JP2016533522A - ネガ型平版印刷版原版 - Google Patents
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Abstract
Description
フリーラジカル重合性成分、
放射に曝露するとフリーラジカルを生成することができる開始剤組成物、
放射吸収剤、及び、
ポリマー骨格を含み、ポリマー骨格に沿ってランダム順序で分布した少なくとも(a)及び(b)ペンダント基を更に含むポリマーバインダーであって、(a)及び(b)ペンダント基が以下の通り同定される:
(a)ペンダント基はエチレン性不飽和重合性基を含み、
(b)ペンダント基は以下の構造(I)、(II)及び(III):
(式中、
各R’は独立に、水素、又は置換若しくは非置換アルキル、又は置換若しくは非置換アリール基であり、
R2、R2a、R3及びR3aは独立に、水素、又は置換若しくは非置換アルキル基である、或いはR2とR3、又はR2aとR3aはこれらが結合している2個の炭素原子と一緒になって、置換若しくは非置換アリール基、置換若しくは非置換ヘテロアリール基、又は置換若しくは非置換の炭素環若しくは複素環基を形成し、
R4は水素、又は置換若しくは非置換アルキル基であり、
L及びL’は独立に、二価の置換若しくは非置換結合基であり、
nは0又は1であり、
r、s、t及びuは独立に、0又は1であり、但し、R2及びR2aが結合している炭素原子が−C=C−二重結合の一部である場合、rとsの一方は0であり、更に但し、R3及びR3aが結合している炭素原子が−C=C−二重結合の一部である場合、t及びuの一方が0であり、
構造II中の点線は二重結合が存在していてもしていなくてもよいことを示す)
によって表される1つ又は複数の基を含み、
(a)ペンダント基はポリマーバインダーの少なくとも0.5mmol/g及びポリマーバインダーの7mmol/g以下の量で存在し、
(b)ペンダント基はポリマーバインダーの少なくとも0.5mmol/g及びポリマーバインダーの7mmol/g以下の量で存在する、
ポリマーバインダー
を含むネガ型画像形成層を有するネガ型平版印刷版原版に改善をもたらす。
エチレン性不飽和重合性基を含むペンダント基を含む同じ又は異なる−A−反復単位、
以下の構造(Ia)、(IIa)又は(IIIa):
(式中、
R及びR1のそれぞれは独立に、水素、シアノ、置換若しくは非置換アルキル基、又はハロゲンであり、
各R’は独立に、水素、又は置換若しくは非置換アルキル、又は置換若しくは非置換アリール基であり、
R2、R2a、R3及びR3aは独立に、水素、又は置換若しくは非置換アルキル基である、或いはR2とR3、又はR2aとR3aはこれらが結合している2個の炭素原子と一緒になって、置換若しくは非置換アリール基、置換若しくは非置換ヘテロアリール基、又は置換若しくは非置換の炭素環若しくは複素環基を形成し、
R4は水素、又は1〜10個の炭素原子を有する置換若しくは非置換アルキル基であり、
L及びL’は独立に、二価の置換若しくは非置換結合基であり、
nは0又は1であり、
r、s、t及びuは独立に、0又は1であり、但し、R2及びR2aが結合している炭素原子が−C=C−二重結合の一部である場合、rとsの一方は0であり、更に但し、R3及びR3aが結合している炭素原子が−C=C−二重結合の一部である場合、t及びuの一方が0であり、
構造(IIa)中の点線は二重結合が存在していてもしていなくてもよいことを示す)
によって表される同じ又は異なる−B−反復単位、及び
場合により、−A−及び−B−反復単位と異なる同じ又は異なる−C−反復単位
を有するポリマー骨格を含む。
本発明の任意の実施形態のネガ型平版印刷版原版を画像形成放射に画像様露光(imagewise exposing)してネガ型画像形成層中に露光領域及び非露光領域を得る工程、及び
処理溶液を用いて画像様露光した原版を現像してネガ型画像形成層の非露光領域を除去して平版印刷版を得る工程
を含む、平版印刷版の製造方法を提供する。
アリル(メタ)アクリレートに由来する−A−反復単位と、構造(Ia)(式中、R4は水素、又は1〜4個の炭素原子を有する置換若しくは非置換アルキル基であり、Lはメチレンである)によって表される−B−反復単位と、(メタ)アクリル酸に由来する−C−反復単位とを含むポリマーバインダーを含むネガ型平版印刷版原版を画像形成放射に画像様露光してネガ型画像形成層中に露光領域及び非露光領域を得る工程、
処理溶液を用いて画像様露光した原版を現像してネガ型画像形成層の非露光領域を除去して平版印刷版を得る工程、及び
場合により、現像後に、平版印刷版を少なくとも180℃及び300℃以下の温度で少なくとも10秒及び10分以下の間焼き出す工程
を含む。
ネガ型画像形成層(「画像形成層」)、コーティング配合物及び現像液(処理溶液)の種々の成分を定義するために本明細書で使用する場合、特に指定しない限り、単数形「a」、「an」及び「the」は成分の1つ又は複数を含む(すなわち、複数指示対象を含む)ことを意図している。
本発明の原版中に存在する基板は、一般的に親水性表面、又は少なくとも画像形成側に適用されたネガ型画像形成層より親水性の表面を有する。基板は、平版印刷版原版を調製するために慣用的に使用されているいずれの材料で構成されていてもよい支持体を含む。これは通常、シート、フィルム又は箔(又はウェブ)の形態であり、カラーレコード(color record)がフルカラー画像を登録するように使用条件下で強く、安定で、可撓性で、寸法変化に対して抵抗性である。典型的には、支持体は、ポリマーフィルム(ポリエステル、ポリエチレン、ポリカーボネート、セルロースエステルポリマー及びポリスチレンフィルムなど)、ガラス、セラミック、金属シート若しくは箔、又は薄板紙(樹脂被覆及び金属蒸着紙を含む)、又はこれらの材料のいずれかの積層(ポリエステルフィルム上のアルミ箔の積層など)を含む任意の自立性材料であり得る。金属支持体には、アルミニウム、銅、亜鉛、チタン及びこれらの合金のシート又は箔が含まれる。
本発明の実施形態は、下記のネガ型放射感受性組成物を適当な基板に適当に適用してその基板上にネガ型(放射感受性)画像形成層を形成することによって形成することができる。一般に、ネガ型放射感受性組成物(及び画像形成層)は、フリーラジカル重合性成分と、放射吸収剤と、画像形成放射に曝露するとフリーラジカルを生成することができる開始剤組成物と、新規なポリマーバインダーとを含み、これらの成分は以下でより詳細に記載される。一般的には、ネガ型放射感受性組成物を含むただ1つのネガ型画像形成層が存在する。これが原版の最外層であってもよいが、いくつかの実施形態では、1つ又は複数のネガ型画像形成層上に配置された最外水溶性オーバーコート層(トップコートとしても知られている)が存在する。このようなオーバーコートは以下に記載されている。
(式中、構造(III)中の各R’は独立に、水素、又は(例えば、ベンジル基を含む1〜8個の炭素原子を有する)置換若しくは非置換アルキル、又は(メチル置換フェニル基を含む)炭素環式環中に6又は10個の炭素原子を有する置換若しくは非置換アリール基である)
によって表される。特に有用なR’基は水素、メチル、エチル又はフェニルであるが、多くの実施形態では、各R’基が水素である、又はR’基の少なくとも3個が水素である。
構造II中の点線は二重結合が存在していてもしていなくてもよいことを示す。
エチレン性不飽和重合性基を含むペンダント基を含む同じ又は異なる−A−反復単位、
以下の構造(Ia)、(IIa)及び(IIIa):
(式中、R及びR1の各々は独立に、水素、シアノ、(例えば、1〜4個の炭素原子を有する)置換若しくは非置換アルキル基、又はハロゲンである)
によって表される同じ又は異なる−B−反復単位。例えば、R及びR1の各々は独立に、水素、メチル、エチル又はハロゲンである、或いはおそらくはR及びR1の各々は水素又はメチルである。
アリル(メタ)アクリレートに由来する−A−反復単位と、
構造(Ia)(式中、R4は水素、又は1〜4個の炭素原子を有する置換若しくは非置換アルキル基であり、Lはメチレンである)によって表される−B−反復単位と、
ペンダント−C(=O)−NH2、酸性、又は−[(CH2−CRy−O)]m−Rx基(式中、Ry及びRxは独立に、水素又はメチルであり、mは1〜20である)を含む−C−反復単位と
を含む。
アリル(メタ)アクリレートに由来する反復単位はポリマーバインダーの少なくとも0.5mmol/g及びポリマーバインダーの7mmol/g以下の量で存在し、
アルコキシメチルメタクリルアミドに由来する反復単位はポリマーバインダーの少なくとも0.5mmol/g及びポリマーバインダーの7mmol/g以下の量で存在し、
(メタ)アクリル酸に由来する反復単位はポリマーバインダーの少なくとも0.2mmol/g及びポリマーバインダーの4mmol/g以下の量で存在する。
−B−反復単位が上記の以下の構造(Ia)、(IIa)又は(IIIa)
(式中、
R及びR1のそれぞれは独立に、水素、シアノ、置換若しくは非置換アルキル基、又はハロゲンであり、
各R’は独立に、水素、又は置換若しくは非置換アルキル、又は置換若しくは非置換アリール基であり、
R2、R2a、R3及びR3aは独立に、水素、又は置換若しくは非置換アルキル基である、或いはR2とR3、又はR2aとR3aはこれらが結合している2個の炭素原子と一緒になって、置換若しくは非置換アリール基、置換若しくは非置換ヘテロアリール基、又は置換若しくは非置換の炭素環若しくは複素環基を形成し、
