JP2015107529A - 加工装置 - Google Patents

加工装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2015107529A
JP2015107529A JP2013250295A JP2013250295A JP2015107529A JP 2015107529 A JP2015107529 A JP 2015107529A JP 2013250295 A JP2013250295 A JP 2013250295A JP 2013250295 A JP2013250295 A JP 2013250295A JP 2015107529 A JP2015107529 A JP 2015107529A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bellows
processing
feed direction
rail
workpiece
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013250295A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6261967B2 (ja
Inventor
藤澤 晋一
Shinichi Fujisawa
晋一 藤澤
敏文 松山
Toshifumi Matsuyama
敏文 松山
純 諏訪野
Jun Suwano
純 諏訪野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Abrasive Systems Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Abrasive Systems Ltd filed Critical Disco Abrasive Systems Ltd
Priority to JP2013250295A priority Critical patent/JP6261967B2/ja
Priority to TW103137188A priority patent/TWI628032B/zh
Priority to US14/549,852 priority patent/US9631745B2/en
Priority to DE102014224516.8A priority patent/DE102014224516B4/de
Priority to CN201410724985.2A priority patent/CN104690599A/zh
Publication of JP2015107529A publication Critical patent/JP2015107529A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6261967B2 publication Critical patent/JP6261967B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16LPIPES; JOINTS OR FITTINGS FOR PIPES; SUPPORTS FOR PIPES, CABLES OR PROTECTIVE TUBING; MEANS FOR THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16L11/00Hoses, i.e. flexible pipes
    • F16L11/04Hoses, i.e. flexible pipes made of rubber or flexible plastics
    • F16L11/11Hoses, i.e. flexible pipes made of rubber or flexible plastics with corrugated wall
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23QDETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
    • B23Q11/00Accessories fitted to machine tools for keeping tools or parts of the machine in good working condition or for cooling work; Safety devices specially combined with or arranged in, or specially adapted for use in connection with, machine tools
    • B23Q11/08Protective coverings for parts of machine tools; Splash guards
    • B23Q11/0816Foldable coverings, e.g. bellows
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67092Apparatus for mechanical treatment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67709Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations using magnetic elements

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Auxiliary Devices For Machine Tools (AREA)
  • Dicing (AREA)
  • Non-Mechanical Conveyors (AREA)

Abstract

【課題】加工送り手段を覆って配設され加工送り方向に移動する蛇腹手段に弛みを生じさせないとともに、高速で加工送りしても破損することなく追随することができる加工装置を提供する。【解決手段】被加工物保持手段と、加工手段と、加工送り手段と、被加工物保持手段の加工送り方向を覆う蛇腹手段と、蛇腹手段の伸縮を加工送り方向に案内するガイド手段7とを具備する加工装置であって、ガイド手段は、被加工物保持手段の加工送り方向の移動を許容する開部と、開口70に隣接し加工送り方向に沿って設けられた樋71,72と、開口の加工送り方向端部に設けられた端壁とを具備し、蛇腹手段は、被加工物保持手段に連結する第1の連結部と、ガイド手段の端壁に連結する第2の連結部と、第1の連結部と第2の連結部に渡り配設された蛇腹部材611,621とを具備しており、ガイド手段の樋に沿って蛇腹部材を非接触で浮上させる浮上手段が配設されている。【選択図】図4

