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  1. 第1の期間において、プロセッサコアを第1のステートで動作させ、
    第2の期間において、
    前記プロセッサコアを第2のステートで動作させ、
    前記プロセッサコアが有する第1のメモリからデータを読み出し、
    前記プロセッサコアが有する第2のメモリに前記データを書き込み、
    前記プロセッサコアの電源をオフし、
    第3の期間において、
    前記プロセッサコアの電源をオンし、前記プロセッサコアを第3のステートで動作させ、
    前記第2のメモリから前記データを読み出し、
    前記第1のメモリに前記データを書き込み、
    前記プロセッサコアを前記第1のステートで動作させる半導体装置であって、
    前記第1のメモリは、揮発性メモリであり、
    前記第2のメモリは、チャネル形成領域がシリコンに設けられる第1のトランジスタと、チャネル形成領域が酸化物半導体層に設けられる第2のトランジスタと、容量素子と、を有することを特徴とする半導体装置。
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