R4は水素、又は置換若しくは非置換アルキル基であり、
L及びL’は独立に、二価置換若しくは非置換結合基であり、
nは0又は1であり、
r、s、t及びuは独立に、0又は1であり、但し、R2及びR2aが結合している炭素原子が−C=C−二重結合の一部である場合、rとsの一方は0であり、更に但し、R3及びR3aが結合している炭素原子が−C=C−二重結合の一部である場合、t及びuの一方が0であり、
構造(IIa)中の点線は二重結合が存在していてもしていなくてもよいことを示す)
によって表される1つ又は複数のエチレン性不飽和重合性基に由来しており、
−C−反復単位がペンダント−C(=O)−NH2、酸性、又は−[(CH2−CRy−O)]m−Rx基(式中、Ry及びRxは独立に、水素又はメチルであり、mは少なくとも1及び20以下である)を含む。
I.例えば、米国特許第7326521号明細書(Taoら)に記載されている、(a)(メタ)アクリロニトリル、(b)(メタ)アクリル酸のポリ(アルキレンオキシド)エステル、及び場合により(c)(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリレートエステル、スチレン及びその誘導体、並びに(メタ)アクリルアミドの組み合わせ又は混合物の重合によって形成される膜形成ポリマー。このクラスのいくつかの特に有用なポリマーバインダーは、1種又は複数の(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリレートエステル、スチレン及びその誘導体、ビニルカルバゾール、並びにポリ(アルキレンオキシド)(メタ)アクリレートに由来する。
(式中、R及びR’は独立に、ハロゲン、ニトロ、アルキル、アリール、シクロアルキル、アルコキシ、アリールオキシ、アルケニル、アルキニル、アルキルアミノ、ジアルキルイミノ、アルキルアミド、アリールアミド、カルボニル、カルボキシ、スルホニル、チオアルキル又はチオアリール基を表す、或いはR及びR’基の2つ以上が組み合わさってそれぞれのフェニル基を有する縮合炭素環式又は複素環式環を形成することができ、n及びmは独立に、0又は1〜5の整数である)
によって表される。mとnの和は1〜6となり得る。ホウ素含有アニオンは以下の構造(V):
B−(R1)(R2)(R3)(R4)
(V)
(式中、R1、R2、R3及びR4は独立に、アルキル、アリール、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル又は複素環基を表す、或いはR1、R2、R3及びR4の2つ以上が一緒に結合して、最大7個の炭素、窒素、酸素又は窒素原子を有するホウ素原子を含む複素環式環を形成することができる)
によって表される。いくつかの実施形態では、R1、R2、R3及びR4の全てが同じ又は異なる、置換若しくは非置換アリール基、例えば、置換若しくは非置換フェニル基であり、又はおそらくはこれらの基の全てが非置換フェニル基であり、mとnの和が1〜6であり得る。
ネガ型平版印刷版原版は、ネガ型画像形成層の直ぐ上に配置された最外水溶性オーバーコート層を有することができる(これらの2つの層の間に中間層はない)。この最外水溶性オーバーコート層は原版の最外層であり得るので、他の原版を積層する場合、ある原版のこの最外オーバーコート層はその上の隣接原版の基板の裏側と接触するだろう。
tの0.06倍≦D(ワックス)<t(μm)の0.75倍
上記ネガ型放射感受性組成物を、スピンコーティング、ナイフコーティング、グラビアコーティング、ダイコーティング、スロットコーティング、バーコーティング、ワイヤロッドコーティング、ローラーコーティング又は押し出しホッパーコーティングなどの任意の適当な装置及び手順を用いて、コーティング液中の溶液又は分散体として基板に適用することができる。これらを噴霧によって適当な支持体上に適用することもできる。典型的には、ネガ型放射感受性組成物を適用し、乾燥させてネガ型画像形成層を形成する。
使用中、本発明の平版印刷版原版を、少なくとも150nm及び450nm以下(「UV」若しくは「紫」)又は少なくとも700nm及び1400nm以下の赤外線の波長にある特定の感度を提供するネガ型放射感受性組成物中に存在する放射吸収剤に応じた露光放射の適当な源に露光する。いくつかの実施形態では、ネガ型平版印刷版原版がUV若しくは「紫」放射に感受性である場合には、少なくとも350nm及び450nm以下の範囲内のλmaxを有する放射を用いて、又はネガ型平版印刷版原版が赤外線に感受性である場合には、適当なエネルギー源を用いて少なくとも700nm及び1400nm以下の範囲内のλmaxを有する放射を用いて、画像様露光を行う。
画像形成後、画像形成したネガ型平版印刷版原版を、本明細書に記載される適当な処理溶液を用いて、例えば、水又は下記の処理溶液を用いて、「オフプレス」処理することができる。このような処理を、画像形成したネガ型画像形成層及び存在する場合には最外水溶性オーバーコート層の非露光領域を除去して基板の親水性表面をあらわにするのに十分であるが、有意な量の硬化した露光領域を除去するのに十分は長くない時間、画像形成したネガ型原版で行う。あらわになった親水性基板表面はインクを跳ね返すが、露光領域はインクを受容する。したがって、除去される非露光領域は、残ったままである領域よりも容易に処理液中に除去、溶解又は分散されるので、処理溶液に「可溶性」又は「除去可能」である。「可溶性」という用語は「分散性」も意味する。
フリーラジカル重合性成分、
放射に曝露するとフリーラジカルを生成することができる開始剤組成物、
放射吸収剤、及び、
ポリマー骨格を含み、ポリマー骨格に沿ってランダム順序で分布した少なくとも(a)及び(b)ペンダント基を更に含むポリマーバインダーであって、(a)及び(b)ペンダント基が以下の通り同定される:
(a)ペンダント基はエチレン性不飽和重合性基を含み、
(b)ペンダント基は以下の構造(I)、(II)及び(III):
(式中、
各R’は独立に、水素、又は置換若しくは非置換アルキル、又は置換若しくは非置換アリール基であり、
R2、R2a、R3及びR3aは独立に、水素、又は置換若しくは非置換アルキル基である、或いはR2とR3、又はR2aとR3aはこれらが結合している2個の炭素原子と一緒になって、置換若しくは非置換アリール基、置換若しくは非置換ヘテロアリール基、又は置換若しくは非置換の炭素環若しくは複素環基を形成し、
R4は水素、又は置換若しくは非置換アルキル基であり、
L及びL’は独立に、二価置換若しくは非置換結合基であり、
nは0又は1であり、
r、s、t及びuは独立に、0又は1であり、但し、R2及びR2aが結合している炭素原子が−C=C−二重結合の一部である場合、rとsの一方が0であり、更に但し、R3及びR3aが結合している炭素原子が−C=C−二重結合の一部である場合、t及びuの一方が0であり、
構造II中の点線は二重結合が存在していてもしていなくてもよいことを示す)
によって表される1つ又は複数の基を含み、
(a)ペンダント基はポリマーバインダーの少なくとも0.5mmol/g及びポリマーバインダーの7mmol/g以下の量で存在し、(b)ペンダント基はポリマーバインダーの少なくとも0.5mmol/g及びポリマーバインダーの7mmol/g以下の量で存在する、
ポリマーバインダー
を含むネガ型画像形成層を有するネガ型平版印刷版原版。
エチレン性不飽和重合性基を含むペンダント基を含む同じ又は異なる−A−反復単位、
以下の構造(Ia)、(IIa)又は(IIIa):
(式中、R及びR1の各々は独立に、水素、シアノ、置換若しくは非置換アルキル基、又はハロゲンである)
によって表される同じ又は異なる−B−反復単位、及び
場合により、−A−及び−B−反復単位と異なる同じ又は異なる−C−反復単位、
を有するポリマー骨格を含む、
実施形態1又は2のネガ型平版印刷版原版。
アリル(メタ)アクリレートに由来する−A−反復単位と、
構造(Ia)(式中、R4は水素、又は1〜4個の炭素原子を有する置換若しくは非置換アルキル基であり、Lはメチレンである)によって表される−B−反復単位と、
ペンダント−C(=O)−NH2、酸性、又は−[(CH2−CRy−O)]m−Rx基(式中、Ry及びRxは独立に、水素又はメチルであり、mは1〜20である)を含む−C−反復単位と
を含む、実施形態3から6のいずれかのネガ型平版印刷版原版。
少なくとも700nm及び1400nm以下の波長の赤外線を有効に吸収する赤外線吸収剤又は
少なくとも350nm及び450nm以下の波長の放射を有効に吸収する増感剤
のいずれかである、実施形態1から7のいずれかのネガ型平版印刷版原版。
アリル(メタ)アクリレートに由来する反復単位がポリマーバインダーの少なくとも0.5mmol/g及びポリマーバインダーの7mmol/g以下の量で存在し、
アルコキシメチルメタクリルアミドに由来する反復単位がポリマーバインダーの少なくとも0.5mmol/g及びポリマーバインダーの7mmol/g以下の量で存在し、
(メタ)アクリル酸に由来する反復単位がポリマーバインダーの少なくとも0.2mmol/g及びポリマーバインダーの4mmol/g以下の量で存在する、
実施形態1から8のいずれかのネガ型平版印刷版原版。
−B−反復単位が構造(Ia)、(IIa)又は(IIIa)
(式中、
R及びR1のそれぞれは独立に、水素、シアノ又はメチルであり、
各R’は独立に、水素、メチル、エチル又はフェニルであり、
