JP2014160199A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2014160199A5
JP2014160199A5 JP2013031345A JP2013031345A JP2014160199A5 JP 2014160199 A5 JP2014160199 A5 JP 2014160199A5 JP 2013031345 A JP2013031345 A JP 2013031345A JP 2013031345 A JP2013031345 A JP 2013031345A JP 2014160199 A5 JP2014160199 A5 JP 2014160199A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive siloxane
negative photosensitive
siloxane composition
group
polysiloxane
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013031345A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2014160199A (ja
JP6137862B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2013031345A priority Critical patent/JP6137862B2/ja
Priority claimed from JP2013031345A external-priority patent/JP6137862B2/ja
Priority to KR1020140017312A priority patent/KR102157030B1/ko
Priority to CN201410056634.9A priority patent/CN103995437B/zh
Priority to TW103105399A priority patent/TWI611268B/zh
Publication of JP2014160199A publication Critical patent/JP2014160199A/ja
Publication of JP2014160199A5 publication Critical patent/JP2014160199A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6137862B2 publication Critical patent/JP6137862B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

このようなポリシロキサン混合物は、例えば
(Ia)プリベーク後の膜が、5重量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に可溶であり、その溶解速度が3,000Å/秒以下である第一のポリシロキサンと
(Ib)プリベーク後の膜の、2.38重量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に対する溶解速度が150Å/秒以上あるポリシロキサンと
を含むものである。これらのポリシロキサンについて説明する。

Claims (9)

  1. ポリシロキサン、
    放射線を照射することで酸を放出する芳香族イミド化合物、
    および
    溶剤
    を含んでなることを特徴とする、ネガ型感光性シロキサン組成物。
  2. 前記ポリシロキサンが
    (Ia)プリベーク後の膜が、5重量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に可溶であり、その溶解速度が3,000Å/秒以下である第一のポリシロキサンと
    (Ib)プリベーク後の膜の、2.38重量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液に対する溶解速度が150Å/秒以上であるポリシロキサンと
    を含むものである、請求項1に記載のネガ型感光性シロキサン組成物。
  3. 前記芳香族イミド化合物が下記式(A)で表される、請求項1または2に記載のネガ型感光性シロキサン化合物。
    Figure 2014160199
    (式中、R11は、炭素数1〜7の脂肪族基、炭素数6〜18の芳香族基、またはそれらの水素原子の一部又は全部をハロゲン原子で置換した基であり、
    12はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数1〜10の脂肪族基、炭素数6〜18の芳香族基であって、前記脂肪族基および芳香族基は、置換されていても非置換であってもよく、またヘテロ原子を含有していてもよく、
    pはそれぞれ独立に0〜3の数を表し、pの総計は1以上であり、
    pが2以上である時には、二つ以上のR12が相互に連結して環状構造を形成してもよい。)
  4. 前記芳香族イミド化合物が、400〜440nmのいずれかの波長における吸光係数が365nmにおける吸光係数よりも高いものである、請求項1〜3に記載のいずれか1項に記載のネガ型感光性シロキサン化合物。
  5. ポリシロキサン100重量部に対して0.001〜10重量部の前記芳香族イミド化合物を含んでなる、請求項1〜4のいずれか1項に記載のネガ型感光性シロキサン組成物。
  6. 密着増強剤、重合禁止剤、消泡剤、界面活性剤、シランカップリング剤、安定剤、および光増感剤からなる群から選択される添加剤をさらに含んでなる、請求項1〜5のいずれか1項に記載のネガ型感光性シロキサン組成物。
  7. 請求項1〜6のいずれか1項に記載のネガ型感光性シロキサン組成物を基板に塗布して塗膜を形成させ、塗膜を露光し、現像することを含んでなる、硬化膜の製造方法。
  8. 現像前に、露光後加熱工程を含まない、請求項7に記載の硬化膜の製造方法。
  9. 請求項1〜6のいずれか1項に記載のネガ型感光性シロキサン組成物を基板に塗布して塗膜を形成させ、塗膜を露光し、現像し、硬化させることを含んでなる、素子の製造方法。
JP2013031345A 2013-02-20 2013-02-20 ネガ型感光性シロキサン組成物 Active JP6137862B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013031345A JP6137862B2 (ja) 2013-02-20 2013-02-20 ネガ型感光性シロキサン組成物
KR1020140017312A KR102157030B1 (ko) 2013-02-20 2014-02-14 네거티브형 감광성 실록산 조성물
CN201410056634.9A CN103995437B (zh) 2013-02-20 2014-02-19 负型感光性硅氧烷组合物
TW103105399A TWI611268B (zh) 2013-02-20 2014-02-19 負型感光性矽氧烷組成物、硬化膜之製造方法及硬化膜

