JP2017061697A - 光学用スチレン系樹脂組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
好ましくは、前記親水性添加剤は、エチレンオキサイドの平均付加モル数が10〜60であるポリオキシエチレン型界面活性剤であり、且つ前記スチレン系樹脂組成物100質量%中の含有量が0.6〜1.4質量%である。
好ましくは、前記親水性添加剤は、エチレンオキサイドの平均付加モル数が13〜35であるポリオキシエチレン型界面活性剤であり、且つ前記スチレン系樹脂組成物100質量%中の含有量が0.6〜0.9質量%である。
好ましくは、前記親水性添加剤は、HLB値が10〜18である。
好ましくは、前記ポリオキシエチレン型界面活性剤がポリオキシエチレン型非イオン性界面活性剤である。
好ましくは、ポリオキシエチレン型非イオン性界面活性剤が下記一般式(1)で示されるポリオキシエチレンアルキルエーテル及び/又は下記一般式(2)で示されるポリオキシエチレン脂肪酸エステルの郡から選ばれる1種類以上である。
好ましくは、前記親水性添加剤は、平均分子量200〜10000のポリエチレングリコールであり、且つ且つ前記スチレン系樹脂組成物100質量%中の含有量が0.6〜1.4質量%である。
好ましくは、前記親水性添加剤は、平均分子量200〜1800のポリエチレングリコールである。
好ましくは、前記親水性添加剤は、前記スチレン系樹脂組成物100質量%中の含有量が0.6〜0.9質量%である。
また、前記スチレン系樹脂が、スチレン系単量体と(メタ)アクリル酸とを共重合して得られるスチレン−(メタ)アクリル酸共重合樹脂であって、スチレン系樹脂のスチレン系単量体単位の含有量が90.0〜99.9質量%、(メタ)アクリル酸単位の含有量が0.1〜10.0質量%である。ただし、スチレン系樹脂のスチレン系単量体単位と(メタ)アクリル酸単位の含有量の合計を100質量%とする。
また、前記スチレン系樹脂が、スチレン系単量体と(メタ)アクリル酸エステルとを共重合して得られるスチレン−(メタ)アクリル酸エステル共重合樹脂であって、スチレン系樹脂のスチレン系単量体単位の含有量が40.0〜99.0質量%、(メタ)アクリル酸エステル単位の含有量が1.0〜60.0質量%である。ただし、スチレン系樹脂のスチレン系単量体単位と(メタ)アクリル酸エステル単位の含有量の合計を100質量%とする。
また、6−〔3−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロポキシ〕−2,4,8,10−テトラ−tert−ブチルジベンゾ〔d,f〕〔1,3,2〕ジオキサホスフェピンを含む。
また、リン系酸化防止剤及び/又はヒンダードフェノール系酸化防止剤を含む。
また、上記の光学用スチレン系樹脂組成物からなる成形品である。
また、上記の成形品からなる導光板である。
本発明のスチレン系樹脂は、スチレン系単量体を重合して得ることができる。スチレン系単量体とは、芳香族ビニル系モノマーである、スチレン、α−メチルスチレン、o−メチルスチレン、p−メチルスチレン等の単独または2種以上の混合物であり、好ましくはスチレンである。また、本発明の特徴を損ねない範囲でスチレン系単量体と共重合してもよく、アクリル酸、メタクリル酸等のアクリル酸モノマー、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアン化ビニルモノマー、アクリル酸ブチル、アクリル酸エチル、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル等のアクリル系モノマーや無水マレイン酸、フマル酸等のα,β−エチレン不飽和カルボン酸類、フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミド等のイミド系モノマー類が挙げられる。
スチレン系樹脂組成物は、スチレン系樹脂と、各種添加剤とで構成されていることが好ましく、スチレン系樹脂組成物100質量%中のスチレン系樹脂の割合は、例えば90〜99.6質量%であり、95〜99.6質量%が好ましい。スチレン系樹脂の割合は、具体的には例えば、90、91、92、93、94、95、96、97、98、99、99.6質量%であり、ここで例示した数値の何れか2つの間の範囲内であってもよい。
熱分解炉:PYR−2A(株式会社島津製作所製)
熱分解炉温度設定:525℃
ガスクロマトグラフ:GC−14A(株式会社島津製作所製)
カラム:ガラス製3mm径×3m