R2、R2a、R3及びR3aは独立に、水素、又は1〜6個の炭素原子を有する置換若しくは非置換アルキル基である、或いはR2とR3、又はR2aとR3aがこれらが結合している2個の炭素原子と一緒になって、置換若しくは非置換フェニル基、置換若しくは非置換ヘテロアリール基、又は置換若しくは非置換シクロアルキル基を形成し、
R4は水素、又は1〜6個の炭素原子を有する置換若しくは非置換アルキル基である)
によって表され、
−C−反復単位が、ペンダント−C(=O)−NH2、酸性、又は−[(CH2−CRy−O)]m−Rx基(式中、Ry及びRxは独立に、水素又はメチルであり、mは1〜20である)を含む、
実施形態3から10のいずれかのネガ型平版印刷版原版。
処理溶液を用いて画像様露光した原版を現像してネガ型画像形成層の非露光領域を除去して平版印刷版を得る工程
を含む、平版印刷版の製造方法。
平版印刷版を少なくとも180℃の温度で少なくとも10秒間焼き出す工程
を更に含む、実施形態13から15のいずれかの方法。
以下の表Iに記載されるモノマー混合物のMEK中12重量%溶液(理論的量)に、AIBN 0.6mol%及びドデシルメルカプタン0.5mol%を添加した。得られた混合物を窒素を用いて光を当て、次いで、攪拌下で8時間70℃に加熱した。MEKの約50%を真空下30℃で留去した。溶液を、反応に使用したMEKの量に関して2倍量のペトロールエーテルに落とし入れることによって、得られたバインダーを単離した。ポリマーを真空下35℃で24時間乾燥させた。
酸化物重量が2.75g/m2の電気化学的に粗化し、陽極酸化したアルミ箔をポリ(ビニルリン酸)の水溶液を用いた後処理に供した。得られた基板表面の平均粗さは0.55μmであった。
コピーの品質を評価するための異なる要素を含むUGRA/FOGRA Postscript Stripバージョン2.0EPS(UGRAから入手可能)を、830nmでTrendsetter 3244(Eastman Kodak)及び露光エネルギー80mJ/cm2を用いて発明実施例及び比較実施例の平版印刷版原版を画像形成するために使用した。
貯蔵寿命を推定するために、平版印刷版原版を、それぞれ2、5、7及び10日間包装紙を用いないで、40℃及び80%相対湿度の人工気候室での加速劣化試験に供した。上記の画像様露光及び処理後、各平版印刷版を、印刷のために摩耗性平版印刷インク(10%の炭酸カルシウムを含むSun Chemicalから入手可能なOffset S 7184)及び湿し水(Boettcher GmbH.から入手可能なBoettcher Fount S−3021)を用いてシート給紙オフセット印刷機に入れた。以下の通り非画像領域のインク受容性をチェックして貯蔵寿命を評価した。
+ 版が15印刷枚数後にきれいに印刷した;
0 版が30印刷枚数後にきれいに印刷した;
− 版が60印刷枚数後にきれいに印刷した;
−− 版が60印刷枚数後にきれいに印刷しなかった。
焼出性を評価するために、各平版印刷版を250℃のオーブンで4分間加熱した。各平版印刷版を室温まで冷却した後、数滴の消去液Kodak 231を、最初の滴が10分の滞留時間を有し、最後の滴が1分の滞留時間を有するまで、1分の時間間隔で各平版印刷版表面にのせた。次いで、各平版印刷版を水ですすぎ、乾燥させた。滴を適用した領域で光学濃度(O.D.)を測定し、O.D.データ対接触時間(tb)を用いて曲線を作成した。O.D.が出発値の20%未満に下がった曲線上の場所を、焼出性の尺度とみなした。測定点でのtb値が高いほど、平版印刷版の焼き出し効率が良い。
酸化物重量が2.75g/m2の電気化学的に粗化し、陽極酸化したアルミ箔をポリ(ビニルリン酸)の水溶液を用いた後処理(後処理)に供した。処理表面の平均粗さは0.55μmであった。
コピーの品質を評価するための異なる要素を含むUGRA/FOGRA Postscript Stripバージョン2.0EPS(UGRAから入手可能)を、405nmで商業的Heidelberg Prosetterを用いて発明実施例及び比較実施例の各々について記載される平版印刷版原版を画像形成するために使用した。露光エネルギーは50J/cm2であった。
貯蔵寿命を推定するために、各平版印刷版原版を、それぞれ5、7、10及び12日間ポリエチレンコーティング黒色紙に包んで、40℃及び80%相対湿度の人工気候室での加速劣化試験に供した。これらの「劣化した」平版印刷版原版の各々を上記のように画像様露光し、処理した。各平版印刷版を、摩耗性インク(10重量%の炭酸カルシウムを含むSun Chemicalから入手可能なOffset S 7184)及び湿し水(Boettcher GmbH.から入手可能なBoettcher Fount S−3021)を用いてシート給紙オフセット印刷機に入れた。各平版印刷版上の非画像形成領域のインク受容性をチェックし、以下の貯蔵寿命評価をした:
+ 版が15枚後にきれいに動いた;
0 版が30枚後にきれいに動いた;
− 版が60枚後にきれいに動いた;
−− 版が60枚後にきれいでなかった。
830nm感受性平版印刷版について上に記載されるのと同じ手順を使用した。
表VIで以下に示される830nm露光平版印刷版原版及び表VIIに示される405nm露光発明平版印刷版原版についての結果は、本発明により使用されるポリマーバインダーが比較平版印刷版原版と同じ感光性及び貯蔵寿命を示したことを示している。しかしながら、本発明の原版は有意に改善した焼出性を示した。
Claims (19)
- 基板を含み、その上に、
フリーラジカル重合性成分、
放射に曝露するとフリーラジカルを生成することができる開始剤組成物、
放射吸収剤、及び、
ポリマー骨格を含み、前記ポリマー骨格に沿ってランダム順序で分布した少なくとも(a)及び(b)のペンダント基を更に含むポリマーバインダーであって、前記(a)及び(b)のペンダント基が以下の通り同定される:
(a)ペンダント基はエチレン性不飽和重合性基を含み、
(b)ペンダント基は以下の構造(I)、(II)及び(III):
(式中、
各R’は独立に、水素、又は置換若しくは非置換アルキル、又は、置換若しくは非置換アリール基であり、
R2、R2a、R3及びR3aは独立に、水素、又は、置換若しくは非置換アルキル基である、或いはR2とR3、又はR2aとR3aはこれらが結合している2個の炭素原子と一緒になって、置換若しくは非置換アリール基、置換若しくは非置換ヘテロアリール基、又は、置換若しくは非置換の炭素環若しくは複素環基を形成し、
R4は水素、又は置換若しくは非置換アルキル基であり、
L及びL’は独立に、二価の置換若しくは非置換結合基であり、
nは0又は1であり、
r、s、t及びuは独立に、0又は1であり、但し、R2及びR2aが結合している炭素原子が−C=C−二重結合の一部である場合、rとsの一方は0であり、更に、但し、R3及びR3aが結合している炭素原子が−C=C−二重結合の一部である場合、t及びuの一方が0であり、
構造II中の点線は二重結合が存在していてもしていなくてもよいことを示す)
によって表される1つ又は複数の基を含み、
前記(a)ペンダント基は前記ポリマーバインダーの少なくとも0.5mmol/g及び前記ポリマーバインダーの7mmol/g以下の量で存在し、前記(b)ペンダント基は前記ポリマーバインダーの少なくとも0.5mmol/g及び前記ポリマーバインダーの7mmol/g以下の量で存在する、
ポリマーバインダー
を含むネガ型画像形成層を有するネガ型平版印刷版原版。 - 前記ポリマーバインダーが、ポリウレタン骨格、ポリエステル骨格、ポリアミド骨格、ポリビニルアセタール骨格又はポリアクリル酸骨格を含む、請求項1に記載のネガ型平版印刷版原版。
- 前記(a)ペンダント基が前記ポリマーバインダーの少なくとも1mmol/g及び前記ポリマーバインダーの4mmol/g以下の量で存在し、前記(b)ペンダント基が前記ポリマーバインダーの少なくとも1mmol/g及び前記ポリマーバインダーの4mmol/g以下の量で存在する、請求項1に記載のネガ型平版印刷版原版。
- 前記ポリマーバインダーが、全て前記ポリマーバインダー中の全反復単位基準で、少なくとも30mol%及び70mol%以下の量の−A−反復単位と、少なくとも20mol%及び70mol%以下の量の−B−反復単位と、少なくとも10mol%及び40mol%以下の量の−C−反復単位とを含む、請求項3に記載のネガ型平版印刷版原版。
- 前記ポリマーバインダーが1つ又は複数の(c)−C(=O)−NH2、酸性、及び、−[(CH2−CRy−O)]m−Rx基(式中、Ry及びRxは独立に、水素又はメチルであり、mは少なくとも1及び20以下である)からなる群から選択されるペンダント基を更に含み、前記(c)ペンダント基の総量が前記ポリマーバインダーの少なくとも0.2mmol/g及び前記ポリマーバインダーの4mmol/g以下である、請求項3に記載のネガ型平版印刷版原版。
- 前記ポリマーバインダーが、
アリル(メタ)アクリレートに由来する−A−反復単位と、
構造(Ia)(式中、R4は水素、又は、1〜4個の炭素原子を有する置換若しくは非置換アルキル基であり、Lはメチレンである)によって表される−B−反復単位と、
ペンダント−C(=O)−NH2、酸性、又は、−[(CH2−CRy−O)]m−Rx基(式中、Ry及びRxは独立に、水素又はメチルであり、mは1〜20である)を含む−C−反復単位と
を含む、請求項3に記載のネガ型平版印刷版原版。 - 前記放射吸収剤が、
少なくとも700nm及び1400nm以下の波長の赤外線を有効に吸収する赤外線吸収剤又は
少なくとも350nm及び450nm以下の波長の電磁放射を有効に吸収する増感剤
