JP2004191226A

JP2004191226A - 複数の構造物の間の相対的位置ずれの検出システムおよび複数の構造物の間の被処理物の搬送システム

Info

Publication number: JP2004191226A
Application number: JP2002360477A
Authority: JP
Inventors: Nobuaki Kawato; 延明川戸
Original assignee: Jeol Ltd
Current assignee: Jeol Ltd
Priority date: 2002-12-12
Filing date: 2002-12-12
Publication date: 2004-07-08
Anticipated expiration: 2022-12-12
Also published as: JP4027789B2

Abstract

【課題】複数の構造物の相対的な位置ずれを、狭い場所でも精度良く行なうことができる複数の構造物の間の相対的位置ずれの検出システムおよび複数の構造物の間の被処理物の搬送システムを実現する。
【解決手段】直線光回帰型レーザセンサ２２から出力されたレーザビームは、スリット２６を通過し、反射板２４で反射される。反射板２４で反射されたレーザビームは、再びスリット２６を通過し、直線光回帰型レーザセンサ２２に戻ってくる。一方、構造物２１、２３のいずれか、あるいは双方に位置変動があり、構成の許容値を超えた場合には、レーザセンサ２２のビーム受光量の設定値に対する変化量や、ビームがスリット２６により遮光されることで位置変動エラーが検出される。このようにして、２種の構造物２１、２３の相対的な変位が検出される。
【選択図】図４

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体デバイス等の製造工程において、半導体ウェハを第１の処理装置から第２の処理装置に搬送する際、第１と第２の処理装置の相対的位置ずれを測定することができる複数の構造物の間の相対的位置ずれの検出システムおよび複数の構造物の間の被処理物の搬送システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体デバイスは多くの製造工程を経て製造される。半導体デバイスは、通常ウェハ上に導電物や絶縁物をを蒸着したり、その表面にレジストを塗布した後、光ステッパや電子ビーム描画装置で所望のパターンを形成し、その後、現像処理やエッチング処理が行われる。
【０００３】
このように、ウェハは多くの処理装置に順々に搬送され、半導体デバイスが形成される。このようなウェハの搬送処理工程は、半導体デバイスの製造のみならず、半導体製造用のマスクの製造工程でも、処理工程は少ないものの実行されている。
【０００４】
上記したようなウェハやマスク基板の被処理物は、特定の処理装置から次の工程の処理装置に自動的に搬送される。図１はその様子の概略を示しており、特定の処理装置である第１の構造物１で所定の処理が施された被処理物２は、搬送機構３によって次の処理装置である第２の構造物４に搬送される。
【０００５】
搬送機構３は、第２の構造物４上に、一方の端部が回転可能に固定された第１のアーム５と、第１のアーム５の他端に、一方の端部が回転可能に取り付けられた第２のアーム６と、第２のアームの他端に、一方の端部が回転可能に取り付けられた第３のアーム７によって構成されている。なお、各アームの回転軸Ｏは、紙面に平行に上下方向に設けられている。
【０００６】
被処理物２は、アーム７上に載せられており、図１に示したような３本のアームが伸びきった位置において、図示していない被処理物のチャック機構により、被処理物２は保持され、アーム７から第２の構造物４上のステージ８上に高い位置精度で移動されて載置される。
【０００７】