Description

本発明は、半導体ウエーハ等の被加工物を切削する切削装置や被加工物にレーザー加工を施すレーザー加工装置等の加工装置に関する。
半導体デバイス製造工程においては、略円板形状である半導体ウエーハの表面に格子状に形成された分割予定ラインによって複数の領域が区画され、この区画された領域にIC、LSI等のデバイスを形成する。このように複数のデバイスが形成された半導体ウエーハを分割予定ラインに沿って切断することによりデバイスが形成された領域を分割して個々の半導体デバイスを製造している。また、サファイヤ基板の表面に窒化ガリウム系化合物半導体等が積層された光デバイスウエーハも分割予定ラインに沿って切断することにより個々の発光ダイオード、レーザーダイオード等の光デバイスに分割され、個々の光デバイスを製造している。
上述したウエーハの分割予定ラインに沿った切断は、切削装置やレーザー加工装置によって行われている。切削装置は、被加工物を保持する被加工物保持手段と、該被加工物保持手段に保持された被加工物に加工水を供給しつつ切削する切削手段と、該被加工物保持手段を加工送り方向に加工送りする加工送り手段と、該被加工物保持手段の両側に加工送り手段を覆って配設され被加工物保持手段とともに加工送り方向に移動する伸縮可能な蛇腹手段と、該蛇腹手段を加工送り手段にガイドするガイド手段と、を具備している(例えば、特許文献1参照)。
また、レーザー加工装置は、被加工物を保持する被加工物保持手段と、該被加工物保持手段に保持された被加工物にレーザー光線を照射するレーザー光線照射手段と、該被加工物保持手段を加工送り方向に加工送りする加工送り手段と、該被加工物保持手段の両側に加工送り手段を覆って配設され被加工物保持手段とともに加工送り方向に移動する伸縮可能な蛇腹手段と、該蛇腹手段を加工送り手段にガイドするガイド手段と、を具備している。(例えば、特許文献2参照)
上述した蛇腹手段には、弛みが生じないように加工送り方向の数か所にガイド手段に当接して摺動する支持部材が配設されている。この支持部材は、ガイド手段との摩擦を軽減するためにテフロン(登録商標)、ナイロン等の低摩擦樹脂やベアリング等で構成されている。
特開2002−66866号公報 特開2007−201178号公報
而して、生産性を向上させるために被加工物を保持する被加工物保持手段を高速で加工送りすると、蛇腹手段に設けられた支持部材が加工送り速度に追随できず破損するという問題がある。
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その主たる技術課題は、被加工物保持手段に装着され加工送り手段を覆って配設され被加工物保持手段とともに加工送り方向に移動する伸縮可能な蛇腹手段に弛みを生じさせないとともに、被加工物保持手段を高速で加工送りしても破損することなく追随することができる加工装置を提供することにある。
上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、被加工物を保持する被加工物保持手段と、該被加工物保持手段に保持された被加工物を加工する加工手段と、該被加工物保持手段を加工送り方向に加工送りする加工送り手段と、該被加工物保持手段に装着され該被加工物保持手段の加工送り方向を覆う伸縮可能な蛇腹手段と、該蛇腹手段の伸縮を加工送り方向に案内するガイド手段と、を具備する加工装置であって、
該ガイド手段は、該被加工物保持手段の該加工送り方向の移動を許容する開口と、該開口に隣接し該加工送り方向に沿って設けられた樋と、該開口の加工送り方向端部に設けられた端壁とを具備し、
該蛇腹手段は、該被加工物保持手段に連結する第1の連結部と、該ガイド手段の該端壁に連結する第2の連結部と、該第1の連結部と該第2の連結部に渡り配設された蛇腹部材とを具備しており、
該ガイド手段の該樋に沿って該蛇腹部材を非接触で浮上させる浮上手段が配設されている、
ことを特徴とする加工装置が提供される。
該浮上手段は、樋に沿って複数の磁石がS極またはN極を蛇腹部材に対向して配設された磁石レールと、該磁石レールの磁石と同極を対向させて蛇腹部材に配設された浮上磁石と、によって構成されている。
また、該浮上手段は、樋に沿ってエアーを噴出する複数の細孔が蛇腹部材に対向して配設された細孔レールと、該細孔レールに対向して蛇腹部材に配設されたスライダーと、によって構成されている。
本発明による加工装置においては、被加工物保持手段に装着され被加工物保持手段の加工送り方向を覆う伸縮可能な蛇腹手段の伸縮を加工送り方向に案内するガイド手段は、被加工物保持手段の加工送り方向の移動を許容する開口と、開口に隣接し加工送り方向に沿って設けられた樋と、開口の加工送り方向端部に設けられた端壁とを具備し、蛇腹手段は、被加工物保持手段に連結する第1の連結部と、ガイド手段の端壁に連結する第2の連結部と、第1の連結部と第2の連結部に渡り配設された蛇腹部材とを具備しており、ガイド手段の樋に沿って蛇腹部材を非接触で浮上させる浮上手段が配設されているので、被加工物保持手段の加工送り速度が速くてもガイド手段との間で摩擦が生ずることがないため、被加工物保持手段の移動に追随することができ、生産性を向上させることができる。
本発明に従って構成された加工装置としての切削装置の斜視図。 図1に示す切削装置の要部斜視図。 図1に示す切削装置に装備される蛇腹手段を案内するガイド手段の第1の実施形態を示す斜視図。 図1に示す切削装置に装備される蛇腹手段およびガイド手段の第1の実施形態を示す断面図。 図1に示す切削装置に装備される蛇腹手段を案内するガイド手段の第2の実施形態を示す斜視図。 図1に示す切削装置に装備される蛇腹手段およびガイド手段の第2の実施形態を示す断面図。
以下、本発明に従って構成された加工装置の好適な実施形態について、添付図面を参照して、更に詳細に説明する。
図1には、本発明に従って構成された加工装置としての切削装置の斜視図が示されている。図1に示された切削装置は、略直方体状の装置ハウジング1を具備している。この装置ハウジング1内には、図2に示す静止基台2と、該静止基台2に加工送り方向である矢印Xで示す方向に移動可能に配設され被加工物を保持するチャックテーブル機構3と、静止基台2に割り出し送り方向である矢印Yで示す方向(加工送り方向である矢印Xで示す方向に垂直な方向)に移動可能に配設されたスピンドル支持機構4と、該スピンドル支持機構4に切り込み送り方向である矢印Z(加工送り方向である矢印Xで示す方向および割り出し送り方向である矢印Yで示す方向に垂直な方向)で示す方向に移動可能に配設された切削手段としてのスピンドルユニット5が配設されている。
