JP2013237259A - インクジェット記録ヘッド及びその製造方法 - Google Patents

インクジェット記録ヘッド及びその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2013237259A
JP2013237259A JP2013041650A JP2013041650A JP2013237259A JP 2013237259 A JP2013237259 A JP 2013237259A JP 2013041650 A JP2013041650 A JP 2013041650A JP 2013041650 A JP2013041650 A JP 2013041650A JP 2013237259 A JP2013237259 A JP 2013237259A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
silane compound
hydrolyzable silane
recording head
condensate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013041650A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5591361B2 (ja
Inventor
Etsuko Sawada
悦子 澤田
Akira Tsutsui
暁 筒井
Yohei Hamade
陽平 浜出
Hiroaki Mihara
弘明 三原
Takeshi Ikegame
健 池亀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to JP2013041650A priority Critical patent/JP5591361B2/ja
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to KR1020147031498A priority patent/KR101666291B1/ko
Priority to BR112014025014-6A priority patent/BR112014025014B1/pt
Priority to US14/383,223 priority patent/US9150697B2/en
Priority to EP13722862.3A priority patent/EP2838731B1/en
Priority to RU2014146192/12A priority patent/RU2576507C1/ru
Priority to CN201380020544.8A priority patent/CN104245325B/zh
Priority to PCT/JP2013/061960 priority patent/WO2013157659A1/en
Publication of JP2013237259A publication Critical patent/JP2013237259A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5591361B2 publication Critical patent/JP5591361B2/ja
Priority to US14/719,908 priority patent/US9273187B2/en
Priority to US15/002,798 priority patent/US9394409B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/16Production of nozzles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/22Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
    • C08G77/24Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen halogen-containing groups
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/14Structure thereof only for on-demand ink jet heads
    • B41J2/1433Structure of nozzle plates
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/16Production of nozzles
    • B41J2/1601Production of bubble jet print heads
    • B41J2/1603Production of bubble jet print heads of the front shooter type
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/16Production of nozzles
    • B41J2/1606Coating the nozzle area or the ink chamber
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/16Production of nozzles
    • B41J2/162Manufacturing of the nozzle plates
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/16Production of nozzles
    • B41J2/1621Manufacturing processes
    • B41J2/1631Manufacturing processes photolithography
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/16Production of nozzles
    • B41J2/1621Manufacturing processes
    • B41J2/1637Manufacturing processes molding
    • B41J2/1639Manufacturing processes molding sacrificial molding
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/135Nozzles
    • B41J2/16Production of nozzles
    • B41J2/1621Manufacturing processes
    • B41J2/164Manufacturing processes thin film formation
    • B41J2/1645Manufacturing processes thin film formation thin film formation by spincoating
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/17Ink jet characterised by ink handling
    • B41J2/175Ink supply systems ; Circuit parts therefor

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

【課題】高い撥水性と擦りに対する高い耐久性を有するインクジェット記録ヘッドを提供する。
【解決手段】本発明に係るインクジェット記録ヘッドは、インクを吐出する吐出口が設けられた部材を備えるインクジェット記録ヘッドであって、前記吐出口が開口している側の前記部材の表面に、エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物とを縮合させて得られる縮合物の硬化物を含む撥水層を備える。
【選択図】図1

