JP2014041897A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】揺動部材の揺動運動の収束を短くして、基板の通過の誤検出を防ぎ、しかも基板搬送間隔を小さくして基板の搬送効率を上げて基板の処理効率の向上が図れる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１の基板検出装置２は、揺動部材５の一端部の検出ローラ６と、揺動部材５の他端部のウエイト５Ｃとマグネット７と、基板Ｂが検出ローラ６に当たる前の揺動部材の初期位置Ｐ１から揺動部材５が回転方向Ｒへ回転すると、マグネット７が発生している磁界の変化を検出して検出信号ＤＳを出す検出センサ８と、揺動部材５の初期位置Ｐ１では、揺動部材５を垂直線Ｚ１に対して傾斜して保持する状態を維持するために揺動部材５を当てる揺動ストッパ１１を備え、揺動部材５の初期位置Ｐ１では、揺動部材５が垂直線Ｚ１に対して傾斜して保持されている。
【選択図】図２

Description

本発明の実施形態は、液晶表示装置のガラス基板等の基板を搬送して処理する基板処理装置に関する。

液晶表示装置等の表示装置のガラス基板を製造する際には、この基板は、基板処理装置において搬送されながら基板には各種の処理が施される。基板処理装置が基板に施す処理としては、例えばレジスト塗布処理、レジスト剥離処理、エッチング処理、そして洗浄処理等である。例えば、基板処理装置が基板を洗浄処理する場合には、基板は基板搬送部により搬送されながら、基板の表面に洗浄処理液が供給される。

このような基板処理装置では、基板を搬送する過程で基板の有無を検出する基板検出装置を有している。基板検出装置は、揺動可能に支持された揺動部材と、検出ローラと、マグネットと、リードスイッチを有している。検出ローラは、揺動部材の一端部において回転可能に設けられて、搬送される基板に押される。マグネットは、揺動部材の他端部に固定されている。リードスイッチは、揺動部材の揺動方向とは交差する方向に設けられている。搬送される基板が検出ローラに当たることで揺動部材が回転され、マグネットが回転方向に回転される。これにより、リードスイッチは、マグネットが発生する磁界の変化に応じて信号を出力する。このような基板の検出装置は、特許文献１に開示されている。

特開２００１−５７３５５号公報

しかし、前述のような基板処理装置では、搬送される基板が検出ローラに当たって揺動部材が回転すると、揺動部材は振り子のように揺動運動してしまい、すぐには揺動部材の揺動運動が収束しないということがある。このため、リードスイッチは、マグネットの発生する磁界の変化を何度も検出してしまうので、基板の通過を誤検出してしまうおそれがある。また、揺動部材が収束位置へ戻るのに時間がかかるため、先の基板を検出ローラが検出して揺動部材の揺動運動が収束するまで、次の基板を搬送して検出ローラに基板を当てて検出させることができない。従って、基板搬送部が基板を搬送できる基板搬送間隔を小さくすることができず、基板の搬送効率が悪いために基板の処理効率の向上が図れない。

そこで、本発明が解決しようとする課題は、揺動部材の揺動運動の収束を短くして、基板の通過の誤検出を防ぎ、しかも基板搬送間隔を小さくして基板の搬送効率を上げて基板の処理効率の向上が図れる基板処理装置を提供することである。

本発明の実施形態に係る基板処理装置は、搬送される基板の有無を検出する基板検出装置を有する基板処理装置であって、前記基板検出装置は、基部と、前記基部に対して揺動自在に取り付けられている揺動部材と、前記揺動部材の一端部に設けられ、搬送される前記基板に当てる検出ローラと、前記揺動部材の他端部に設けられているウエイトとマグネットと、搬送される前記基板が前記検出ローラを押し下げて、前記基板が前記検出ローラに当たる前の前記揺動部材の初期位置から前記揺動部材が回転方向へ回転すると、前記マグネットが発生している磁界の変化を検出して前記基板を検出したことを示す検出信号を出す検出センサと、前記揺動部材の前記初期位置では、前記揺動部材を前記基板の搬送方向と交差する垂直線に対して傾斜して保持する揺動ストッパと、を備えることを特徴とする。

これにより、前記基板処理装置では、揺動部材の初期位置では、揺動部材が、基板の搬送方向と交差する垂直線に対して傾斜して保持されている。このため、搬送される基板が検出ローラを押し下げて、基板が検出ローラに当たる前の揺動部材の初期位置から揺動部材が回転方向へ回転し、そして基板が通過して揺動部材がこの回転方向とは反対方向に復帰すると、揺動部材は揺動ストッパに突き当たる。このため、揺動部材の揺動運動の収束を短くして、基板の通過の誤検出を防ぎ、しかも基板搬送間隔を小さくして基板の搬送効率を上げて基板の処理効率の向上が図れる。

本発明によれば、揺動部材の揺動運動の収束を短くして、基板の通過の誤検出を防ぎ、しかも基板搬送間隔を小さくして基板の搬送効率を上げて基板の処理効率の向上が図れる基板処理装置基板処理装置を提供することができる。

