JP2015532722A5 - - Google Patents

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  1. a)フォトレジスト成分と、
    b)次式のペルフルオロポリエーテルシランであって
    (RPFPE−X−CO−NH)−R−(NH−CO−X−Rシリル
    式中、
    PFPEは、式R PFPE* −Qの基を表し、 PFPE* は一価のペルフルオロポリエーテル基であり、Qは、二価のアルキレン基であり、前記アルキレンは場合により1個以上のカテナリー(鎖中)窒素又は酸素原子を含有し、場合により1個以上のスルホンアミド、カルボキシアミド、又はカルボキシ官能基を含有し、
    及びXは、独立して、−O−、−S−、又は−NR−であり、RはH又はC〜Cアルキルであり、
    は、ポリイソシアネートの残基であり、
    シリルは、1つ以上のシリル基を含有するシラン基含有部分であり、
    下付き文字x及びyはそれぞれ独立して1〜6である、ペルフルオロポリエーテルシランと、
    c)光開始剤と、を含み、
    前記フォトレジスト成分が、ソルダーレジストである、光硬化性組成物。
  2. 100重量部の前記フォトレジスト成分に対して、0.1〜5重量部の前記ペルフルオロポリエーテルシラン化合物を含む、請求項1に記載の光硬化性組成物。
  3. 前記ペルフルオロポリエーテル基RPFPE が、式
    −O−R −(R −であり、式中、R はペルフルオロアルキル基を表し、R はC〜Cペルフルオロアルキレンオキシ基又はこれらの混合物を表し、R は全フッ素化アルキレン基を表し、qは0〜1である、請求項1に記載の光硬化性組成物。
  4. が、F−C2n−、F−CF(Z)−、F−CF(Z)C2n−、F−C2nCF(Z)−、F−CFCF(Z)−、及びこれらの組み合わせからなる群から選択される1つ以上の全フッ素化された繰返し単位を含む一価のペルフルオロアルキル基であり、式中、nは1〜4であり、Zはペルフルオロアルキル基又はペルフルオロアルコキシ基である、請求項に記載の光硬化性組成物
  5. 前記 が、−(CF−CF−O)−;−(CF(CF)−CF−O)−;−(CFCF−O)−(CFO)−、−(CFCFCFCF−O)及び−(CF−CF−O)−(CF(CF)−CF−O)−のうちの1つ以上から選択され、式中、r、s、t及びuはそれぞれ1〜50の整数である、請求項に記載の光硬化性組成物
  6. シリルが式
    −R−Si(Y)(R3−pであり、式中
    は二価のアルキレン基であり、該アルキレン基は1個以上のカテナリー酸素原子を場合により含有し、Yは加水分解性基であり、Rは一価のアルキル又はアリール基であり、pは1、2又は3である、請求項1に記載の光硬化性組成物。
  7. シリルが式
    X−(Mシリル−(M−S−R
    であり、式中、
    Xは、H、又は反応開始剤の残基であり、
    シリルは、ペンダントシリル基を有する(メタ)アクリレートモノマーの残基であり、
    は、(メタ)アクリレートエステルモノマーの残基であり、
    は、二価のアルキレン若しくはアリーレン基、又はこれらの組み合わせであり、該アルキレン基は、1個以上のカテナリー酸素原子を場合により含有し、
    aは、少なくとも2であり、bは0であってもよく、a+bは2〜20である、請求項に記載の光硬化性組成物。
  8. 前記Mシリルモノマー単位が次式のモノマーから誘導され、
    Figure 2015532722

    式中、
    は、H又はC〜Cアルキルであり、
    は二価のアルキレン基であり、該アルキレン基は1個以上のカテナリー酸素原子を場合により含有し、Yは加水分解性基であり、Rは一価のアルキル又はアリール基であり、pは1、2又は3である、請求項に記載の光硬化性組成物。
  9. シリル基に対するRPFPE基の当量比が1:1〜1:10である、請求項1に記載の光硬化性組成物。
  10. シリルが式
    Figure 2015532722

