向」、「垂直方向」など)が使用され得る。そのような参照は、単に、通常の配向で図面を見ている読者に対する支援となることを目的としている。これらの指向性の参照は、具現化されているデバイスの、好適な又は単なる配向を説明することを意図していない。デバイスは、他の配向に具現化され得る。
本発明者は、バイオアッセイを実施するための従来の装置は、大きくて高価であり、先進的な実験技法を実施することを必要とする可能性があるということを認識及び理解した。多くのタイプのバイオアッセイは、試料の中の単一分子の検出に依存する。単一分子検出は、分子の励起のために必要とされる高い強度の光を発生させるために使用される大きくて場所を取るレーザ・システムを必要とする可能性がある。加えて、大型の光学的なコンポーネントが、レーザ光を試料に方向付けするために使用され得、追加的な光学的なコンポーネントが、試料からの発光性の光をセンサーに方向付けするために使用され得る。これらの従来の光学的なコンポーネントは、正確なアライメント及び安定化を必要とする可能性がある。従来の実験機器、及び、この従来の機器を使用するために必要とされるトレーニングは、複雑で高価なバイオアッセイを結果として生じさせる可能性がある。
質などのような、被験者の生物学的なサンプルの中の生体分子の検出を含むことが可能である。いくつかの例では、診断検査は、被験者の生物学的なサンプルの中の無細胞デオキシリボ核酸分子又は発現産物のシークエンシングなどのような、被験者の生物学的なサンプルの中の核酸分子をシークエンシングすることを含む。
あることが可能であり、たとえば、重合酵素の支援などによって、末端リン酸塩から標識を分離するようになっている。ヌクレオチド及びリンカーの例が、米国特許第7,041,812号に提供されており、それは、全体が本願明細書に援用されている。
方法において変化し、また、シークエンシング・プロセスの中のレート、リード長、及びエラーの発生において変化することが可能である。たとえば、いくつかの核酸シークエンシング方法は、合成によるシークエンシングに基づいており、合成によるシークエンシングでは、ヌクレオチドが、ターゲット核酸分子に相補的な核酸の新しく合成された鎖の中へ組み込まれるときに、ヌクレオチドのアイデンティティーが決定される。合成方法によるいくつかのシークエンシングは、ターゲット核酸分子の一定数の存在(たとえば、ターゲット核酸のコピー)、又は、一定数のターゲット核酸を達成するためにターゲット核酸の増幅の工程を必要とする。
たとえば適切なバッファー、補因子、酵素(たとえば、ポリメラーゼ)、ならびに、たとえば、デオキシアデノシン三リン酸(dATP)、デオキシシチジン三リン酸(dCTP)、デオキシグアノシン三リン酸(dGTP)、デオキシウリジン三リン酸(dUTP)、及びデオキシチミジン三リン酸(dTTP)、dNTPを含む、デオキシリボヌクレオシド三リン酸などのような、デオキシリボヌクレオシド・ポリリン酸などであり、それは、フルオロフォアなどのような発光性タグを含む。dNTPのそれぞれのクラス(たとえばアデニンを含有するdNTP(たとえば、dATP)、シトシンを含有するdNTP(たとえば、dCTP)、グアニンを含有するdNTP(たとえば、dGTP)、ウラシルを含有するdNTP(たとえば、dUTP)、及び、チミンを含有するdNTP(たとえば、dTTP))は、別個の発光性タグにコンジュゲートされており、タグから放出される光の検出が、新しく合成された核酸の中へ組み込まれたdNTPのアイデンティティーを示すようになっている。発光性タグから放出される光は、本明細書の他の場所で説明されている検出のためのそのようなデバイス及び方法を含む、任意の適切なデバイス及び/又は方法を介して検出され得、その適当な発光性タグに起因することが可能である(及び、したがって、dNTPに関連付けられる)。発光性タグは、任意の位置においてdNTPにコンジュゲートされ得、発光性タグの存在が、新しく合成された核酸鎖の中へのdNTPの組み込み、又は、ポリメラーゼの活動を阻止しないようになっている。いくつかの実施形態では、発光性タグは、dNTPの末端ホスフェート(ガンマ・ホスフェート)にコンジュゲートされている。
の時点で処理され、ターゲット核酸鋳型の配列を決定することが可能である。これは、信号を参照信号と比較し、組み込まれるヌクレオシドのアイデンティティーを時間の関数として決定することを含むことが可能である。代替的に又は加えて、ヌクレオシドの組み込みのときに放出される信号は、リアルタイムで(すなわち、ヌクレオシド組み込みのときに)収集及び処理され、ターゲット核酸鋳型の配列をリアルタイムで決定することが可能である。
なり合わなくてもよい。しかし、2つ以上のタグのエミッション・スペクトルが重なり合う場合には、1つのタグが、それぞれのピーク波長において、任意の他のタグよりも実質的に多い光を放出するように、発光性タグ・セットを選択することが望ましい。この実施形態では、4つのタグのそれぞれが励起供給源からの光を最大限に吸収する励起波長は、実質的に等価であるが、そうである必要はない。上記のタグ・セットを使用して、4つの異なる分子が、タグ・セットからのそれぞれのタグによって標識化され得、タグは、単一の励起供給源を使用して励起され得、タグは、光学的なシステム及びセンサーを使用してタグのエミッション波長を検出することによって、互いから区別され得る。図1−1は、4つの異なるタグを図示しているが、任意の適切な数のタグが使用され得るということが認識されるべきである。
付け及び検出するために使用される光学的なシステム及びセンサーは、放出される光の波長を検出することができる必要はない。これは、いくつかの実施形態では、有利である可能性がある。その理由は、そのような実施形態では、エミッション波長を検出することは要求されないので、それが、光学的なシステム及びセンサーの複雑さを低減させるからである。
II. システムの概観
システムは、集積デバイスと、集積デバイスにインターフェース接続するように構成されている機器とを含む。集積デバイスは、ピクセルのアレイを含み、それぞれのピクセルは、サンプル・ウェル及び少なくとも1つのセンサーを含む。集積デバイスの表面は、複数のサンプル・ウェルを有しており、複数のサンプル・ウェルは、集積デバイスの表面の上に設置されている試料の中からサンプルを受け入れるように構成されている開口部である。複数のサンプルは、試料の中に含まれ得、サンプル・ウェルは、1つのサンプルを受け入れるように設計され得、それぞれのサンプル・ウェルが異なるサンプルを含有するよ
うになっている。たとえば、多くの一本鎖DNA鋳型を含有する試料が、集積デバイスの表面の上に設置されており、それぞれのサンプル・ウェルは、一本鎖DNA鋳型を受け入れることが可能である。また、試料は、タグを付けられたdNTPを含有することが可能であり、それは、次いで、それがDNAの相補的な鎖の中へ組み込まれるときに、ヌクレオチドを特定するために、サンプル・ウェルの中に進入する。そのような例では、「サンプル」は、一本鎖DNA、及び、ポリメラーゼによって現在組み込まれているタグを付けられたdNTPの両方を表すことが可能である。
れている。そのような供給源・トゥー・ウェル・エレメントは、励起エネルギーを集積デバイスにカップリングするために集積デバイスの上に位置付けされているグレーチング・カップラー、励起エネルギーをそれぞれのピクセルに送達するための導波路、ならびに、機器から受け取られた励起エネルギーをサンプル・ウェルに方向付けするために集積デバイスの上に位置付けされている、レンズ、プラズモニック・エレメント、及び誘電体コーティングを含むことが可能である。追加的に、集積デバイスの上に位置付けされている光学エレメントは、サンプル・ウェルからのエミッション・エネルギーをセンサーに向けて方向付けする。そのようなウェル・トゥー・サンプル・エレメントは、エミッション・エネルギーを放射線パターンの中へ方向付けするコンポーネントを含むことが可能であり、そこでは、放射線パターンは、サンプル・ウェルの中のサンプルによって放出されるエミッション・エネルギーに依存する。サンプル・ウェル、励起供給源・トゥー・ウェル・オプティクスの一部分、及びサンプル・ウェル・トゥー・センサー・オプティクスは、集積デバイスの上に位置付けされている。励起供給源、及び、供給源・トゥー・ウェル・コンポーネントの一部分は、励起供給源2−106を含有する機器2−104の中に位置付けされている。いくつかの実施形態では、単一のコンポーネントは、励起エネルギーをサンプル・ウェルにカップリングする際、及び、サンプル・ウェルからのエミッション・エネルギーをセンサーに送達する際の両方において、役割を果たすことが可能である。
クロホンを含むことが可能である。追加的に、ユーザ・インターフェース2−116は、適正なアライメント、及び/又は、集積デバイスの上のセンサーからの読み出し信号によって得られる情報などのような、機器及び/又は集積デバイスの性能についてのフィードバックを、ユーザが受け取ることを可能にすることができる。いくつかの実施形態では、ユーザ・インターフェース2−116は、可聴フィードバックを提供するためにスピーカを使用して、ならびに/又は、視覚的フィードバックを提供するためにインジケーター光及び/もしくは表示スクリーンを使用して、フィードバックを提供することが可能である。いくつかの実施形態では、機器2−104は、コンピューティング・デバイス2−120と接続するために使用されるコンピュータ・インターフェース2−118を含む。任意の適切なコンピュータ・インターフェース2−118及びコンピューティング・デバイス2−120が使用され得る。たとえば、コンピュータ・インターフェース2−118は、USBインターフェース又はFireWire(登録商標)インターフェースであることが可能である。コンピューティング・デバイス2−120は、ラップトップ・コンピュータ又はデスクトップ・コンピュータなどのような、任意の汎用コンピュータであることが可能である。コンピュータ・インターフェース2−118は、機器2−104とコンピューティング・デバイス2−120との間の情報の通信を促進させる。機器2−104を制御及び/又は設定するための入力情報は、機器のコンピュータ・インターフェース2−118に接続されているコンピューティング・デバイス2−120を通して提供され得る。追加的に、出力情報は、コンピュータ・インターフェース2−118を通してコンピューティング・デバイス2−120によって受け取られ得る。そのような出力情報は、機器2−104及び/又は集積デバイス2−112の性能についてのフィードバック、及び、センサー2−110の読み出し信号からの情報を含むことが可能である。また、機器2−104は、センサー2−110から受け取られるデータを分析するための、及び/又は制御信号を励起供給源2−106へ送るためのプロセッシング・デバイス2−122を含むことが可能である。いくつかの実施形態では、プロセッシング・デバイス2−122は、汎用プロセッサー、特別に適合されたプロセッサー(たとえば、1つ又は複数のマイクロプロセッサーもしくはマイクロコントローラ・コアなどのような中央処理装置(CPU)、フィールド・プログラマブル・ゲート・アレイ(FPGA)、特定用途向け集積回路(ASIC)、カスタム集積回路、デジタル信号プロセッサー(DSP)、又は、それらの組み合わせ)からなることが可能である。いくつかの実施形態では、センサー2−110からのデータを処理することは、プロセッシング・デバイス2−122及び外部コンピューティング・デバイス2−120の両方によって行われ得る。他の実施形態では、コンピューティング・デバイス2−120は省略され得、また、センサー2−110からのデータを処理することは、プロセッシング・デバイス2−122だけによって行われ得る。
