JP2013237259A - インクジェット記録ヘッド及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明に係るインクジェット記録ヘッドは、インクを吐出する吐出口が設けられた部材を備えるインクジェット記録ヘッドであって、前記吐出口が開口している側の前記部材の表面に、エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物とを縮合させて得られる縮合物の硬化物を含む撥水層を備える。
【選択図】図1
Description
(1)基板上にエポキシ基を有する光カチオン重合性樹脂材料を含む光カチオン重合性樹脂層を形成する工程と、
(2)未硬化の前記光カチオン重合性樹脂層上に、エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物とを縮合させて得られる縮合物を含む層を形成する工程と、
(3)前記光カチオン重合性樹脂層及び前記縮合物を含む層を同時にパターン露光する工程と、
(4)前記光カチオン重合性樹脂層及び前記縮合物を含む層の露光部分を、一括硬化する工程と、
(5)前記光カチオン重合性樹脂層及び前記縮合物を含む層の未露光部を除去して、吐出口を形成し、部材及び撥水層とする工程と、を含む。
(1)基板上にエポキシ基を有する光カチオン重合性樹脂材料を含む光カチオン重合性樹脂層を形成する工程と、
(2)未硬化の前記光カチオン重合性樹脂層上に、エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物とを縮合させて得られる縮合物を含む層を形成する工程と、
(3)前記光カチオン重合性樹脂層及び前記縮合物を含む層を同時にパターン露光する工程と、
(4)前記光カチオン重合性樹脂層及び前記縮合物を含む層の露光部分を、一括硬化する工程と、
(5)前記光カチオン重合性樹脂層及び前記縮合物を含む層の未露光部を除去して、吐出口を形成し、部材及び撥水層とする工程と、を含む。
式(7)〜式(11)において、繰り返し単位数である、s、t、e、f、g、hは、3〜20であることが好ましい。3よりも小さいと撥水性が低下する傾向があり、20よりも大きいと溶剤に対する溶解性が低下する。特にアルコール等の非フッ素系汎用溶媒中で縮合反応を行う際には、3〜10であることが好ましい。
T1体:1つのシラン化合物と酸素を介して結合しているSi原子
T2体:2つのシラン化合物と酸素を介して結合しているSi原子
T3体:3つのシラン化合物と酸素を介して結合しているSi原子
D1体:1つのシラン化合物と酸素を介して結合しているSi原子
D2体:2つのシラン化合物と酸素を介して結合しているSi原子
調製した縮合物の縮合度は、核磁気共鳴装置(製品名:AVANCE II 500MHz、ブルカーバイオスピン(株)製)を用いて29Si−NMR測定を行い、前記定義より算出した。
調製した縮合物を含む溶液と該溶液の塗膜の外観を光学顕微鏡により評価した。
作製したインクジェット記録ヘッドの評価として、微小接触角計(製品名:DropMeasure、(株)マイクロジェット製)を用いて、純水に対する動的後退接触角θrの測定を行い、初期撥水性の評価を行った。また、ノズル表面の耐久性評価として、インクに浸漬して60℃で1週間保持した後、水洗し、吐出口付近の純水動的後退接触角θrを測定した。さらに擦りに対する耐久性評価として、ノズル表面に顔料インクを吹き付けながらHNBR(水素化ニトリルゴム)のブレードを用いて拭き取り操作を2000回実施し、その後の純水に対する動的後退接触角θrを測定した。これにより、拭き取りに対する耐久性を調べた。
エネルギー発生素子2が形成されたシリコンからなる基板1を準備した。基板1上に、ポジ型感光性樹脂材料であるポリメチルイソプロペニルケトンをアセト酢酸エチルに溶解した溶液を、スピンコート法により塗布した。その後、ベークすることによりポジ型感光性樹脂層を形成した。ポジ型感光性樹脂層の厚さは14μmであった。
表1に示すシラン化合物の種類と配合比、及び溶媒比率を用いた以外は、実施例1と同様にインクジェット記録ヘッドを作製し、評価した。結果を表1に示す。
表1に示す加水分解性シラン化合物の種類と配合比、触媒、及び溶媒の配合比を用いた以外は、実施例1と同様にインクジェット記録ヘッドを作製し、評価した。結果を表1に示す。
エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物とを縮合させずに混合のみ行ったこと以外は、実施例1と同様にインクジェット記録ヘッドを作製し、評価した。結果を表1に示す。
(i):前記式(10)で表される化合物
(ii):前記式(11)で表される化合物
(iii):前記式(7)で表される化合物
(iv):前記式(8)で表される化合物
(v):前記式(9)で表される化合物
(vi):トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン
GPTES:γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン
GPMDMS:γ−グリシドキシプロピルメチルトリメトキシシラン
MTEOS:メチルトリエトキシシラン
DMDES:ジメチルジエトキシシラン
PhTES:フェニルトリエトキシシラン
HETES:n−ヘキシルトリエトキシシラン
TMES:トリメチルエトキシシラン
TFPTMS:3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン
PFPTES:ペンタフルオロフェニルトリエトキシシラン
C4FTMS:ノナフルオロヘキシルトリメトキシシラン
C6FTES:(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル)トリエトキシシラン
表1より、本実施例で作製したインクジェット記録ヘッドは、表面の平滑性が良好で初期のθrが大きく良好な撥水性を示すことが確認された。また、耐久試験後も高い撥水性を示すことが確認された。以上から、実施例1〜24のいずれの条件においても、撥水層5と部材4との密着力が向上し、拭き取りに対する耐久性が向上していることが示された。さらに、該インクジェット記録ヘッドを用いて印字評価を行ったところ、印字ヨレ等は観察されず、高い印字品位を示した。
2 エネルギー発生素子
3 インク流路パターン
4 部材(光カチオン重合性樹脂層)
5 撥水層(縮合物を含む層)
6 マスク
7 遮光部
8 光
9 吐出口
10 インク供給口