上記チャックテーブル機構3は、静止基台2上に矢印Xで示す方向に沿って平行に配設された2本の案内レール31、32と、該案内レール31、32上に矢印Xで示す方向に移動可能に配設された被加工物保持手段としてのチャックテーブル33と、該チャックテーブル33を支持するチャックテーブル支持機構34を具備している。このチャックテーブル支持機構34は、案内レール31、32上に移動可能に配設されたチャックテーブル支持台341と、該チャックテーブル支持台341上に配設された円筒部材342と、該円筒部材342の上端に装着されチャックテーブル33の上面から所定高さ下方に配設された防水カバー343を具備している。上記チャックテーブル33は、円筒部材342に配設された図示しない回転軸の上端に取り付けられ、その上面に被加工物である例えば円盤状の半導体ウエーハを図示しない吸引手段によって保持するようになっている。
図示の実施形態におけるチャックテーブル機構3は、チャックテーブル33を2本の案内レール31、32に沿って矢印Xで示す加工送り方向に移動させるための加工送り手段35を具備している。加工送り手段35は、上記2本の案内レール31と32の間に平行に配設された雄ネジロッド351と、該雄ネジロッド351を回転駆動するためのサーボモータ352等の駆動源を含んでいる。雄ネジロッド351は、その一端が上記静止基台2に固定された軸受ブロック353に回転自在に支持されており、その他端が上記サーボモータ352の出力軸に図示しない減速装置を介して伝動連結されている。なお、雄ネジロッド351は、チャックテーブル33を構成するチャックテーブル支持台341の中央部下面に突出して設けられた図示しない雌ネジブロックに形成された貫通雌ネジ穴に螺合されている。従って、サーボモータ352によって雄ネジロッド351を正転および逆転駆動することにより、チャックテーブル33は案内レール31、32に沿って矢印Xで示す加工送り方向に移動せしめられる。
図1および図2を参照して説明すると、図示の実施形態における切削装置は、被加工物保持手段としてのチャックテーブル33の加工送り方向を覆う蛇腹手段6と、該蛇腹手段6の伸縮を加工送り方向に案内するガイド手段7を具備している。蛇腹手段6は、チャックテーブル33の矢印Xで示す加工送り方向に見てチャックテーブル33の両側に配設された第1の蛇腹手段61および第2の蛇腹手段62を備えており、上記加工送り手段35等を覆うように構成されている。
第1の蛇腹手段61は、布の如き折り畳み可能なシート部材によって複数の山部と谷部が交互に形成され伸縮自在に構成された蛇腹部材611と、該蛇腹部材611の両端にそれぞれ装着され金属板から形成することができる第1の連結部材612と第2の連結部材613とからなっている。このように構成された第1の蛇腹手段61の蛇腹部材611の一方の端部に装着された第1の連結部材612は、チャックテーブル33とともに移動する上記防水カバー343に連結されている。また、蛇腹部材611の他方の端部に装着された第2に連結部材613は、ガイド手段7の後述する端壁に連結される。
上記第2の蛇腹手段62も第1の蛇腹手段61と同様に、布の如き折り畳み可能なシート部材によって複数の山部と谷部が交互に形成され伸縮自在に構成された蛇腹部材621と、該蛇腹部材621の両端にそれぞれ装着され金属板から形成することができる第1の連結部材622と第2の連結部材623とからなっている。このように構成された蛇腹部材621の一方の端部に装着された第1の連結部材622は、チャックテーブル33とともに移動する上記防水カバー343に連結されている。また、蛇腹部材621の他方の端部に装着された第2の連結部材623は、ガイド手段7の後述する端壁に連結される。
上述した第1の蛇腹手段61および第2の蛇腹手段62の伸縮を加工送り方向に案内するガイド手段7は、チャックテーブル33の矢印Xで示す加工送り方向の移動を許容する開口70と、該開口70の両側にそれぞれ隣接し加工送り方向に沿って設けられた第1の樋71および第2の樋72と、該開口70の加工送り方向端部に設けられた第1の端壁73および第2の端壁74を具備している。第1の樋71と第2の樋72は、第1の端壁73と第2の端壁74のそれぞれ外側に設けられた第1の連通樋75と第2の連通樋76によってそれぞれ連通せしめられている。そして、第2の連通樋76に排水ホース77が接続されている。ガイド手段7を構成する第1の端壁73および第2の端壁74に、上記第1の蛇腹手段61を構成する第2の連結部材613および第2の蛇腹手段62を構成する第2に連結部材623が図示しない締結ボルトによって連結される。
図示の実施形態における切削装置は、上記ガイド手段7の第1の樋71および第2の樋72に沿って第1の蛇腹手段61の蛇腹部材611および第2の蛇腹手段62の蛇腹部材621を非接触で浮上させる浮上手段を備えている。この浮上手段の第1の実施形態について図3および図4を参照して説明する。
図3および図4に示す実施形態における浮上手段8は、第1の樋71および第2の樋72に沿ってそれぞれX軸方向に配設された第1の磁石レール81および第2の磁石レール82と、上記第1の蛇腹手段61の蛇腹部材611および第2の蛇腹手段62の蛇腹部材621の下面にそれぞれ配設された第1の浮上磁石831および第2の浮上磁石832を具備している。この第1の磁石レール81および第2の磁石レール82はそれぞれ複数の磁石811および821からなっており、複数の磁石811および821がS極またはN極を上記第1の蛇腹手段61および第2の蛇腹手段62の蛇腹部材621と対向して配設されている。なお、第1の磁石レール81を構成する複数の磁石811および第2の磁石レール82を構成する複数の磁石821は、図示の実施形態においては上面(第1の蛇腹手段61の蛇腹部材611および第2の蛇腹手段62の蛇腹部材621と対向する面)がN極となっている。一方、第1の浮上磁石831および第2の浮上磁石832は、下面(第1の磁石レール81を構成する複数の磁石811および第2の磁石レール82を構成する複数の磁石821と対向する面)が磁石811および磁石821と同極(N極)となるように配設されている。このように、第1の磁石レール81を構成する複数の磁石811および第2の磁石レール82を構成する複数の磁石821と第1の浮上磁石831および第2の浮上磁石832はそれぞれ同極が対向して配設されているので、第1の浮上磁石831および第2の浮上磁石832は第1の磁石レール81を構成する複数の磁石811および第2の磁石レール82を構成する複数の磁石821上で浮上し、第1の蛇腹手段61の蛇腹部材611および第2の蛇腹手段62の蛇腹部材621が非接触で浮上せしめられる。なお、第1の浮上磁石831および第2の浮上磁石832は、第1の蛇腹手段61の蛇腹部材611および第2の蛇腹手段62の蛇腹部材621の下面にそれぞれ1個またはX軸方向に複数個配設される。このように第1の蛇腹手段61の蛇腹部材611および第2の蛇腹手段62の蛇腹部材621の下面にそれぞれ配設された第1の浮上磁石831および第2の浮上磁石832は、第1の蛇腹手段61の蛇腹部材611および第2の蛇腹手段62の蛇腹部材621の弛みを防止するための支持部材として機能する。