、ステッピング・モータ、及び/又はノブを含むことが可能である。集積デバイスは、励起エネルギー3−130を集積デバイスの中のピクセルに向けて方向付けするコンポーネントを含む。それぞれのピクセル3−112の中で、励起エネルギーは、ピクセルに関連付けられるサンプル・ウェル3−108にカップリングされている。図3−1Bは、ピクセルの横列の中のそれぞれのサンプル・ウェルにカップリングする励起エネルギーを図示しているが、いくつかの実施形態では、励起エネルギーは、横列の中のピクセルのすべてにカップリングしなくてもよい。いくつかの実施形態では、励起エネルギーは、ピクセルの一部分、又は、集積デバイスのピクセルの横列の中のサンプル・ウェルにカップリングすることが可能である。励起エネルギーは、サンプル・ウェルの中に位置付けされているサンプルを照射することが可能である。サンプルは、励起エネルギーによって照射されていることに応答して、励起された状態に到達することが可能である。サンプルが励起された状態になっているときに、サンプルは、エミッション・エネルギーを放出することが可能であり、エミッション・エネルギーは、センサーによって検出され得る。図3−1Bは、サンプル・ウェル3−108からピクセル3−112のセンサー3−110へのエミッション・エネルギー3−140の経路(実線として示されている)を概略的に図示している。ピクセル3−112の中のセンサー3−110は、サンプル・ウェル3−108からのエミッション・エネルギーを検出するように構成及び位置決めされ得る。いくつかの実施形態では、センサー3−110は、1つ又は複数のサブ・センサーを含むことが可能である。
を含むことが可能である。信号処理回路は、アナログ−デジタル・コンバータ2−217及び1つ又は複数のフィールド・プログラマブル・ゲート・アレイ、ならびに/又はデジタル信号プロセッサー2−219を含むことが可能である。いくつかの実施形態は、より多くの回路コンポーネントを有することが可能であり、いくつかの実施形態は、基板の上に集積された、より少ない回路コンポーネントを有することが可能である。集積デバイスのコンポーネントは、図2−2では単一のレベルに示されているが、コンポーネントは、基板2−200の上の複数のレベルに製作され得る。
デバイスのコンポーネントは、サンプル・ウェルからのエミッションに影響を及ぼし、エミッション波長に依存する空間的なエミッション分布パターンを作り出すことが可能である。サンプル・ウェルのための対応するセンサーは、さらに詳細に下記に説明されているように、サンプル・ウェルからの空間的な分布パターンを検出し、異なるエミッション波長を見分ける信号を作り出すように構成され得る。
集積デバイスは、外部励起エネルギー供給源からの励起エネルギーを受け取るように構成され得る。いくつかの実施形態では、デバイスの領域は、集積デバイスの外に位置付けされている励起エネルギー供給源にカップリングするために使用され得る。集積デバイスのコンポーネントは、励起供給源カップリング領域からの励起エネルギーを少なくとも1つのピクセルへガイドすることが可能である。いくつかの実施形態では、少なくとも1つの導波路は、サンプル・ウェルを有する少なくとも1つのピクセルに励起エネルギーを送達するように構成され得る。サンプル・ウェルの中に位置付けされているサンプルは、励起エネルギーによって照射されていることに応答して、エミッション・エネルギーを放出することが可能である。ピクセルの中に位置付けされている1つ又は複数のセンサーは、エミッション・エネルギーを受け取るように構成されている。
いくつかの実施形態では、集積デバイスは、励起供給源カップリング領域を有しており、励起供給源カップリング領域は、外部励起エネルギー供給源にカップリングするように、及び、集積デバイスのピクセル領域の中の少なくとも1つのピクセルに向けて励起をガイドするように構成されている。励起エネルギーを導波路の中へカップリングするための任意の適切なメカニズムが使用され得る。外部励起供給源からの励起エネルギーは、エッジ・カップリングを通して導波路にカップリングされ得る。図4−1Aに図示されている例として、光ファイバー4−106が、励起エネルギーを伝播するように構成されており、光ファイバー4−106は、集積デバイス4−102の上の導波路4−104とカップリングするように位置決めされている。導波路4−104への光ファイバー4−106のアライメントがモニタリングされ得、光ファイバーによって提供される励起エネルギーを導波路にカップリングすることを実現するようになっている。
離され、及び/又は横方向に変位させられ得る。ピクセル・アレイ領域は、複数のピクセルからなり、それぞれのピクセルは、少なくとも1つの導波路に関連付けられており、少なくとも1つの導波路から、それぞれのピクセルが励起光を受け取ることとなる。集積デバイスの中の導波路は、励起供給源とカップリングすることが可能であり、ピクセル・アレイの中の少なくとも1つのサンプル・ウェルに励起エネルギーを送達するように構成され得る。随意的に、導波路は、第2高調波発生、第3高調波発生、又は和調波発生を実施するための周波数変換領域を含み、供給源から放出される光の波長を変換することが可能である。図4−2に図示されているように、集積デバイス4−202は、励起供給源カップリング領域4−206及びピクセル・アレイ領域4−210を含む。複数のピクセルが、集積デバイスのピクセル・アレイ領域の中に位置付けされている。導波路4−204が、励起供給源カップリング領域4−206をピクセル・アレイ領域4−210に接続するように形成されている。励起供給源カップリング領域の上に位置決めされている励起供給源は、励起エネルギーを少なくとも1つの導波路にカップリングすることが可能であり、少なくとも1つの導波路は、ピクセル・アレイ領域の中に位置付けされている1つ又は複数のサンプル・ウェルの中へ励起エネルギーを送達するように位置決めされている。いくつかの実施形態では、周波数変換領域4−208が、励起供給源カップリング領域4−206とピクセル・アレイ領域4−210との間に位置付けされ得る。周波数変換領域4−208は、励起供給源によって放出される光の波長を別の波長に変換することが可能である。
で、導波路にカップリングされ、導波路は、励起光をピクセル・アレイ領域に向けて方向付けし、そこで、それぞれの導波路は、導波路に関連付けられるそれぞれのピクセルに励起光の一部分をカップリングする。導波路は、少なくとも1つのサンプル・ウェルに向けて励起光を方向付けするように位置決めされている。いくつかの実施形態では、ピクセルの横列又は縦列は、単一の導波路に関連付けられている。いくつかの場合には、周波数変換領域は、VCSELから放出される光とは異なる波長の光を生成させることが可能である。たとえば、周波数変換領域は、VCSELによって放出される光をより短い波長の光に変換することが可能である。他の実施形態では、周波数変換領域は、VCSELから放出される光をより長い波長を有する光に変換することが可能である。
B. 導波路
導波路を備える集積デバイスの実施形態では、導波路は、励起エネルギーを1つ又は複数のサンプル・ウェルに送達するように任意の適切な方式で設計され得る。導波路は、バスとしての役割を果たし、励起エネルギーを複数のピクセルにカップリングすることが可能である。励起エネルギーが、1つ又は複数のサンプル・ウェルに関連付けられる導波路に沿って伝播するとき、励起エネルギーの一部分が、(1つ又は複数の)サンプル・ウェルに送達され得る。単一の導波路が、集積デバイスの中のピクセルの横列又は縦列に励起エネルギーを送達することが可能である。導波路は、サンプル・ウェルの中へ及び/又はサンプル・ウェルの近くの領域の中に延在するエバネッセント・テールを有する光学的なモードを担持することが可能である。サンプル・ウェルの近くに位置付けされている追加的なエネルギー・カップリング構造体が、エバネッセント・テールからのエネルギーをサンプル・ウェルの中へカップリングすることが可能である。代替的に又は追加的に、導波路からのエネルギーをサンプル・ウェルの付近に向けて方向付けするために、構造体が含まれ得る。
ルギーによってもたらされる信号雑音を低減させるように構成され得る。導波路は、サンプル・ウェルから放出されるエミッション・エネルギーとの干渉を低減させるように、サンプル・ウェルに隣接してサイズ決め及び位置付けされ得る。たとえば、サンプル・ウェルからのエミッションが、それがピクセルのセンサーへ伝播するときに、同じ材料を等しく通過するように、導波路の幅が増加させられ得る。いくつかの実施形態では、サンプル・ウェルと導波路との間の距離及び導波路厚さは、導波路材料界面からの反射を最小化するように選択され得る。距離及び厚さは、導波路及び取り囲む材料の屈折率に依存することとなる。いくつかの実施形態では、導波路層は、おおよそ1.90の屈折率及びおおよそ100nmの厚さを備える窒化ケイ素から構成されており、取り囲む材料は、おおよそ1.46の屈折率を備える二酸化ケイ素である。いくつかの実施形態によれば、導波路によるエミッション・エネルギーの反射は、いくつかの実施形態では、約5%未満、いくつかの実施形態では、約2%未満、さらに、いくつかの実施形態では、約1%未満まで低減され得る。