充填剤:FFAP Chromsorb WAW 10%
インジェクション、ディテクター温度:250℃
カラム温度:120℃
キャリアーガス:窒素
重量平均分子量(Mw)及びZ平均分子量(Mz)、数平均分子量(Mn)は、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー(GPC)を用いて、次の条件で測定した。
GPC機種:昭和電工株式会社製Shodex GPC−101
カラム:ポリマーラボラトリーズ社製 PLgel 10μm MIXED−B
移動相:テトラヒドロフラン
試料濃度:0.2質量%
温度:オーブン40℃、注入口35℃、検出器35℃
検出器:示差屈折計
本発明の分子量は単分散ポリスチレンの溶出曲線より各溶出時間における分子量を算出し、ポリスチレン換算の分子量として算出したものである。
親水性添加剤とは、水と相互作用(水素結合)が可能な親水基をもった化合物である。親水基はポリエーテル鎖が好ましい。ポリエーテル鎖はエーテル結合の連なった骨格構造であり、例えば、エチレンオキサイド(以下EOと記載することがある)、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド等のアルキレンオキサイドの付加反応によって合成されるポリオキシエチレン鎖、ポリオキシプロピレン鎖、ポリオキシブチレン鎖やグリセリンの脱水縮合などによって合成されるポリグリセロール鎖が挙げられるが、ポリオキシエチレン鎖であることが好ましい。ポリエーテル鎖は、1分子中に1組だけでなく、複数組有していても良い。
ポリオキシエチレン型界面活性剤としては、ポリオキシエチレン型非イオン性界面活性剤、ポリオキシエチレン型陰イオン性界面活性剤、ポリオキシエチレン型陽イオン性界面活性剤、ポリオキシエチレン型両性界面活性剤などが挙げられ、ポリオキシエチレン型非イオン性界面活性剤が好ましい。
本発明に用いるポリエチレングリコールの平均分子量は200〜10000である。200〜4000であることが好ましく、200〜1800であることがより好ましく、300〜1000であることがより好ましい。ポリエチレングリコールの平均分子量が200未満では成形加工時にガスが発生し、金型やロールを汚すため好ましくない。また、10000を超えると白化現象を防止する効果が低下する傾向にある他、スチレン系樹脂との相溶性が低下し、スチレン系樹脂組成物やその成形品が白濁する場合がある。平均分子量は、ピリジン無水フタル酸法にて測定された水酸基の濃度(JIS K1557に準拠)から計算されるものである。
本発明のスチレン系樹脂組成物には、本発明の無色透明性を損なわない範囲でミネラルオイルを含有しても良い。また、ステアリン酸、エチレンビスステアリン酸アミド等の内部潤滑剤やヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、ラクトン系酸化防止剤、ヒンダードアミン系安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤等の添加剤が含まれていても良い。また、外部潤滑剤としては、エチレンビスステアリン酸アミドが好適であり、含有量としては樹脂組成物中に30〜200ppmであることが好ましい。
本発明のスチレン系樹脂組成物は、射出成形、押出成形、ブロー成形、圧縮成形などの目的に応じた各種成形方法で成形品を得ることができる。成形品の形状は目的に応じた形状とすることができ、限定されるものではない。例えば板状成形品であれば、導光板として用いることができる。導光板とする方法として、板状成形品の背面(光を出射する面の反対側)にドットパターンなどの反射パターンを設けることが知られている。樹脂板から導光板に加工する際、光の入射面あるいは樹脂板の端面全面を研磨処理して、鏡面とすることが好ましい。また、出射光の均一性を高めるために、板状成形品の表面(光が出射される面)にプリズムパターンを設けることができる。板状成形品の表面あるいは背面のパターンは、板状成形品の成形時に形成させることができ、例えば射出成形では金型形状、押出成形ではロール転写などによって、パターン形成させることができる。
(スチレン系樹脂A−1〜A−3の製造)
