JP2007114772A5 - - Google Patents

Claims (13)

1. 少なくとも一層の屈折率１．２８〜１．４８の層のうち透明支持体からもっとも遠くに位置する層が、少なくとも以下の成分を含有する塗布組成物を塗設することにより形成されていることを特徴とする反射防止フイルム。
   （Ａ）１分子中に少なくとも２個以上のエチレン性不飽和基を含有する電離放射線硬化性化合物
   （Ｂ）導電性金属酸化物被覆層を有する、多孔質無機微粒子または内部に空洞を有する微粒子
   （Ｄ）少なくとも１種の電離放射線硬化型の含フッ素防汚剤
   （含フッ素防汚剤は以下の一般式（Ｆ−１）〜（Ｆ−３）から選ばれる少なくとも１種である。）
   一般式（Ｆ−１）：
   Ｒｆ（ＣＦ ₂ ＣＦ ₂ ） _n ＣＨ ₂ ＣＨ ₂ Ｒ ² ＯＣＯＣＲ ¹ ＝ＣＨ ₂
   （式中、Ｒｆは、炭素数が１〜１０であるフルオロアルキル基のいずれかを示し、Ｒ ¹ は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ ² は単結合またはアルキレン基を示し、ｎは重合度を示す整数であり、重合度ｎはｋ（ｋは３以上の整数のいずれかを示す）以上である。）
   一般式（Ｆ−２）：
   Ｆ（ＣＦ ₂ ） _n Ｏ（ＣＦ ₂ ＣＦ ₂ Ｏ） _ｍ ＣＦ ₂ ＣＨ ₂ ＯＣＯＣＲ＝ＣＨ ₂
   一般式（Ｆ−２）中、Ｒは水素原子またはメチル基であり、ｍは１〜６の整数であり、ｎは１〜４の整数を表す。
   一般式（Ｆ−３）：
   （Ｒｆ）− [（Ｗ）−（Ｒ _Ａ ） _ｎ ] _ｍ
   （一般式（Ｆ−３）中、Ｒｆは（パー）フルオロポリエーテル基、Ｗは連結基、Ｒ _Ａ は（メタ）アクリル基を表す。ｎは１〜３、ｍは１〜３の整数を表し、ｎとｍは同時に１であることはない。）
2. 前記化合物（Ａ）が、パーフルオロオレフィン重合単位及び（メタ）アクリロイル基含有重合単位をそれぞれ少なくとも１種含有する含フッ素ポリマーであることを特徴とする、請求項１に記載の反射防止フイルム。
3. 含フッ素防汚剤が一般式（Ｆ−３）で表される化合物であることを特徴とする、請求項１または２に記載の反射防止フイルム。
4. 前記多孔質無機微粒子または内部に空洞を有する微粒子（Ｂ）が酸化アンチモン被覆層を有するシリカ系微粒子であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止フイルム。
5. 前記多孔質無機微粒子または内部に空洞を有する微粒子（Ｂ）が多孔質シリカ系微粒子または内部に空洞を有するシリカ系微粒子であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の反射防止フイルム。
6. 前記多孔質無機微粒子または内部に空洞を有する微粒子（Ｂ）が、導電性金属酸化物被覆層の上にシリカ被覆層、または下記一般式（３）で表されるオルガノシランの加水分解物及び／又はその部分縮合物により表面処理されたシリカ被覆層を持つことを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載の反射防止フイルム。
   一般式（３）： （Ｒ^３０）_ｍ１Ｓｉ（Ｘ^３１）_４−ｍ１（一般式（３）中、Ｒ^３０は、置換もしくは無置換のアルキル基又は、置換もしくは無置換のアリール基を表す。Ｘ^３１は水酸基又は加水分解可能な基を表す。ｍ１は１〜３の整数を表す。）
7. 前記多孔質無機微粒子または内部に空洞を有する微粒子（Ｂ）の屈折率が１．３５〜１．６０の範囲にあり、体積抵抗値が１０〜５０００Ω／ｃｍの範囲にあることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の反射防止フイルム。
8. 前記多孔質無機微粒子または内部に空洞を有する微粒子（Ｂ）の平均粒子径が５〜３００ｎｍの範囲にあり、導電性金属酸化物被覆層の厚さが０．５〜３０ｎｍの範囲にあることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の反射防止フイルム。
9. 前記塗布組成物が、さらに
   （Ｃ）下記一般式（Ｉ）で表されるポリシロキサン部分構造を含有する化合物を有することを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の反射防止フイルム。
   一般式（Ｉ）
   