次に、上記ガイド手段7の第1の樋71および第2の樋72に沿って第1の蛇腹手段61の蛇腹部材611および第2の蛇腹手段62の蛇腹部材621を非接触で浮上させる浮上手段の第2の実施形態について図5および図6を参照して説明する。
図5および図6に示す実施形態における浮上手段80は、第1の樋71および第2の樋72に沿ってそれぞれX軸方向に配設された第1のエアー噴出レール85および第2のエアー噴出レール86と、上記第1の蛇腹手段61の蛇腹部材611および第2の蛇腹手段62の蛇腹部材621の下面にそれぞれ配設された第1のスライダー871および第2のスライダー872を具備している。第1のエアー噴出レール85および第2のエアー噴出レール86は、それぞれ中空状に形成されており、上面(第1の蛇腹手段61の蛇腹部材611および第2の蛇腹手段62の蛇腹部材621と対向する面)にエアーを噴出する複数の細孔851および861が設けられている。このように構成された第1のエアー噴出レール85および第2のエアー噴出レール86は、図示しないエアー供給手段に接続されている。一方、第1のスライダー871および第2のスライダー872は、図示の実施形態においては低摩擦樹脂によって形成されている。このように構成された浮上手段80は、図示しないエアー供給手段を作動して第1のエアー噴出レール85の複数の細孔851および第2のエアー噴出レール86の複数の細孔861からエアーを噴出することにより、第1のスライダー871および第2のスライダー872は第1のエアー噴出レール85および第2のエアー噴出レール86上で浮上し、第1の蛇腹手段61の蛇腹部材611および第2の蛇腹手段62の蛇腹部材621が非接触で浮上せしめられる。なお、第1のスライダー871および第1のスライダー872は、第1の蛇腹手段61の蛇腹部材611および第2の蛇腹手段62の蛇腹部材621の下面にそれぞれ1個またはX軸方向に複数個配設される。このように第1の蛇腹手段61の蛇腹部材611および第2の蛇腹手段62の蛇腹部材621の下面にそれぞれ配設された第1のスライダー871および第2のスライダー872は、第1の蛇腹手段61の蛇腹部材611および第2の蛇腹手段62の蛇腹部材621の弛みを防止するための支持部材として機能する。
図2に戻って説明を続けると、上記スピンドル支持機構4は、静止基台2上に矢印Yで示す割り出し送り方向に沿って平行に配設された2本の案内レール41、42と、該案内レール41、42上に矢印Yで示す方向に移動可能に配設された可動支持基台43を具備している。この可動支持基台43は、案内レール41、42上に移動可能に配設された移動支持部431と、該移動支持部431に取り付けられた装着部432とからなっている。装着部432は、一側面に矢印Zで示す方向に延びる2本の案内レール432a、432aが平行に設けられている。図示の実施形態におけるスピンドル支持機構4は、可動支持基台43を2本の案内レール41、42に沿って矢印Yで示す割り出し送り方向に移動させるための割り出し送り手段44を具備している。割り出し送り手段44は、上記2本の案内レール41、42の間に平行に配設された雄ネジロッド441と、該雄ネジロッド441を回転駆動するためのパルスモータ442等の駆動源を含んでいる。雄ネジロッド441は、その一端が上記静止基台2に固定された図示しない軸受ブロックに回転自在に支持されており、その他端が上記パルスモータ442の出力軸に図示しない減速装置を介して伝動連結されている。なお、雄ネジロッド441は、可動支持基台43を構成する移動支持部431の中央部下面に突出して設けられた図示しない雌ネジブロックに形成された雌ネジ穴に螺合されている。このため、パルスモータ442によって雄ネジロッド441を正転および逆転駆動することにより、可動支持基台43は案内レール41、42に沿って矢印Yで示す割り出し送り方向に移動せしめられる。
図示の実施形態におけるスピンドルユニット5は、ユニットホルダ51と、該ユニットホルダ51に取り付けられたスピンドルハウジング52と、該スピンドルハウジング52に回転可能に支持された回転スピンドル53を具備している。ユニットホルダ51は、上記装着部432に設けられた2本の案内レール432a、432aに摺動可能に嵌合する2本の被案内レール51a、51aが設けられており、この被案内レール51a、51aを上記案内レール432a、432aに嵌合することにより、矢印Zで示す切り込み送り方向に移動可能に支持される。上記回転スピンドル53はスピンドルハウジング52の先端から突出して配設されており、この回転スピンドル53の先端部に切削ブレード54が装着されている。切削ブレード54を装着した回転スピンドル53は、サーボモータ55等の駆動源によって回転駆動せしめられる。なお、切削ブレード54の両側には、切削時に被加工物に加工水としての切削水を供給する切削水供給ノズル57が配設されている(図2においては一方だけが示されている)。
図示の実施形態におけるスピンドルユニット5は、ホルダ51を2本の案内レール432a、432aに沿って矢印Zで示す方向に移動させるための切り込み送り手段58を具備している。切り込み送り手段58は、上記駆動手段35および44と同様に案内レール432a、432aの間に配設された雄ネジロッド(図示せず)と、該雄ネジロッドを回転駆動するためのパルスモータ582等の駆動源を含んでおり、パルスモータ582によって図示しない雄ネジロッドを正転および逆転駆動することにより、ユニットホルダ51とスピンドルハウジング52および回転スピンドル53を案内レール432a、432aに沿って矢印Zで示す切り込み送り方向に移動せしめる。
上記スピンドルユニット5を構成するスピンドルハウジング52の前端部には、撮像手段50が配設されている。この撮像手段50は、半導体ウエーハ等の被加工物に形成されたストリート等を撮像するための顕微鏡やCCDカメラ等で構成されており、撮像した画像信号を図示しない制御手段に送る。
