JP2013519236A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2013519236A5
JP2013519236A5 JP2012552119A JP2012552119A JP2013519236A5 JP 2013519236 A5 JP2013519236 A5 JP 2013519236A5 JP 2012552119 A JP2012552119 A JP 2012552119A JP 2012552119 A JP2012552119 A JP 2012552119A JP 2013519236 A5 JP2013519236 A5 JP 2013519236A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
region
high contrast
contrast material
alignment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2012552119A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2013519236A (ja
JP5769734B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/US2011/023792 external-priority patent/WO2011097514A2/en
Publication of JP2013519236A publication Critical patent/JP2013519236A/ja
Publication of JP2013519236A5 publication Critical patent/JP2013519236A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5769734B2 publication Critical patent/JP5769734B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2012552119A 2010-02-05 2011-02-04 高コントラスト位置合わせマークを有するテンプレート Active JP5769734B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US30189510P 2010-02-05 2010-02-05
US61/301,895 2010-02-05
PCT/US2011/023792 WO2011097514A2 (en) 2010-02-05 2011-02-04 Templates having high contrast alignment marks

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2013519236A JP2013519236A (ja) 2013-05-23
JP2013519236A5 true JP2013519236A5 (enExample) 2014-03-20
JP5769734B2 JP5769734B2 (ja) 2015-08-26

Family

ID=44343828

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012552119A Active JP5769734B2 (ja) 2010-02-05 2011-02-04 高コントラスト位置合わせマークを有するテンプレート

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8961852B2 (enExample)
JP (1) JP5769734B2 (enExample)
KR (1) KR101772993B1 (enExample)
TW (1) TWI577533B (enExample)
WO (1) WO2011097514A2 (enExample)

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5852123B2 (ja) * 2010-09-24 2016-02-03 モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド 多段インプリントによるハイコントラストな整列マーク
WO2012149029A2 (en) * 2011-04-25 2012-11-01 Molecular Imprints, Inc. Optically absorptive material for alignment marks
JP5831012B2 (ja) * 2011-07-27 2015-12-09 大日本印刷株式会社 インプリント用位置合わせマーク、該マークを備えたテンプレートおよびその製造方法
JP5651573B2 (ja) * 2011-11-18 2015-01-14 株式会社東芝 テンプレート処理方法
KR101856231B1 (ko) * 2011-12-19 2018-05-10 엘지이노텍 주식회사 나노패턴을 구비한 투명기판 및 그 제조방법
JPWO2013111631A1 (ja) * 2012-01-23 2015-05-11 旭硝子株式会社 ナノインプリントモールド用ブランク、ナノインプリントモールドおよびそれらの製造方法
JP2014011254A (ja) * 2012-06-28 2014-01-20 Dainippon Printing Co Ltd 位置合わせマーク、該マークを備えたテンプレート、および、該テンプレートの製造方法
JP2014049658A (ja) * 2012-08-31 2014-03-17 Toshiba Corp パターン形成方法及びテンプレート
JP6278383B2 (ja) * 2013-10-24 2018-02-14 国立研究開発法人産業技術総合研究所 高コントラスト位置合わせマークを備えたモールドの製造方法
JP6417728B2 (ja) * 2014-06-09 2018-11-07 大日本印刷株式会社 テンプレートの製造方法
JP6394112B2 (ja) * 2014-06-26 2018-09-26 大日本印刷株式会社 テンプレートの製造方法およびテンプレート
JP6394114B2 (ja) * 2014-06-27 2018-09-26 大日本印刷株式会社 テンプレートの製造方法およびテンプレート
JP6560490B2 (ja) * 2014-12-10 2019-08-14 キヤノン株式会社 顕微鏡システム
JP6965557B2 (ja) * 2016-04-28 2021-11-10 大日本印刷株式会社 インプリント用テンプレート及びインプリント用テンプレートの製造方法
US11131922B2 (en) 2016-06-06 2021-09-28 Canon Kabushiki Kaisha Imprint lithography template, system, and method of imprinting
KR102547143B1 (ko) * 2016-09-27 2023-06-23 일루미나, 인코포레이티드 임프린팅된 기판
JP6308281B2 (ja) * 2016-10-21 2018-04-11 大日本印刷株式会社 テンプレートの製造方法
JP6692311B2 (ja) * 2017-03-14 2020-05-13 キオクシア株式会社 テンプレート
CN110892324B (zh) * 2017-07-21 2024-04-02 卡尔蔡司Smt有限责任公司 用于处理光刻掩模的多余材料的方法与设备
US11126083B2 (en) * 2018-01-24 2021-09-21 Canon Kabushiki Kaisha Superstrate and a method of using the same
JP2018133591A (ja) * 2018-05-18 2018-08-23 大日本印刷株式会社 テンプレートの製造方法
JP6607293B2 (ja) * 2018-08-28 2019-11-20 大日本印刷株式会社 テンプレート
JP2020035924A (ja) * 2018-08-30 2020-03-05 キオクシア株式会社 原版
JP2019009469A (ja) * 2018-10-09 2019-01-17 大日本印刷株式会社 部材
JP6642689B2 (ja) * 2018-12-04 2020-02-12 大日本印刷株式会社 インプリント用テンプレート及びインプリント方法
JP6835167B2 (ja) * 2019-08-28 2021-02-24 大日本印刷株式会社 テンプレートの製造方法
JP7336373B2 (ja) * 2019-12-10 2023-08-31 キヤノン株式会社 型を製造する方法、型、インプリント方法、インプリント装置及び物品の製造方法
JP2021150481A (ja) * 2020-03-19 2021-09-27 キオクシア株式会社 テンプレート、テンプレートの製造方法、および半導体装置の製造方法
JP7374826B2 (ja) * 2020-03-19 2023-11-07 キオクシア株式会社 テンプレートの製造方法
KR102379451B1 (ko) * 2021-04-27 2022-03-28 창원대학교 산학협력단 대면적 패턴 제작용 몰드, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 패턴 성형 방법
US12195382B2 (en) 2021-12-01 2025-01-14 Canon Kabushiki Kaisha Superstrate and a method of using the same