のいずれかである、請求項1に記載のネガ型平版印刷版原版。 - 前記ポリマーバインダーがアリル(メタ)アクリレート、アルコキシメチルメタクリルアミド及び(メタ)アクリル酸の各々に由来する反復単位を含み、
アリル(メタ)アクリレートに由来する前記反復単位が前記ポリマーバインダーの少なくとも0.5mmol/g及び前記ポリマーバインダーの7mmol/g以下の量で存在し、
アルコキシメチルメタクリルアミドに由来する前記反復単位が前記ポリマーバインダーの少なくとも0.5mmol/g及び前記ポリマーバインダーの7mmol/g以下の量で存在し、
(メタ)アクリル酸に由来する前記反復単位が前記ポリマーバインダーの少なくとも0.2mmol/g及び前記ポリマーバインダーの4mmol/g以下の量で存在する、
請求項1に記載のネガ型平版印刷版原版。 - 前記ポリマーバインダーが、前記ネガ型画像形成層の総乾燥重量基準で、少なくとも20重量%及び80重量%以下の量で前記ネガ型画像形成層中に存在する、請求項1に記載のネガ型平版印刷版原版。
- 前記ポリマーバインダーが、全て前記ポリマーバインダー中の全反復単位基準で、少なくとも30mol%及び70mol%以下の量の−A−反復単位と、少なくとも20mol%及び70mol%以下の量の−B−反復単位と、少なくとも10mol%及び40mol%以下の量の−C−反復単位とを含み、
前記−B−反復単位が構造(Ia)、(IIa)又は(IIIa)
(式中、
R及びR1のそれぞれは独立に、水素、シアノ又はメチルであり、
各R’は独立に、水素、メチル、エチル又はフェニルであり、
R2、R2a、R3及びR3aは独立に、水素、又は1〜6個の炭素原子を有する置換若しくは非置換アルキル基である、或いはR2とR3、又はR2aとR3aがこれらが結合している2個の炭素原子と一緒になって、置換若しくは非置換フェニル基、置換若しくは非置換ヘテロアリール基、又は、置換若しくは非置換シクロアルキル基を形成し、
R4は水素、又は1〜6個の炭素原子を有する置換若しくは非置換アルキル基である)
によって表され、
前記−C−反復単位が、ペンダント−C(=O)−NH2、酸性、又は−[(CH2−CRy−O)]m−Rx基(式中、Ry及びRxは独立に、水素又はメチルであり、mは1〜20である)を含む、
請求項3に記載のネガ型平版印刷版原版。 - 前記ポリマーバインダーが、アリル(メタ)アクリレートに由来する−A−反復単位と、構造(Ia)(式中、R4は水素、又は1〜4個の炭素原子を有する置換若しくは非置換アルキル基であり、Lはメチレンである)によって表される−B−反復単位と、(メタ)アクリル酸に由来する−C−反復単位とを含む、請求項11に記載のネガ型平版印刷版原版。
- 請求項1に記載のネガ型平版印刷版原版を画像形成放射に画像様露光して前記ネガ型画像形成層中に露光領域及び非露光領域を得る工程、及び
処理溶液を用いて前記画像様露光した原版を現像して前記ネガ型画像形成層の前記非露光領域を除去して平版印刷版を得る工程
を含む、平版印刷版の製造方法。 - ネガ型平版印刷版原版が赤外線に感受性であり、前記画像様露光が少なくとも700nm及び1400nm以下の波長の赤外線を用いて行われる、請求項13に記載の方法。
- ネガ型平版印刷版原版が少なくとも350nm及び450nm以下の波長を有する電磁放射に感受性であり、前記画像様露光が少なくとも350nm及び450nm以下の波長の電磁放射を用いて行われる、請求項13に記載の方法。
- 前記現像後に、
前記平版印刷版を少なくとも180℃の温度で少なくとも10秒間焼き出す工程
を更に含む、請求項13に記載の方法。 - 前記現像を、水性処理溶液を用いてオフプレスで行い、引き続いて前記平版印刷版を焼き出しする前に前記平版印刷版をすすぎ、ゴム引きする、請求項16に記載の方法。
- 前記現像を、前記平版印刷版を後にすすぎ、ゴム引きすることなく、水性処理溶液を用いてオフプレスで行い、引き続いて前記平版印刷版を少なくとも180℃の温度で少なくとも10秒間焼き出しする、請求項13に記載の方法。
- 請求項11に記載のネガ型平版印刷版原版を画像形成放射に画像様露光して前記ネガ型画像形成層中に露光領域及び非露光領域を得る工程、
処理溶液を用いて前記画像様露光した原版を現像して前記ネガ型画像形成層の前記非露光領域を除去して平版印刷版を得る工程、及び
任意に、前記現像後に、前記平版印刷版を少なくとも180℃及び300℃以下の温度で少なくとも10秒及び10分以下の間焼き出す工程
を含む、平版印刷版の製造方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018135217A1 (ja) * | 2017-01-17 | 2018-07-26 | 新中村化学工業株式会社 | 共重合体及びその製造方法、並びに共重合体組成物 |
JP2019504780A (ja) * | 2016-01-28 | 2019-02-21 | イーストマン コダック カンパニー | ネガ型平版印刷版原版及び方法 |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20130087167A1 (en) * | 2011-10-07 | 2013-04-11 | Xerox Corporation | Tunable surfactants in dampening fluids for digital offset ink printing applications |
US9588429B1 (en) * | 2015-09-03 | 2017-03-07 | Eastman Kodak Company | Lithographic developer composition and method of use |
TWI629564B (zh) * | 2016-06-17 | 2018-07-11 | 長興材料工業股份有限公司 | 可聚合組合物及其應用 |
BR112019009802B1 (pt) * | 2016-11-16 | 2022-12-13 | Fujifilm Corporation | Precursor de placa de impressão planográfica em prensa e método para fabricação de placa em prensa para placa de impressão planográfica |
US20180157176A1 (en) | 2016-12-02 | 2018-06-07 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursor and use |
EP3566099B1 (en) | 2017-01-04 | 2021-02-24 | Eastman Kodak Company | Negative-working lithographic printing plate precursor and use |
US10828884B2 (en) | 2017-03-02 | 2020-11-10 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursors and method of use |
US10576730B2 (en) | 2017-07-19 | 2020-03-03 | Eastman Kodak Company | Method for preparing lithographic printing plates |
US11117412B2 (en) | 2019-10-01 | 2021-09-14 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursors and method of use |
WO2022119719A1 (en) | 2020-12-04 | 2022-06-09 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursors and method of use |
JP2023554644A (ja) | 2020-12-17 | 2023-12-28 | イーストマン コダック カンパニー | 平版印刷版原版および使用方法 |
EP4101830A1 (en) | 2021-06-10 | 2022-12-14 | FEW Chemicals GmbH | Novel diaryliodonium salt mixtures as low molecular weight photoinitiators with minimized crystallization behavior and elevated solubility |
US20240061337A1 (en) | 2022-08-04 | 2024-02-22 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursors, methods of using and manufacture |
Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62209118A (ja) * | 1986-03-10 | 1987-09-14 | Canon Inc | 活性エネルギ−線硬化型樹脂組成物 |