    であり、式中、
    は、−O−、−S−又は−NR−であり、RH又は〜Cアルキルであり、
    は、多価のアルキレン若しくはアリーレン基、又はこれらの組み合わせであり、該アルキレン基は1個以上のカテナリー酸素原子を場合により含有し、
    は、二価のアルキレン基であり、該アルキレン基は1個以上のカテナリー酸素原子を場合により含有し、
    Yは、加水分解性基であり、
    は、一価のアルキル又はアリール基であり、
    pは、1、2、又は3、好ましくは3であり、
    oは1〜5である、請求項1に記載の光硬化性組成物。
  11. 100重量部の前記フォトレジスト成分を基準にして、5〜40重量部の量で熱硬化性樹脂を更に含む、請求項1に記載の光硬化性組成物。
  12. a)金属性ベース基材又はプリント回路基板基材と、
    b)フォトツールと、
    c)その間に配置された請求項1に記載の光硬化性層と、を含む、多層物品。
  13. 前記フォトツールの表面上に配置されたハードコートを更に含む、請求項12に記載の多層物品。
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109715701B (zh) 2016-09-23 2021-07-27 大金工业株式会社 具有拒水性的基材
JP6439895B1 (ja) * 2017-08-04 2018-12-19 ダイキン工業株式会社 パターン形成用基体
WO2020053544A1 (en) * 2018-09-10 2020-03-19 Sun Chemical Corporation Energy curable compositions comprising partially acrylated polyols
EP4150011A4 (en) * 2020-05-14 2024-04-10 3M Innovative Properties Company FLUORINATED COUPLING AGENTS AND FLUORINATED (CO)POLYMER LAYERS MANUFACTURED USING THEM
WO2023190723A1 (ja) * 2022-03-31 2023-10-05 ダイキン工業株式会社 硬化性組成物
WO2023190725A1 (ja) * 2022-03-31 2023-10-05 ダイキン工業株式会社 硬化性組成物
WO2023190742A1 (ja) * 2022-03-31 2023-10-05 ダイキン工業株式会社 硬化性組成物
WO2023190766A1 (ja) * 2022-03-31 2023-10-05 ダイキン工業株式会社 硬化性組成物

