JP2014209714A5 - 半導体装置 - Google Patents

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  1. 第1の記憶回路と、第2の記憶回路と、第3の記憶回路と、読み出し回路と、を有し、
    前記第2の記憶回路は、第1のトランジスタと、第1の容量素子と、を有し、
    前記第3の記憶回路は、第2のトランジスタと、第3のトランジスタと、第4のトランジスタと、第2の容量素子と、を有し、
    前記読み出し回路は、第5のトランジスタを有し、
    前記第1のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第1の記憶回路と電気的に接続され、
    前記第1のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第1の容量素子と電気的に接続され、
    前記第1のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第2のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
    前記第2のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第3のトランジスタのソース又はドレインの一方と電気的に接続され、
    前記第2のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第4のトランジスタのソース又はドレインの一方と電気的に接続され、
    前記第4のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第2の容量素子と電気的に接続され、
    前記第3のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第4のトランジスタのソース又はドレインの一方と電気的に接続され、
    前記第3のトランジスタのゲートは、前記第3のトランジスタのソース又はドレインの一方と電気的に接続され、
    前記第4のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第5のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
    前記第5のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第1の記憶回路と電気的に接続され、
    前記第4のトランジスタは、チャネルが酸化物半導体に形成されることを特徴とする半導体装置。
  2. 記憶回路と、第1のトランジスタと、第2のトランジスタと、第3のトランジスタと、第4のトランジスタと、第5のトランジスタと、第1の容量素子と、第2の容量素子と、を有し、
    前記第1のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記記憶回路と電気的に接続され、
    前記第1のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第1の容量素子と電気的に接続され、
    前記第1のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第2のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
    前記第2のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第3のトランジスタのソース又はドレインの一方と電気的に接続され、
    前記第2のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第4のトランジスタのソース又はドレインの一方と電気的に接続され、
    前記第4のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第2の容量素子と電気的に接続され、
    前記第3のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第4のトランジスタのソース又はドレインの一方と電気的に接続され、
    前記第3のトランジスタのゲートは、前記第3のトランジスタのソース又はドレインの一方と電気的に接続され、
    前記第4のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第5のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
    前記第5のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記記憶回路と電気的に接続され、
    前記第4のトランジスタは、チャネルが酸化物半導体に形成されることを特徴とする半導体装置。
  3. 請求項1又は請求項2において、
    前記第1の容量素子の容量値は、前記第2の容量素子の容量値よりも小さいことを特徴とする半導体装置。
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