JPS646944A (en) * | 1987-03-25 | 1989-01-11 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | Heat resistant photosensitive resin composition |
JPH0527432A (ja) * | 1991-07-08 | 1993-02-05 | Canon Inc | 光重合性組成物 |
JPH11171907A (ja) * | 1997-12-15 | 1999-06-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
JP2000352819A (ja) * | 1999-06-11 | 2000-12-19 | Toppan Printing Co Ltd | 感光性着色樹脂組成物及びカラーフィルター |
JP2003140327A (ja) * | 2001-11-01 | 2003-05-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
JP2003262961A (ja) * | 2002-03-07 | 2003-09-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
JP2005047947A (ja) * | 2003-07-29 | 2005-02-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | アルカリ可溶性ポリマー及びそれを用いた重合性組成物 |
WO2005064402A1 (ja) * | 2003-12-25 | 2005-07-14 | Kodak Polychrome Graphics Japan Ltd. | ネガ型感光性組成物およびネガ型感光性平版印刷版 |
JP2005535471A (ja) * | 2002-08-12 | 2005-11-24 | コダック・ポリクローム・グラフィックス・エルエルシー | 高速ネガ型感熱印刷版 |
US20080070152A1 (en) * | 2006-09-18 | 2008-03-20 | Jianfei Yu | Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials |
JP2008209850A (ja) * | 2007-02-28 | 2008-09-11 | Jsr Corp | 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子 |
JP2009534714A (ja) * | 2006-04-25 | 2009-09-24 | イーストマン コダック カンパニー | 高い耐化学薬品性を有するベーキング可能な平版印刷版 |
JP2013029619A (ja) * | 2011-07-27 | 2013-02-07 | Fujifilm Corp | 感光性組成物、平版印刷版原版、ポリウレタン及びポリウレタンの製造方法 |
Family Cites Families (96)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3445232A (en) | 1965-10-21 | 1969-05-20 | Horizons Research Inc | Photography |
JPS5946643A (ja) | 1982-09-09 | 1984-03-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
US4565769A (en) | 1984-11-21 | 1986-01-21 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Polymeric sensitizers for photopolymer composition |
US5086086A (en) | 1987-08-28 | 1992-02-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Energy-induced curable compositions |
US4973572A (en) | 1987-12-21 | 1990-11-27 | Eastman Kodak Company | Infrared absorbing cyanine dyes for dye-donor element used in laser-induced thermal dye transfer |
JP2520686B2 (ja) | 1988-03-18 | 1996-07-31 | 富士写真フイルム株式会社 | 湿し水不要感光性平版印刷板 |
GB9004337D0 (en) | 1990-02-27 | 1990-04-25 | Minnesota Mining & Mfg | Preparation and use of dyes |
JP3321288B2 (ja) | 1994-04-25 | 2002-09-03 | 日本ペイント株式会社 | 近赤外光重合性組成物 |
DE4418645C1 (de) | 1994-05-27 | 1995-12-14 | Sun Chemical Corp | Lichtempfindliches Gemisch und daraus herstellbares Aufzeichnungsmaterial |
DE4435404A1 (de) | 1994-10-04 | 1996-04-11 | Henkel Kgaa | Verfahren zur Herstellung stabilisierter wäßriger Polyolefinwachs-Dispersionen |
US5629354A (en) | 1995-02-28 | 1997-05-13 | Eastman Kodak Company | Photopolymerization initiator system comprising a spectral sensitizer and a polycarboxylic acid co-initiator |
US5910395A (en) | 1995-04-27 | 1999-06-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Negative-acting no-process printing plates |
US5488025A (en) | 1995-06-07 | 1996-01-30 | Eastman Kodak Company | Dye-receiving element containing elastomeric beads in overcoat layer for thermal dye transfer |
DE69517174T2 (de) | 1995-10-24 | 2000-11-09 | Agfa Gevaert Nv | Verfahren zur Herstellung einer lithographische Druckplatte mit auf der Druckpresse stattfindenden Entwicklung |
JP3645362B2 (ja) | 1996-07-22 | 2005-05-11 | 富士写真フイルム株式会社 | ネガ型画像記録材料 |
EP0828189B1 (en) | 1996-08-14 | 2004-11-10 | Mitsubishi Paper Mills, Ltd. | Apparatus for processing photosensitive material |
DE19732902A1 (de) | 1997-07-30 | 1999-02-04 | Sun Chemical Corp | Deckschicht für lichtempfindliche Materialien umfassend ein (1-Vinylimidazol)-Polymer oder -Copolymer |
US6218076B1 (en) | 1997-08-26 | 2001-04-17 | Showa Denko K.K. | Stabilizer for organic borate salts and photosensitive composition containing the same |
CO4960662A1 (es) | 1997-08-28 | 2000-09-25 | Novartis Ag | Ciertos acidos 5-alquil-2-arilaminofenilaceticos y sus derivados |
US6352812B1 (en) | 1998-06-23 | 2002-03-05 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal digital lithographic printing plate |
US6153356A (en) | 1998-08-17 | 2000-11-28 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photopolymerizable composition, photopolymerizable lithographic printing plate and process for forming an image |