図1に戻って説明すると、図示の切削装置は、被加工物である半導体ウエーハWをストックするカセット11を具備している。半導体ウエーハWは、環状のフレームFに保護テープTによって装着されており、環状のフレームFに装着された状態で上記カセット11に収容される。なお、カセット11は、図示しない昇降手段によって上下に移動可能に配設されたカセットテーブル12上に載置される。また、図示の切削装置は、カセット11に収納された半導体ウエーハWを仮置きテーブル13に搬出するとともに切削加工終了後の半導体ウエーハWをカセット11に搬入する被加工物搬出・搬入機構14と、仮置きテーブル13に搬出された半導体ウエーハWを上記チャックテーブル33上に搬送する第1の被加工物搬送機構15と、チャックテーブル33上で切削加工された半導体ウエーハWを洗浄する洗浄手段16と、チャックテーブル33上で切削加工された半導体ウエーハWを洗浄手段17に搬送する第2の被加工物搬送機構17を具備している。更に、図示の切削装置は、上記撮像手段50によって撮像された画像等を表示する表示手段18を具備している。
次に、上述した切削装置の切削加工処理動作について簡単に説明する。
カセット11の所定位置に収容された環状のフレームFに装着された保護テープTに貼着された半導体ウエーハW(以下、単に半導体ウエーハWという)は、図示しない昇降手段によってカセットテーブル12が上下動することにより搬出位置に位置付けられる。次に、被加工物搬出・入機構14が進退作動して搬出位置に位置付けられた半導体ウエーハWを仮置きテーブル13に搬出する。仮置きテーブル13に搬出された半導体ウエーハWは、第1の被加工物搬送機構15の旋回動作によって上記チャックテーブル33上に搬送され、吸引保持される。このようにして半導体ウエーハWを吸引保持したチャックテーブル33は、案内レール31、32に沿ってアライメント領域に移動される。チャックテーブル33がアライメント領域Aに位置付けられると、撮像手段50によって半導体ウエーハWに形成されている分割予定ラインが検出され、スピンドルユニット5を割り出し方向である矢印Y方向に移動調節して精密位置合わせ作業が行われる。
その後、半導体ウエーハWを吸引保持したチャックテーブル33を加工送り方向である矢印Xで示す方向(切削ブレード54の回転軸と直交する方向)に移動することにより、チャックテーブル33に保持された半導体ウエーハWは切削ブレード54により所定の切断ラインに沿って切削される。即ち、切削ブレード54は割り出し方向である矢印Yで示す方向および切り込み方向である矢印Zで示す方向に移動調整されて位置決めされたスピンドルユニット5に装着され、サーボモータ55によって高速回転(例えば、30,000rpm)されているので、チャックテーブル33を切削ブレード54の下側に沿って矢印Xで示す加工送り方向に所定の加工送り速度(例えば、50mm/sec)で移動することにより、チャックテーブル33に保持された半導体ウエーハWは切削ブレード54により所定の分割予定ラインに沿って切削される(切削加工工程)。このとき、切削部には切削水供給ノズル57から加工水としての切削水が供給される。この切削部に供給された切削水は防水カバー343および蛇腹手段6を構成する第1の蛇腹手段61および第2の蛇腹手段62からガイド手段7を構成する第1の樋71と第2の樋72に流下し、第2の連通樋76に接続された排水ホース77を介して排出される。
上述した切削加工工程においては、チャックテーブル33とともに防水カバー343が移動するので、防水カバー343の両側に配設された第1の蛇腹手段61および第2の蛇腹手段62が伸縮せしめられる。この第1の蛇腹手段61および第2の蛇腹手段62の伸縮時に、上記図3および図4に示す浮上手段8においては第1の蛇腹手段61の蛇腹部材611および第2の蛇腹手段62の蛇腹部材621の弛みを防止するための支持部材として機能する第1の浮上磁石831および第2の浮上磁石832が第1の磁石レール81および第2の磁石レール82に沿って移動する。このとき、第1の磁石レール81を構成する複数の磁石811および第2の磁石レール82を構成する複数の磁石821と第1の浮上磁石831および第2の浮上磁石832はそれぞれ同極が対向して配設されているので、第1の浮上磁石831および第2の浮上磁石832は第1の磁石レール81を構成する複数の磁石811および第2の磁石レール82を構成する複数の磁石821上で浮上せしめられ非接触となる。従って、チャックテーブル33の加工送り速度が速くても第1の浮上磁石831および第2の浮上磁石832と第1の磁石レール81および第2の磁石レール82との間で摩擦が生ずることがないため、チャックテーブル33の移動に追随することができ、生産性を向上させることができる。
また、上記切削加工工程における第1の蛇腹手段61および第2の蛇腹手段62の伸縮時に、上記図5および図6に示す浮上手段80においては第1の蛇腹手段61の蛇腹部材611および第2の蛇腹手段62の蛇腹部材621の弛みを防止するための支持部材として機能する第1のスライダー871および第2のスライダー872が第1のエアー噴出レール85および第2のエアー噴出レール86に沿って移動する。このとき、第1のエアー噴出レール85の複数の細孔851および第2のエアー噴出レール86の複数の細孔861からエアーを噴出することにより、第1のスライダー871および第2のスライダー872は第1のエアー噴出レール85および第2のエアー噴出レール86上で浮上せしめられ非接触となる。従って、チャックテーブル33の加工送り速度が速くても第1のスライダー871および第2のスライダー872と第1のエアー噴出レール85および第2のエアー噴出レール86との間で摩擦が生ずることがないため、チャックテーブル33の移動に追随することができ、生産性を向上させることができる。
以上、本発明を図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は実施形態のみに限定されるものではなく、本発明の趣旨の範囲で種々の変形は可能である。例えば、上述した実施形態においては本発明を切削装置に適用した例を示したが、被加工物を保持する被加工物保持手段を加工送り方向に加工送りするレーザー加工装置や被加工物を保持する被加工物保持手段に蛇腹手段が装着された研削装置等の加工装置に適用することができる。
1:装置ハウジング
2:静止基台
3:チャックテーブル機構
33:チャックテーブル
34:チャックテーブル支持機構
343防水カバー
35:加工送り手段
4:スピンドル支持機構
43:可動支持基台
44:割り出し送り手段
5:スピンドルユニット
54:切削ブレード
57:切削水供給ノズル
6:蛇腹手段
61:第1の蛇腹手段
62:第2の蛇腹手段
7:ガイド手段
71:第1の樋
72:第2の樋
8、80:浮上手段
81:第1の磁石レール
82:第2の磁石レール
831:第1の浮上磁石
832:第2の浮上磁石
85:第1のエアー噴出レール
86:第2のエアー噴出レール
11:カセット
12:カセットテーブル
13:仮置きテーブル
14:被加工物搬出・搬入手段
15:第1の被加工物搬送機構
16:洗浄手段
17:第2の被加工物搬送機構