この場合、第１の構造物１と第２の構造物４とは、それぞれ独立に床に設置されていることが多い。その結果、床の振動や地震などにより第１の構造物１と第２の構造物４とが相対的に移動する場合が生じる。この２種の構造物の位置関係が微妙にずれてしまうと、搬送機構３により第１の構造物１から第２の構造物４の所定の位置に被処理物２を搬送しようとした場合、次のような問題点が生じる。
【０００８】
例えば、第１の構造物１と第２の構造物４とは、壁によって隔てられていることが多く、２種の構造物の相対的な位置関係の変動に基づき、アーム７や被処理物２の先端が、搬送中に壁に衝突したりする事故が発生することもある。
【０００９】
また、３本のアームが伸びきった状態でアーム７とステージ８との位置関係にずれが生じ、被処理物２をチャック機構により、第２の構造物４上のステージ８の所定の位置に正確に移動できなくなる。被処理物２がステージ８上の正確な位置に配置されないと、第２の構造物４における被処理物２の加工や化学的処理を精度良く行なうことができなくなる。
【００１０】
このため、従来より、第１の構造物１と第２の構造物３との相対的な位置関係を常にモニターし、２種の構造物の相対的な位置変動が所定値以上となった場合は、いずれかあるいは両方の構造物の位置を微調整し、初期の所定の位置関係となるようにしている。
【００１１】
ここで、従来の２種の構造物の相対的な位置変動の値を測定する第１のシステムを図１に基づいて説明する。図１（ａ）に示すように、第１の構造物１の第２の構造物４に対向する面上には、透過型（溝型）フォトセンサ１０が設けられ、第２の構造物４の第１の構造物１に対向する面には、スリット１１が設けられている。図１（ｂ）はＡ方向から見た透過型フォトセンサ１０とスリット１１との関係を示しており、図１（Ｃ）は、スリット１１の通過穴１２と通過光１３の関係を示している。
【００１２】
初期状態において、透過型フォトセンサ１０から発生した光は、スリット１１に設けられた通過穴１２を通過し、通過光１３は、透過型フォトセンサ１０によって検出される。この場合、第１の構造物１と第２の構造物４との位置関係が正常であれば、フォトセンサ１０から発生した光はスリット１１の通過穴１２を通り、最大の光量がフォトセンサ１０によって検出される。
【００１３】
一方、第１と第２の構造物１、４のいずれかあるいは両者が図中Ｚ方向に位置変動すると、スリット１１の通過穴１２とフォトセンサ１０との間の関係が崩れ、光の一部あるいは全部がスリット１１によって遮光されることになる。その結果、今まで最大の光量が検出されていたものが、フォトセンサ１０による検出光量が少なくなる。このフォトセンサ３によって検出される光量は、第１と第２の構造物のずれの量に比例して変動する。したがって、図１の構成により、第１の構造物１と第２の構造物４のZ方向の相対的な位置関係の変動が検出される。
【００１４】
この位置変動が大きい場合には、搬送機構３による被処理物２をステージ８上の正確な位置に載置できなくなる。このため、構造物１あるいは構造物４をＺ方向に僅かずらすことによって初期状態のように、透過型フォトセンサ１０から発生した光がスリット１１の通過穴１２を通り、フォトセンサ１０によって検出されることから、この検出信号の大きさをモニターすることにより、第１と第２の構造物の相対的な位置合わせができる。
【００１５】
図２も従来の構造物の位置合わせのシステムを簡単に示したものである。この従来技術では、第１の構造物１５はＬ字型であり、その内側の２箇所には、レーザ変位センサ１６、１７が取り付けられている。第１のレーザ変位センサ１６はＸ方向の変位を測定するものであり、第１のレーザ変位センサ１６からの光は、第２の構造物１８の側面によって反射され、センサ１６に戻ってくる。この変位の測定によって第１と第２の構造物１５、１８のＸ方向の変動が検出される。
【００１６】
次に、第２のレーザ変位センサ１７はＹ方向の変位を測定するものであり、第２のレーザ変位センサ１７からの光は、構造物１８の側面によって反射され、センサ１７に戻ってくる。この変位の測定によって第１と第２の構造物１５、１８のＹ方向の変動が検出される。