US6232038B1 (en) | 1998-10-07 | 2001-05-15 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photosensitive composition, image-forming material and image-forming method employing it |
JP2001011694A (ja) | 1999-06-25 | 2001-01-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 電解処理方法 |
DE19940921A1 (de) | 1999-08-27 | 2001-03-01 | Agfa Gevaert Ag | Photopolymerisierbares Gemisch und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial |
US6478483B2 (en) | 1999-12-20 | 2002-11-12 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Apparatus for processing photosensitive material |
US6180087B1 (en) | 2000-01-18 | 2001-01-30 | Mallinckrodt Inc. | Tunable indocyanine dyes for biomedical applications |
JP3654422B2 (ja) | 2000-01-31 | 2005-06-02 | 三菱製紙株式会社 | 感光性組成物および感光性平版印刷版材料 |
US6309792B1 (en) | 2000-02-18 | 2001-10-30 | Kodak Polychrome Graphics Llc | IR-sensitive composition and use thereof for the preparation of printing plate precursors |
JP4469927B2 (ja) | 2000-05-23 | 2010-06-02 | Dic株式会社 | 感光性組成物およびこれを用いた平版印刷版原版、画像形成方法 |
EP1172699B1 (en) | 2000-07-14 | 2013-09-11 | FUJIFILM Corporation | Method for making lithographic printing plates |
JP2002040631A (ja) | 2000-07-19 | 2002-02-06 | Kodak Polychrome Graphics Japan Ltd | 平版印刷版用感光性組成物および感光性平版印刷版 |
EP1563991B1 (en) | 2000-08-21 | 2007-05-23 | FUJIFILM Corporation | Image recording material |
US6824946B2 (en) | 2000-10-03 | 2004-11-30 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor |
JP2002139833A (ja) | 2000-11-02 | 2002-05-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物および感光感熱記録材料 |
US7184401B2 (en) | 2001-02-05 | 2007-02-27 | Interdigital Technology Corporation | Link-aware transmission control protocol |
JP4266077B2 (ja) | 2001-03-26 | 2009-05-20 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷方法 |
US6582882B2 (en) | 2001-04-04 | 2003-06-24 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Imageable element comprising graft polymer |
US7261998B2 (en) | 2001-04-04 | 2007-08-28 | Eastman Kodak Company | Imageable element with solvent-resistant polymeric binder |
US7049046B2 (en) | 2004-03-30 | 2006-05-23 | Eastman Kodak Company | Infrared absorbing compounds and their use in imageable elements |
US6899994B2 (en) | 2001-04-04 | 2005-05-31 | Kodak Polychrome Graphics Llc | On-press developable IR sensitive printing plates using binder resins having polyethylene oxide segments |
US7045271B2 (en) | 2004-05-10 | 2006-05-16 | Eastman Kodak Company | On press developable imageable element |
US20030118939A1 (en) | 2001-11-09 | 2003-06-26 | Kodak Polychrome Graphics, L.L.C. | High speed negative working thermal printing plates |
JP2002341536A (ja) | 2001-05-21 | 2002-11-27 | Kodak Polychrome Graphics Japan Ltd | ネガ型感光性組成物およびネガ型感光性平版印刷版 |
JP3878451B2 (ja) | 2001-10-22 | 2007-02-07 | 富士フイルムホールディングス株式会社 | 感光性樹脂転写材料、画像形成方法、カラーフィルターとその製造方法、フォトマスクとその製造方法 |
DE60206593T2 (de) | 2002-03-06 | 2006-06-22 | Agfa-Gevaert N.V. | Verfahren zum Entwickeln eines wärmeempfindlichen lithographischen Druckplattenvorläufers mit einer Gummilösung |
US6919411B2 (en) | 2002-03-11 | 2005-07-19 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Process for producing polymer compound |
US6787281B2 (en) | 2002-05-24 | 2004-09-07 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Selected acid generating agents and their use in processes for imaging radiation-sensitive elements |
JP4137577B2 (ja) | 2002-09-30 | 2008-08-20 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
DE10255663B4 (de) | 2002-11-28 | 2006-05-04 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | Strahlungsempfindliche Elemente |
DE10255667B4 (de) | 2002-11-28 | 2006-05-11 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | Strahlungsempfindliche Elemente mit ausgezeichneter Lagerbeständigkeit |
JP2004252285A (ja) | 2003-02-21 | 2004-09-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版 |
DE10307451A1 (de) | 2003-02-21 | 2004-09-16 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | Strahlungsempfindliche Zusammensetzungen und darauf basierende bebilderbare Elemente |