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013031345A JP6137862B2 (ja) 2013-02-20 2013-02-20 ネガ型感光性シロキサン組成物

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2014160199A JP2014160199A (ja) 2014-09-04
JP2014160199A5 true JP2014160199A5 (ja) 2015-12-24
JP6137862B2 JP6137862B2 (ja) 2017-05-31

Family

ID=51309642

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013031345A Active JP6137862B2 (ja) 2013-02-20 2013-02-20 ネガ型感光性シロキサン組成物

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6137862B2 (ja)
KR (1) KR102157030B1 (ja)
CN (1) CN103995437B (ja)
TW (1) TWI611268B (ja)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2998297A1 (en) * 2014-09-18 2016-03-23 Heraeus Materials Korea Corporation Photo-acid generating compounds, compositions comprising said compounds, composite and process for making said composite as well as uses of said compounds
US9477150B2 (en) 2015-03-13 2016-10-25 Heraeus Precious Metals North America Daychem LLC Sulfonic acid derivative compounds as photoacid generators in resist applications
JP2018189738A (ja) * 2017-04-28 2018-11-29 メルク、パテント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツングMerck Patent GmbH ポジ型感光性シロキサン組成物、およびそれを用いて形成した硬化膜
WO2019023837A1 (en) 2017-07-31 2019-02-07 Dow Silicones Corporation HANDLING ADDITIVE FOR SILICONE ELASTOMERS
JP2019099673A (ja) * 2017-12-01 2019-06-24 メルク、パテント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツングMerck Patent GmbH ポリシロキサン、これを含んでなる組成物、およびこれを用いた硬化膜
JP2019120750A (ja) * 2017-12-28 2019-07-22 メルク、パテント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツングMerck Patent GmbH 感光性シロキサン組成物およびこれを用いたパターン形成方法
TWI701511B (zh) * 2019-01-16 2020-08-11 臺灣永光化學工業股份有限公司 負型感光性樹脂組成物及其用途
CN112558409B (zh) * 2019-09-25 2022-05-20 常州强力先端电子材料有限公司 能够在i线高产酸的磺酰亚胺类光产酸剂
CN112552280A (zh) * 2019-09-25 2021-03-26 常州强力先端电子材料有限公司 一种高产酸的磺酰亚胺类光产酸剂
WO2021057813A1 (zh) * 2019-09-25 2021-04-01 常州强力先端电子材料有限公司 磺酰亚胺类光产酸剂、感光性树脂组合物、图形化方法及感光性树脂组合物的应用
CN114516863A (zh) * 2020-11-19 2022-05-20 常州强力电子新材料股份有限公司 一种高产酸的酰亚胺磺酸酯类光产酸剂、组合物及应用
CN115894438A (zh) * 2021-09-30 2023-04-04 华为技术有限公司 感光分子及其应用