Family Cites Families (52)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3046121A (en) 1949-07-23 1962-07-24 Azoplate Corp Process for the manufacture of printing plates and light-sensitive material suttablefor use therein
BE510151A (ja) 1949-07-23
US3046119A (en) 1950-08-01 1962-07-24 Azoplate Corp Light sensitive material for printing and process for making printing plates
US3046112A (en) 1951-06-30 1962-07-24 Azoplate Corp Quinone diazide printing plates
US2716097A (en) 1951-09-13 1955-08-23 Eastman Kodak Co Polymers of vinyl substituted benzal acetophenones
DE938233C (de) 1953-03-11 1956-01-26 Kalle & Co Ag Lichtempfindliches Material fuer die photomechanische Herstellung von Druckformen
US2940853A (en) 1958-08-21 1960-06-14 Eastman Kodak Co Azide sensitized resin photographic resist
US3149975A (en) 1962-07-06 1964-09-22 Du Pont Photopolymerizable compositions and elements
DE2024909B2 (de) 1970-05-22 1977-09-29 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Verfahren zur herstellung von n-hydroxyalkyl-perfluoralkansulfonamiden und einige n,n-bis-(hydroxyalkyl)-perfluor-alkansulfonamide
GB1375461A (ja) 1972-05-05 1974-11-27
JPS5934293B2 (ja) 1977-04-20 1984-08-21 王子製紙株式会社 感光性組成物
US4180404A (en) 1977-11-17 1979-12-25 Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha Heat resistant photoresist composition and process for preparing the same
DE3107109A1 (de) 1981-02-26 1982-09-09 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes kopiermaterial
US4377631A (en) 1981-06-22 1983-03-22 Philip A. Hunt Chemical Corporation Positive novolak photoresist compositions
US4378250A (en) 1981-07-31 1983-03-29 Treadway Gerald D Organosilicone coating compositions
US4596763A (en) 1984-10-01 1986-06-24 American Hoechst Corporation Positive photoresist processing with mid U-V range exposure
US4588670A (en) 1985-02-28 1986-05-13 American Hoechst Corporation Light-sensitive trisester of O-quinone diazide containing composition for the preparation of a positive-acting photoresist
JPS61243869A (ja) 1985-04-19 1986-10-30 Taiyo Ink Seizo Kk レジストインキ組成物
DE3588111T2 (de) 1985-06-29 1996-10-31 Dainippon Ink & Chemicals Kunststoffzusammensetzung für Lötschutztinte
US4788339A (en) * 1985-09-06 1988-11-29 Minnesota Mining And Manufacturing Company Perfluoroaminoethers
CA1307695C (en) 1986-01-13 1992-09-22 Wayne Edmund Feely Photosensitive compounds and thermally stable and aqueous developablenegative images
US5034304A (en) 1986-01-13 1991-07-23 Rohm And Haas Company Photosensitive compounds and thermally stable and aqueous developable negative images
JPS63286841A (ja) 1987-05-19 1988-11-24 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物溶液
JPH0268A (ja) 1987-11-13 1990-01-05 Toshiba Corp ソルダ−レジスト組成物
US5061744A (en) 1989-07-05 1991-10-29 Somar Corporation Resist ink composition
AU661438B1 (en) * 1994-01-25 1995-07-20 Morton International, Inc. Waterborne photoresists having polysiloxanes
JPH08234432A (ja) 1994-11-11 1996-09-13 Taiyo Ink Mfg Ltd ソルダーレジストインキ組成物
JP3190251B2 (ja) 1995-06-06 2001-07-23 太陽インキ製造株式会社 アルカリ現像型のフレキシブルプリント配線板用光硬化性・熱硬化性樹脂組成物
JP3276833B2 (ja) 1995-12-13 2002-04-22 太陽インキ製造株式会社 光硬化性・熱硬化性艶消しレジストインキ組成物
DE60042561D1 (de) 1999-10-27 2009-08-27 3M Innovative Properties Co Fluorochemische sulfonamide tenside
JP3888573B2 (ja) 2001-06-29 2007-03-07 富士電機ホールディングス株式会社 ハンダ組成物
JP4017068B2 (ja) * 2002-06-28 2007-12-05 日本化薬株式会社 ソルダーレジストインキ組成物及びその硬化物
KR100522002B1 (ko) * 2003-09-22 2005-10-18 주식회사 코오롱 액상 포토 솔더 레지스트 조성물 및 이로부터 제조된 포토솔더 레지스트 필름
US20060216524A1 (en) 2005-03-23 2006-09-28 3M Innovative Properties Company Perfluoropolyether urethane additives having (meth)acryl groups and hard coats
US20090163615A1 (en) 2005-08-31 2009-06-25 Izhar Halahmi Uv curable hybridcuring ink jet ink composition and solder mask using the same
JP2008105999A (ja) 2006-10-25 2008-05-08 Idemitsu Kosan Co Ltd アダマンタン誘導体、その製造方法、樹脂組成物およびその硬化物
EP2121789A1 (en) * 2006-12-20 2009-11-25 3M Innovative Properties Company Fluorochemical urethane compounds having pendent silyl groups
BRPI0810353A2 (pt) 2007-05-08 2019-02-26 Dow Global Technologies Inc composição de polímero dispersável em água e processo para produzir uma composição de polímero dispersável em água
US8015970B2 (en) 2007-07-26 2011-09-13 3M Innovative Properties Company Respirator, welding helmet, or face shield that has low surface energy hard-coat lens
US7897678B2 (en) * 2007-07-26 2011-03-01 3M Innovative Properties Company Fluorochemical urethane compounds having pendent silyl groups
JP5285257B2 (ja) * 2007-09-21 2013-09-11 太陽ホールディングス株式会社 光硬化性・熱硬化性樹脂組成物及びその硬化物
US8563221B2 (en) 2008-03-11 2013-10-22 3M Innovative Properties Company Phototools having a protective layer
CN102282227B (zh) 2008-12-18 2014-10-29 3M创新有限公司 涂料组合物
JP5583210B2 (ja) 2009-07-21 2014-09-03 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 硬化性組成物、フォトツールをコーティングする方法、及びコーティングされたフォトツール
JP5739609B2 (ja) * 2009-09-16 2015-06-24 互応化学工業株式会社 感光性樹脂組成物、ソルダーレジスト用組成物及びプリント配線板
EP2478034A1 (en) * 2009-09-16 2012-07-25 3M Innovative Properties Company Fluorinated coating and phototools made therewith
US8748060B2 (en) * 2009-09-16 2014-06-10 3M Innovative Properties Company Fluorinated coating and phototools made therewith
US8420281B2 (en) 2009-09-16 2013-04-16 3M Innovative Properties Company Epoxy-functionalized perfluoropolyether polyurethanes
EP2768884A1 (en) 2011-10-19 2014-08-27 3M Innovative Properties Company Hardcoat compositions
US8703385B2 (en) 2012-02-10 2014-04-22 3M Innovative Properties Company Photoresist composition
US8715904B2 (en) 2012-04-27 2014-05-06 3M Innovative Properties Company Photocurable composition
US8883402B2 (en) * 2012-08-09 2014-11-11 3M Innovative Properties Company Photocurable compositions

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