DE10307453B4 (de) | 2003-02-21 | 2005-07-21 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | Oxazol-Derivate enthaltende strahlungsempfindliche Zusammensetzungen und darauf basierende bebilderbare Elemente |
US6908726B2 (en) | 2003-04-07 | 2005-06-21 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermally imageable elements imageable at several wavelengths |
US7368215B2 (en) | 2003-05-12 | 2008-05-06 | Eastman Kodak Company | On-press developable IR sensitive printing plates containing an onium salt initiator system |
WO2004114019A1 (ja) | 2003-06-18 | 2004-12-29 | Kodak Polychrome Graphics Japan Ltd. | ネガ型感光性組成物およびネガ型感光性平版印刷版 |
JP2005014348A (ja) | 2003-06-25 | 2005-01-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版及び平版印刷方法 |
US6992688B2 (en) | 2004-01-28 | 2006-01-31 | Eastman Kodak Company | Method for developing multilayer imageable elements |
JP4248345B2 (ja) | 2003-09-01 | 2009-04-02 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
US7078162B2 (en) | 2003-10-08 | 2006-07-18 | Eastman Kodak Company | Developer regenerators |
DE10356847B4 (de) | 2003-12-05 | 2005-10-06 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | Strahlungsempfindliche Zusammensetzungen und darauf basierende bebilderbare Elemente |
US7018775B2 (en) | 2003-12-15 | 2006-03-28 | Eastman Kodak Company | Infrared absorbing N-alkylsulfate cyanine compounds |
DE102004003143A1 (de) | 2004-01-21 | 2005-08-18 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | Strahlungsempfindliche Zusammensetzungen mit mercapto-funktionalisierten, radikalisch polymerisierbaren Monomeren |
ATE378174T1 (de) | 2004-01-23 | 2007-11-15 | Fujifilm Corp | Lithographiedruckplattenvorläufer und lithographisches druckverfahren |
JP4101780B2 (ja) | 2004-03-22 | 2008-06-18 | 株式会社日立国際電気 | 信号伝送方法および信号伝送装置 |
DK1751625T3 (da) | 2004-05-19 | 2012-02-27 | Agfa Graphics Nv | Fremgangsmåde til fremstilling af fotopolymerplade |
EP1614539B1 (en) | 2004-07-08 | 2008-09-17 | Agfa Graphics N.V. | Method for making a lithographic printing plate |
US7195861B2 (en) | 2004-07-08 | 2007-03-27 | Agfa-Gevaert | Method for making a negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor |
DE102004055733B3 (de) | 2004-11-18 | 2006-05-04 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | Lithographie-Druckplattenvorläufer mit oligomeren oder polymeren Sensibilisatoren |
EP1722275B1 (en) | 2005-05-10 | 2010-10-27 | Agfa Graphics N.V. | Method for processing lithographic printing plates |
JP5090631B2 (ja) | 2005-05-12 | 2012-12-05 | イーストマン コダック カンパニー | 変性シリカ粒子並びにそれを含む感光性組成物及び感光性平版印刷版 |
US7144661B1 (en) | 2005-11-01 | 2006-12-05 | Eastman Kodak Company | Multilayer imageable element with improved chemical resistance |
DE602005013398D1 (de) | 2005-11-18 | 2009-04-30 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform |
ES2320561T3 (es) | 2005-11-18 | 2009-05-25 | Agfa Graphics N.V. | Metodo para fabricar una plancha de impresion litografica. |
DE102006000783B3 (de) | 2006-01-04 | 2007-04-26 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | Für lithographische Druckplatten geeignete Photopolymerzusammensetzungen |
US7279255B2 (en) | 2006-02-07 | 2007-10-09 | Eastman Kodak Company | Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials |
US7175949B1 (en) | 2006-02-17 | 2007-02-13 | Eastman Kodak Company | Radiation-sensitive compositions and imageable materials |
JP2007272143A (ja) | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版およびその積層体 |
JP4611234B2 (ja) | 2006-03-31 | 2011-01-12 | 富士フイルム株式会社 | 重合性ネガ型平版印刷版原版、平版印刷版原版の積層体および重合性ネガ型平版印刷版原版の製造方法 |
US7524614B2 (en) | 2006-05-26 | 2009-04-28 | Eastman Kodak Company | Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials |
US7175969B1 (en) | 2006-07-18 | 2007-02-13 | Eastman Kodak Company | Method of preparing negative-working radiation-sensitive elements |
US7332253B1 (en) | 2006-07-27 | 2008-02-19 | Eastman Kodak Company | Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials |
US7326521B1 (en) | 2006-08-31 | 2008-02-05 | Eastman Kodak Company | Method of imaging and developing negative-working elements |
US7300726B1 (en) | 2006-10-20 | 2007-11-27 | Eastman Kodak Company | Multi-layer imageable element with improved properties |