Family Cites Families (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60111425A (ja) 1983-11-22 1985-06-17 Toshiba Corp 位置合わせ用マ−クの形成方法
US5477058A (en) 1994-11-09 1995-12-19 Kabushiki Kaisha Toshiba Attenuated phase-shifting mask with opaque reticle alignment marks
US6873087B1 (en) 1999-10-29 2005-03-29 Board Of Regents, The University Of Texas System High precision orientation alignment and gap control stages for imprint lithography processes
KR100862301B1 (ko) 2000-07-16 2008-10-13 보드 오브 리전츠, 더 유니버시티 오브 텍사스 시스템 임프린트 리소그래피를 위한 고분해능 오버레이 정렬 방법 및 시스템
WO2002067055A2 (en) 2000-10-12 2002-08-29 Board Of Regents, The University Of Texas System Template for room temperature, low pressure micro- and nano-imprint lithography
US20050064344A1 (en) 2003-09-18 2005-03-24 University Of Texas System Board Of Regents Imprint lithography templates having alignment marks
DE10307518B4 (de) 2002-02-22 2011-04-14 Hoya Corp. Halbtonphasenschiebermaskenrohling, Halbtonphasenschiebermaske und Verfahren zu deren Herstellung
US7077992B2 (en) 2002-07-11 2006-07-18 Molecular Imprints, Inc. Step and repeat imprint lithography processes
US6932934B2 (en) 2002-07-11 2005-08-23 Molecular Imprints, Inc. Formation of discontinuous films during an imprint lithography process
US6916584B2 (en) 2002-08-01 2005-07-12 Molecular Imprints, Inc. Alignment methods for imprint lithography
US7070405B2 (en) 2002-08-01 2006-07-04 Molecular Imprints, Inc. Alignment systems for imprint lithography
US7027156B2 (en) 2002-08-01 2006-04-11 Molecular Imprints, Inc. Scatterometry alignment for imprint lithography
US6936194B2 (en) 2002-09-05 2005-08-30 Molecular Imprints, Inc. Functional patterning material for imprint lithography processes
US8349241B2 (en) 2002-10-04 2013-01-08 Molecular Imprints, Inc. Method to arrange features on a substrate to replicate features having minimal dimensional variability
US20040065252A1 (en) 2002-10-04 2004-04-08 Sreenivasan Sidlgata V. Method of forming a layer on a substrate to facilitate fabrication of metrology standards
US7179396B2 (en) 2003-03-25 2007-02-20 Molecular Imprints, Inc. Positive tone bi-layer imprint lithography method
US7396475B2 (en) 2003-04-25 2008-07-08 Molecular Imprints, Inc. Method of forming stepped structures employing imprint lithography
US7157036B2 (en) 2003-06-17 2007-01-02 Molecular Imprints, Inc Method to reduce adhesion between a conformable region and a pattern of a mold
US7136150B2 (en) * 2003-09-25 2006-11-14 Molecular Imprints, Inc. Imprint lithography template having opaque alignment marks
EP1526411A1 (en) 2003-10-24 2005-04-27 Obducat AB Apparatus and method for aligning surface
US7130049B2 (en) 2003-12-24 2006-10-31 Asml Netherlands B.V. Method of measurement, method for providing alignment marks, and device manufacturing method
US8076386B2 (en) 2004-02-23 2011-12-13 Molecular Imprints, Inc. Materials for imprint lithography
KR101175108B1 (ko) 2004-06-03 2012-08-21 더 보드 오브 리전츠 오브 더 유니버시티 오브 텍사스 시스템 마이크로리소그래피를 위한 정렬 및 오버레이의 개선을 위한 시스템 및 방법
US7785526B2 (en) 2004-07-20 2010-08-31 Molecular Imprints, Inc. Imprint alignment method, system, and template
US7309225B2 (en) 2004-08-13 2007-12-18 Molecular Imprints, Inc. Moat system for an imprint lithography template
US7630067B2 (en) 2004-11-30 2009-12-08 Molecular Imprints, Inc. Interferometric analysis method for the manufacture of nano-scale devices
JP4330168B2 (ja) * 2005-09-06 2009-09-16 キヤノン株式会社 モールド、インプリント方法、及びチップの製造方法
TW200801794A (en) 2006-04-03 2008-01-01 Molecular Imprints Inc Method of concurrently patterning a substrate having a plurality of fields and a plurality of alignment marks
US7547398B2 (en) 2006-04-18 2009-06-16 Molecular Imprints, Inc. Self-aligned process for fabricating imprint templates containing variously etched features
US8012395B2 (en) * 2006-04-18 2011-09-06 Molecular Imprints, Inc. Template having alignment marks formed of contrast material
US7780431B2 (en) 2006-09-14 2010-08-24 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Nanoimprint molds and methods of forming the same
US7837907B2 (en) 2007-07-20 2010-11-23 Molecular Imprints, Inc. Alignment system and method for a substrate in a nano-imprint process
US20090148032A1 (en) 2007-12-05 2009-06-11 Molecular Imprints, Inc. Alignment Using Moire Patterns
JP2009298041A (ja) * 2008-06-13 2009-12-24 Toshiba Corp テンプレート及びパターン形成方法
US20100092599A1 (en) 2008-10-10 2010-04-15 Molecular Imprints, Inc. Complementary Alignment Marks for Imprint Lithography
NL2005434A (en) * 2009-12-18 2011-06-21 Asml Netherlands Bv Imprint lithography.