完全混合型撹拌槽である第1反応器と第2反応器及び静的混合器付プラグフロー型反応器である第3反応器を直列に接続して重合工程を構成し、表1に示す条件によりスチレン系樹脂の製造を実施した。各反応器の容量は、第1反応器を39リットル、第2反応器を39リットル、第3反応器を16リットルとした。表1に記載の原料組成にて、原料溶液を作成し、第1反応器に原料溶液を表1に記載の流量にて連続的に供給した。重合開始剤は、第1反応器の入口で表1に記載の添加濃度(原料スチレン及びメタクリル酸の合計量に対する質量基準の濃度)となるように原料溶液に添加し、均一混合した。表1に記載の重合開始剤は次の通り
重合開始剤−1: 2,2−ジ(4,4−t−ブチルパーオキシシクロヘキシル)プロパン(日油株式会社製パーテトラAを使用した。)
重合開始剤−2: 1,1−ジ(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン(日油株式会社製パーヘキサCを使用した。)
なお、第3反応器では、流れの方向に沿って温度勾配をつけ、中間部分、出口部分で表1の温度となるよう調整した。
続いて、第3反応器より連続的に取り出した重合体を含む溶液を直列に2段より構成される予熱器付き真空脱揮槽に導入し、表1に記載の樹脂温度となるよう予熱器の温度を調整し、表1に記載の圧力に調整することで、未反応スチレン及びエチルベンゼンを分離した後、多孔ダイよりストランド状に押し出しして、コールドカット方式にて、ストランドを冷却および切断しペレット化した。
表2に示す含有量にて、スチレン系樹脂A−1〜A−3と添加剤をスクリュー径40mmの単軸押出機を用いて、シリンダー温度230℃、スクリュー回転数100rpmで溶融混錬してペレットを得た。表2で用いた添加剤を次に示す。
B−1:ポリオキシエチレンエチレンラウリルエーテル エチレンオキサイド平均付加モル数=25(花王株式会社製エマルゲン123P)
B−2:ポリオキシエチレンエチレンステアリルエーテル エチレンオキサイド平均付加モル数=12(花王株式会社製エマルゲン320P)
B−3:ポリオキシエチレンエチレンラウリルエーテル エチレンオキサイド平均付加モル数=9(花王株式会社製エマルゲン109P)
B−4:ポリオキシエチレンエチレンセチルエーテル エチレンオキサイド平均付加モル数=7(花王株式会社製エマルゲン210P)
B−5:ポリオキシエチレンエチレンラウリルエーテル エチレンオキサイド平均付加モル数=30(花王株式会社製エマルゲン130K)
B−6:ポリオキシエチレンエチレンラウリルエーテル エチレンオキサイド平均付加モル数=47(花王株式会社製エマルゲン150)
B−7:ポリオキシエチレンエチレンミリスチルエーテル エチレンオキサイド平均付加モル数=85(花王株式会社製エマルゲン4085)
B−8:ポリエチレングリコールモノラウレート エチレンオキサイド平均付加モル数=12(花王株式会社製エマノーン1112)
B−9:ポリオキシエチレンエチレンステアリルエーテル エチレンオキサイド平均付加モル数=6(花王株式会社製エマルゲン306P)
B−10:ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油(花王株式会社製エマノーンCH−40)
B−11:平均分子量が400のポリエチレングリコール(日油株式会社製PEG#400)
B−12:平均分子量が300のポリエチレングリコール(日油株式会社製PEG#300)
B−13:平均分子量が600のポリエチレングリコール(日油株式会社製PEG#600)
B−14:平均分子量が1000のポリエチレングリコール(日油株式会社製PEG#1000)
B−15:平均分子量が2000のポリエチレングリコール(日油株式会社製PEG#2000)
B−16:平均分子量が3100のポリエチレングリコール(日油株式会社製PEG#4000)
B−17:平均分子量が8800のポリエチレングリコール(日油株式会社製PEG#6000)
B−18:ポリオキシエチレンモノメチルエーテル(日油株式会社製ユニオックスM−550)
B−19:ポリオキシエチレントリイソステアリン酸(日油株式会社製ユニオックスGT−20IS)
B−20:ポリオキシエチレンオクチルドデシルエーテル(花王株式会社製エマルゲン2025G)
B−21:ポリオキシエチレングリセリルエーテル(日油株式会社製ユニオックスG−750)
B−22:ポリオキシエチレンテトラオレイン酸(日油株式会社製ユニオックスST−30E)
B−23:ステアリルアルコール(花王株式会社製カルコール8098)
B−24:ステアリン酸モノグリセライド(花王株式会社製エキセルS−95)
B−25:平均分子量が60000のポリエチレングリコール(明成化学工業株式会社製アルコックスL−6)