11 インク流路
Claims (16)
- インクを吐出する吐出口が設けられた部材を備えるインクジェット記録ヘッドであって、
前記吐出口が開口している側の前記部材の表面に、エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物とを縮合させて得られる縮合物の硬化物を含む撥水層を備えるインクジェット記録ヘッド。 - 前記撥水層が、さらに、エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物とを縮合させて得られる縮合物と、エポキシ樹脂とを硬化反応させて得られる硬化物を含む請求項1に記載のインクジェット記録ヘッド。
- 前記式(2)、(3)、(4)及び(5)におけるRp内の繰り返し単位数、又は、前記式(6)におけるo、p、qもしくはrが、1から30の整数である請求項4または5に記載のインクジェット記録ヘッド。
- 前記縮合物が、エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物に加えて、さらにパーフルオロポリエーテル基とは異なるフッ素含有基を有する加水分解性シラン化合物を縮合させて得られる縮合物である請求項3から6のいずれか1項に記載のインクジェット記録ヘッド。
- 前記エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物とを縮合させて得られる縮合物が、非フッ素系有機溶媒とフッ素系溶媒との混合液中で、前記エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、前記パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物とを加熱することにより得られる請求項1から9のいずれか1項に記載のインクジェット記録ヘッド。
- 前記非フッ素系有機溶媒とフッ素系溶媒との混合液が、アルコールとハイドロフルオロエーテルとの混合液である請求項10に記載のインクジェット記録ヘッド。
- 前記エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、前記パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物とを縮合させる際に、加水分解および/または縮合反応の触媒として有機酸を用いる請求項10または11に記載のインクジェット記録ヘッド。
- 前記有機酸が酢酸またはギ酸である請求項12に記載のインクジェット記録ヘッド。
- 基板と、インクを吐出する吐出口が設けられた部材と、該吐出口が開口している側の該部材の表面に設けられた撥水層とを備えるインクジェット記録ヘッドの製造方法であって、
(1)基板上にエポキシ基を有する光カチオン重合性樹脂材料を含む光カチオン重合性樹脂層を形成する工程と、
(2)未硬化の前記光カチオン重合性樹脂層上に、エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物とを縮合させて得られる縮合物を含む層を形成する工程と、
(3)前記光カチオン重合性樹脂層及び前記縮合物を含む層を同時にパターン露光する工程と、
(4)前記光カチオン重合性樹脂層及び前記縮合物を含む層の露光部分を、一括硬化する工程と、
(5)前記光カチオン重合性樹脂層及び前記縮合物を含む層の未露光部を除去して、吐出口を形成し、部材及び撥水層とする工程と、
を含むインクジェット記録ヘッドの製造方法。 - 前記工程(2)において、前記縮合物を含む層が、エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物とを縮合させて得られる縮合物を含む溶液を、前記未硬化の光カチオン重合性樹脂層上に塗布することによって形成される請求項14に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
- 前記縮合物の縮合度が40%以上、90%以下である請求項1から9のいずれか1項に記載のインクジェット記録ヘッド。
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RU2014146192/12A RU2576507C1 (ru) | 2012-04-18 | 2013-04-17 | Головка для струйной печати и способ ее изготовления |
CN201380020544.8A CN104245325B (zh) | 2012-04-18 | 2013-04-17 | 喷墨记录头及其制造方法 |
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BR112014025014-6A BR112014025014B1 (pt) | 2012-04-18 | 2013-04-17 | Cabeça de gravação a jato de tinta e método de fabricação da mesma |
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Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015120346A (ja) * | 2013-12-23 | 2015-07-02 | ゼロックス コーポレイションXerox Corporation | フッ素化オルガノシロキサン網目構造組成物 |
JP2015136823A (ja) * | 2014-01-21 | 2015-07-30 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッド及びその製造方法 |
JP2015136894A (ja) * | 2014-01-23 | 2015-07-30 | 株式会社リコー | ノズルプレート、液体吐出ヘッド及びインクジェット記録装置 |
JP2016038468A (ja) * | 2014-08-07 | 2016-03-22 | キヤノン株式会社 | 感光性樹脂層のパターニング方法 |
JP2016043515A (ja) * | 2014-08-20 | 2016-04-04 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッドおよびその製造方法 |