示的な実施形態として、導波路は、おおよそ0.5μmの断面幅及びおおよそ0.1μmの断面高さを有することが可能であり、かつ、サンプル・ウェル層の下方おおよそ0.5μmに位置決めされ得る。いくつかの場合には、導波路は、サンプル・ウェル層の下方おおよそ0.5μmに位置決めされ得る。別の例示的な実施形態では、導波路は、おおよそ1μmの断面幅及び0.18μmの断面高さを有することが可能であり、かつ、サンプル・ウェル層の下方0.3μmに位置決めされ得る。
いくつかの実施形態によれば、サンプル・ウェル5−210は、集積デバイスの1つ又は複数のピクセルにおいて形成され得る。サンプル・ウェルは、基板5−105の表面に形成された小さい体積又は領域からなることが可能であり、小さい体積又は領域は、図5−1に示されているように、サンプル5−101が、基板の表面の上に堆積された試料から、サンプル・ウェルの中へ、及び、サンプル・ウェルの外へ拡散し得るように、配置されている。さまざまな実施形態では、サンプル・ウェル5−210は、励起供給源5−240からの励起エネルギーを受け取るように配置され得る。サンプル・ウェルの中へ拡散するサンプル5−101は、一時的に又は永久的に、接着性物質(adherent)5−211によってサンプル・ウェルの励起領域5−215の中に保持され得る。励起領域において、サンプルは、励起エネルギー(たとえば、励起放射線5−247)によって励起され得、その後に放射線を放出することが可能であり、放射線は、観察及び評価され、サンプルを特徴付けることが可能である。
かの実施形態では、より大きいサイズ及びより小さいサイズが使用され得る。サンプル・ウェル5−210の体積は、いくつかの実施形態では、約10−21リットルから約10−15リットルの間であることが可能である。サンプル・ウェルは、導波路として形成され得、導波路は、伝播モードをサポートすることが可能であり、又は、伝播モードをサポートすることが可能ではない。いくつかの実施形態では、サンプル・ウェルは、直径(又は、最大の横断方向の寸法)Dswを備える円筒形状の形状(又は、他の形状)を有するナノアパーチャとして形成され得る。サンプル・ウェルが導波路構造であって、その導波路構造に入射する放射の選択した波長について伝播モードをサポートしないときには、サンプル・ウェルは、サンプル・ウェルであるゼロ・モード導波路(ZMW)の役割を果たすことがある。ZMWは、ナノ・スケール・ホールとして単一の金属層の中に形成され得、それは、ホールを通して伝播光学モードをサポートしない。
、好ましくは、センサーに向けて方向付けされる。その理由は、サンプル・ウェルを通って上に伝播するエミッションが、高度に抑制されるからである。これらの効果の両方が、ピクセルにおける信号対雑音比を改善することが可能である。本発明者は、ピクセルにおける信号対雑音レベルをさらに引き上げるように改善され得るサンプル・ウェルのいくつかの態様を認識した。これらの態様は、サンプル・ウェル形状及び構造に関し、また、サンプル・ウェル、及び、サンプル・ウェルから放出された放射線と励起エネルギーをカップリングすることを支援する、隣接する光学的な及びプラズモニック構造体(下記に説明されている)に関する。
ル・ウェルの励起端部においてキャビティー又はディボット5−216を含む、サンプル・ウェルの実施形態を示している。図5−3のシミュレーション結果の中に見ることができるように、より高い励起強度の領域が、サンプル・ウェルのエントランス・アパーチャ5−212の直前に存在している。いくつかの実施形態によれば、サンプル・ウェルにディボット5−216を追加することは、サンプルがより高い励起強度の領域の中へ移動することを可能にする。いくつかの実施形態では、ディボットの形状及び構造は、(たとえば、層5−235とサンプル・ウェルの中の流体との間の屈折率の差に起因して)局所的な励起場を変更し、ディボットの中の励起エネルギーの強度をさらに増加させることが可能である。
の層5−620が、第1の層及び突出部の上方に堆積され得る。突出部において、第2の層は、示されているように、円筒形の部分5−625を近似する突出部の上方の形状を形成することが可能である。いくつかの実施形態では、導電層5−230(たとえば、反射金属)が、第2の層5−620の上方に堆積され、突出部の上方の導電層の中にサンプル・ウェル5−210を形成するようにパターニングされ得る。次いで、ディボット5−216が、第2の層の中へエッチングされ得る。ディボットは、導電層5−230の下方に、約50nmから約150nmの間に延在することが可能である。いくつかの実施形態によれば、第1の層5−610及び第2の層5−620は、光学的に透明であることが可能であり、同じ材料から形成されてもよいし、又は形成されなくてもよい。いくつかの実施形態では、第1の層5−610は、酸化物(たとえば、SiO2)又は窒化物(たとえば、Si3N4)から形成され得、第2の層5−620は、酸化物又は窒化物から形成され得る。
アンテナ構造体からなることが可能である。図5−7Cは、サンプル・ウェル5−210及び直ぐ近くの構造体の立面図を示しており、図5−7Dは、平面図を示している。励起エネルギー増強構造体5−711は、小さい局所化された領域の中に励起エネルギーを増強するように、形状決め及び配置され得る。たとえば、構造体は、サンプル・ウェルにおいて、鋭角を有する先の尖った導体を含むことが可能であり、それは、励起領域5−215の中の励起エネルギーの強度を増加させる。示されている例では、励起エネルギー増強構造体5−711は、ちょうネクタイの形態になっている。領域の中へ拡散するサンプル5−101は、接着性物質5−211によって、一時的に又は永久的に保持され、また、サンプル・ウェル5−210に隣接して位置付けされている励起供給源5−240から送達され得る励起エネルギーによって励起され得る。いくつかの実施形態によれば、励起エネルギーは、エネルギー増強構造体5−711の中の表面プラズモン電流を駆動することが可能である。結果として生じる表面プラズモン波は、構造体5−711の鋭く尖った先において高い電界を作り出すことが可能であり、これらの高い電界は、励起領域5−215の中に保持されているサンプルを励起することが可能である。いくつかの実施形態では、図5−7Cに示されているサンプル・ウェル5−210は、ディボット5−216を含むことが可能である。
はグラフェンが、サンプル・ウェルの層に関して使用され得る。いくつかの実施形態では、サンプル・ウェルは、2つの層の中に使用され得、他の実施形態では、サンプル・ウェルは、4つ以上の層の中に形成され得る。いくつかの実施形態では、サンプル・ウェルを形成するために使用される多層材料は、サンプル・ウェルに入射する励起放射線によって生成され得る界面の励起子を増加し又は抑制するように選択され得る。いくつかの実施形態では、サンプル・ウェルを形成するために使用される多層材料は、サンプル・ウェルのベースにおいて表面プラズモン発生を増加させ、又は、ウェルの上部において、表面プラズモン放射線を抑制するように選択され得る。いくつかの実施形態では、サンプル・ウェルを形成するために使用される多層材料は、サンプル・ウェル及び多層構造体を越えてバルク試料の中へ伝播する励起放射線を抑制するように選択され得る。いくつかの実施形態では、サンプル・ウェルの形成に用いられる多層材料は、サンプル・ウェルに入射する励起放射線によって生成され得る界面の励起子を増加し又は抑制するように選択され得る。
との間の相互作用を低減させるように実施され得る。サンプル・ウェルの中の不動態化コーティングの厚さは、いくつかの実施形態によれば、約5nmから約50nmの間であることが可能である。
されているように、ARC層5−910及びフォトレジスト5−920によって被覆され得る。フォトレジストは、図5−10Bに示されているように、サンプル・ウェルの所望の直径におおよそ等しい直径を有するホールを形成するようにパターニングされ得る。ホールのパターンは、たとえば図5−10Cに示されているように、異方性の反応性イオン・エッチを使用して、5−230を通してARCに伝達され得る。レジスト及びARCは、剥がされ、図5−10Dに示されているようなサンプル・ウェルを生み出すことが可能である。いくつかの実施形態によれば、エッチングによって材料5−230の層の中へ形成されるサンプル・ウェルの側壁部は、リフト・オフ・プロセスから結果として生じる側壁部よりも垂直になっていることが可能である。
ることが可能である。より高い圧力及びより低いバイアスにおいて、エッチングは、より等方性であり、テーパが付けられ及び/又は湾曲しているディボットの側壁部を生み出すことが可能である。いくつかの実施形態では、ウェット・エッチが、ディボットを形成するために使用され得、それは、実質的に等方性であり、サンプル・ウェルの側壁部まで、又は、サンプル・ウェルの側壁部を越えて、材料3−230の下に横方向に延在し得るおおよそ球形のディボットを形成することが可能である。
の実施形態では、第1の不動態化層5−280は、任意の適切な堆積プロセス及びエッチ・バックによって形成され得る。いくつかの実施形態では、第1の不動態化層は、サンプル・ウェルがその中に形成される材料5−230を酸化させることによって形成され得る。たとえば、サンプル・ウェルは、アルミニウムから形成され得、アルミニウムは酸化させられ、サンプル・ウェルの側壁部の上にアルミナのコーティングを生成させることが可能である。
関して、堆積の角度は、堆積プロセスの間に変化させられ得る。そのような実施形態に関して、実質的に真っ直ぐで垂直になっている側壁部を有するサンプル・ウェルが最初に形成され、次いで、追加的な材料5−230が、角度付きの堆積によって堆積され、サンプル・ウェルの側壁部にテーパを付けることが可能である。