B−26:平均分子量が500のポリグリセリン(阪本薬品工業株式会社製ポリグリセリン#500)
また、実施例1−33は、スチレン系樹脂A−1と添加剤B−1をスクリュー径40mmの単軸押出機を用いて、シリンダー温度230℃、スクリュー回転数100rpmで溶融混錬し、添加剤B−1の濃度20質量%のペレットを一度得た後、このペレットとスチレン系樹脂A−1を1:24の比率となるように混合し、射出成形して得られた成形品である。
スチレン系樹脂組成物のMFR(メルトマスフローレイト)は、200℃、49N荷重の条件で、JIS K 7210に基づき測定した。
得られた板状成形品から115×85×3mm厚みの試験片を切り出し、端面をバフ研磨によって研磨し、端面に鏡面を有する板状成形品を得た。得られた板状成形品について、日本分光株式会社製の紫外線可視分光光度計V−670を用いて、大きさ20×1.6mm、広がり角度0°の入射光において、光路長115mmでの波長350nm〜800nmの分光透過率を測定し、C光源における、視野2°でのYI値をJIS K7105に倣い算出した。得られた値が表2の「YI 115mm」である。また、表2に示す「透過率 115mm」とは、波長380nm〜780nmの平均透過率を表す。
さらに、表2の「ヘーズ 4mm」は、上記工程で得られたペレットを用いて、シリンダー温度220℃、金型温度40℃にて射出成形を行い、55×50×4mm厚みの板状成形品を成形して得られた試験片を使用し、NDH5000(日本電色工業株式会社製)を用い、JIS K−7105に準拠し測定を行って得られた値であり、表2の「YI 4mm」は、この試験片を使用して、測色色差計NDJ4000(日本電色工業株式会社製)を用い、反射法にて測定を行って得られた値である。
さらに、環境変化による白化現象を確認するため、端面に鏡面を有する板状成形品を60℃、90%相対湿度の環境に150時間暴露し、23℃、50%相対湿度の環境に試験片を取出し、成形品内部に発生する白化現象を観察し、白化抑制効果として下記の通り判定を行った。
◎:全く白化が発生しない
○:取出し1時間後にやや白化するが、24時間後には消失する
△:取出し1時間後に白化するが、24時間後にはほとんど消失する
×:取出し1時間後に著しく白化し、24時間経っても消失しない
ビカット軟化温度については、JIS K−7206により、昇温速度50℃/hr、試験荷重50Nで求めた
以下の基準に従って、総合評価を行った。
S:白化抑制効果が◎であり且つビカット軟化温度が100℃以上
A:Sの条件を充足せず、白化抑制効果が◎であり且つビカット軟化温度が98℃以上、又は白化抑制効果が○であり且つビカット軟化温度が100℃以上
B:Aの条件を充足せず、白化抑制効果が◎であり且つビカット軟化温度が95℃以上、又は白化抑制効果が○であり且つビカット軟化温度が98℃以上、又は白化抑制効果が△であり且つビカット軟化温度が100℃以上
C:上記何れの条件も充足しないもの
以上の結果から、(1)親水性添加剤が特性の構成を有するものであり、(2)そのHLB値が特定の範囲内の値であり、且つ(3)その含有量が特定の範囲の量であるという3条件を充足することが、スチレン系樹脂組成物の耐熱性、透明性を維持しつつ白化現象を抑制するには必須であることが分かった。実施例1−20〜1−21を参照すると、スチレン系樹脂が、スチレン系単量体と、(メタ)アクリル酸又は(メタ)アクリル酸エステルとの共重合体である場合にも同様の結果が得られることが分かった。
(実施例2−1〜2−46)
完全混合型撹拌槽である第1反応器と第2反応器及び静的混合器付プラグフロー型反応器である第3反応器を直列に接続して重合工程を構成し、表1に示す条件によりスチレン系樹脂の製造を実施した。各反応器の容量は、第1反応器を39リットル、第2反応器を39リットル、第3反応器を16リットルとした。表1に記載の原料組成にて、原料溶液を作成し、第1反応器に原料溶液を表1に記載の流量にて連続的に供給した。
B−1:平均分子量が400のポリエチレングリコール(日油株式会社製PEG#400)
B−2:平均分子量が1000のポリエチレングリコール(日油株式会社製PEG#1000)
B−3:平均分子量が2000のポリエチレングリコール(日油株式会社製PEG#2000)
B−4:ポリオキシエチレンエチレンラウリルエーテル エチレンオキサイド平均付加モル数=25(花王株式会社製エマルゲン123P)
B−5:ポリオキシエチレンエチレンラウリルエーテル エチレンオキサイド平均付加モル数=12(花王株式会社製エマルゲン320P)