本発明の基板処理装置の好ましい第１実施形態を示す図である。 図１に示す基板処理装置に設けられている基板検出装置の構造例と動作例を示す図である。 図２（Ａ）に示すＣＲ方向から見た基板検出装置の側面図である。 揺動部材の重量バランスについて示す図である。 半径の小さい検出ローラと半径の大きい検出ローラが、それぞれ基板に対して突き当たる状態を示す図である。 基板の動きに伴い、本発明の実施形態における検出センサが出力する検出信号と、従来例における検出センサが出力する検出信号とを比較して示す図である。 図７（Ａ）は、本発明の第２実施形態の基板処理装置が備える基板検出装置を示す正面図であり、図７（Ｂ）は、図７（Ａ）に示す基板処理装置を矢印ＨＪから見た側面図である。 本発明の第３実施形態の基板処理装置が備える基板検出装置を示す図である。

本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。
（第１実施形態）
図１は、本発明の基板処理装置の好ましい第１実施形態を示す図である。図２は、図１に示す基板処理装置に設けられている基板検出装置２の構造例と動作例を示す図である。

図１に示すように、本発明の実施形態は、一例として、処理対象基板である。例えば、液晶表示装置用のガラス基板Ｂ（以下、基板という）を搬送方向Ｔに沿って搬送しながら、この基板Ｂの表裏面に洗浄処理液を供給することにより、基板Ｂの表面上の汚れを洗浄処理する。この洗浄処理液としては、例えば純水を用いるが、これに限定されない。

図１に例示する基板処理装置１は、基板検出装置２を備えており、基板検出装置２は基板有無検出装置ともいう。この基板検出装置２は、例えば複数の搬送ローラ３の内の隣接する２つの搬送ローラ３の間に設けられている。各搬送ローラ３は、搬送シャフト３Ａに取り付けられている。搬送シャフト３Ａは、図示しない駆動部のモータを駆動することで回転可能である。この搬送シャフト３Ａは、Ｘ方向（図１の紙面垂直方向）に沿って配置されている。図１と図２に示すように、基板検出装置２は、基部４と、揺動部材５と、検出ローラ６と、マグネット７と、検出センサ８（例えば、リードスイッチ）と、揺動支点部材１０と、揺動ストッパ１１を有している。

図１と図２に示す基部４は、金属板を折り曲げて形成した部材であり、Ｚ方向（上下方向）に沿って形成されている取付け部９を有している。この取付け部９には、揺動部材５が、揺動支点部材１０を中心にして揺動可能に取付けられている。揺動部材５は、金属製の板状の部材である。Ｚ方向は、基板Ｂの搬送方向ＴとＸ方向に対して直交垂直方向である。揺動部材５は、揺動支点部材１０を中心にして、取付け部９に沿って、Ｚ方向と搬送方向Ｔで形成される面内において、回転方向Ｒと逆回転方向Ｒ１に沿って揺動可能である。

図１と図２に示す検出ローラ６は、例えば樹脂製であり、取付け軸部１２を用いて揺動部材５の一端部５Ａに、回転可能に取り付けられている。揺動部材５の他端部５Ｂは、金属製のウエイト５Ｃを固定している。ウエイト５Ｃは、検出ローラ６との重量バランスを取るために設けられている。マグネット７は、好ましくはウエイト５Ｃの中に取り付けられている。

図２（Ａ）は、揺動部材５が初期位置Ｐ１に位置決めされている状態を示し、図２（Ｂ）は、揺動部材５が回転方向Ｒに回転して検出位置Ｐ２に位置決めされている状態を示している。図３は、図２（Ａ）に示すＣＲ方向から見た基板検出装置２の側面図である。

図２（Ａ）と図３に示すように、揺動ストッパ１１は、取付け部９において、Ｘ方向に沿って突出するようにして、揺動部材５の他端部５Ｂ寄りの位置に固定されている。この揺動ストッパ１１は、揺動部材５の他端部５Ｂ寄りの下側側面部５Ｄを直接突き当てることで、揺動部材５を図１と図２（Ａ）に示す初期位置Ｐ１において、角度θで傾斜した状態で位置決めさせる機能を有している。揺動部材５の一端部５Ａから他端部５Ｂに至るまでの部分は、直線状の板部材であるが、図３に示すように他端部５Ｂは、９０度折り曲げることでＸ方向に突出している。

図１と図２（Ａ）に示すように、検出センサ８は、揺動部材５が図２（Ａ）に示す初期位置Ｐ１に位置されている状態で、マグネット７にわずかな間隔を離した状態で対面するように、基部４の取付け部１３に固定されている。検出センサ８は、揺動部材５が回転方向Ｒに回転して、図２（Ａ）に示す初期位置Ｐ１から図２（Ｂ）に示す検出位置Ｐ２になった時に、すなわち基板Ｂが検出ローラ６を押し下げた時に、マグネット７の発生する磁界の変化を検出する。これにより、検出センサ８は、基板Ｂの検出信号ＤＳを、基板Ｂを検出した信号として制御部１００に送る。