集積デバイスの1つ又は複数のサンプル・ウェルへの励起エネルギーのカップリングは、1つ又は複数の技法によって起こることが可能である。先に議論されているように、いくつかの実施形態では、導波路は、励起供給源とともに、1つ又は複数のサンプル・ウェルにカップリングするように位置決めされている。励起エネルギーが導波路に沿って伝播するときに、励起エネルギーの一部分は、さまざまな光カップリング技法によって、1つ又は複数のサンプル・ウェルにカップリングすることが可能である。たとえば、導波路は、励起エネルギーを実質的に1つの方向にガイドすることが可能であり、エバネッセント波又はエバネッセント・テールは、この1つの方向に対して垂直に形成することが可能であり、いくつかの場合には、導波路構造体の外側に位置付けされ得る。そのようなエバネッセント・テールは、励起エネルギーの一部分を1つ又は複数のサンプル・ウェルに向けて方向付けすることが可能である。いくつかの実施形態では、サンプル・ウェル層は、サンプル・ウェルの中の局所化された領域に励起エネルギーを方向付けするように設計及び構成され得る。サンプル・ウェルは、サンプル・ウェルの局所化された領域の中にサンプルを保持するように構成され得、励起エネルギーがサンプルに向けて方向付けされるようになっている。
ちの1つ又は複数の特徴又は構成は、特定の量の励起エネルギーをサンプル・ウェルの横列の中のそれぞれのサンプル・ウェルにカップリングするために選択され得る。励起エネルギーをピクセルの横列に提供するように構成されている導波路は、それぞれのピクセルの中のコンポーネントにカップリングすることが可能であり、励起エネルギーの一部分をピクセルの横列の中のそれぞれのピクセルに提供するようになっている。導波路が、励起供給源からの励起エネルギーを1つ又は複数のピクセルに向けて方向付けするように構成されているときには、導波路は、バス導波路と称され得る。
トル範囲及び/又は赤外線スペクトル範囲の中の励起波長を伝播するように設計され得る。
グ共振器に対して位置決めされ得る。図6−2は、領域6−208におけるサンプル・ウェルの例示的な位置を図示しており、サンプル・ウェルは、集積デバイスの別々の層の中に位置付けされている。いくつかの実施形態では、プラズモニック・リング共振器は、集積デバイスの中に形成され、1つ又は複数のサンプル・ウェルに励起エネルギーをカップリングすることが可能である。そのようなプラズモニック・リング共振器は、バス導波路及び/又はピクセル導波路とカップリングするように位置決めされ得る。サンプル・ウェルは、プラズモニック・リング共振器の一部分の直接的に上方に位置決めされ、又は、プラズモニック・リング共振器に隣接した場所に位置決めされ得る。プラズモニック・リング共振器の非限定的な例が、図6−3A〜Fに関して示されている。プラズモニック・リング共振器構造体に隣接するサンプル・ウェル6−308の例示的な位置が、図6−3Cに示されている。いくつかの実施形態では、共振器構造体は、フォトニック結晶の中にキャビティーを含むことが可能である。図6−4は、キャビティーを備える例示的なフォトニック結晶6−400を図示しており、キャビティーが、励起エネルギーのための共振器としての役割を果たすようになっている。サンプル・ウェルは、フォトニック結晶の中のキャビティーに対して、たとえば場所6−408などに位置決めされ、励起エネルギーを受け取ることが可能である。
を受け取るように構成され得、ここでは、カップラー7−128bが、第1の波長λ1の励起エネルギーを実質的に受け取り、一方、カップラー7−130bが、第2の波長λ2の励起エネルギーを実質的に受け取る。
ルの中のサンプル・ウェルに向けて励起エネルギーの一部分を方向付けすることが可能である。導波路は、エバネッセントに(evanescently)互いにカップリングすることが可能であり、又は、他のカップリング技法によって、たとえば、マルチモードの干渉カップラーを使用することによって、カップリングすることが可能である。第1の導波路からの励起エネルギーの一部分が、追加的な導波路を通してピクセルに方向付けされ得、一方、第1の導波路の中の励起エネルギーは、第1の導波路に沿って伝播し、他のピクセルの中の他のコンポーネントにカップリングすることが可能である。
ているサンプル・ウェル7−208の位置は、2つの線形共振器の間に位置付けされており、そこでは、デュアル共振器からの励起エネルギーをサンプル・ウェルにカップリングするために、励起エネルギーが局所化され得る。
複数の異なるタイプの放射励起カップリング構造体が存在しており、それは、励起供給源からサンプル・ウェルの中の励起領域への励起エネルギーのカップリングに影響を及ぼすために使用され得る。いくつかの放射カップリング構造体は、導体(たとえば、金属層を含む)から形成され得、また、励起エネルギーに局所的に影響を及ぼす(たとえば、電磁界を局所的に変更する)表面プラズモン振動をサポートする。いくつかのケースでは、表面プラズモン構造体が、サンプル・ウェルの励起領域の中の励起エネルギーを2倍以上増強することが可能である。いくつかの放射カップリング構造体は、励起場の位相及び/
又は振幅を変更し、サンプル・ウェルの中の励起エネルギーを増強することが可能である。放射励起カップリング構造体のさまざまな実施形態が、この章において説明されている。
7は、おおよそ10nmからおおよそ100nmの間であることが可能である。鋭い特徴9−125は、図面に示されているように、表面プラズモン構造体の縁部の中のポイント又は鋭い曲げからなることが可能である。鋭い特徴は、任意の適切な形状を有することが可能である。いくつかの実施形態では、鋭い特徴9−125の曲げ半径は、入射励起エネルギーに関連付けられるおおよそ5つの波長よりも小さいことが可能である。いくつかの実施形態では、鋭い特徴9−125の曲げ半径は、入射励起エネルギーに関連付けられるおおよそ2つの波長よりも小さいことが可能である。いくつかの実施形態では、鋭い特徴9−125の曲げ半径は、入射励起エネルギーによって励起される表面プラズモン波に関連付けられるおおよそ5つの波長よりも小さいことが可能である。いくつかの実施形態では、鋭い特徴9−125の曲げ半径は、入射励起エネルギーによって励起される表面プラズモン波に関連付けられるおおよそ2つの波長よりも小さいことが可能である。
て配置され得る。たとえば、表面プラズモン構造体9−212と材料5−230との間に介在誘電体層9−247が存在することが可能である。いくつかの実施形態によれば、表面プラズモン構造体9−212は、図面に示されているように、サンプル・ウェルのディボット5−216に隣接して位置付けされ得る。たとえば、表面プラズモン構造体5−212は、図9−2Bに示されているように、ディボット5−216の側壁部に隣接して位置付けされ得る。
表面プラズモン構造体が存在している。図9−2Hは、表面プラズモン構造体のさらに代替的な実施形態を平面図で示している。構造体の立面図が、図9−2Iに示されている。いくつかの実施形態によれば、表面プラズモン構造体は、サンプル・ウェル5−210の周りに分散されたディスクのアレイからなることが可能である。いくつかの実施形態では、導電性ディスク9−260を使用する代わりに、表面プラズモン構造体は、導電層からなることが可能であり、分散されたホールのパターンが、導電層を通して形成される。そのような構造体は、「ナノ・アンテナ」と称され得る。
さまざまな異なるプロセスが、サンプル・ウェルに隣接して表面プラズモン構造体をパターニングするために使用され得る。図9−3Aから図9−5Eは、いくつかの実施形態によれば、サンプル・ウェルに隣接して表面プラズモン構造体を形成するために使用され得るプロセス工程に関連付けられる構造体を示している。ここで図9−3Aを参照すると、表面プラズモン構造体を形成するためのプロセスは、マスキング層9−330の上の反射防止コーティング(ARC)9−320の上にレジスト層9−310を形成することからなることが可能である。層は、いくつかの実施形態によれば、透明な誘電体層5−245の上に配設され得る。レジスト層9−310は、リソグラフィーによってパターニングされ得るフォトレジスト又は電子−ビーム・レジストもしくはイオン−ビーム・レジストからなることが可能である。マスキング層9−330は、いくつかの実施形態によれば、無機材料(たとえば、シリコンもしくはシリカ窒化物、又は、任意の他の適切な材料)から形成されたハード・マスクからなることが可能である。
、ピラーの選択的なウェット・エッチによって除去され、キャップをリフト・オフすることが可能である。中央ピラーの除去は、下層にある表面プラズモン構造体9−450に自己整合されているサンプル・ウェルを残す。
表面プラズモン構造体に加えて、又は、表面プラズモン構造体の代替として、他の構造体が、サンプル・ウェル5−210の付近にパターニングされ、サンプル・ウェルの中の励起エネルギーを増加させることが可能である。たとえば、いくつかの構造体は、入射励起場の位相及び/又は振幅を変更することが可能であり、サンプル・ウェルの中の励起エ
ネルギーの強度を増加させるようになっている。図9−6Aは、薄い損失性膜9−610を示しており、薄い損失性膜9−610は、入射励起放射線の位相及び振幅を変更するために、ならびに、サンプル・ウェルの中の電磁放射線の強度を増加させるために使用され得る。
け、材料5−230から間隔を置いて配置され得る。共振器を形成することによって、励起エネルギーは、反射スタックを通過し、共鳴し、材料5−230と反射スタック9−705との間のスペースの中で増大することが可能である。これは、サンプル・ウェル5−210の中の励起強度を増加させることが可能である。たとえば、強度は、いくつかの実施形態では2倍以上、いくつかの実施形態では5倍以上、さらに、いくつかの実施形態では10倍以上、共鳴構造体の中で増加することが可能である。