Claims (3)

  1. 被加工物を保持する被加工物保持手段と、該被加工物保持手段に保持された被加工物を加工する加工手段と、該被加工物保持手段を加工送り方向に加工送りする加工送り手段と、該被加工物保持手段に装着され該被加工物保持手段の加工送り方向を覆う伸縮可能な蛇腹手段と、該蛇腹手段の伸縮を加工送り方向に案内するガイド手段と、を具備する加工装置であって、
    該ガイド手段は、該被加工物保持手段の該加工送り方向の移動を許容する開口と、該開口に隣接し該加工送り方向に沿って設けられた樋と、該開口の加工送り方向端部に設けられた端壁とを具備し、
    該蛇腹手段は、該被加工物保持手段に連結する第1の連結部と、該ガイド手段の該端壁に連結する第2の連結部と、該第1の連結部と該第2の連結部とに渡り配設された蛇腹部材とを具備しており、
    該ガイド手段の該樋に沿って該蛇腹部材を非接触で浮上させる浮上手段が配設されている、
    ことを特徴とする加工装置。
  2. 該浮上手段は、該樋に沿って複数の磁石がS極またはN極を該蛇腹部材に対向して配設された磁石レールと、該磁石レールの磁石と同極を対向させて該蛇腹部材に配設された浮上磁石と、によって構成されている、請求項1記載の加工装置。
  3. 該浮上手段は、該樋に沿ってエアーを噴出する複数の細孔が該蛇腹部材に対向して配設された細孔レールと、該細孔レールに対向して該蛇腹部材に配設されたスライダーと、によって構成されている、請求項1記載の加工装置。
JP2013250295A 2013-12-03 2013-12-03 加工装置 Active JP6261967B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013250295A JP6261967B2 (ja) 2013-12-03 2013-12-03 加工装置
TW103137188A TWI628032B (zh) 2013-12-03 2014-10-28 Processing device
US14/549,852 US9631745B2 (en) 2013-12-03 2014-11-21 Processing apparatus for guiding workpiece using bellows with floating means
DE102014224516.8A DE102014224516B4 (de) 2013-12-03 2014-12-01 Bearbeitungsvorrichtung
CN201410724985.2A CN104690599A (zh) 2013-12-03 2014-12-03 加工装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013250295A JP6261967B2 (ja) 2013-12-03 2013-12-03 加工装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015107529A true JP2015107529A (ja) 2015-06-11
JP6261967B2 JP6261967B2 (ja) 2018-01-17