図２（Ａ）では、揺動部材５が初期位置Ｐ１に位置決めされていることで、揺動部材５の長手方向Ｇは、Ｚ方向の垂直線Ｚ１に対して角度θで傾斜している。この状態では、揺動部材５の長手方向Ｇは、検出ローラ６の取り付け軸部１２の中心と、揺動支点部材１０の中心と、マグネット７の中心と、検出センサ８の中心を通っている。検出ローラ６の取り付け軸部１２と揺動支点部材１０との間の距離Ｌ１は、揺動支点部材１０とマグネット７（ウエイト５Ｃ）との間の距離Ｌ２に比べて、好ましくは短く設定されている。これにより、揺動部材５Ｒが図２（Ｂ）に示す検出位置Ｐ２から初期位置Ｐ１に逆回転方向Ｒ１に回転して復帰することができる。

図２に示すように、初期位置Ｐ１では、この揺動部材５の長手方向Ｇは、Ｚ方向の垂直線Ｚ１に対して、所定の角度θだけ揺動支点部材１０を中心にして傾けてある。マグネット７は、検出センサ８に対面している。揺動ストッパ１１には、揺動部材５の下側側面部５Ｄが当接している。この角度θは、例えば４０度である。角度θの範囲は、好ましくは３０度から５０度の範囲である。角度θが３０度未満であると、検出ローラ６が基板Ｂにより回転方向Ｒに押し下げられた場合に、検出ローラ６が回転方向Ｒに回転してしまう角度が大きくなり、揺動部材５が検出位置Ｐ２から初期位置Ｐ１に復帰するまでの復帰時間が長くかかるので、好ましくない。また、角度θが５０度を超えると、検出ローラ６が基板Ｂにより回転方向Ｒに押し下げられた場合に、検出ローラ６が回転方向Ｒに回転する角度は小さいが、マグネット７が検出センサ８から遠ざかる距離が小さい（マグネットの逃げ距離が小さい）ので、検出スイッチ８はマグネット７の磁界の変化を検出し難いことから、好ましくない。

これに対して、図２（Ｂ）に示すように、揺動部材５が検出位置Ｐ２に回転した時に、すなわち基板Ｂが検出ローラ１２を押し下げた時には、揺動部材５の長手方向Ｇは、Ｚ方向の垂直線Ｚ１に対して、所定の角度θに加えて追加の回転角度θ１だけ、揺動支点部材１０を中心にしてさらに回転方向Ｒに回転される。これにより、マグネット７は、検出センサ８から回転方向Ｒに離れる。揺動ストッパ１１は、揺動部材５の下側側面部５Ｄから離れる。この回転角度θ１の例としては、１５．５度であるが、特に限定されない。

図４は、揺動部材Ｋの重量バランスについて示している。図４（Ａ）に示す重量Ｗ１は、揺動部材Ｋの揺動支点（振子支点）Ｋ１から上の部分であって、検出ローラＫ２までの重量を示し、重量Ｗ２は、揺動部材Ｋの揺動支点Ｋ１から下の部分であって、マグネットＫ３とウエイトＫ４までの重量を示している。距離Ｌ１は、揺動支点Ｋ１から検出ローラＫ２の回転中心までの距離であり、距離Ｌ２は、揺動支点Ｋ１からマグネットＫ３までの距離である。

図４（Ｂ）に示す反力Ｗ０は、検出ローラＫ２が基板を検出する際に、検出ローラＫ２が基板から受ける突き上げ反力である。図４（Ｂ）において、揺動部材Ｋの揺動支点Ｋ１を中心とする倒れ易さ（回転し易さ）は、（Ｗ０＋Ｗ１）×Ｌ１＞Ｗ２＋Ｌ２で表すことができ、Ｗ２＋Ｌ２の値が小さい程、揺動部材Ｋの重量バランスは安定する。また、揺動部材Ｋの逆回転方向Ｒ１への戻り易さ（復帰し易さ）は、Ｗ１×Ｌ１＜Ｗ２×Ｌ２で表すことができ、Ｗ２×Ｌ２の値が大きい程、揺動部材Ｋは逆回転方向Ｒ１へ戻り易くなる。

図５（Ａ）は、半径の小さい検出ローラＫ２Ａに対して基板Ｂが突き当たった状態を示し、図５（Ｂ）は、図５（Ａ）の検出ローラＫ２Ａに比べて、半径の大きい検出ローラＫ２Ｂに対して基板Ｂが突き当たった状態を示している。

半径の小さい検出ローラＫ２Ａと、この検出ローラＫ２Ａに比較して半径の大きい検出ローラＫ２Ｂが、それぞれ基板ＢによりＺ１方向に押し下げられる量ＳＳ（例えば３ｍｍ）を同じであるとすると、図５（Ｂ）に示す検出ローラＫ２Ｂの基板入射角Ｃ２は、図５（Ａ）に示す検出ローラＫ２Ａの基板入射角Ｃ１に比べて小さくすることができる。この基板入射角とは、検出ローラが基板ＢによりＺ１方向に押し下げられた時に検出ローラ自体が垂直軸Ｚ１に沿って押し下げられる角度である。これにより、半径の大きい検出ローラＫ２Ｂを用いる方が、半径の小さい検出ローラＫ２Ａを用いるのに比べて、検出ローラが回転方向Ｒに回転した時に垂直線Ｚ１方向に逃げ易い。言い換えれば、揺動部材が回転方向Ｒ側に倒れ易いことになる。検出ローラの好ましい直径は、例えば２０ｍｍであるが、特に限定されない。