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2933879B2 (ja) 1995-08-11 1999-08-16 シャープ株式会社 透過型液晶表示装置およびその製造方法
KR20080034522A (ko) 2003-10-07 2008-04-21 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 방사선 경화성 조성물, 경화막 형성방법 및 패턴 형성방법
JP4687250B2 (ja) * 2004-06-02 2011-05-25 東レ株式会社 感光性樹脂組成物
KR101203632B1 (ko) 2004-12-24 2012-11-23 재단법인 포항산업과학연구원 투윈롤 스트립 캐스터의 롤갭 측정방법
JP2006236839A (ja) 2005-02-25 2006-09-07 Mitsubishi Electric Corp 有機電界発光型表示装置
JP2007193318A (ja) * 2005-12-21 2007-08-02 Toray Ind Inc 感光性シロキサン組成物、それから形成された硬化膜および硬化膜を有する素子
JP2007316314A (ja) * 2006-05-25 2007-12-06 Sekisui Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、これを用いた薄膜パターンの製造方法、電子機器用保護膜、トランジスタ、カラーフィルタ、有機el素子、ゲート絶縁膜及び薄膜トランジスタ
JP2010039053A (ja) * 2008-08-01 2010-02-18 Sekisui Chem Co Ltd 感光性組成物及びパターン膜の製造方法
FR2935977B1 (fr) * 2008-09-15 2010-12-17 Centre Nat Rech Scient Procede d'hydrolyse-polycondensation photochimique de chromophores reticulables a encombrement sterique, catalyse par un acide photogenere et ses applications.
JP4918578B2 (ja) 2009-08-17 2012-04-18 ダウ・コーニング・コーポレイション ネガ型パターン形成用硬化性シリコーン組成物、及びこれを用いたパターン形成方法
JP5781947B2 (ja) * 2010-01-13 2015-09-24 株式会社Adeka 新規スルホン酸誘導体化合物及び新規ナフタル酸誘導体化合物
JP5516869B2 (ja) 2010-03-13 2014-06-11 川崎化成工業株式会社 光カチオン重合増感剤組成物、光感応性酸発生剤組成物、光カチオン重合性組成物及び該光カチオン重合組成物を重合してなる重合物
JP5707407B2 (ja) * 2010-08-24 2015-04-30 メルクパフォーマンスマテリアルズIp合同会社 ポジ型感光性シロキサン組成物
JP5561189B2 (ja) * 2011-01-27 2014-07-30 Jsr株式会社 感放射線性組成物、硬化膜及びその形成方法
KR101798014B1 (ko) * 2011-03-22 2017-11-15 제이에스알 가부시끼가이샤 감방사선성 조성물, 그리고 경화막 및 그의 형성 방법
CN103534646B (zh) * 2011-05-20 2016-04-20 默克专利有限公司 正型感光性硅氧烷组合物
JP5990447B2 (ja) * 2012-11-12 2016-09-14 メルクパフォーマンスマテリアルズマニュファクチャリング合同会社 芳香族イミド化合物及びその製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2014160199A5 (ja)
US9778569B2 (en) Positive photosensitive resin composition, method for producing film using same, and electronic component
JP2015108116A5 (ja)
JP2019163463A5 (ja)
JP2009048182A5 (ja)
JP2009258722A5 (ja)
JP6137862B2 (ja) ネガ型感光性シロキサン組成物
KR102198345B1 (ko) 레지스트 패턴에 도포되는 도포액 및 반전패턴의 형성방법
JP2008524650A5 (ja)
JP2015055844A5 (ja)
JP2014071424A5 (ja)
TW201111917A (en) Method and materials for reverse patterning
JP2009009107A5 (ja)
JP5773176B2 (ja) パターン反転膜形成用組成物及び反転パターン形成方法
JP6458799B2 (ja) パターン形成方法
JP2013536463A5 (ja)
JP2014191252A (ja) 感光性樹脂組成物、硬化膜、保護膜、半導体装置および表示体装置
JP2009244829A5 (ja)
JP2009115835A5 (ja)
JP2009109541A5 (ja)
JP2015129791A (ja) ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン硬化膜の製造方法
WO2017090917A1 (ko) 감광성 수지 조성물, 그로부터 형성된 경화막, 및 경화막을 갖는 소자
JP2014178573A5 (ja)
CN105607418A (zh) 一种高耐热光刻胶组合物及其使用工艺
JP4221988B2 (ja) 3層レジスト中間層用樹脂組成物