US7429445B1 (en) | 2007-03-07 | 2008-09-30 | Eastman Kodak Company | Negative-working imageable elements and methods of use |
US20080254387A1 (en) | 2007-04-13 | 2008-10-16 | Jianfei Yu | Negative-working imageable elements and methods of use |
US7732118B2 (en) | 2007-05-10 | 2010-06-08 | Eastman Kodak Company | Negative-working imageable elements and methods of use |
US20080311520A1 (en) | 2007-06-13 | 2008-12-18 | Jianfei Yu | On-press developable negative-working imageable elements and methods of use |
US7858292B2 (en) | 2007-12-04 | 2010-12-28 | Eastman Kodak Company | Imageable elements with components having 1H-tetrazole groups |
US20090197206A1 (en) * | 2008-01-25 | 2009-08-06 | Ray Kevin B | Method of making images using fresh processing solution |
US8043787B2 (en) | 2008-03-14 | 2011-10-25 | Eastman Kodak Company | Negative-working imageable elements with improved abrasion resistance |
US20090263746A1 (en) | 2008-04-17 | 2009-10-22 | Ray Kevin B | Method of making lithographic printing plates with simple processing |
US20100021844A1 (en) | 2008-07-22 | 2010-01-28 | Jianfei Yu | Negative-working imageable elements and method of use |
US8137896B2 (en) | 2008-07-29 | 2012-03-20 | Eastman Kodak Company | Method of preparing lithographic printing plates |
US8383319B2 (en) | 2009-08-25 | 2013-02-26 | Eastman Kodak Company | Lithographic printing plate precursors and stacks |
US8722308B2 (en) | 2011-08-31 | 2014-05-13 | Eastman Kodak Company | Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors |
-
2013
- 2013-10-03 US US14/044,912 patent/US9201302B2/en active Active
-
2014
- 2014-09-18 JP JP2016520058A patent/JP6615091B2/ja active Active
- 2014-09-18 CN CN201480054611.2A patent/CN105637418B/zh active Active
- 2014-09-18 WO PCT/US2014/056281 patent/WO2015050713A1/en active Application Filing
- 2014-09-18 EP EP14777468.1A patent/EP3052987B1/en active Active
Patent Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62209118A (ja) * | 1986-03-10 | 1987-09-14 | Canon Inc | 活性エネルギ−線硬化型樹脂組成物 |
JPS646944A (en) * | 1987-03-25 | 1989-01-11 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | Heat resistant photosensitive resin composition |
JPH0527432A (ja) * | 1991-07-08 | 1993-02-05 | Canon Inc | 光重合性組成物 |
JPH11171907A (ja) * | 1997-12-15 | 1999-06-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
JP2000352819A (ja) * | 1999-06-11 | 2000-12-19 | Toppan Printing Co Ltd | 感光性着色樹脂組成物及びカラーフィルター |
JP2003140327A (ja) * | 2001-11-01 | 2003-05-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
JP2003262961A (ja) * | 2002-03-07 | 2003-09-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
JP2005535471A (ja) * | 2002-08-12 | 2005-11-24 | コダック・ポリクローム・グラフィックス・エルエルシー | 高速ネガ型感熱印刷版 |
JP2005047947A (ja) * | 2003-07-29 | 2005-02-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | アルカリ可溶性ポリマー及びそれを用いた重合性組成物 |
WO2005064402A1 (ja) * | 2003-12-25 | 2005-07-14 | Kodak Polychrome Graphics Japan Ltd. | ネガ型感光性組成物およびネガ型感光性平版印刷版 |
JP2009534714A (ja) * | 2006-04-25 | 2009-09-24 | イーストマン コダック カンパニー | 高い耐化学薬品性を有するベーキング可能な平版印刷版 |
US20080070152A1 (en) * | 2006-09-18 | 2008-03-20 | Jianfei Yu | Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials |
JP2008209850A (ja) * | 2007-02-28 | 2008-09-11 | Jsr Corp | 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子 |
JP2013029619A (ja) * | 2011-07-27 | 2013-02-07 | Fujifilm Corp | 感光性組成物、平版印刷版原版、ポリウレタン及びポリウレタンの製造方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019504780A (ja) * | 2016-01-28 | 2019-02-21 | イーストマン コダック カンパニー | ネガ型平版印刷版原版及び方法 |
WO2018135217A1 (ja) * | 2017-01-17 | 2018-07-26 | 新中村化学工業株式会社 | 共重合体及びその製造方法、並びに共重合体組成物 |
JPWO2018135217A1 (ja) * | 2017-01-17 | 2019-01-24 | 新中村化学工業株式会社 | 共重合体及びその製造方法、並びに共重合体組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6615091B2 (ja) | 2019-12-04 |
EP3052987B1 (en) | 2021-04-21 |
EP3052987A1 (en) | 2016-08-10 |
WO2015050713A1 (en) | 2015-04-09 |
CN105637418A (zh) | 2016-06-01 |
US9201302B2 (en) | 2015-12-01 |
CN105637418B (zh) | 2019-08-23 |
US20150099229A1 (en) | 2015-04-09 |
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---|---|---|
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