B−6:ポリオキシエチレンエチレンラウリルエーテル エチレンオキサイド平均付加モル数=9(花王株式会社製エマルゲン109P)
B−7:ポリオキシエチレンエチレンラウリルエーテル エチレンオキサイド平均付加モル数=30(花王株式会社製エマルゲン130K)
B−8:ポリエチレングリコールモノラウレート エチレンオキサイド平均付加モル数=12(花王株式会社製エマノーン1112)
化合物X:6−〔3−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロポキシ〕−2,4,8,10−テトラ−tert−ブチルジベンゾ〔d,f〕〔1,3,2〕ジオキサホスフェピン(住友化学株式会社製 スミライザーGP)
D−1:トリス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)フォスファイト(BASFジャパン株式会社製 Irgafos 168)
D−2:2,2'−メチレンビス(4,6−ジ−tert−ブチル−1−フェニルオキシ)(2−エチルヘキシルオキシ)ホスホラス(株式会社ADEKA製 アデカスタブHP−10)
D−3:ビス(2,4−ジクミルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト(Dover Chemical Corporation製 Doverphos S−9228)
D−4:3,9−ビス(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ〔5.5〕ウンデカン(株式会社ADEKA製 アデカスタブ PEP−36)
E−1:オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート(BASFジャパン株式会社製 Irganox 1076)
E−2:3,9−ビス[2−〔3−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ〕−1,1−ジメチルエチル]−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカン(株式会社ADEKA製 アデカスタブAO−80)
E−3:エチレンビス(オキシエチレン)ビス〔3−(5−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−m−トリル)プロピオネート〕(BASFジャパン株式会社製 Irganox 245)
ΔYI差=(追加添加剤ありの実施例での初期とのYI差)−(追加添加剤なしの実施例での初期とのYI差)
一例では、追加添加剤ありの実施例2−2では、初期とのYI差の値が1.1であり、追加添加剤なしの実施例2−1での初期とのYI差が5.1であるので、実施例2−2のΔYI差は−4.0となる。この値は、追加添加剤(化合物X、リン系D、ヒンダードフェノール系E)による長期の熱安定性向上効果を表しており、値が小さいほど、長期の熱安定性向上効果が大きいことを意味している。
◎:全く白化が発生しない
○:取出し1時間後にやや白化するが、24時間後には消失する
△:取出し1時間後に白化するが、24時間後にはほとんど消失する
×:取出し1時間後に著しく白化し、24時間経っても消失しない
以下の基準に従って、白化抑制効果、ΔYI差、ビカット軟化温度の評価結果を数値化した。
白化抑制効果のスコア◎→3、○→2、△→1、×→0)
ΔYI差のスコア(−4.0以下→4、−3.5以下→3、−2.5以下→2、−1.5以下→1、それ以外→0)
ビカット軟化温度のスコア(99℃以上→3、97℃以上→2、95℃以上→1、それ以外→0)
S:10、A:9、B:8、C:7、D:6以下
(実施例3−1〜3−36)
試験3では、化合物Xを添加しなかったこと以外は、試験2と同様の方法で評価を行った。実施例3−1〜3−32では、条件1に従って作製したスチレン系樹脂A−1を使用し、実施例3−33〜3−34では条件2に従って作製したスチレン系樹脂A−2を使用し、実施例3−35〜3−36では条件3に従って作製したスチレン系樹脂A−3を使用した。
その結果を表4に示す。
更に、長期の熱安定性に優れるスチレン系樹脂組成物については、色相変化が小さいため、従来より長期間透明性と色相を保ったまま使用できる。
例えば、テレビ、デスクトップ型パーソナルコンピューター、ノート型パーソナルコンピューター、携帯電話機、カーナビゲーションなどの導光板用途等が挙げられる。
Claims (15)