Description

本発明はインクジェット記録ヘッド及びその製造方法に関する。
インクジェット記録ヘッドの吐出口表面の特性は、良好な吐出性能を得る上で重要である。吐出口付近にインク溜が残っていると、インク滴の飛翔方向が偏向したり、インク滴の吐出速度が低下したりする場合がある。そのため、精度良くインクを吐出する方法の一つとして、吐出口部周辺に撥水処理を施すことが挙げられる。一般に、撥水面を形成する材料としては、シリコーン系化合物やフッ素化合物等が用いられる。インクジェット記録ヘッドのように種々の溶剤や色材を含むインクを吐出するためには、フッ素化合物が適している。良好な撥水性を発現するフッ素化合物としては、パーフルオロアルキル基含有化合物、パーフルオロポリエーテル基含有化合物等が知られている。この中でも近年、環境適合性の観点から、パーフルオロポリエーテル基含有化合物が注目されている。
また、インクジェット記録ヘッドの吐出口部表面の状態を維持するために、表面に残ったインクをゴムブレード等によって定期的に拭き取る場合がある。そのため、吐出口部表面の撥水処理には、擦りに対する高い耐久性が要求される。特許文献1には、耐久性の高い撥水処理方法として、パーフルオロポリエーテル基とアルコキシシリル基を有する化合物を用いる例が開示されている。
特開2009−214338号公報
近年、高精度、高精細の吐出口部を形成するため、感光性樹脂を用いたインクジェット記録ヘッドの製造方法が用いられている。しかしながら、特許文献1に開示された方法では、撥水材料と被撥水処理面との接着強度を高めるためには無機膜であるSiO2膜が必要であり、感光性樹脂を用いる方法に適用することはできない。また、特許文献1に開示されたパーフルオロポリエーテル基含有化合物は、フッ素系溶媒にしか溶解しないため、アクリレート類やエポキシ化合物のように極性の高い感光性基を導入することは困難であった。そのため、感光性樹脂を用いてインクジェット記録ヘッドを製造する場合、特許文献1に開示されている方法を適用することは困難であった。また、撥水性及び擦りに対する耐久性の更なる向上が求められている。
本発明は、高い撥水性と擦りに対する高い耐久性を有するインクジェット記録ヘッドを提供することを目的とする。
本発明に係るインクジェット記録ヘッドは、インクを吐出する吐出口が設けられた部材を備えるインクジェット記録ヘッドであって、前記吐出口が開口している側の前記部材の表面に、エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物とを縮合させて得られる縮合物の硬化物を含む撥水層を備える。
本発明に係るインクジェット記録ヘッドの製造方法は、基板と、インクを吐出する吐出口が設けられた部材と、該吐出口が開口している側の該部材の表面に設けられた撥水層とを備えるインクジェット記録ヘッドの製造方法であって、
(1)基板上にエポキシ基を有する光カチオン重合性樹脂材料を含む光カチオン重合性樹脂層を形成する工程と、
(2)未硬化の前記光カチオン重合性樹脂層上に、エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物とを縮合させて得られる縮合物を含む層を形成する工程と、
(3)前記光カチオン重合性樹脂層及び前記縮合物を含む層を同時にパターン露光する工程と、
(4)前記光カチオン重合性樹脂層及び前記縮合物を含む層の露光部分を、一括硬化する工程と、
(5)前記光カチオン重合性樹脂層及び前記縮合物を含む層の未露光部を除去して、吐出口を形成し、部材及び撥水層とする工程と、を含む。
本発明によれば、高い撥水性と擦りに対する高い耐久性を有するインクジェット記録ヘッドを提供することができる。
本発明に係るインクジェット記録ヘッドの一実施形態を示す斜視図である。 本発明に係るインクジェット記録ヘッドの製造方法を示す断面図である。
本発明に係るインクジェット記録ヘッドは、インクを吐出する吐出口が設けられた部材を備えるインクジェット記録ヘッドであって、前記吐出口が開口している側の前記部材の表面に、エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物とを縮合させて得られる縮合物の硬化物を含む撥水層を備える。
本発明によれば、エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物とを化学的に結合させることができるため、下地である光カチオン重合性樹脂層との接着性の高い撥水材料が得られる。該撥水材料を部材となる光カチオン重合性樹脂層上に積層し、同時にパターニングして吐出口を形成することにより、高い撥水性と擦りに対する高い耐久性を有し、高精度の吐出口を有するインクジェット記録ヘッドを得ることができる。
以下、図面を参照して、本発明の実施形態について詳細に説明する。なお、以下の説明では、同一の機能を有する構成には図面中に同一の番号を付し、その説明を省略する場合がある。