JP2016150522A (ja) * | 2015-02-18 | 2016-08-22 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドおよびその製造方法 |
US20160357106A1 (en) * | 2015-06-05 | 2016-12-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for imparting water repellency to surface of member |
US9561655B2 (en) | 2015-01-16 | 2017-02-07 | Ricoh Company, Ltd. | Liquid discharging head, liquid discharging unit, and device to discharge liquid |
JP2017132252A (ja) * | 2016-01-27 | 2017-08-03 | 株式会社リコー | ノズル板、液体吐出ヘッド、液体吐出ユニット、液体を吐出する装置、ノズル板の製造方法 |
JP2017154055A (ja) * | 2016-02-29 | 2017-09-07 | キヤノン株式会社 | 膜の製造方法 |
US10252526B2 (en) | 2014-10-25 | 2019-04-09 | Ricoh Company, Ltd. | Nozzle plate, liquid discharge head, liquid discharge device, and apparatus for discharging liquid |
US10570291B2 (en) | 2016-10-20 | 2020-02-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing coating material |
WO2022163319A1 (ja) * | 2021-01-28 | 2022-08-04 | ダイキン工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含有する組成物 |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5591361B2 (ja) * | 2012-04-18 | 2014-09-17 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッド |
JP6053580B2 (ja) | 2013-03-13 | 2016-12-27 | キヤノン株式会社 | 微細パターン表面の撥水処理方法 |
JP6207212B2 (ja) | 2013-04-23 | 2017-10-04 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
JP6214343B2 (ja) * | 2013-10-30 | 2017-10-18 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッド用封止剤およびインクジェット記録ヘッド |
JP6331688B2 (ja) * | 2014-05-23 | 2018-05-30 | 株式会社リコー | 液体吐出ヘッド及びその製造方法、並びに液体吐出装置及び画像形成装置 |
JP2018086746A (ja) | 2016-11-28 | 2018-06-07 | キヤノン株式会社 | 撥液面上の有機物残渣の検査方法および液体吐出ヘッドの製造方法 |
US11820912B2 (en) * | 2017-05-25 | 2023-11-21 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Fluoropolyether group-containing polymer-modified organic silicon compound, surface treatment agent, and article |
JP2018202805A (ja) | 2017-06-08 | 2018-12-27 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッド及びその製造方法並びに印字装置 |
US11865839B2 (en) * | 2019-07-30 | 2024-01-09 | Konica Minolta, Inc. | Nozzle plate nozzle plate manufacturing method and inkjet head |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000117902A (ja) * | 1998-10-12 | 2000-04-25 | Toray Ind Inc | シートまたはフィルム |
JP2001246756A (ja) * | 2000-03-02 | 2001-09-11 | Ricoh Co Ltd | インクジェット記録ヘッドおよび該ヘッドを用いたインクジェットプリンタ |
JP2007518587A (ja) * | 2003-07-22 | 2007-07-12 | キヤノン株式会社 | インクジェットヘッドおよびその製造方法 |
JP2008213201A (ja) * | 2007-03-01 | 2008-09-18 | Ulvac Japan Ltd | 吐出装置、吐出ヘッド、吐出ヘッド製造方法 |
JP2009190926A (ja) * | 2008-02-14 | 2009-08-27 | Sumco Corp | シリコン単結晶製造における数値解析方法 |
JP2010023525A (ja) * | 2009-11-02 | 2010-02-04 | Canon Inc | インクジェットヘッド及びその製造方法 |
JP2011073442A (ja) * | 2009-09-02 | 2011-04-14 | Canon Inc | 液体吐出ヘッド |
JP2012081601A (ja) * | 2010-10-07 | 2012-04-26 | Canon Inc | インクジェットヘッド及びその製造方法 |
JP2012091449A (ja) * | 2010-10-28 | 2012-05-17 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