- 重量平均分子量が15万〜70万のスチレン系樹脂と親水性添加剤を含有するスチレン系樹脂組成物であって、前記親水性添加剤は、エチレンオキサイドの平均付加モル数が3〜150であるポリオキシエチレン型界面活性剤と、平均分子量200〜10000のポリエチレングリコールから選ばれる少なくとも1種であり、HLB値が5〜20であり、且つ前記スチレン系樹脂組成物100質量%中の含有量が0.4〜2.0質量%であることを特徴とする光学用スチレン系樹脂組成物。
- 前記親水性添加剤は、エチレンオキサイドの平均付加モル数が10〜60であるポリオキシエチレン型界面活性剤であり、且つ前記スチレン系樹脂組成物100質量%中の含有量が0.6〜1.4質量%である、請求項1に記載の光学用スチレン系樹脂組成物。
- 前記親水性添加剤は、エチレンオキサイドの平均付加モル数が13〜35であるポリオキシエチレン型界面活性剤であり、且つ前記スチレン系樹脂組成物100質量%中の含有量が0.6〜0.9質量%である、請求項1又は請求項2に記載の光学用スチレン系樹脂組成物。
- 前記親水性添加剤は、HLB値が10〜18である、請求項3に記載の光学用スチレン系樹脂組成物。
- 前記ポリオキシエチレン型界面活性剤がポリオキシエチレン型非イオン性界面活性剤であることを特徴とする、請求項1〜請求項4のいずれか1つに記載の光学用スチレン系樹脂組成物。
- ポリオキシエチレン型非イオン性界面活性剤が下記一般式(1)で示されるポリオキシエチレンアルキルエーテル及び/又は下記一般式(2)で示されるポリオキシエチレン脂肪酸エステルの郡から選ばれる1種類以上であることを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれか1つに記載の光学用スチレン系樹脂組成物。
- 前記親水性添加剤は、平均分子量200〜10000のポリエチレングリコールであり、且つ且つ前記スチレン系樹脂組成物100質量%中の含有量が0.6〜1.4質量%である、請求項1に記載の光学用スチレン系樹脂組成物。
- 前記親水性添加剤は、平均分子量200〜1800のポリエチレングリコールである、請求項7に記載の光学用スチレン系樹脂組成物。
- 前記親水性添加剤は、前記スチレン系樹脂組成物100質量%中の含有量が0.6〜0.9質量%である、請求項8に記載の光学用スチレン系樹脂組成物。
- 前記スチレン系樹脂が、スチレン系単量体と(メタ)アクリル酸とを共重合して得られるスチレン−(メタ)アクリル酸共重合樹脂であって、スチレン系樹脂のスチレン系単量体単位の含有量が90.0〜99.9質量%、(メタ)アクリル酸単位の含有量が0.1〜10.0質量%であることを特徴とする請求項1〜請求項9の何れか1つに記載の光学用スチレン系樹脂組成物。ただし、スチレン系樹脂のスチレン系単量体単位と(メタ)アクリル酸単位の含有量の合計を100質量%とする。
- 前記スチレン系樹脂が、スチレン系単量体と(メタ)アクリル酸エステルとを共重合して得られるスチレン−(メタ)アクリル酸エステル共重合樹脂であって、スチレン系樹脂のスチレン系単量体単位の含有量が40.0〜99.0質量%、(メタ)アクリル酸エステル単位の含有量が1.0〜60.0質量%であることを特徴とする請求項1〜請求項9の何れか1つに記載の光学用スチレン系樹脂組成物。ただし、スチレン系樹脂のスチレン系単量体単位と(メタ)アクリル酸エステル単位の含有量の合計を100質量%とする。
- 6−〔3−(3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロポキシ〕−2,4,8,10−テトラ−tert−ブチルジベンゾ〔d,f〕〔1,3,2〕ジオキサホスフェピンを含むことを特徴とする請求項1〜請求項11の何れか1つに記載の光学用スチレン系樹脂組成物。
- リン系酸化防止剤及び/又はヒンダードフェノール系酸化防止剤を含むことを特徴とする請求項1〜請求項12の何れか1つに記載の光学用スチレン系樹脂組成物。
- 請求項1〜請求項13のいずれか1つに記載の光学用スチレン系樹脂組成物からなる成形品。
- 請求項14に記載の成形品からなる導光板。
Applications Claiming Priority (14)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011279021 | 2011-12-20 | ||
JP2011279021 | 2011-12-20 | ||
JP2011279014 | 2011-12-20 | ||