【００１７】
このように、半導体デバイスの製造装置においては、ウェハの搬送時に、ウェハが所定の位置に搬送されたか否かを光を用いて測定している。（例えば、特許文献１参照）。
【００１８】
【特許文献１】
実開平７―１８３３４３号公報
【００１９】
【発明が解決しようとする課題】
上記図１に基づいて説明した従来の複数の構造物の間の相対的位置ずれの検出システムにおいては、フォトセンサとスリットの１組の組み合わせで位置ずれの検出を行なっており、一方向のみのずれ検出しかできない。二方向の検出を可能とするように考慮しても、フォトセンサの性能上、位置変動の検出精度を高くすることができない。
【００２０】
また、図２に示したレーザ変位センサを使用する場合、図３（ａ）に示すように、センサ１６（１７）の投光部と受光部が離れているため、その光軸確保のためのスペースが必要となる。なお、１９は第２の構造物１８に取り付けられた反射板である。その結果、検出経路のエリアを設ける必要があり、狭い場所での使用が困難であるという欠点を有する。更に構造物間の距離が長くなると、適応が難しくなると共に、長距離対応のセンサ自体高価である。
【００２１】
本発明の請求項１の発明は、このような点に鑑みてなされたもので、その目的は、複数の構造物の相対的な位置ずれを、狭い場所でも精度良く行なうことができる複数の構造物の間の相対的位置ずれの検出システムおよび複数の構造物の間の被処理物の搬送システムを実現するにある。
【００２２】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明に基づく複数の構造物の間の相対的位置ずれの検出システムは、被処理物を処理する第１の構造物と、この第１の構造物から被処理物が搬送機構によって搬送され、被処理物を処理する第２の構造物とを備えており、第１の構造物と第２の構造物とは、それぞれ独立に移動可能に設置されている構成において、第１の構造物の第２の構造物に対面する側に直線光回帰型レーザセンサを取り付け、このレーザセンサからのレーザビームを受光し反射させる反射板と、反射板の前面に光通過穴を有したスリットとを第２の構造物に取り付け、直線光回帰型レーザセンサから発生し、反射板により反射されたレーザビームを直線光回帰型レーザセンサによって検出し、第１と第２の構造物の相対的な位置ずれを検出するように構成したことを特徴としており、直線光回帰型レーザセンサとこのレーザセンサからのレーザビームを受光し反射させる反射板等の光学系の直線状のスペースだけで、構造物の相対的な位置ずれを検出でき、検出経路のエリアが狭い場所でも使用が可能となる。
【００２３】
請求項２の発明に基づく複数の構造物の間の相対的位置ずれの検出システムは、
請求項１に基づく発明において、直線光回帰型レーザセンサと、反射板との組み合わせを複数設けるように構成したので、第１と第２の構造物の相対的な位置ずれをより精度高く検出することができる。
【００２４】
請求項３の発明に基づく複数の構造物の間の相対的位置ずれの検出システムは、
請求項２に基づく発明において、直線光回帰型レーザセンサと、反射板との組み合わせを複数設けると共に、その組み合わせをＬ字状に配置するように構成したので、第１と第２の構造物の相対的な位置ずれをより精度高く検出することができる。
【００２５】
請求項４の発明に基づく複数の構造物の間の相対的位置ずれの検出システムは、
請求項１に基づく発明において、一方の構造物のねじれを検出するため、該構造物のねじれの支点部分の近傍に直線光回帰型レーザセンサあるいは反射板を取り付けるようにしたことを特徴としており、このねじれの支点部分の位置ずれを簡単な構成で効率よく検出することができる。
【００２６】
請求項５の発明に基づく複数の構造物の間の相対的位置ずれの検出システムは、