JP2012091405A (ja) * | 2010-10-27 | 2012-05-17 | Canon Inc | インクジェットヘッドおよびその製造方法 |
JP2012126107A (ja) * | 2010-12-17 | 2012-07-05 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
JP2013170170A (ja) * | 2012-02-17 | 2013-09-02 | Canon Inc | 撥液膜及びその製造方法、並びにこの撥液膜を用いた微細構造体及びその製造方法 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4118184A1 (de) | 1991-06-03 | 1992-12-10 | Inst Neue Mat Gemein Gmbh | Beschichtungszusammensetzungen auf der basis von fluorhaltigen anorganischen polykondensaten, deren herstellung und deren verwendung |
JP3161106B2 (ja) * | 1992-12-10 | 2001-04-25 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット記録ヘッド及びその製造方法 |
JPH06210857A (ja) | 1993-01-21 | 1994-08-02 | Seiko Epson Corp | インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
SG83635A1 (en) | 1994-08-30 | 2001-10-16 | Xaar Ltd | Coating, coating composition and method of forming coating |
WO1998000295A1 (de) | 1996-06-28 | 1998-01-08 | Pelikan Produktions Ag | Antitrielbeschichtung für tintenstrahldruckköpfe |
KR100579120B1 (ko) * | 2001-08-10 | 2006-05-12 | 가부시끼가이샤 도시바 | 잉크젯 헤드의 제조방법, 잉크젯 헤드, 잉크 도포장치,잉크 도포방법, 유기전계발광 표시장치 및 그 제조방법 |
US7344235B2 (en) * | 2002-01-15 | 2008-03-18 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Ink composition for ink jet recording, ink cartridge, nozzle plate for ink jet recording, ink jet head, and recording apparatus |
KR100880753B1 (ko) * | 2006-01-20 | 2009-02-02 | 캐논 가부시끼가이샤 | 잉크 제트 헤드 및 그의 제조 방법 |
JP2008214566A (ja) * | 2007-03-07 | 2008-09-18 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 硬化性フルオロポリエーテル組成物の硬化皮膜を有するゴム |
JP5108565B2 (ja) * | 2008-03-07 | 2012-12-26 | 株式会社リコー | 液滴吐出ヘッドとその製造方法、液滴吐出ヘッドを具備した画像記録装置 |
US8733897B2 (en) * | 2008-10-30 | 2014-05-27 | Fujifilm Corporation | Non-wetting coating on a fluid ejector |
US8191992B2 (en) * | 2008-12-15 | 2012-06-05 | Xerox Corporation | Protective coatings for solid inkjet applications |
JP5591361B2 (ja) | 2012-04-18 | 2014-09-17 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッド |
JP6053580B2 (ja) | 2013-03-13 | 2016-12-27 | キヤノン株式会社 | 微細パターン表面の撥水処理方法 |
JP6168825B2 (ja) | 2013-04-11 | 2017-07-26 | キヤノン株式会社 | コーティング材料、コーティング及びその製造方法、並びにインクジェットヘッド及びその製造方法 |
JP6207212B2 (ja) | 2013-04-23 | 2017-10-04 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドの製造方法 |
JP6214343B2 (ja) | 2013-10-30 | 2017-10-18 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッド用封止剤およびインクジェット記録ヘッド |
-
2013
- 2013-03-04 JP JP2013041650A patent/JP5591361B2/ja active Active
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- 2013-04-17 EP EP13722862.3A patent/EP2838731B1/en active Active
-
2015
- 2015-05-22 US US14/719,908 patent/US9273187B2/en active Active
-
2016
- 2016-01-21 US US15/002,798 patent/US9394409B2/en active Active
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000117902A (ja) * | 1998-10-12 | 2000-04-25 | Toray Ind Inc | シートまたはフィルム |