JP2011279020 | 2011-12-20 | ||
JP2011279014 | 2011-12-20 | ||
JP2011279020 | 2011-12-20 | ||
JP2011279019 | 2011-12-20 | ||
JP2011279019 | 2011-12-20 | ||
JP2012033401 | 2012-02-17 | ||
JP2012033401 | 2012-02-17 | ||
JP2012157750 | 2012-07-13 | ||
JP2012157750 | 2012-07-13 | ||
JP2012157742 | 2012-07-13 | ||
JP2012157742 | 2012-07-13 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013550305A Division JP6035249B2 (ja) | 2011-12-20 | 2012-12-19 | 光学用スチレン系樹脂組成物 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018010434A Division JP2018090813A (ja) | 2011-12-20 | 2018-01-25 | 光学用スチレン系樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017061697A true JP2017061697A (ja) | 2017-03-30 |
Family
ID=48668525
Family Applications (4)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013550305A Active JP6035249B2 (ja) | 2011-12-20 | 2012-12-19 | 光学用スチレン系樹脂組成物 |
JP2016213108A Pending JP2017061697A (ja) | 2011-12-20 | 2016-10-31 | 光学用スチレン系樹脂組成物 |
JP2016213107A Active JP6248169B2 (ja) | 2011-12-20 | 2016-10-31 | 光学用スチレン系樹脂組成物 |
JP2018010434A Pending JP2018090813A (ja) | 2011-12-20 | 2018-01-25 | 光学用スチレン系樹脂組成物 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013550305A Active JP6035249B2 (ja) | 2011-12-20 | 2012-12-19 | 光学用スチレン系樹脂組成物 |
Family Applications After (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016213107A Active JP6248169B2 (ja) | 2011-12-20 | 2016-10-31 | 光学用スチレン系樹脂組成物 |
JP2018010434A Pending JP2018090813A (ja) | 2011-12-20 | 2018-01-25 | 光学用スチレン系樹脂組成物 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (4) | JP6035249B2 (ja) |
KR (3) | KR102087769B1 (ja) |
CN (3) | CN106947178B (ja) |
TW (3) | TWI605086B (ja) |
WO (1) | WO2013094641A1 (ja) |
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-
2012
- 2012-12-19 CN CN201710197076.1A patent/CN106947178B/zh active Active
- 2012-12-19 KR KR1020197019413A patent/KR102087769B1/ko active IP Right Grant
- 2012-12-19 JP JP2013550305A patent/JP6035249B2/ja active Active