次に、上述した本発明の実施形態の動作例を説明する。

図１に示す基板処理装置１では、図示しない駆動源のモータが動作すると、搬送シャフト３Ａが回転することで、搬送ローラ３は基板Ｂを順次搬送方向Ｔに沿って搬送する。この基板処理装置１は、例えば、基板洗浄装置であって、基板Ｂに対して純水のような洗浄処理液が供給されることで、基板Ｂは洗浄処理され、基板Ｂ上の洗浄処理液が高圧エアにより吹き飛ばされて乾燥される。

図１に示すように、基板Ｂが搬送方向Ｔに搬送される途中で、基板Ｂが基板検出装置２の上を通過すると、図２（Ａ）に示す検出ローラ６は基板Ｂの裏面により押されるので、図２（Ａ）に示す揺動部材５が初期位置Ｐ１に位置されている状態から、図２（Ｂ）に示す検出位置Ｐ２に回転する。

基板Ｂが通過して基板Ｂが検出ローラ１２を押し下げた時には、揺動部材５の長手方向Ｇは、Ｚ方向の垂直線Ｚ１に対して、予め設定されている所定の角度θに加えて回転角度θ１だけ、揺動支点部材１０を中心にして回転方向Ｒにさらに回転される。これにより、マグネット７は、検出センサ８から回転方向Ｒに離れる。揺動部材５の下側側面部５Ｄは、揺動ストッパ１１から離れる。これにより、マグネット７は、図２（Ａ）に示す検出センサ８に対向した状態から図２（Ｂ）に示す離れることにより、磁界を生じなくなる。検出センサ８がこの磁界が生じなくなったことを示す認識信号ＤＳを制御部１００に送って制御部１００が認識することで、制御部１００は基板Ｂを検出していると判断する。

逆に、基板Ｂがさらに搬送方向Ｔに搬送されて、基板Ｂが検出ローラ１２から離れると、揺動部材５は重力の力で逆回転方向Ｒ１に回転して検出位置Ｐ２から初期位置Ｐ１に復帰するので、マグネット７が検出センサ８から離れた状態から対向した状態に戻ると磁界を発生したことを検出センサ８が検出するので、制御部１００は磁界が発生したことを認識して、基板Ｂは検出していないと判断する。

このように、基板Ｂが検出ローラ１２から離れると、揺動部材５が重力の力で検出位置Ｐ２から初期位置Ｐ１に逆回転方向Ｒ１に回転するので、レスポンス良く直ちに初期位置Ｐ１に復帰できる。しかも、揺動部材５の下側側面部５Ｄは、揺動ストッパ１１に当接する。

これにより、揺動部材５は回転方向Ｒと逆回転方向Ｒ１について振り子のように揺れ動く動作（チャタリング）を全く起こすことなく、揺動部材５は初期位置Ｐ１に直ちに位置決めすることができる。基板Ｂが検出ローラ１２から離れると、揺動部材５が検出位置Ｐ２から初期位置Ｐ１に逆回転方向Ｒ１に回転して直ちに復帰できるのは、すでに説明したように、揺動部材５が初期位置Ｐ１において、回転方向Ｒ側に向けて予め角度θだけ傾斜して保持されているからである。しかも、図２（Ａ）に示すように、好ましくは検出ローラ６の取り付け軸部１２と揺動支点部材１０との間の距離Ｌ１が、揺動支点部材１０とマグネット７（ウエイト５Ｃ）との間の距離Ｌ２に比べて、好ましくは短く設定されているからである。

ここで、図６を参照する。図６は、図２の基板Ｂの動きに伴い、本発明の実施形態における検出センサ８が出力する検出信号と、従来例の基板検出装置５０２における検出センサが出力する検出信号を比較して示す図である。

本発明の実施形態における基板検出装置２では、図２（Ａ）と図２（Ｂ）に示すように、基板Ｂが通過して図６の時点ｔ１において、検出ローラ６を垂直線Ｚ１方向に押し下げると、揺動部材５が初期位置Ｐ１に位置決めされている状態から回転方向Ｒに回転して、時点ｔ２において検出位置Ｐ２に位置決めされる。これにより、マグネット７は、図２（Ａ）に示す検出センサ８に最接近した状態から図２（Ｂ）に示す離れた状態になるので、図６の時点ｔ１から時間ＤＬ１だけわずかに遅れた時点ｔ３において、検出センサ８は制御部１００に検出信号ＤＳを発生する。図６に示すように、基板Ｂが搬送されて基板Ｂが検出ローラ６を押し下げている間は、検出信号ＤＳを発生している。そして、図６の時点ｔ２で基板Ｂが通過すると、揺動部材５が検出位置Ｐ２から初期位置Ｐ１に復帰するので、マグネット７は、検出センサ８から離れた状態から接近した状態に戻ることから、時点ｔ２から時間ＤＬ２だけわずかに遅れた時点ｔ４において、検出信号ＤＳの発生は終わる。時点ｔ４の後には、ソフトウェア上必要な時間余裕を設定する。