Family

ID=53058666

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013250295A Active JP6261967B2 (ja) 2013-12-03 2013-12-03 加工装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US9631745B2 (ja)
JP (1) JP6261967B2 (ja)
CN (1) CN104690599A (ja)
DE (1) DE102014224516B4 (ja)
TW (1) TWI628032B (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018039061A (ja) * 2016-09-05 2018-03-15 ファナック株式会社 ジャバラの支持構造及びスライドテーブル装置

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6579930B2 (ja) * 2015-11-27 2019-09-25 株式会社ディスコ 加工装置
DE202016102268U1 (de) * 2016-02-09 2016-05-17 Atm Gmbh Trennmaschine
TWI614086B (zh) * 2016-08-29 2018-02-11 國立虎尾科技大學 彈性筒夾自動二次加工系統及方法
JP7098234B2 (ja) * 2018-06-20 2022-07-11 株式会社ディスコ 加工設備
CN111791267B (zh) * 2019-04-03 2022-08-02 沈阳新松机器人自动化股份有限公司 一种水平关节机器人的密封机构

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0917846A (ja) * 1995-06-30 1997-01-17 Nikon Corp 磁気浮上型ステージ
JP2003117766A (ja) * 2001-10-03 2003-04-23 Tokyo Seimitsu Co Ltd 切削装置
JP2008272895A (ja) * 2007-05-01 2008-11-13 Nachi Fujikoshi Corp スライドテーブルの非接触ジャバラ