図9−8Aから図9−8Gは、図9−7Cに図示されているようなフォトニック・バンドギャップ構造体及び自己整合されたサンプル・ウェルを形成するために使用され得る、単に1つの自己アライメント・プロセスに関するプロセス工程に関連付けられる構造体を示している。いくつかの実施形態によれば、反射スタック9−705が、最初に、図9−8Aに図示されているように、誘電体層5−245の上の基板の上に形成され得る。次いで、第2の誘電体層9−730が、反射スタックの上に堆積させられ得る。誘電体層9−730の厚さは、材料の中の励起放射線の波長の約2分の1又はその整数倍におおよそ等しいことが可能である。次いで、図9−4Aから図9−4Eに関連して説明されているプロセス工程が、誘電体層9−730の上のピラー5−920、及び、フォトニック・バンドギャップ構造体に関してエッチングされた特徴9−810のパターンを形成するために実施され得る。エッチングされた特徴は、誘電体層9−730の中へ、及び、随意的に、反射スタック9−705の中へ、延在することが可能である。結果として生じる構造体は、図9−8Aに示されているように出現することが可能である。
ック・バンドギャップ構造体を露出させることなく、ピラー9−830を露出させることだけを必要とする。
また、サンプル・ウェルの中のサンプルとの励起エネルギーの非放射カップリングに関する構造体が、本発明者によって考えられた。非放射カップリング構造体の単に1つの実施形態が、図9−9Aに示されている。いくつかの実施形態によれば、非放射カップリング構造体は、サンプル・ウェル5−210に直接隣接して形成される半導体層9−910からなることが可能である。半導体層9−910は、いくつかの実施形態では、有機半導体であることが可能であり、又は、いくつかの実施形態では、無機半導体であることが可能である。いくつかの実施形態では、ディボット5−216は、半導体層の中に形成されてもよいし、又は形成されなくてもよい。半導体層9−910は、いくつかの実施形態によれば、おおよそ5nmからおおよそ100nmの間の厚さを有することが可能であるが、いくつかの実施形態では、他の厚さも使用され得る。いくつかの実施形態によれば、励起供給源からの励起放射線又は光子9−930が、半導体層9−910に衝突し、エキシトン9−920を作り出すことが可能である。エキシトンは、サンプル・ウェルの表面まで拡散することが可能であり、そこで、それらは、非放射で再結合し、サンプル・ウェルの壁部に隣接するサンプルにエネルギーを伝達することが可能である。
伝達することが可能である。
又は複数は、サンプル・ウェルの中の1つ又は複数のサンプルを励起するために使用され得る。
1つ又は複数のコンポーネントが、サンプル・ウェルとピクセルの中の対応するセンサーとの間に形成され、センサーによるサンプル・ウェルの中のサンプルからのエミッション・エネルギーの収集を改善することが可能である。そのようなコンポーネントは、試料の中のサンプルを特定するためのマーカの検出を改善するために、背景信号に対するエミッション・エネルギー信号の信号対雑音比を改善することが可能である。そのようなコンポーネントは、異なる特性波長のエミッション・エネルギーを空間的に方向付けるように、及び/又は、空間的に分離するように、設計され得る。そのようなコンポーネントは、直接サンプル・ウェルからの励起エネルギーをピクセルの中の1つ又は複数の対応するセンサーに方向付けすることが可能である。いくつかの実施形態では、構造体に対するサンプル・ウェルの場所は、サンプル・ウェルからのエミッション・エネルギーを特定の方式で1つ又は複数のセンサーに向けて方向付けするように選択される。エミッション・エネルギーに基づいて1つ又は複数のマーカを特定するときに、エレメントは、マーカによって放出される特性波長に依存する放射線分布パターンの中へエミッション・エネルギーを方向付けするように構成され得る。複数のマーカは、それぞれが異なるスペクトル範囲の中で放出し、集積デバイスの中のエミッション方向付けコンポーネントにエミッション・エネルギーがカップリングするときに形成する放射線パターンによって区別可能であり得る。フィルターなどのような、他のコンポーネントが、ピクセルの中のサンプルに関連付けられない励起エネルギー及び他のエネルギーがピクセルの対応する1つ又は複数のセンサーに到達することを低減させることが可能である。
ピクセルのサンプル・ウェルの近くに位置付けされているピクセルの中のコンポーネントは、サンプル・ウェルの中に位置付けされているときに、サンプルによって放出されるエミッション・エネルギーとカップリングするように構成され得る。そのようなコンポーネントは、集積デバイスの2つの層の間の界面において形成され得る。たとえば、いくつかのエミッション・エネルギー・カップリング・エレメントが、サンプル・ウェル層と、サンプル・ウェルが形成されている場所と反対側にサンプル・ウェル層に隣接する層との間の界面において形成され得る。いくつかの場合には、サンプル・ウェル層の下の層は、誘電体層であり、エミッション・エネルギー・カップリング・エレメントは、表面プラズモンをサポートすることが可能である。他の実施形態では、サンプル・ウェル層は、光学的に透明な材料に隣接する導電性材料であることが可能である。表面エネルギー・カップリング・エレメントは、表面光学的な構造体であることが可能であり、表面光学的な構造体は、サンプル・ウェルからの放射エミッションによって励起され、サンプル・ウェルからの放射エミッションと相互作用する。表面光学的な構造体は、異なる特性波長のエミッション・エネルギーに関して、異なる空間的な放射線パターンを形成するように構成され得る。「特性波長」又は「特性エネルギー」という用語は、供給源から放出される放射線の限定されたバンド幅の中の中央の又は支配的な波長を表すために使用され得る。フルオロフォアの特性波長の例は、563nm、595nm、662nm、及び687nmである。
ウェルから表面光学的な構造体の縁部又は特性特徴への距離dは、たとえば、表面に対して垂直であるか、又は表面に対して垂直方向から角度θだけ傾けられているなど、選択された方向に、サンプル・ウェルからのエミッション・エネルギーを方向付けするように選択され得る。たとえば、距離dは、表面に対して垂直にエミッションを方向付けするために表面プラズモン波長の整数であることが可能である。いくつかの実施形態では、距離dは、表面に対して垂直から角度θにエミッションを方向付けするために、分数の表面プラズモン波長又はその波長モジュロ(modulor)となるように選択され得る。
則的な周期的なスペーシングとなっていることが可能であり、又は、リング同士の間に非規則的な又は非周期的なスペーシングを有することが可能である。サンプル・ウェルは、円形のグレーチングの中心に位置付けされ、又は、円形のグレーチングの中心の近くに位置付けされ得る。いくつかの実施形態では、サンプル・ウェルは、円形のグレーチングの中心から外れて位置付けされ得、また、グレーチングの中心から特定の距離に位置決めされ得る。いくつかの実施形態では、グレーチング・タイプ表面エネルギーカップリング・コンポーネントは、スパイラル・グレーチングからなることが可能である。スパイラル・グレーチング10−202の例が、図10−2に示されている。スパイラル・グレーチング10−202は、導電性膜の中のスパイラル・アパーチャからなることが可能である。スパイラル・グレーチングの任意の適切な寸法が、スパイラル・グレーチングを形成するために使用され得る。
分布パターンを作り出すように選択され得る。たとえば、個々のナノ・アンテナの直径は、ナノ・アンテナ構造体の中で変化することが可能である。しかし、いくつかの場合には、直径は、ナノ・アンテナのセットの中で同じであることが可能である。他の実施形態では、数個の選択された直径が、全体的なナノ・アンテナ構造体の全体を通して使用され得る。いくつかのナノ・アンテナは、半径Rの円形の上に分散され得、いくつかは、円形から半径方向にシフトされ得る。いくつかのナノ・アンテナは、半径Rの円形の周りに等しく間隔を置いて配置され得(たとえば、均等な極角インクレメントに中心を合わせられている)、いくつかは、円形の周りの等しいスペーシングからシフトされ得る。いくつかの実施形態では、ナノ・アンテナは、サンプル・ウェルの周りにスパイラル構成で配置され得る。追加的に又は代替的に、サンプル・ウェルの周りのマトリックス・アレイ、十字形分布、及び星形分布などのような、ナノ・アンテナの他の構成が可能である。個々のナノ・アンテナは、正方形、長方形、十字形、三角形、ちょうネクタイ、環状のリング、五角形、六角形、多角形などのような、円形以外の形状であることが可能である。いくつかの実施形態では、アパーチャ又はディスクの周囲は、たとえば、(Ν/2)λなど、おおよそ分数波長の整数の倍数であることが可能である。
任意の適切な形状であることが可能である。たとえば、ホールは、楕円、三角形、矩形などであることが可能である。他の実施形態では、ホールの分布は、円形でなくてもよく、スパイラル形状を生成させることが可能である。
するナノ・アンテナの他の例示的なパターン及び分布を、図11−5,11−6,11−7に示している。
サンプル・ウェルの中のサンプルから放出されるエミッション・エネルギーは、さまざまな方式で、ピクセルのセンサーに送信され得、そのいくつかの例が、詳細に下記に説明されている。いくつかの実施形態は、光学コンポーネント及び/又はプラズモニック・コンポーネントを使用し、特定の波長の光が、特定の波長の光を検出するように特化されたセンサーの領域又は一部分へ方向付けされる可能性を増加させることが可能である。センサーは、異なる波長のエミッション・エネルギーを同時に検出するための複数のサブ・センサーを含むことが可能である。
イスのそれぞれのピクセルに関してスペクトロメーターを形成する。
おけるそのような材料の非限定的な例は、ゲルマニウム及びシリコンである。
センサー、センサー動作、及び信号処理方法のさまざまな実施形態が、本発明者によって考えられた。いくつかの実施形態によれば、ピクセルにおけるセンサー5−260は、サンプル・ウェルの中の1つ又は複数のタグからのエミッション・エネルギーを受け取ることができ、かつ、受け取られたエミッションを表す1つ又は複数の(たとえば、少なくとも2、3、又は4)電気信号を作り出すことができる、任意の適切なセンサーからなることが可能である。いくつかの実施形態では、センサーは、少なくとも1つの、2つの、3つの、又は4つのフォトディテクターからなることが可能である。それぞれのフォトディテクターは、半導体基板の中に形成されたp−n接合を含むことが可能である。図13−1Aは、集積デバイスのピクセル5−100の中に製作され得るセンサーの単に1つの実施形態を示している。
