JP2008106036A5 - - Google Patents
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[式中、Rf1は少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含み、酸素原子及び/又は水素原子を含んでもよい、鎖状又は環状の、q価のフッ化炭化水素基を表す。qは2以上の整数を表す。Rf2は少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含み、酸素原子及び/又は水素原子を含んでもよい、鎖状又は環状の、1価のフッ化炭化水素基を表す。]
(16)下記一般式(II−1)または(III−1)で表される含フッ素アルコール。
(16)下記一般式(II−1)または(III−1)で表される含フッ素アルコール。
Claims (16)
- 下記一般式(I)で表される重合性含フッ素化合物であって、フッ素含有率が該含フッ素化合物の分子量について35質量%以上であり、該化合物を重合させたとき、重合により得られ重合体の架橋間分子量の計算値がいずれも300以下となることを特徴とする重合性含フッ素化合物。
- 前記一般式(I)において、Qが−COC(R0)=CH2、アリル基、エポキシアルキレン基、−(CH2)xSi(OW)3、−(CH2)yNCOまたは−(CH2)zCN(ここで、R0は水素原子、ハロゲン原子または置換基を有してよいアルキル基を表す。Wはアルコキシ基または水酸基を表す。x、yおよびzはそれぞれ1以上の整数を表す。3個のWは互いに異なってもよい。)であることを特徴とする請求項1に記載の重合性含フッ素化合物。
- 前記一般式(Ia)で表される化合物において、Rが水素原子であることを特徴とする請求項3に記載の重合性含フッ素化合物。
- 前記mが0で、前記nが3〜6の整数であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の重合性含フッ素化合物。
- Rf2がトリフルオロメチル基であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の重合性含フッ素化合物。
- 液相フッ素化の手法を用いて製造されたことを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の重合性含フッ素化合物。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の重合性含フッ素化合物を少なくとも1種含有する硬化性樹脂組成物を硬化してなる低屈折率層を有することを特徴とする反射防止膜。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の重合性含フッ素化合物および無機酸化物微粒子を含有する硬化性樹脂組成物を硬化してなる低屈折率層を有することを特徴とする反射防止膜。
- 前記無機酸化物微粒子が中空シリカ微粒子であることを特徴とする請求項9に記載の反射防止膜。
- 透明支持体上に請求項8〜10のいずれか1項に記載の反射防止膜が設けられたことを特徴とする反射防止フィルム。
- 請求項11に記載の反射防止フィルムを備えたことを特徴とする画像表示装置。
- 少なくとも、(A)ポリオール化合物、(B)ポリイソシアネート化合物および(C)下記一般式(II)および/または(III)で表される含フッ素アルコールからなる撥水性ポリウレタン用組成物。
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