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4440107A (en) * 1982-07-12 1984-04-03 Energy Conversion Devices, Inc. Magnetic apparatus for reducing substrate warpage
JPS6115557A (ja) * 1984-06-30 1986-01-23 Toshiba Corp 浮上式搬送装置
US4624617A (en) * 1984-10-09 1986-11-25 David Belna Linear induction semiconductor wafer transportation apparatus
US5360470A (en) * 1992-07-06 1994-11-01 Fujitsu Limited Magnetic levitating transporting apparatus with a movable magnetic unit
DE4242906C2 (de) * 1992-12-18 1995-09-14 Walter Ag Numerisch gesteuerte Schleifmaschine zum Schleifen von vorzugsweise metallischen Werkstücken, insbesondere Werkzeugen
US6110010A (en) * 1996-05-21 2000-08-29 Unova Ip Corp. Drive and support for machine tools
US6164881A (en) * 1996-07-23 2000-12-26 Toko, Inc. Machine tool
US5815246A (en) * 1996-12-24 1998-09-29 U.S. Philips Corporation Two-dimensionally balanced positioning device, and lithographic device provided with such a positioning device
JP2001118773A (ja) * 1999-10-18 2001-04-27 Nikon Corp ステージ装置及び露光装置
JP2002066866A (ja) * 2000-09-04 2002-03-05 Disco Abrasive Syst Ltd ジャバラ装置
US6603531B1 (en) * 2000-11-16 2003-08-05 Nikon Corporation Stage assembly including a reaction assembly that is connected by actuators
KR101087516B1 (ko) * 2003-06-04 2011-11-28 가부시키가이샤 니콘 스테이지 장치, 고정 방법, 노광 장치, 노광 방법, 및디바이스의 제조 방법
US20060124864A1 (en) * 2004-12-14 2006-06-15 Nikon Corporation Air bearing compatible with operation in a vacuum
JP4777783B2 (ja) 2006-01-26 2011-09-21 株式会社ディスコ レーザー加工装置
CN2887525Y (zh) * 2006-01-27 2007-04-11 廖素蜜 退缩式伸缩护盖
KR100745371B1 (ko) * 2006-10-23 2007-08-02 삼성전자주식회사 자기부상형 웨이퍼 스테이지
JP4987014B2 (ja) * 2006-11-29 2012-07-25 東京エレクトロン株式会社 基板の処理装置
JP5122854B2 (ja) * 2007-04-13 2013-01-16 株式会社ディスコ デバイスの研削方法
JP2011224729A (ja) * 2010-04-20 2011-11-10 Disco Corp ボールネジ保護ジャバラ機構
CN201744898U (zh) * 2010-08-21 2011-02-16 安庆市阳光机械制造有限责任公司 一种滚柱式防护罩
JP5388229B2 (ja) * 2010-12-06 2014-01-15 株式会社ナベル 蛇腹又はこの蛇腹を備えた機械器具
DE102011052406B4 (de) * 2011-08-04 2016-12-22 Gebr. Heller Maschinenfabrik Gmbh Werkzeugmaschine mit einer Lamellenabdeckung
CN202292274U (zh) * 2011-11-02 2012-07-04 福建省嘉泰数控机械有限公司 一种用于加工中心的电机防护结构
CN102744645B (zh) * 2012-06-29 2014-06-25 上海三一精机有限公司 一种提高伸缩防护罩稳定性的结构及机床
JP6253089B2 (ja) * 2013-12-10 2017-12-27 株式会社ディスコ 研削装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0917846A (ja) * 1995-06-30 1997-01-17 Nikon Corp 磁気浮上型ステージ
JP2003117766A (ja) * 2001-10-03 2003-04-23 Tokyo Seimitsu Co Ltd 切削装置
JP2008272895A (ja) * 2007-05-01 2008-11-13 Nachi Fujikoshi Corp スライドテーブルの非接触ジャバラ

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018039061A (ja) * 2016-09-05 2018-03-15 ファナック株式会社 ジャバラの支持構造及びスライドテーブル装置
US10280976B2 (en) 2016-09-05 2019-05-07 Fanuc Corporation Bellows support structure and slide table device

Also Published As

Publication number Publication date
TW201532726A (zh) 2015-09-01
DE102014224516B4 (de) 2023-12-28
CN104690599A (zh) 2015-06-10
DE102014224516A1 (de) 2015-06-03
US20150151396A1 (en) 2015-06-04
US9631745B2 (en) 2017-04-25
JP6261967B2 (ja) 2018-01-17
TWI628032B (zh) 2018-07-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6261967B2 (ja) 加工装置
KR102154719B1 (ko) 판형물의 가공 방법
JP4731241B2 (ja) ウエーハの分割方法
US7608523B2 (en) Wafer processing method and adhesive tape used in the wafer processing method
JP5436917B2 (ja) レーザー加工装置
JP2017084950A (ja) 加工装置の搬送機構
JP6218600B2 (ja) 加工装置
TWI392004B (zh) Cutting device
JP5182653B2 (ja) ダイシング方法
JP2006231474A (ja) 切削装置
JP5179928B2 (ja) ウエーハの搬出方法
KR20180113165A (ko) 절삭 장치
KR20150084645A (ko) 절삭 방법
JP2004142086A (ja) 切削装置
JP2017103274A (ja) 切削装置
JP5291178B2 (ja) 切削装置
JP5872799B2 (ja) レーザー加工装置
JP2012169487A (ja) 研削装置
TWI655053B (zh) Blade cover device
JP5356803B2 (ja) ウエーハの加工装置
JP6208587B2 (ja) 切削装置
JP2018032825A (ja) 被加工物のアライメント方法
JP6345981B2 (ja) 支持治具
JP2023022522A (ja) 加工装置
JP2010003876A (ja) 切削装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20161017

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20170817

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170822

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20171018

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20171128

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20171213

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6261967

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250