- 2012-12-19 WO PCT/JP2012/082940 patent/WO2013094641A1/ja active Application Filing
- 2012-12-19 KR KR1020147019808A patent/KR101998748B1/ko active IP Right Grant
- 2012-12-19 CN CN201710197060.0A patent/CN106947177B/zh active Active
- 2012-12-19 KR KR1020197019425A patent/KR102087770B1/ko active IP Right Grant
- 2012-12-19 CN CN201280061401.7A patent/CN103998514B/zh active Active
- 2012-12-20 TW TW105140245A patent/TWI605086B/zh active
- 2012-12-20 TW TW105140696A patent/TWI653276B/zh active
- 2012-12-20 TW TW101148591A patent/TWI570179B/zh active
-
2016
- 2016-10-31 JP JP2016213108A patent/JP2017061697A/ja active Pending
- 2016-10-31 JP JP2016213107A patent/JP6248169B2/ja active Active
-
2018
- 2018-01-25 JP JP2018010434A patent/JP2018090813A/ja active Pending
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JP2017078172A (ja) * | 2011-12-20 | 2017-04-27 | 東洋スチレン株式会社 | 光学用スチレン系樹脂組成物 |
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JP2017078172A (ja) * | 2011-12-20 | 2017-04-27 | 東洋スチレン株式会社 | 光学用スチレン系樹脂組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102087769B1 (ko) | 2020-03-11 |
KR101998748B1 (ko) | 2019-10-01 |
CN103998514A (zh) | 2014-08-20 |
JP6035249B2 (ja) | 2016-11-30 |
TW201345967A (zh) | 2013-11-16 |
TWI605086B (zh) | 2017-11-11 |
JP2018090813A (ja) | 2018-06-14 |
TW201716488A (zh) | 2017-05-16 |
KR20190085556A (ko) | 2019-07-18 |
TW201712064A (zh) | 2017-04-01 |
KR102087770B1 (ko) | 2020-03-11 |
CN106947177B (zh) | 2019-07-09 |
CN106947177A (zh) | 2017-07-14 |
KR20140107474A (ko) | 2014-09-04 |
KR20190084338A (ko) | 2019-07-16 |
CN103998514B (zh) | 2017-04-26 |
JP6248169B2 (ja) | 2017-12-13 |
JP2017078172A (ja) | 2017-04-27 |
TWI570179B (zh) | 2017-02-11 |
CN106947178A (zh) | 2017-07-14 |
CN106947178B (zh) | 2019-07-09 |
TWI653276B (zh) | 2019-03-11 |
WO2013094641A1 (ja) | 2013-06-27 |
JPWO2013094641A1 (ja) | 2015-04-27 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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