請求項１〜３に基づく発明において、スリットに設けられた光通過穴の形状を、特定の方向に細長く形成したことを特徴としており、構造物間の特定方向の相対的位置変動が重要でない場合には、スリットの通過穴の形状を、その特定方向に細長い形状とすれば、レーザセンサと反射板（スリット）の組み合わせの数を減らすとができる。
【００２７】
請求項６の発明に基づく複数の構造物の間の被処理物の搬送システムは、第１と第２の構造物の相対的な位置ずれを検出し、この位置ずれ量が所定の値以内であれば搬送機構を動作させて被処理物を第１の構造物から第２の構造物に搬送し、この位置ずれ量が所定の値以上であれば、複数回前記位置ずれ量の検出動作を実行し、その間この位置ずれ量が所定の値以内になった場合には、搬送機構を動作させて被処理物を第１の構造物から第２の構造物に搬送し、複数回前記位置ずれ量の検出動作を実行しても、この位置ずれ量が所定の値以上であれば、アラームを発生させ、被処理物の搬送動作を停止させるように構成したことを特徴としており、被処理物の搬送動作を安全に自動的に管理することができる。
【００２８】
【発明の実施の形態】
以下本発明の実施の形態を図を参照して詳述する。本発明の基本的な構成は、図３（ａ）に示した２眼式レーザセンサ１６に代えて、図３（ｂ）に示すような直線光回帰型レーザセンサ２０を用いたことを特徴としている。この直線光回帰型レーザセンサ２０は、１眼構造であるため、投光側と受光側との光軸が一致している。
【００２９】
その結果、反射型でありながら、透過型と同等の検出特性が得られる利点を有する。また、図３（ａ）に示した２眼式レーザセンサと比較し、図３（ｂ）の斜線を施したスペースＳが不要となり、レーザセンサを配置する場所の自由度を高めることができる。
【００３０】
図４は複数のレーザセンサ２２と反射板２４の組み合わせを複数設けた例を示しているが、この反射板２４部分のより詳細な構成を図５によって説明する。図５において、図５（ａ）は直線光回帰型レーザセンサ２２と、第２の構造物２３に取り付けられた反射板２４の関係を示した図であり、図５（ｂ）は図５（ａ）の構成における反射板部分を矢印方向から見た図である。
【００３１】
図５において、第１の構造物２１（図示せず）側には直線回帰型レーザセンサ２２が取り付けられ、第２の構造物２３側にはそれぞれのレーザセンサ２２に対向した位置に反射板２４が取り付けられている。各反射板２４の直前には、光通過穴２５を有したスリット２６が設けられている。
【００３２】
各スリット２６の穴径は、各構造物の相対的位置変動の許容値と、直線光回帰型レーザセンサ２２のビームスポット２８の径（例えば、直径１．５ｍｍ前後）から割り出される位置変動エラーを検出するための位置変動許容量ｄを見込んだ適切な形状とされている。そして、各スリット２６は、光通過部材であるガラス２７を間に挟んで反射板２４と共に一体化され、構造物２３に堅固に取り付けられている。このような状態で、各レーザセンサ２２の現状の受光量を設定することで、それぞれの構造物の位置出しがなされる。
【００３３】
再び図４に戻って、直線光回帰型レーザセンサ２２と、第２の構造物２３に取り付けられた反射板２４の組み合わせを複数用いたより具体的な実施の形態の説明を行う。なお、図４（ａ）は、構造物２１、２３を側面が見た図であり、図４（ｂ）は、図４（ａ）においてＢの方向から見た図、図４（ｃ）は、図４（ａ）においてＣの方向から見た図である。これらの図から明らかなように、各レーザセンサ２２と反射板２４の組み合わせは、Ｌの字状に配置されている。このような構成の動作を次に説明する。
【００３４】
初期状態では、前記したように、各レーザセンサ２２の現状の受光量を設定することで、それぞれの構造物の位置出しがなされる。この状態では、直線光回帰型レーザセンサ２２から出力されたレーザビームは、スリット２６を通過し、反射板２４で反射される。反射板２４で反射されたレーザビームは、再びスリット２６を通過し、直線光回帰型レーザセンサ２２に戻ってくる。
【００３５】