(図示せず)と同じ側に位置付けされ得る。
センサー13−168を形成することが可能である。別のセンサー構成は、パイ・ピース・セクションからなることが可能であり、パイ・ピース・セクションは、円形の別々のセクションで配置されている個々のセンサーを含むことが可能である。いくつかのケースでは、センサー・セグメントは、サンプル・ウェル5−210の周りに対称的に配置され、又は、サンプル・ウェルの周りに非対称的に配置され得る。センサー・セグメントの配置は、先述の配置だけに限定されず、センサー・セグメントの任意の適切な分布が使用され得る。
らなることが可能である。他の実施形態では、量子ドット・フォトディテクターが、センサー・セグメントに関して使用され得る。量子ドット・フォトディテクターは、量子ドットのサイズに基づいて、異なるエミッション・エネルギーに応答することが可能である。いくつかの実施形態では、さまざまなサイズの複数の量子ドットが、サンプル・ウェルから受け取られる異なるエミッション・エネルギー又は波長同士の間を差別するために使用され得る。たとえば、第1のセグメントは、第1のサイズを有する量子ドットから形成され得、第2のセグメントは、第2のサイズを有する量子ドットから形成され得る。さまざまな実施形態では、センサー5−260は、従来のCMOSプロセスを使用して形成され得る。
グメントの上に別個の投射されたパターンを作り出し、センサー・セグメントからの信号の別個の組み合わせを生み出すことが可能である。信号の組み合わせは、エミッション・バンドの識別を判別するために分析され得る。図13−2Eから図13−2Hは、4つの別個のエミッション・パターンに露出される2セグメントのセンサー5−260からの信号の数値シミュレーションからの結果を表している。エミッション・パターンは、サンプル・ウェルに隣接して形成された円形のグレーチングを有するサンプル・ウェルから、4つの波長(565nm、595nm、663nm、687nm)で作り出されるものとしてシミュレートされた。見ることができるように、2つのセンサー・セグメントからの信号のそれぞれの組み合わせは別個であり、4つの波長においてエミッター同士の間を差別するために使用され得る。シミュレーションに関して、ブルズ・アイ・センサー13−162の外側の検出器セグメントはより大きい面積を有していたので、その検出器に関して、より多くの信号が集積された。追加的に、検出器同士の間の領域に衝突した光がキャリアを発生させ、キャリアは、いずれかの検出器セグメントに向けてドリフトし、両方のセグメントからの信号に寄与することが可能である。
25が存在することが可能であり、それは、センサー5−260のそれぞれのセグメントからの信号を収集及び読み出すために使用され得る。図13−3A及び図13−3Dは、いくつかの実施形態によれば、マルチ・セグメント・センサーと組み合わせて使用され得る回路を示している。例として、信号収集回路13−310は、それぞれのセンサー・セグメントに関する3つのトランジスターからなることが可能である。3つのトランジスターの配置が、いくつかの実施形態によれば、図13−3Bに示されている。それぞれのセグメントに関連付けられている電荷蓄積ノード13−311において、信号レベルは、電荷蓄積期間の前に、リセット・トランジスターRSTによってリセットされ得、(電荷蓄積ノードにおける電荷の量によって決定される)セグメントに関する信号レベルは、電荷蓄積期間の間及び/又は終わりに、リード・トランジスターRDによって読み出され得る。信号は、上記に説明されているように、N個の空間的に分離されている検出器によって検出されるサンプルからのM個の異なるエミッション波長の検出を判別するために、分析のためのプロセッサー(図示せず)に提供され得る。
によれば、2つ以上のセグメントからの信号が、図面に示されているように、ピクセルにおいて、共通の信号チャネルの上に時分割多重化され得る。時分割多重化された信号は、騒音消去のために、それぞれのセグメントに関してサンプリングされた背景信号を含むことが可能である。追加的に、2つ以上のセグメントからの信号は、共通の縦列ラインの上に時分割多重化され得る。
れる。いくつかの実施形態では、量子ドット又は分子が、リンカーを介して半導体接合に取り付けられ得、励起されたサンプルから半導体接合への非放射エネルギー伝達に参加することが可能である。
機器2−104は、ソフトウェア及び/又はハードウェアを使用して制御され得る。たとえば、機器は、ASIC、FPGA及び/又は、ソフトウェアを実行する汎用プロセッサーなどのような、プロセッシング・デバイス2−122を使用して制御され得る。
終了される。
中の値は、自己キャリブレーション・ルーチンの間にサブ・センサーから得られる測定値に対応している。いくつかの実施形態では、それぞれのピクセルは、それ自身の変換行列を有することが可能である。他の実施形態では、ピクセルのうちの少なくともいくつかからのキャリブレーション・データは、平均され得、次いで、すべてのピクセルが、平均されたデータに基づいて同じ変換行列を使用することが可能である。
図15−1は、実施形態がその上に実施され得る適切なコンピューティング・システム環境15−100の例を図示している。たとえば、図2−1Bのコンピューティング・デバイス2−120が、コンピューティング・システム環境15−100にしたがって実施され得る。追加的に、コンピューティング・システム環境15−100は、制御システムとしての役割を果たすことが可能であり、制御システムは、アッセイを実施するように機器を制御するようにプログラムされている。たとえば、制御システムは、光を放出し、集積デバイスのサンプル・ウェルに向けて光を方向付けするように、励起供給源を制御することが可能であり、また、サンプル・ウェルの中の1つ又は複数のサンプルからのエミッション光の検出を可能にするように、センサーを制御することが可能であり、また、たとえば、エミッション・エネルギーの空間的な分布を分析することによって、センサーから
の信号を分析し、サンプル・ウェルの中に存在するサンプルを特定することが可能である。コンピューティング・システム環境15−100は、適切なコンピューティング環境の単なる1つの例であり、本発明の使用又は機能性の範囲に関する限定を提案することはまったく意図していない。いずれのコンピューティング環境15−100も、例示的な動作環境15−100の中に図示されているコンポーネントの任意の1つ又は組み合わせに関する任意の依存性又は要求を有するものとして解釈されるべきではない。
EEPROM、フラッシュ・メモリー、もしくは、他のメモリー技術、CD−ROM、デジタル多用途ディスク(DVD)、もしくは、他の光ディスク・ストレージ、磁気カセット、磁気テープ、磁気ディスク・ストレージ、もしくは、他の磁気ストレージ・デバイス、又は、所望の情報を保存するために使用され得、コンピュータ15−110によってアクセスされ得る、任意の他の媒体を含む。通信媒体は、典型的に、コンピュータ可読命令、データ構造、プログラム・モジュール、又は、たとえば、キャリア波又は他の輸送メカニズムなど、変調されたデータ信号の中の他のデータを具現化し、任意の情報送達媒体を含む。「変調されたデータ信号」という用語は、信号の中の情報を符号化するような様式で設定又は変化させられたその特性のうちの1つ又は複数を有する信号を意味している。例として、及び限定としてではなく、通信媒体は、ワイヤード・ネットワーク又はダイレクト・ワイヤード接続などのような、ワイヤード媒体、ならびに、音響媒体、RF媒体、赤外線媒体、及び他のワイヤレス媒体などのような、ワイヤレス媒体を含む。また、上記の任意の組み合わせは、コンピュータ可読媒体の範囲内に含まれるべきである。
ラム・モジュール15−146、及びプログラム・データ15−147を保存しているものとして図示されている。これらのコンポーネントは、オペレーティング・システム15−134、アプリケーション・プログラム15−135、他のプログラム・モジュール15−136、及びプログラム・データ15−137と同じであるか、又は、それらとは異なるかのいずれかであることが可能であるということに留意されたい。オペレーティング・システム15−144、アプリケーション・プログラム15−145、他のプログラム・モジュール15−146、及びプログラム・データ15−147は、ここでは異なる数字を与えられており、最低でも、それらが異なるコピーであるということを図示している。ユーザは、キーボード15−162、及び、マウス、トラックボール、又はタッチ・パッドと一般に称されるポインティング・デバイス15−161などのような、入力デバイスを通して、コンピュータ15−110の中へ、コマンド及び情報を入力することが可能である。他の入力デバイス(図示せず)は、マイクロホン、ジョイスティック、ゲーム・パッド、サテライト・ディッシュ、又はスキャナーなどを含むことが可能である。これらの入力デバイス及び他の入力デバイスは、システム・バスにカップリングされているユーザ入力インターフェース15−160を通して、処理ユニット15−120に接続され得るが、それは、パラレル・ポート、ゲーム・ポート、又はユニバーサル・シリアル・バス(USB)などのような、他のインターフェース及びバス構造によって接続されることが多い。また、モニター15−191又は他のタイプのディスプレイ・デバイスが、ビデオ・インターフェース15−190などのようなインターフェースを介して、システム・バス15−121に接続されている。また、モニターに加えて、コンピュータは、スピーカ15−197及びプリンター15−196などのような、他のペリフェラル出力デバイスを含むことが可能であり、それは、出力ペリフェラル・インターフェース15−195を通して接続され得る。
いうことが認識されることとなる。
したがって、本発明の少なくとも1つの実施形態のいくつかの態様が説明されてきたが、さまざまな代替例、修正例、及び改善例が、当業者に容易に思いつくこととなるということが理解されるべきである。
Claims (62)
- 複数のピクセルからなるピクセル領域であって、
前記複数のピクセルのそれぞれのピクセルは、
サンプルを収容するように構成された、集積デバイスの表面の上のサンプル・ウェルと、