   

   
   ｛一般式（Ｉ）中、Ｒ^１及びＲ^２は同一であっても異なっていてもよく、アルキル基又はアリール基を表す。ｐは１０〜５００の整数を表す。｝
10. 前記１分子中に少なくとも２個以上のエチレン性不飽和基を含有する電離放射線硬化性化合物（Ａ）が、下記一般式（１）で表されることを特徴とする、請求項１〜９のいずれかに記載の反射防止フイルム。
    一般式（１）：
    

    

    ｛一般式（１）中、Ｌ^１１は炭素数１〜１０の連結基を表し、ｓ１は０又は１を表す。Ｒ^１１は水素原子又はメチル基を表す。Ａ^１１は側鎖に水酸基を持つ繰り返し単位を表す。Ｙ^１１はポリシロキサン構造を主鎖に含む構成成分を表わす。ｘ、ｙ、及びｚは、Ｙ^１１以外の全繰返し単位を基準とした場合のそれぞれの繰返し単位のモル％を表し、３０≦ｘ≦６０、３０≦ｙ≦７０、０≦ｚ≦４０を満たす値を表す。ただし、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１００（モル％）である。ｕは共重合体中の構成成分Ｙ^１１の質量％を表し、０．０１≦ｕ≦２０である。｝
11. 前記１分子中に少なくとも２個以上のエチレン性不飽和基を含有する電離放射線硬化性化合物（Ａ）が、下記一般式（２）で表されることを特徴とする、請求項１〜９のいずれかに記載の反射防止フイルム。
    一般式（２）：
    

    

    ｛一般式（２）中、Ｒｆ^２１は炭素数１〜５のペルフルオロアルキル基を表し、Ｒｆ^２２は炭素数１〜３０の直鎖、分岐又は脂環構造を有する含フッ素アルキル基を表し、エーテル結合を有していてもよく、Ａ^２１は架橋反応に関与し得る反応性基を有する構成単位を表し、Ｂ^２１は任意の構成成分を表す。Ｒ^２１及びＲ^２２は、同一であっても異なっていてもよく、アルキル基又はアリール基を表す。ｐ１は１０〜５００の整数を表す。Ｒ^２３〜Ｒ^２５は、互いに独立に、置換又は無置換の１価の有機基又は水素原子を表し、Ｒ^２６は水素原子又はメチル基を表わす。Ｌ^２１は炭素数１〜２０の任意の連結基又は単結合を表す。ａ〜ｄはそれぞれポリシロキサンを含有する重合単位を除く各構成成分のモル分率（％）を表し、それぞれ１０≦ａ＋ｂ≦５５、１０≦ａ≦５５、０≦ｂ≦４５、１０≦ｃ≦５０、０≦ｄ≦４０の関係を満たす値を表す。ｅはポリシロキサンを含有する重合単位の、他の成分全体の質量に対する質量分率（％）を表し、０．０１＜ｅ＜２０の関係を満たす。｝
12. 請求項１〜１１のいずれかに記載の反射防止フイルムを、少なくとも一方の側に備えたことを特徴とする偏光板。
13. 請求項１〜１１のいずれかに記載の反射防止フイルム及び請求項１２に記載の偏光板のうちの少なくとも一つが配置されていることを特徴とする画像表示装置。