一方、構造物２１、２３のいずれか、あるいは双方に位置変動があり、構成の許容値を超えた場合には、レーザセンサ２２のビーム受光量の設定値に対する変化量や、ビームがスリット２６により遮光されることで位置変動エラーが検出される。
【００３６】
このようにして、２種の構造物２１、２３の相対的な変位が検出されるが、レーザセンサ２２と反射板２４の組み合わせを図４に示すように対向面上でＬ字状に配置すれば、各レーザセンサ２２によって検出される光量が変化する。すなわち、図６に示すように、第１と第２の構造物２１、２２の相対的な位置変動が生じると、第１の構造物側から見た各スリット２６の位置は実線の状態から、１点鎖線で示したように変化する。
【００３７】
このスリット２６の位置（光通過穴２５の位置）の変化によって、各スリット２６によりレーザビームの一部が遮光される。この結果、各レーザセンサ２２のビーム受光量もそれぞれ構造物の相対的な移動の形態に応じて変化する。この得られた３種の光量変化に基づき、図６に示すように、構造物間の対面方向についての距離の変動はもちろんのこと、水平方向、垂直方向、回転方向、ねじれ（倒れ）方向の位置変動についてもエラー検出を行なうことができる。
【００３８】
なお、例えば、ねじれ（倒れ）について支点となる部分以外は、構造物の位置変動があっても問題がない場合がある。そのような場合、図７に示すように、構造物２３のねじれの支点部分に反射板２４とスリット２６を配置すれば良い。
【００３９】
すなわち、図７は構造物２３が反射板２４部分を支点として矢印方向に回転した場合を強調して図示したものであるが、構造物２３の回転角により、反射板２６によって反射されるレーザビームは、スリット２６によって遮光される割合がほとんど変化せず、レーザセンサ２２に戻ってくるビーム量もそれに応じてほぼ一定となる。
【００４０】
逆に、構造物２３の支点部分を含むねじれ現象が発生すると、スリット２６によって遮光される割合が変化し、レーザセンサ２２に戻ってくるビーム量もそれに応じて変化することになる。したがって、レーザセンサと反射板（スリット２６）の組み合わせの数を減らすことができる。
【００４１】
また、第１と第２の構造物間の水平方向の相対的位置変動が重要でない場合には、図８（ａ）に示すように、水平方向Ｈに複数のスリット２６を並べ、それぞれのスリット２６の通過穴２５の形状を、水平方向Ｈに細長い形状とすれば良い。また、構造物間の垂直方向の相対的位置変動が重要でない場合には、図８（ｂ）に示すように、垂直方向Ｖに複数のスリット２６を並べ、それぞれのスリット２６の通過穴２５の形状を、垂直方向Ｖに細長い形状とすれば良い。このように通過穴２５の形状を工夫することで、レーザセンサと反射板（スリット２６）の組み合わせの数を減らすとができる。
【００４２】
図９は、構造物間の相対的な位置変動を検出して、被処理物の搬送処理を行なう流れを示した図である。まず第１ステップにより、レーザセンサの検出動作を実行し、反射されたレーザビームの光量と設定値との比較が行なわれる。レーザビームの光量が設定値以上であれば、第２ステップに移り、被処理物の搬送が実行される。被処理物の搬送が行なわれた後、次工程の処理が行なわれる（第３ステップ）。
【００４３】
第１ステップでレーザセンサの検出動作を実行し、反射されたレーザビームの光量と設定値との比較を行ない、レーザビームの光量が設定値以下であれば、第４ステップに移り、レーザセンサによる構造物間の位置ずれ再検出動作が複数回繰り返し実行される。この検出動作を複数回実行している間に、レーザビームの光量が設定値以上となった場合には、第３ステップの被処理物の搬送が実行される。
【００４４】
第４ステップでレーザセンサの検出動作を所定回数実行し、反射されたレーザビームの光量と設定値との比較を行なっても、レーザビームの光量が設定値以下であれば、第５ステップに移り、センサによる比較動作を停止させ、更にアラームを発生させて、製造工程の管理部署に異常を知らせる。その後、構造物間の位置ずれを補正するための、構造物の相対的な移動の復旧作業が実施される（第６ステップ）。