JP2001246756A (ja) * | 2000-03-02 | 2001-09-11 | Ricoh Co Ltd | インクジェット記録ヘッドおよび該ヘッドを用いたインクジェットプリンタ |
JP2007518587A (ja) * | 2003-07-22 | 2007-07-12 | キヤノン株式会社 | インクジェットヘッドおよびその製造方法 |
JP2008213201A (ja) * | 2007-03-01 | 2008-09-18 | Ulvac Japan Ltd | 吐出装置、吐出ヘッド、吐出ヘッド製造方法 |
JP2009190926A (ja) * | 2008-02-14 | 2009-08-27 | Sumco Corp | シリコン単結晶製造における数値解析方法 |
JP2011073442A (ja) * | 2009-09-02 | 2011-04-14 | Canon Inc | 液体吐出ヘッド |
JP2010023525A (ja) * | 2009-11-02 | 2010-02-04 | Canon Inc | インクジェットヘッド及びその製造方法 |
JP2012081601A (ja) * | 2010-10-07 | 2012-04-26 | Canon Inc | インクジェットヘッド及びその製造方法 |
JP2012091405A (ja) * | 2010-10-27 | 2012-05-17 | Canon Inc | インクジェットヘッドおよびその製造方法 |
JP2012091449A (ja) * | 2010-10-28 | 2012-05-17 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
JP2012126107A (ja) * | 2010-12-17 | 2012-07-05 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
JP2013170170A (ja) * | 2012-02-17 | 2013-09-02 | Canon Inc | 撥液膜及びその製造方法、並びにこの撥液膜を用いた微細構造体及びその製造方法 |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015120346A (ja) * | 2013-12-23 | 2015-07-02 | ゼロックス コーポレイションXerox Corporation | フッ素化オルガノシロキサン網目構造組成物 |
JP2015136823A (ja) * | 2014-01-21 | 2015-07-30 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッド及びその製造方法 |
JP2015136894A (ja) * | 2014-01-23 | 2015-07-30 | 株式会社リコー | ノズルプレート、液体吐出ヘッド及びインクジェット記録装置 |
JP2016038468A (ja) * | 2014-08-07 | 2016-03-22 | キヤノン株式会社 | 感光性樹脂層のパターニング方法 |
JP2016043515A (ja) * | 2014-08-20 | 2016-04-04 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッドおよびその製造方法 |
US10252526B2 (en) | 2014-10-25 | 2019-04-09 | Ricoh Company, Ltd. | Nozzle plate, liquid discharge head, liquid discharge device, and apparatus for discharging liquid |
US9561655B2 (en) | 2015-01-16 | 2017-02-07 | Ricoh Company, Ltd. | Liquid discharging head, liquid discharging unit, and device to discharge liquid |
JP2016150522A (ja) * | 2015-02-18 | 2016-08-22 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドおよびその製造方法 |
US20160357106A1 (en) * | 2015-06-05 | 2016-12-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for imparting water repellency to surface of member |
US10274826B2 (en) * | 2015-06-05 | 2019-04-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for imparting water repellency to surface of member |
JP2017132252A (ja) * | 2016-01-27 | 2017-08-03 | 株式会社リコー | ノズル板、液体吐出ヘッド、液体吐出ユニット、液体を吐出する装置、ノズル板の製造方法 |
JP2017154055A (ja) * | 2016-02-29 | 2017-09-07 | キヤノン株式会社 | 膜の製造方法 |
US10570291B2 (en) | 2016-10-20 | 2020-02-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing coating material |
WO2022163319A1 (ja) * | 2021-01-28 | 2022-08-04 | ダイキン工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含有する組成物 |
JP2022115807A (ja) * | 2021-01-28 | 2022-08-09 | ダイキン工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含有する組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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