励起エネルギーに応答して前記サンプル・ウェルの中の前記サンプルから放出されるエミッション・エネルギーに基づいて、放射線パターンを発生させるように構成されている少なくとも1つのコンポーネントと、
前記放射線パターンの少なくとも一部分の空間的な分布を検出するように構成されている少なくとも1つのセンサーとを有している、ピクセル領域と、
前記複数のピクセルの少なくとも一部分に励起エネルギーを送達するように構成されている少なくとも1つの導波路と、
からなる、集積デバイス。 - 前記少なくとも1つの導波路が、前記サンプル・ウェルの中の励起領域に励起エネルギーを与え、前記励起領域の中に位置付けされているサンプルが、前記励起領域を照射する励起エネルギーに応答して、エミッション・エネルギーを放出する、請求項1に記載の集積デバイス。
- 前記少なくとも1つの導波路が、少なくとも1つの励起供給源から励起エネルギーを受け取る、請求項1に記載の集積デバイス。
- 前記少なくとも1つの励起供給源が、前記集積デバイスの外部にある、請求項3に記載の集積デバイス。
- 励起供給源カップリング領域をさらに含み、前記励起供給源カップリング領域は、グレーチング・カップラーを有しており、前記グレーチング・カップラーは、前記少なくとも1つの励起供給源から励起エネルギーを受け取るように、及び、前記励起エネルギーを前記少なくとも1つの導波路にカップリングする、請求項4に記載の集積デバイス。
- 前記少なくとも1つの励起供給源が、前記ピクセル領域から分離された領域の中の前記集積デバイスの前記表面の上に設けられいる、請求項3に記載の集積デバイス。
- 前記少なくとも1つの導波路が、前記複数のピクセルの前記一部分のそれぞれのピクセルに関して、サンプル・ウェルの付近に励起エネルギーを送達する、請求項1に記載の集積デバイス。
- 前記複数のピクセルのそれぞれのピクセルが、少なくとも1つの励起カップリング構造体をさらに含み、前記少なくとも1つの励起カップリング構造体は、前記少なくとも1つの導波路とカップリングするように、及び、励起エネルギーをサンプル・ウェルの付近に方向付けする、請求項1に記載の集積デバイス。
- 前記少なくとも1つの励起カップリング構造体が、少なくとも1つのピクセル導波路を含む、請求項8に記載の集積デバイス。
- 前記少なくとも1つの励起カップリング構造体が、少なくとも1つの共鳴構造体を含む、請求項9に記載の集積デバイス。
- 前記サンプル・ウェルが、前記少なくとも1つの共鳴構造体によって形成される局所化さ
れた領域に近接して設けられている、請求項10に記載の集積デバイス。 - 前記複数のピクセルのそれぞれのピクセルが、少なくとも1つの表面エネルギー・カップリング・エレメントをさらに含み、前記少なくとも1つの表面エネルギー・カップリング・エレメントは、前記サンプル・ウェルの中に位置付けされているサンプルによって放出されるエミッション・エネルギーとカップリングする、請求項1に記載の集積デバイス。
- 前記サンプルが、複数のマーカのうちの1つによって標識され、前記少なくとも1つの表面エネルギー・カップリング・エレメントが、前記複数のマーカのそれぞれからのエミッション・エネルギーのスペクトル範囲に基づいて、放射線パターンを発生させる、請求項12に記載の集積デバイス。
- 前記少なくとも1つの表面エネルギー・カップリング・エレメントが、前記サンプル・ウェルの周りに形成された同心円状のグレーチング構造体である、請求項12に記載の集積デバイス。
- 前記少なくとも1つの表面エネルギー・カップリング・エレメントが、ナノ・アンテナ構造体である、請求項12に記載の集積デバイス。
- 前記少なくとも1つの表面エネルギー・カップリング・エレメントが、前記サンプル・ウェルに隣接して設けられており、前記サンプル・ウェルから放出される放射線を、前記放出される放射線の波長に依存する複数の異なる空間的な分布の中へ方向付けする、請求項12に記載の集積デバイス。
- 前記少なくとも1つのセンサーが、前記複数のマーカのそれぞれに関する前記放射線パターンの少なくとも一部分の空間的な分布を検出する複数のセンサーである、請求項16に記載の集積デバイス。
- 少なくとも1つのソーティング・エレメントが、前記サンプル・ウェルと前記複数のセンサーとの間に位置付けされており、特定の波長のエミッション・エネルギーを前記複数のセンサーのうちの1つのセンサーに方向付けする、請求項17に記載の集積デバイス。
- 複数のマーカのうちの1つによって標識されたサンプルを受け入れるように構成されているサンプル・ウェルであって、前記複数のマーカのそれぞれが、前記サンプルを照射する励起エネルギーに応答して、複数のスペクトル範囲のうちの1つの中のエミッション・エネルギーを放出する、サンプル・ウェルと、
エミッション・エネルギーが前記サンプル・ウェルから放出されるときに、前記複数のスペクトル範囲のそれぞれのスペクトル範囲に関する放射線パターンを発生させるために、前記サンプル・ウェルの付近に位置付けされているエミッション・エネルギー・カップリング構造体と、
前記エミッション・エネルギーの少なくとも一部分を受け取るように、及び、前記複数のスペクトル範囲のそれぞれのスペクトル範囲に関する前記放射線パターンの空間的な分布を検出するように構成されている複数のセンサーと、
からなる、集積デバイス。 - 前記複数のセンサーが、前記複数のスペクトル範囲のそれぞれに関する前記放射線パターンの別個の空間的な分布を検出するように形状決め及び配置されている、請求項19に記載の集積デバイス。
- 前記複数のセンサーが、前記複数のスペクトル範囲のそれぞれのスペクトル範囲に関する
前記放射線パターンの前記空間的な分布を表す少なくとも1つの信号を作り出す、請求項19に記載の集積デバイス。 - 前記複数のセンサーの第1のセンサーが、第1の信号を作り出し、前記複数のセンサーの第2のセンサーが、第2の信号を作り出し、前記第1の信号と前記第2の信号との間の比率が、前記複数のマーカのそれぞれのマーカに関して異なっている、請求項21に記載の集積デバイス。
- 集積デバイスの製造方法において、
複数のセンサー領域を形成する工程であって、前記複数のセンサー領域のそれぞれのセンサー領域は、複数のセンサーを含んでなる、複数のセンサー領域を工程と、
複数のサンプル・ウェルを形成する工程であって、前記複数のサンプル・ウェルのそれぞれのサンプル・ウェルが、前記複数のセンサー領域のうちの対応する1つに整合する、複数のサンプル・ウェルを形成する工程と、
前記複数のサンプル・ウェルから分離した励起エネルギーとカップリングするように、及び、励起エネルギーを少なくとも1つのサンプル・ウェルに方向付けするように構成されている、少なくとも1つの導波路を形成する工程と、
複数の表面エネルギー・カップリング・エレメントを形成する工程であって、それぞれの表面エネルギー・カップリング・エレメントは、前記複数のセンサー領域のうちの1つの上に放射線パターンを形成するように構成されており、前記放射線パターンは、前記複数のサンプル・ウェルのうちの対応する1つからのエミッション・エネルギーに基づいている、複数の表面エネルギー・カップリング・エレメントを形成する工程と、
からなる、集積デバイスの製造方法。 - 前記複数のサンプル・ウェルから分離された領域の中にグレーチング・カップラーを形成する工程をさらに含んでなり、前記グレーチング・カップラーは、前記集積デバイスの外部にある少なくとも1つの励起供給源から励起エネルギーを受け取り、及び、前記励起エネルギーを前記少なくとも1つの導波路にカップリングする、請求項23に記載の集積デバイスを形成する方法。
- 前記複数の表面エネルギー・カップリング・エレメントが、複数の同心円状のグレーチング構造体であり、それぞれのサンプル・ウェルが、前記複数の同心円状のグレーチング構造体のうちの1つに対して中心を合わせられている、請求項23に記載の集積デバイスを形成する方法。
- 前記複数の表面エネルギー・カップリング・エレメントが、複数のナノ・アンテナ構造体であり、それぞれのサンプル・ウェルが、前記複数のナノ・アンテナ構造体のうちの1つの付近に位置付けされている、請求項23に記載の方法。
- 複数のソーティング・エレメントを形成する工程をさらに含み、それぞれのソーティング・エレメントが、前記複数のサンプル・ウェルのうちの1つのサンプル・ウェルと前記複数のセンサー領域のうちの1つのセンサー領域との間に位置付けされており、特定の波長のエミッション・エネルギーを前記複数のセンサーのうちの1つのセンサーに方向付けするように構成されている、請求項23に記載の方法。
- 少なくとも1つの励起エネルギーを与えるための少なくとも1つの励起供給源と、
前記励起供給源によって放出される前記少なくとも1つの励起エネルギーを集積デバイスのカップリング領域に整合させるための励起供給源位置決めシステムと、
前記集積デバイスの上のセンサーによって検出されるエミッション・エネルギーを表す少なくとも1つの読み出し信号を受け取るように構成されている読み出し回路と、
からなる、機器。 - 励起供給源回路をさらに含んでなり、前記励起供給源回路は、励起エネルギーを受け取るように構成されている少なくとも1つのモニタリング・センサーからの読み出し信号に基づいて、前記集積デバイスに対する前記少なくとも1つの励起供給源のアライメントを調整する、請求項28に記載の機器。
- システムにおいて、
少なくとも1つの励起エネルギーを放出するように構成されている励起エネルギー供給源、及び、
集積チップを前記機器に整合させるように構成されている少なくとも1つのアライメント・コンポーネント
を有する、機器と、
集積デバイスであって、
複数のピクセルを有するピクセル領域であって、それぞれのピクセルが、サンプル・ウェル及び少なくとも1つのセンサーを有しており、前記サンプル・ウェルは、サンプルを受け入れるように構成されてあり、前記サンプルは、前記少なくとも1つの励起エネルギーにカップリングされるときに、スペクトル範囲を有するエミッション・エネルギーを放出する、ピクセル領域、
励起エネルギーを前記サンプル・ウェルに方向付けするように構成されている少なくとも1つの導波路、
前記エミッション・エネルギーの前記スペクトル範囲に基づいて放射線パターンを発生させるための少なくとも1つのエレメント、