これに対して、図６に示す従来の基板検出装置５０２では、図６の時点ｔ１から時間ＤＬ１だけわずかに遅れた時点ｔ３において、検出センサは検出信号ＥＳを発生する。そして、図６の時点ｔ２で基板Ｂが通過してしまうと、時点ｔ２から時間ＤＬ２だけわずかに遅れた時点ｔ４において、検出信号ＥＳの発生は終わる。しかし、時点ｔ４以降においては、例えば２秒間から３秒間、検出センサからはチャタリング波形ＥＦが発生してしまう。このように、時点ｔ４以降において、チャタリング波形ＥＦが発生してしまうのは、揺動部材自体が振り子のように揺動運動してしまい、揺動部材が収束位置（中立位置）へ戻るための収束時間がかかってしまうためである。

本発明の実施形態の基板検出装置２では、図１と図２に示すように、揺動部材５は初期状態Ｐ１において回転方向Ｒ側に向けて予め傾斜して保持されている。しかも図２（Ａ）から図２（Ｂ）に示すように、揺動部材５が初期位置Ｐ１から検出位置Ｐ２に変化した後、基板Ｂが通り過ぎて検出ローラ６が基板Ｂにより押し下げられなくなると、図２（Ａ）に示すように揺動部材５は、検出状態Ｐ２から初期状態Ｐ１へ逆回転方向Ｒ１に回転して即座に初期位置Ｐ１に復帰できる。このように、揺動部材５が検出状態Ｐ２から初期状態Ｐ１に即座に復帰すると、揺動ストッパ１１には、揺動部材５の他端部５Ｂ寄りの下側側面部５Ｄが直接突き当たる。このため、揺動部材５は、図１と図２（Ａ）に示す初期位置Ｐ１に迅速にしかも確実に位置決めさせることができる。従来生じていたチャタリング波形ＥＦが発生することはなく、揺動部材５の揺動運動の収束を短くして、基板Ｂの通過の誤検出を防げる。しかも、揺動部材５の揺動運動の収束を短くできるので、順次搬送される複数の基板Ｂ同士の搬送間隔を小さくしても、基板Ｂの有無の検出を確実に行えるので、基板Ｂを搬送しながらの基板処理効率を上げることができる。
（第２実施形態）
次に、本発明の基板処理装置の好ましい第２実施形態を説明する。

図７（Ａ）は、本発明の第２実施形態の基板処理装置が備える基板検出装置１０２を示す正面図であり、図７（Ｂ）は、図７（Ａ）に示す基板処理装置１０２を矢印ＨＪから見た側面図である。

基板検出装置１０２は基板有無検出装置ともいう。この基板検出装置１０２は、例えば図１に示す基板処理装置１の複数の搬送ローラ３の内の隣接する２つの搬送ローラ３の間に設けられている。図７（Ａ）と図７（Ｂ）に示すように、基板検出装置１０２は、基部１０４と、揺動部材１０５と、ウエイト１０５Ｃと、追加ウエイト１０５Ｄと、検出ローラ１０６と、マグネット１０７と、リードスイッチのような検出センサ１０８と、揺動支点部材１１０と、揺動ストッパ１１１を有している。

取り付け部１０９には、揺動部材１０５が、揺動支点部材１１０を中心にして揺動可能に取り付けられている。揺動部材１０５は、金属製の板状の部材である。揺動部材１０５は、図７（Ａ）に示す初期位置Ｐ１に位置決めされている状態では、Ｚ方向の垂直線Ｚ１に沿って形成されている第１部分１０５Ｓと、傾斜線Ｖに沿って形成されている第２部分１０５Ｔを有している。傾斜線Ｖは、垂直線Ｚ１とは所定の角度θだけ、回転方向Ｒ側に傾斜している。この角度θの値は、好ましくは第１実施形態における角度θの値と同じである。Ｚ方向は、基板Ｂの搬送方向ＴとＸ方向に対して直交している。揺動部材１０５は、揺動支点部材１１０を中心にして、取付け部１０９の面に沿って、Ｚ方向と搬送方向Ｔで形成される面内において、回転方向Ｒに沿って揺動可能である。

図７（Ａ）と図７（Ｂ）に示す検出ローラ１０６は、例えば樹脂製であり、取り付け軸部１１２を用いて揺動部材１０５の一端部１０５Ａにおいて、回転可能に取り付けられている。揺動部材１０５の他端部１０５Ｂは、金属製のウエイト１０５Ｃを固定しており、このウエイト１０５Ｃには、マグネット１０７が設けられている。ウエイト１０５Ｃは、検出ローラ１０６との重量バランスを取るために設けられている。マグネット１０７は、好ましくはウエイト１０５Ｃの中に取り付けられている。

