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  1. キャリア、中間層、及び、極薄銅層をこの順に備えたキャリア付銅箔であって、
    前記キャリア付銅箔の前記極薄銅層側表面のレーザー顕微鏡で測定されるISO 25178に準拠したコア部のレベル差Skが0.097〜0.937μmであるキャリア付銅箔。
  2. 前記キャリア付銅箔の前記極薄銅層側表面のレーザー顕微鏡で測定されるISO 25178に準拠した突出山部高さSpkが0.059〜0.470μmである請求項1に記載のキャリア付銅箔。
  3. 前記キャリア付銅箔の前記極薄銅層側表面のレーザー顕微鏡で測定されるISO 25178に準拠した山部の実体体積Vmpが0.003〜0.024μm3/μm2である請求項1又は2に記載のキャリア付銅箔。
  4. 前記キャリア付銅箔の前記極薄銅層側表面のレーザー顕微鏡で測定されるISO 25178に準拠した最大山高さSpと突出山部高さSpkとの比Sp/Spkが3.271〜10.739である請求項1〜3のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔。
  5. 請求項1〜のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔がキャリアの一方の面側に中間層、及び、極薄銅層をキャリアから見てこの順で有する場合において、前記極薄銅層側及び前記キャリア側の少なくとも一方の表面、又は、両方の表面に、または、
    請求項1〜のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔がキャリアの両方の面側に中間層、及び、極薄銅層をキャリアから見てこの順で有する場合において、当該一方または両方の極薄銅層側の表面に、
    粗化処理層、耐熱層、防錆層、クロメート処理層及びシランカップリング処理層からなる群から選択された1種以上の層を有する請求項1〜のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔。
  6. 前記粗化処理層が、銅、ニッケル、りん、タングステン、ヒ素、モリブデン、クロム、鉄、バナジウム、コバルト及び亜鉛からなる群から選択されたいずれかの単体又はいずれか1種以上を含む合金からなる層である請求項に記載のキャリア付銅箔。
  7. 前記極薄銅層上に樹脂層を備える請求項1〜のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔。
  8. 前記粗化処理層、耐熱層、防錆層、クロメート処理層及びシランカップリング処理層からなる群から選択された1種以上の層の上に樹脂層を備える請求項又はに記載のキャリア付銅箔。
  9. 請求項1〜のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔を用いて製造した積層体。
  10. 請求項1〜のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔と樹脂とを含む積層体であって、前記キャリア付銅箔の端面の一部または全部が前記樹脂により覆われている積層体。
  11. 一つの請求項1〜のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔を前記キャリア側又は前記極薄銅層側から、もう一つの請求項1〜のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔の前記キャリア側又は前記極薄銅層側に積層した積層体。
  12. 請求項11のいずれか一項に記載の積層体を用いたプリント配線板の製造方法。
  13. 請求項11のいずれか一項に記載の積層体のいずれか一方または両方の面に樹脂層と回路との2層を、少なくとも1回設ける工程、及び、
    前記樹脂層及び回路の2層を少なくとも1回形成した後に、前記積層体を構成しているキャリア付銅箔から前記極薄銅層又は前記キャリアを剥離させる工程
    を含むプリント配線板の製造方法。
  14. 請求項1〜のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔を用いたプリント配線板の製造方法。
  15. 請求項14に記載の方法で製造されたプリント配線板を用いた電子機器の製造方法。
  16. 請求項1〜のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔と絶縁基板とを準備する工程、
    前記キャリア付銅箔と絶縁基板とを積層する工程、及び、
    前記キャリア付銅箔と絶縁基板とを積層した後に、前記キャリア付銅箔のキャリアを剥がす工程を経て銅張積層板を形成し、
    その後、セミアディティブ法、サブトラクティブ法、パートリーアディティブ法又はモディファイドセミアディティブ法のいずれかの方法によって、回路を形成する工程を含むプリント配線板の製造方法。
  17. 請求項1〜のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔の前記極薄銅層側表面または前記キャリア側表面に回路を形成する工程、
    前記回路が埋没するように前記キャリア付銅箔の前記極薄銅層側表面または前記キャリア側表面に樹脂層を形成する工程、
    前記キャリアまたは前記極薄銅層を剥離させる工程、及び、
    前記キャリアまたは前記極薄銅層を剥離させた後に、前記極薄銅層または前記キャリアを除去することで、前記極薄銅層側表面または前記キャリア側表面に形成した、前記樹脂層に埋没している回路を露出させる工程
    を含むプリント配線板の製造方法。
  18. 請求項1〜のいずれか一項に記載のキャリア付銅箔の前記極薄銅層側表面または前記キャリア側表面と樹脂基板とを積層する工程、
    前記キャリア付銅箔の樹脂基板と積層した側とは反対側の極薄銅層側表面または前記キャリア側表面に樹脂層と回路との2層を、少なくとも1回設ける工程、及び、
    前記樹脂層及び回路の2層を形成した後に、前記キャリア付銅箔から前記キャリアまたは前記極薄銅層を剥離させる工程
    を含むプリント配線板の製造方法。
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