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2013519236A5 (enExample)
JP5769734B2 (ja) 高コントラスト位置合わせマークを有するテンプレート
KR102243630B1 (ko) 20ｎｍ 이하 특징부의 균일한 임프린트 패턴 전사 방법
JP2012508978A5 (enExample)
JP2009060084A5 (enExample)
JP2015502668A5 (enExample)
JP2013168604A (ja) ナノインプリント用モールドの製造方法
TW201934297A (zh) 覆板及其使用方法
JP2008230232A (ja) モールド、モールドの製造方法、インプリント装置及びインプリント方法、インプリント方法を用いた構造体の製造方法
KR101861644B1 (ko) 다단계 임프린팅을 통한 고콘트라스트 정렬 마크
JP2013511153A5 (enExample)
JP2014145920A5 (ja) マスクブランク、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、および半導体デバイスの製造方法
US8911846B2 (en) Block copolymer assembly
JP2013501375A (ja) 隣接するフィールドのアラインメント方法
KR101215304B1 (ko) 나노 임프린트 리소그라피 공정용 템플릿 및 그 제조 방법
JP5906963B2 (ja) パターン構造体の製造方法およびパターン形成用基材
CN101246307A (zh) 使用半导体工艺制造压印模板的方法及所制得的压印模板
CA2886492C (en) Method for fabrication of nano-structures
JP2007103914A5 (enExample)
KR101408181B1 (ko) 나노패턴이 형성된 기판 제조방법
JP2010537395A5 (enExample)
JP2011207163A5 (enExample)
CN105206512A (zh) 改进多重图形化掩膜层的方法
JP2009525899A5 (enExample)
JP2014112655A (ja) ナノインプリントモールドおよびその製造方法