図７（Ａ）に示すように、ウエイト１０５Ｃには、さらに追加ウエイト１０５Ｄが追加して設けられている。しかも、ウエイト１０５Ｃは、揺動ストッパ１１１に突き当てる突き当て面１０５Ｍを有し、追加ウエイト１０５Ｄは、この突き当て面１０５Ｍとは反対側になるウエイト１０５Ｃの面１０５Ｎに固定されている。これにより、追加ウエイト１０５Ｄの荷重は、ウエイト１０５Ｃによる荷重に加えて、検出ローラ１０６と逆方向（逆回転方向Ｒ１）へ追加荷重を与えるので、揺動部材１０５には回転方向Ｒとは逆の逆回転方向Ｒ１へ揺動ベクトルを発揮でき、すなわち揺動ストッパ１１１へ突き当てる方向へ揺動ベクトルを発揮する。

図７（Ａ）では、揺動部材１０５が実線で示す初期位置Ｐ１に位置決めされている状態と、揺動部材１０５が回転方向Ｒに回転して、破線で示す検出位置Ｐ２に位置決めされている状態の両方を示している。揺動ストッパ１１１は、ウエイト１０５Ｃに直接突き当たることで、揺動部材５を図７（Ａ）の実線で示す初期位置Ｐ１に位置決めさせる機能を有している。図７（Ａ）と図７（Ｂ）に示すように、検出センサ１０８は、揺動部材１０５が図７（Ａ）に示す初期位置Ｐ１に位置されている状態で、マグネット１０７に対面するように、図７（Ｂ）に示す基部１０４に固定されている。検出センサ１０８は、揺動部材１０５が実線で示す初期位置Ｐ１から破線で示す検出位置Ｐ２に回転した時に、すなわち基板Ｂが検出ローラ１０６を押し下げた時に、マグネット１０７の発生する磁界の変化を検出する。これにより、検出センサ１０８は、基板Ｂの検出信号ＤＳを、制御部１００に送る機能を有する。

次に、上述した本発明の第２実施形態の基板処理装置１の基板検出装置２の動作例を説明する。

図７（Ａ）に示す基板Ｂが搬送方向Ｔに沿って搬送されると、この基板処理装置が例えば基板洗浄装置であって、基板Ｂに対して純水のような洗浄処理液が供給されることで、基板Ｂは洗浄処理され、基板Ｂ上の洗浄処理液が高圧エアにより吹き飛ばされることで乾燥される。

基板Ｂが搬送方向Ｔに搬送される途中で、基板Ｂが基板検出装置１０２の上を通過すると、図７（Ａ）に示す検出ローラ１０６は基板Ｂの下面に押されるので、図７（Ａ）に示す揺動部材１０５が初期位置Ｐ１に位置されている状態から検出位置Ｐ２に回転方向Ｒに沿って回転する。これにより、マグネット１０７は、検出センサ１０８から回転方向Ｒに離れる。揺動ストッパ１１１は、ウエイト１０５Ｃから離れる。これにより、マグネット７は、検出センサ１０８が最接近した状態から離れた状態になるので、検出センサ１０８は制御部１００に検出信号ＤＳを発生する。

そして、基板Ｂがさらに搬送方向Ｔに搬送されて、基板Ｂが検出ローラ１０６から離れると、揺動部材１０５が検出位置Ｐ２から初期位置Ｐ１に逆回転方向Ｒ１に回転して復帰するので、マグネット１０７は、検出センサ１０８から離れた状態から最接近した状態に戻ることから、検出センサ１０８からの検出信号ＤＳの発生は終わる。

このように、基板Ｂが検出ローラ１０６から離れると、揺動部材１０５は、検出位置Ｐ２から初期位置Ｐ１に逆回転方向Ｒ１に回転して直ちに初期位置Ｐ１に復帰できる。しかも、揺動部材５のウエイト１０５Ｃが、揺動ストッパ１１１に突き当たる。これにより、揺動部材１０５は振り子のようなチャタリング動作を起こすことなく、初期位置Ｐ１に直ちに位置決めすることができる。

基板Ｂが検出ローラ１０６から離れると、揺動部材１０５が検出位置Ｐ２から初期位置Ｐ１に逆回転方向Ｒ１に回転して直ちに復帰できるのは、すでに説明したように、揺動部材５の第２部分１０５Ｔが第１部分１０５Ｓに対して回転方向Ｒ側に予め角度θだけ傾斜しているからである。しかも、追加ウエイト１０５Ｄは、検出ローラ１０６と逆方向へ荷重を与えることにより、揺動部材１０５には回転方向Ｒとは逆方向の逆回転方向Ｒ１へ揺動して、揺動ストッパ１１１に対して当接する。このため、図７に示す基板検出装置１０２は、揺動部材１０５の揺動運動の収束を短くして、基板Ｂの通過の誤検出を防げる。しかも、揺動部材１０５の揺動運動の収束を短くできるので、順次搬送される複数の基板Ｂ同士の搬送間隔を小さくしても、基板Ｂの有無の検出を確実に行えるので、基板を搬送しながらの基板処理効率を上げることができる。
（第３実施形態）
次に、本発明の基板処理装置の好ましい第３実施形態を説明する。