【００４５】
以上本発明の実施の形態を説明したが、本発明はこの実施の形態に限定されず幾多の変形が可能である。例えば、レーザセンサと反射板（スリット２６）の組み合わせの数は、１組あるいは３組に限定されない。当然のことではあるが、その組み合わせの数を増やせば、より正確に第１と第２の構造物の相対的な変位を検出することができる。
【００４６】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１の発明に基づく複数の構造物の間の相対的位置ずれの検出システムは、第１の構造物の第２の構造物に対面する側に直線光回帰型レーザセンサを取り付け、このレーザセンサからのレーザビームを受光し反射させる反射板と、反射板の前面に光通過穴を有したスリットとを第２の構造物に取り付け、直線光回帰型レーザセンサから発生し、反射板により反射されたレーザビームを直線光回帰型レーザセンサによって検出し、第１と第２の構造物の相対的な位置ずれを検出するように構成したことを特徴としており、直線光回帰型レーザセンサとこのレーザセンサからのレーザビームを受光し反射させる反射板等の光学系の直線状のスペースだけで、構造物の相対的な位置ずれを検出でき、検出経路のエリアが狭い場所でも使用が可能となる。
【００４７】
請求項２の発明に基づく複数の構造物の間の相対的位置ずれの検出システムは、
請求項１に基づく発明において、直線光回帰型レーザセンサと、反射板との組み合わせを複数設けるように構成したので、第１と第２の構造物の相対的な位置ずれをより精度高く検出することができる。
【００４８】
請求項３の発明に基づく複数の構造物の間の相対的位置ずれの検出システムは、
請求項２に基づく発明において、直線光回帰型レーザセンサと、反射板との組み合わせを複数設けると共に、その組み合わせをＬ字状に配置するように構成したので、第１と第２の構造物の相対的な位置ずれをより精度高く検出することができる。
【００４９】
請求項４の発明に基づく複数の構造物の間の相対的位置ずれの検出システムは、
請求項１に基づく発明において、一方の構造物のねじれを検出するため、該構造物のねじれの支点部分の近傍に直線光回帰型レーザセンサあるいは反射板を取り付けるようにしたことを特徴としており、このねじれの支点部分の位置ずれを簡単な構成で効率よく検出することができる。
【００５０】
請求項５の発明に基づく複数の構造物の間の相対的位置ずれの検出システムは、
請求項１〜３に基づく発明において、スリットに設けられた光通過穴の形状を、特定の方向に細長く形成したことを特徴としており、構造物間の特定方向の相対的位置変動が重要でない場合には、スリットの通過穴の形状を、その特定方向に細長い形状とすれば、レーザセンサと反射板（スリット）の組み合わせの数を減らすとができる。
【００５１】
請求項６の発明に基づく複数の構造物の間の被処理物の搬送システムは、第１と第２の構造物の相対的な位置ずれを検出し、この位置ずれ量が所定の値以内であれば搬送機構を動作させて被処理物を第１の構造物から第２の構造物に搬送し、この位置ずれ量が所定の値以上であれば、複数回前記位置ずれ量の検出動作を実行し、その間この位置ずれ量が所定の値以内になった場合には、搬送機構を動作させて被処理物を第１の構造物から第２の構造物に搬送し、複数回前記位置ずれ量の検出動作を実行しても、この位置ずれ量が所定の値以上であれば、アラームを発生させ、被処理物の搬送動作を停止させるように構成したことを特徴としており、被処理物の搬送動作を安全に自動的に管理することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の複数の構造物の間の相対的位置ずれの検出システムを示す図である。
【図２】複数のレーザ変位センサを用いた従来の複数の構造物の間の相対的位置ずれの検出システムを示す図である。
【図３】２眼式レーザセンサと直線光回帰型レーザセンサを示す図である。