前記放射線パターンの少なくとも一部分の空間的な分布を検出するように構成されている少なくとも1つのセンサー、ならびに、
前記励起エネルギー供給源から励起エネルギーを受け取るための、及び、前記励起エネルギーを前記少なくとも1つの導波路の中へカップリングするための励起供給源カップリング領域
を有する、集積デバイスと、
からなる、システム。 - 前記少なくとも1つのエレメントが、屈折エレメント、回折エレメント、プラズモニック・エレメント、及び共振器からなる群から選択される、請求項30に記載のシステム。
- 前記励起供給源カップリング領域が、励起エネルギーを受け取り、及び、励起エネルギーを前記少なくとも1つの導波路にカップリングする、グレーチング・カップラーを含む、請求項30に記載のシステム。
- 試料の分析方法において、
複数のピクセルを有する集積デバイスの表面の上に前記試料を堆積させる工程であって、それぞれのピクセルが、複数のマーカのうちの第1のマーカによって標識されたサンプルを受け入れるように構成されているサンプル・ウェル、及び、複数のセンサーを有するセンサー領域を有している、工程と、
前記集積デバイスを機器と整合させる工程であって、前記機器は、第1のピクセルのサンプル・ウェルに励起エネルギーをカップリングするための少なくとも1つの励起エネルギー供給源、及び、前記第1のピクセルの前記センサー領域の前記複数のセンサーから読み出し信号を受け取るための読み出し回路を有している、工程と、
励起エネルギーによって前記第1のマーカを照射する工程と、
前記第1のピクセルの前記センサー領域の前記複数のセンサーからの前記読み出し信号から、前記第1のマーカによるエミッションから発生するエミッション・エネルギーの空
間的な分布を検出する工程と、
からなる、試料の分析方法。 - エミッション・エネルギーの前記空間的な分布に基づいて、前記複数のマーカの間で前記第1のマーカを特定する工程をさらに含んでなり、前記複数のマーカのそれぞれ1つが、別個の空間的な分布を有している、請求項33に記載の方法。
- 前記第1のマーカを特定する工程に基づいて、前記第1のマーカによって標識された分子のタイプを決定する工程をさらに含んでなる、請求項34に記載の方法。
- 前記分子のタイプが、ヌクレオチドであり、前記第1のマーカが、フルオロフォアである、請求項35に記載の方法。
- 前記フルオロフォアが、リンカー分子によって前記ヌクレオチドに取り付けられている、請求項36に記載の方法。
- 第2のサンプルを標識する第2のマーカを励起エネルギーによって照射する工程と、
前記第1のピクセルの前記センサー領域の前記複数のセンサーからの前記読み出し信号から、前記第2のマーカによって発生するエミッション・エネルギーの空間的な分布を検出する工程と、
をさらに含んでなる、請求項34に記載の方法。 - 前記第1のマーカが、第1のヌクレオチドを標識しており、前記第2のマーカが、第2のヌクレオチドを標識している、請求項38に記載の方法。
- ターゲット核酸分子をシークエンシングするための方法において、
集積デバイスを設ける工程であって、前記集積デバイスは、前記ターゲット核酸分子、重合酵素、及び、複数のタイプのヌクレオチド又はヌクレオチド類似体を含有するサンプル・ウェルを含み、前記複数のタイプのヌクレオチド又はヌクレオチド類似体のうちのそれぞれのタイプのヌクレオチド又はヌクレオチド類似体が、複数のマーカのうちの1つによって標識される、集積デバイスを設ける工程と、
前記重合酵素の存在下で、前記ターゲット核酸分子のプライミング場所において、伸長反応を実施し、前記ヌクレオチド又はヌクレオチド類似体の少なくとも一部分を、前記ターゲット核酸分子に相補的な成長する鎖の中へ順次組み込む工程であって、励起エネルギーによる励起が起こると、前記成長する鎖の中へ組み込まれるときに、前記ヌクレオチド又はヌクレオチド類似体を標識する前記マーカが、前記サンプル・ウェルからのエミッションを作り出す、前記ヌクレオチド又はヌクレオチド類似体の少なくとも一部分を、前記ターゲット核酸分子に相補的な成長する鎖の中へ順次組み込む工程と、
前記サンプル・ウェルの中に又は前記サンプル・ウェルに隣接して、前記エミッションからのエミッション・パターンを発生させる工程と、
前記サンプル・ウェルからの前記エミッション・パターンを受け取るセンサーにおいて、前記エミッション・パターンの空間的な分布を検出する工程であって、前記空間的な分布が、前記複数のタイプのヌクレオチド又はヌクレオチド類似体に関して区別可能である、前記エミッション・パターンの空間的な分布を検出する工程と、
前記空間的な分布を示す、前記センサーから受け取られる信号に基づいて、前記ヌクレオチド又はヌクレオチド類似体を特定し、それによって前記ターゲット核酸分子をシークエンシングする工程と、
からなる、ターゲット核酸分子をシークエンシングするための方法。 - 前記ヌクレオチド又はヌクレオチド類似体が、前記センサーにおいて前記エミッション・
パターンの前記空間的な分布を検出することに続いて特定される、請求項40に記載の方法。 - 前記複数のタイプのヌクレオチド又はヌクレオチド類似体が、4つの異なるタイプのヌクレオチド又はヌクレオチド類似体を含み、前記4つの異なるタイプのヌクレオチド又はヌクレオチド類似体に関連付けられる前記エミッション・パターンの前記空間的な分布が、互いから区別可能である、請求項40に記載の方法。
- 前記空間的な分布が、互いから別々に検出される、請求項42に記載の方法。
- 前記エミッション・パターンの前記空間的な分布が、前記空間的な分布のそれぞれの、形状及び強度分布のうちの少なくとも一方に基づいて、互いから区別可能である、請求項40に記載の方法。
- 前記エミッション・パターンの前記空間的な分布が、前記エミッションの波長に基づいて区別可能である、請求項40に記載の方法。
- 前記プライミング場所が、前記ターゲット核酸分子に相補的なプライマーを含む、請求項40に記載の方法。
- 前記重合酵素が、前記サンプル・ウェルの中に固定化されている、請求項40に記載の方法。
- 前記重合酵素が、前記サンプル・ウェルの底部部分において固定化されている、請求項47に記載の方法。
- 前記重合酵素が、前記サンプル・ウェルの表面に取り付けられるリンカーを使用して固定化されている、請求項47に記載の方法。
- 前記重合酵素が、鎖置換活性を示す、請求項40に記載の方法。
- 前記ヌクレオチド又はヌクレオチド類似体が、少なくとも1つの励起エネルギー供給源からの励起エネルギーによって励起が起こると、前記エミッションを放出する、請求項40に記載の方法。
- 前記励起エネルギー供給源が、レーザ光供給源であり、前記レーザ光供給源は、少なくとも1つの導波路を通して前記サンプル・ウェルに動作可能にカップリングされており、前記励起エネルギーは、前記少なくとも1つの導波路を通して前記レーザ光供給源から前記サンプル・ウェルへ方向付けされる、請求項51に記載の方法。
- 前記サンプル・ウェルが、複数のサンプル・ウェルの間にあり、前記複数のサンプル・ウェルが、前記集積デバイスの一部である、請求項51に記載の方法。
- 前記励起エネルギーが、前記集積デバイスから分離している少なくとも1つの励起エネルギー供給源によって提供される、請求項40又は53に記載の方法。
- 前記センサーが、前記集積デバイスの一部である、請求項40に記載の方法。
- 核酸シークエンシングのための方法において、
複数のサンプル・ウェル、及び、前記複数のサンプル・ウェルに動作可能にカップリン
グされている励起エネルギー供給源からなる集積デバイスを設ける工程であって、前記複数のサンプル・ウェルの個々のサンプル・ウェルは、ターゲット核酸分子、重合酵素、及びヌクレオチド又はヌクレオチド類似体からなり、複数のマーカのうちの1つのマーカが、前記ヌクレオチド又はヌクレオチド類似体のそれぞれを標識する、集積デバイスを設ける工程と、
前記ターゲット核酸分子に重合反応を受けさせ、前記ヌクレオチド又はヌクレオチド類似体及び前記重合酵素の存在下において、前記ターゲット核酸分子に相補的な成長する鎖を生み出す工程であって、前記励起供給源からの励起エネルギーによる励起が起こると、前記ヌクレオチド又はヌクレオチド類似体が前記成長する鎖の中へ組み込まれる間に、前記複数のマーカがエミッションを放出する、前記ターゲット核酸分子に相補的な成長する鎖を生み出す工程と、
前記サンプル・ウェルの中に又は前記サンプル・ウェルに隣接して、前記エミッションからのエミッション・パターンを発生させる工程と、
前記伸長反応を実施する間に、前記エミッション・パターンの空間的な分布を検出する工程であって、前記エミッション・パターンの前記空間的な分布が、前記複数のマーカに関して区別可能である、前記エミッション・パターンの空間的な分布を検出する工程と、
前記エミッション・パターンの前記空間的な分布に基づいて、前記ターゲット核酸分子のシークエンスを特定する工程と、
からなる、核酸シークエンシングのための方法。 - 前記シークエンスが、前記エミッション・パターンの前記空間的な分布を検出することに続いて特定される、請求項56に記載の方法。
- 前記複数のタイプのヌクレオチド又はヌクレオチド類似体が、4つの異なるタイプのヌクレオチド又はヌクレオチド類似体を含み、前記4つのタイプのヌクレオチド又はヌクレオチド類似体に関連付けられる前記エミッション・パターンの前記空間的な分布が、互いから区別可能である、請求項56に記載の方法。
- 前記4つの異なるタイプのヌクレオチド又はヌクレオチド類似体に関連付けられる前記空間的な分布が、互いから別々に検出される、請求項58に記載の方法。
- 前記励起エネルギー供給源が、レーザ光供給源であり、前記レーザ光供給源は、少なくとも1つの導波路を通して前記複数のサンプル・ウェル動作可能にカップリングされており、前記励起エネルギーは、前記少なくとも1つの導波路を通して前記レーザ光供給源から前記個々のサンプル・ウェルへ方向付けされる、請求項56に記載の方法。
- 前記励起エネルギー供給源が、前記集積デバイスの外部にある、請求項56に記載の方法。
- 前記エミッション・パターンの前記空間的な分布が、前記集積デバイスの一部であるセンサーによって検出される、請求項56に記載の方法。
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