図８は、本発明の第３実施形態の基板処理装置が備える基板検出装置２０２を示す正面図である。図８に示す基板検出装置２０２の構造は、図７（Ａ）と図７（Ｂ）に示す基板検出装置１０２の構造とほぼ同じであるが、次の点が異なる。

図８に示すように、基部１０４と、揺動部材１０５と、ウエイト１０５Ｃと、追加ウエイト１０５Ｄと、検出ローラ１０６と、マグネット１０７と、リードスイッチのような検出センサ１０８と、揺動支点部材１１０と、揺動ストッパ１１１を有している。揺動部材１０５は、図７（Ａ）に示す初期位置Ｐ１に位置決めされている状態では、Ｚ方向の垂直線Ｚ１に沿って形成された第１部分１０５Ｓと、傾斜線Ｖに沿って形成された第２部分１０５Ｔを有している。傾斜線Ｖは、垂直線Ｚ１とは所定の角度θ２だけ傾斜している。

この傾斜角度θ２は、角度θと角度Ｕを足した角度である。この基板検出装置２０２の基部１０４と、揺動部材１０５と、ウエイト１０５Ｃと、追加ウエイト１０５Ｄと、検出ローラ１０６と、マグネット１０７と、リードスイッチのような検出センサ１０８と、揺動支点部材１１０と、揺動ストッパ１１１は、図７に示す基板検出装置１０２の基部１０４と、揺動部材１０５と、ウエイト１０５Ｃと、追加ウエイト１０５Ｄと、検出ローラ１０６と、マグネット１０７と、リードスイッチのような検出センサ１０８と、揺動支点部材１１０と、揺動ストッパ１１１と同じものである。

ただし、揺動部材１０５の第１部分１０５Ｓの長手方向ＲＧは、Ｚ方向の垂直線Ｚ１に対して、予め角度Ｕだけ傾斜されている。つまり、揺動ストッパ１１１が、垂直線Ｚ１側に寄せて固定されており、揺動部材１０５は角度Ｕだけ傾斜した状態で、ウエイト１０５Ｃが揺動ストッパ１１１に対して突き当たっていることで、揺動部材１０５は初期位置Ｐ１に位置決めされている。

基板Ｂが検出ローラ１１２を押し下げた時には、揺動部材１０５が、揺動支点部材１０を中心にして回転方向Ｒに回転される。これにより、マグネット１０７は、検出センサ１０８から回転方向Ｒに離れる。揺動ストッパ１１１は、ウエイト１０５Ｃから離れる。これにより、マグネット７は、検出センサ１０８に対向した状態から離れた状態になるので、検出センサ１０８は制御部１００に検出信号ＤＳを発生する。

そして、基板Ｂがさらに搬送方向Ｔに搬送されて、基板Ｂが検出ローラ１１２から離れると、揺動部材１０５が検出位置Ｐ２から初期位置Ｐ１に逆回転方向Ｒ１に回転して初期位置Ｐ１に復帰するので、マグネット１０７は、検出センサ１０８から離れた状態から接近した状態に戻るので、検出センサ１０８からの検出信号ＤＳの発生は終わる。

このように、基板Ｂが検出ローラ１１２から離れると、揺動部材１０５が検出位置Ｐ２から初期位置Ｐ１に逆回転方向Ｒ１に回転して直ちに初期位置Ｐ１に復帰し、しかも揺動部材５のウエイト１０５Ｃは、揺動ストッパ１１１に突き当たるので、揺動部材１０５は振り子のように揺れ動く動作（チャタリング）を起こすことなく、揺動部材１０５は初期位置Ｐ１に直ちに位置決めすることができる。

図８に示す揺動部材１０５は、図７の揺動部材１０５に比べて、初期位置Ｐ１においても予めさらにオフセット角度Ｕだけ回転方向Ｒ側に傾けている。しかも、追加ウエイト１０５Ｄは、検出ローラ１０６とは逆方向へ荷重を与えることにより、揺動部材１０５には逆回転方向Ｒ１へ揺動ベクトルを発揮でき、すなわち揺動ストッパ１１１へ当接する方向へ揺動ベクトルを発揮できるからである。これにより、図８に示す基板検出装置２０２は、図７に示す基板検出装置１０２に比べて、基板検出動作における回転方向Ｒへの回転および逆回転方向Ｒ１への復帰を、さらに高めることができる。このため、図８に示す基板検出装置２０２は、揺動部材１０５の揺動運動の収束を短くして、基板Ｂの通過の誤検出を防げる。しかも、揺動部材１０５の揺動運動の収束を短くできるので、順次搬送される複数の基板Ｂ同士の搬送間隔を小さくしても、基板Ｂの有無の検出を確実に行えるので、基板を搬送しながらの基板処理効率を上げることができる。