【図４】複数の直線光回帰型レーザセンサを用いた本発明に基づく複数の構造物の間の相対的位置ずれの検出システムを示す図である。
【図５】一対の直線光回帰型レーザセンサと、反射板およびスリットとの関係を示す図である。
【図６】スリットのビーム通過穴とビームスポットとの位置関係と、構造物の位置ずれの状態を示す図である。
【図７】構造物の特定方向のねじれのみを検出する構成を示す図である。
【図８】細長いスリットの光通過穴を示す図である。
【図９】構造物間の相対的な位置変動を検出して、被処理物の搬送処理を行なう流れを示した図である。
【符号の説明】
２１、２３構造物
２２レーザセンサ
２４反射板
２５光通過穴
２６スリット
２７ガラス
２８ビームスポット

Claims

被処理物を処理する第１の構造物と、この第１の構造物から被処理物が搬送機構によって搬送され、被処理物を処理する第２の構造物とを備えており、第１の構造物と第２の構造物とは、それぞれ独立に移動可能に設置されている構成において、第１の構造物の第２の構造物に対面する側に直線光回帰型レーザセンサを取り付け、このレーザセンサからのレーザビームを受光し反射させる反射板と、反射板の前面に光通過穴を有したスリットとを第２の構造物に取り付け、直線光回帰型レーザセンサから発生し、反射板により反射されたレーザビームを直線光回帰型レーザセンサによって検出し、第１と第２の構造物の相対的な位置ずれを検出するように構成した複数の構造物の間の相対的位置ずれの検出システム。
第１の構造物の第２の構造物に対面する側に複数の直線光回帰型レーザセンサを取り付け、この複数のレーザセンサからのレーザビームをそれぞれ受光し反射させる複数の反射板と、それぞれの反射板の前面に光通過穴を有したスリットとを第２の構造物に取り付け、複数の直線光回帰型レーザセンサから発生し、複数の反射板により反射されたレーザビームをそれぞれ直線光回帰型レーザセンサによって検出し、第１と第２の構造物の相対的な位置ずれを検出するように構成した請求項１記載の複数の構造物の間の相対的位置ずれの検出システム。
複数の直線光回帰型レーザセンサと、複数の反射板と、それぞれの反射板の前面に光通過穴を有したスリットとは、３組以上設けられ、それぞれ第１の構造物と第２の構造物にＬ字状に取り付けられた請求項２記載の複数の構造物の間の相対的位置ずれの検出システム。
一方の構造物のねじれを検出するため、このねじれの支点部分の位置ずれを検出するために、該構造物の支点部分の近傍に直線光回帰型レーザセンサあるいは反射板とを取り付けるようにした請求項１記載の複数の構造物の間の相対的位置ずれの検出システム。
スリットに設けられた光通過穴の形状は、特定の方向に細長く形成された請求項１〜３の何れかに記載の複数の構造物の間の相対的位置ずれの検出システム。
被処理物を処理する第１の構造物と、この第１の構造物から被処理物が搬送機構によって搬送され、被処理物を処理する第２の構造物とを備えており、第１の構造物と第２の構造物とは、それぞれ独立に移動可能に設置されている構成において、第１の構造物の第２の構造物に対面する側に直線光回帰型レーザセンサを取り付け、このレーザセンサからのレーザビームを受光し反射させる反射板と、反射板の前面に光通過穴を有したスリットとを第２の構造物に取り付け、直線光回帰型レーザセンサから発生し、反射板により反射されたレーザビームを直線光回帰型レーザセンサによって検出して、第１と第２の構造物の相対的な位置ずれを検出し、この位置ずれ量が所定の値以内であれば搬送機構を動作させて被処理物を第１の構造物から第２の構造物に搬送し、この位置ずれ量が所定の値以上であれば、複数回前記位置ずれ量の検出動作を実行し、その間この位置ずれ量が所定の値以内になった場合には、搬送機構を動作させて被処理物を第１の構造物から第２の構造物に搬送し、複数回前記位置ずれ量の検出動作を実行しても、この位置ずれ量が所定の値以上であれば、アラームを発生させ、被処理物の搬送動作を停止させるように構成した複数の構造物の間の被処理物の搬送システム。