本発明の実施形態に係る基板処理装置は、搬送される基板の有無を検出する基板検出装置を有し、この基板検出装置２，１０２，２０２は、基部と、基部に対して揺動自在に取り付けられている揺動部材と、揺動部材の一端部に設けられ、搬送される基板に当てる検出ローラと、揺動部材の他端部に設けられているウエイトとマグネットと、搬送される基板が検出ローラを押し下げて、基板が検出ローラに当たる前の揺動部材の初期位置から揺動部材が回転方向へ回転すると、マグネットが発生している磁界の変化を検出して基板を検出したことを示す検出信号を出す検出センサと、揺動部材の初期位置では、揺動部材を基板の搬送方向と交差する垂直線に対して傾斜して保持する揺動ストッパと、を備え、揺動部材の初期位置では、揺動部材が、基板の搬送方向と交差する垂直線に対して傾斜して保持されていることを特徴とする。

これにより、基板処理装置では、揺動部材の初期位置では、揺動部材が、基板の搬送方向と交差する垂直線に対して傾斜して保持されている。このため、搬送される基板が検出ローラを押し下げて、基板が検出ローラに当たる前の揺動部材の初期位置から揺動部材が回転方向へ回転し、そして基板が通過して揺動部材が逆回転方向に復帰すると、揺動部材は揺動ストッパに突き当たる。このため、揺動部材の揺動運動の収束を短くして、基板の通過の誤検出を防ぎ、しかも基板搬送間隔を小さくして基板の搬送効率を上げて基板の処理効率の向上が図れる。

また、揺動部材は直線状の部材である。これにより、揺動部材の形状が単純化でき、基板検出装置の構造を簡単化することができる。

さらに、揺動部材は、垂直線に沿って形成されている第１部分と、第１部分から垂直線に対して回転方向側へ傾斜して形成されている第２部分とを有し、第２部分の端部には検出ローラが設けられ、第１部分の端部にはウエイトとマグネットが設けられている。これにより、揺動部材の第２部分は、揺動部材の第１部分に対して傾斜して形成されているので、揺動部材が直線状の部材であるのに比べて、揺動部材が占めるスペースを小さくすることができ、基板検出装置の小型化が図れる。

そして、揺動部材の第１部分が、垂直線に対して回転方向側へ傾斜されている。これにより、揺動部材が揺動ストッパ側に戻る動作を早くすることができ、基板検出動作のレスポンスを高めることができる。

ウエイトには、初期位置において揺動部材を揺動ストッパ側に押し当てるための追加ウエイトが設けられている。これにより、揺動部材が揺動ストッパ側に戻る動作を早くすることができ、基板検出動作のレスポンスを高めることができる。

以上、本発明の実施形態を説明したが、各実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

例えば、本発明の基板処理装置としては、基板の洗浄処理を行う装置に限らず、基板の表面にフォトレジストの被膜を形成する処理装置、露光処理装置、現像処理装置、エッチング処理装置、剥離処理等のプロセス処理装置、乾燥処理装置等であっても良い。本発明の実施形態の基板処理装置は、基板として液晶基板、半導体基板、フォトマスク等の製造に用いることができる。

１ 基板処理装置
２ 基板処理装置の基板検出装置
４ 基部
５ 揺動部材
６ 検出ローラ
７ マグネット
８ 検出センサ
１０ 揺動支点部材
１１ 揺動ストッパ
Ｐ１ 揺動部材の初期位置
Ｐ２ 揺動部材の検出位置
ＤＳ 検出センサの検出信号
Ｒ 揺動部材の回転方向
Ｒ１ 揺動部材の逆回転方向

Claims (4)

1. 搬送される基板の有無を検出する基板検出装置を有する基板処理装置であって、
   前記基板検出装置は、
   基部と、
   前記基部に対して揺動自在に取り付けられている揺動部材と、
   前記揺動部材の一端部に設けられ、搬送される前記基板に当てる検出ローラと、
   前記揺動部材の他端部に設けられているウエイトとマグネットと、
   搬送される前記基板が前記検出ローラを押し下げて、前記基板が前記検出ローラに当たる前の前記揺動部材の初期位置から前記揺動部材が回転方向へ回転すると、前記マグネットが発生している磁界の変化を検出して前記基板を検出したことを示す検出信号を出す検出センサと、
   前記揺動部材の前記初期位置では、前記揺動部材を前記基板の搬送方向と交差する垂直線に対して傾斜して保持する揺動ストッパと、を備えることを特徴とする基板処理装置。
2. 前記揺動部材は、前記垂直線に沿って形成されている第１部分と、前記第１部分から前記垂直線に対して前記回転方向側へ傾斜して形成されている第２部分とを有し、
   前記第２部分の端部には前記検出ローラが設けられ、前記第１部分の端部には前記ウエイトと前記マグネットが設けられていることを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
3. 前記揺動部材は、前記垂直線に対して傾斜されていることを特徴とする請求項２に記載の基板処理装置。
4. 前記ウエイトには、前記初期位置において前記揺動部材を前記揺動ストッパ側に押し当てるための追加ウエイトが設けられていることを特徴とする請求項２または３に記載の基板処理装置。

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