図1は、本発明に係るインクジェット記録ヘッドの一実施形態を示す模式的斜視図である。図1に示すインクジェット記録ヘッドは、エネルギー発生素子2を複数備える基板1を備える。基板1は、インクを保持するインク流路11を形成し、インク流路11と連通しインクを吐出する吐出口9が設けられた部材4を備える。吐出口9が形成されている側の部材4の表面には、不図示の撥水層が設けられている。本発明において、該撥水層は、エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物とを縮合させて得られる縮合物の硬化物を含む。該撥水層は、さらに、エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物とを縮合させて得られる縮合物と、エポキシ樹脂とを硬化反応させて得られる硬化物を含むことが好ましい。ここで、エポキシ樹脂とは、部材4に含まれるものであり部材4と撥水層とが接する面に存在するものであるか、または撥水層を形成する際に前記縮合物にエポキシ樹脂を混合したものである。基板1の裏面には、インクをインク流路11に供給するインク供給口10が設けられている。
本発明に係るインクジェット記録ヘッドの製造方法は、基板と、インクを吐出する吐出口が設けられた部材と、該吐出口が開口している側の該部材の表面に設けられた撥水層とを備えるインクジェット記録ヘッドの製造方法であって、
(1)基板上にエポキシ基を有する光カチオン重合性樹脂材料を含む光カチオン重合性樹脂層を形成する工程と、
(2)未硬化の前記光カチオン重合性樹脂層上に、エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物とを縮合させて得られる縮合物を含む層を形成する工程と、
(3)前記光カチオン重合性樹脂層及び前記縮合物を含む層を同時にパターン露光する工程と、
(4)前記光カチオン重合性樹脂層及び前記縮合物を含む層の露光部分を、一括硬化する工程と、
(5)前記光カチオン重合性樹脂層及び前記縮合物を含む層の未露光部を除去して、吐出口を形成し、部材及び撥水層とする工程と、を含む。
図2は、図1に示すインクジェット記録ヘッドのA−A’断面を製造工程毎に示した断面図である。以下、図2を用いて本発明に係るインクジェット記録ヘッドの製造方法の一実施形態を示すが、本発明はこれに限定されない。
まず、エネルギー発生素子2が形成された基板1上に、ポジ型感光性樹脂層を形成し、該ポジ型感光性樹脂層をパターニングすることでインク流路パターン3を形成する(図2(a))。
基板1としては、シリコン基板、ガラス基板、樹脂基板等を用いることができる。エネルギー発生素子2は、インクを吐出させるための吐出エネルギーをインクに与え、インクを吐出口から吐出させることができれば、特に限定されない。例えば、発熱抵抗素子、ピエゾ素子等を用いることができる。なお、エネルギー発生素子2には素子を動作させるための制御信号入力電極(不図示)が接続されていてもよい。また、基板1上には、エネルギー発生素子2の耐用性の向上を目的とした保護層(不図示)や、後述する光カチオン重合性樹脂材料と基板1との密着性の向上を目的とした密着向上層(不図示)等の各種機能層が更に設けられていてもよい。
前記ポジ型感光性樹脂層に含まれるポジ型感光性樹脂材料としては、特に限定されないが、後述する光カチオン重合性樹脂層4のパターニング工程に対する耐性を有する材料を用いることができる。すなわち、光カチオン重合性樹脂層4を構成する光カチオン重合性樹脂材料を塗布する際に用いられる溶剤によって、パターンが崩れない程度の耐性を有することが望まれる。そのため、ポジ型感光性樹脂材料としては、高分子の光分解型のポジ型レジストが好ましい。高分子の光分解型のポジ型レジストとしては、例えば、ポリメチルイソプロペニルケトン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルグルタルイミド等が挙げられる。また、ポジ型感光性樹脂材料としては、光カチオン重合性樹脂層4の露光時に感光してパターン不良が生じる場合があるため、光カチオン重合性樹脂材料の露光波長に対する吸光度が低い材料が好ましい。該材料としては、ポリメチルイソプロペニルケトン等が挙げられる。これらのポジ型感光性樹脂材料は、一種のみを用いてもよく、二種以上を併用してもよい。また、基板からの反射光によるパターン変形を防止するため、光吸収材を添加することも有用である。さらに、必要な膜厚、形状に応じて、複数層を積層することも可能である。
前記ポジ型感光性樹脂層の形成方法としては、例えば、前記ポジ型感光性樹脂材料を適宜溶媒に溶解させ、スピンコート法により塗布する。その後、ベークにより溶媒を蒸発させることでポジ型感光性樹脂層を形成することができる。
前記ポジ型感光性樹脂層の厚さは、インク流路の高さとなるため、インクジェット記録ヘッドの設計により適宜決定される。前記ポジ型感光性樹脂層の厚さとしては、例えば5〜30μmとすることができる。
前記ポジ型感光性樹脂層をパターニングする方法としては、例えば、前記ポジ型感光性樹脂層に対して、前記ポジ型感光性樹脂材料を感光可能な活性エネルギー線を、必要に応じてマスクを介して照射し、パターン露光する。その後、前記ポジ型感光性樹脂の露光部を溶解可能な溶媒等を用いて現像することで、インク流路パターン3を形成することができる。
次に、インク流路パターン3及び基板1上に、光カチオン重合性樹脂材料を含む光カチオン重合性樹脂層4を形成する(図2(b))。
前記光カチオン重合性樹脂材料としては、特に限定されないが、例えばエポキシ化合物、ビニルエーテル化合物、オキセタン化合物等を含有する光カチオン重合性樹脂材料が挙げられる。しかしながら、前記光カチオン重合性樹脂材料としては、高い機械的強度、下地との高い密着性が得られる観点から、エポキシ樹脂を含有する光カチオン重合性樹脂材料が好ましい。エポキシ樹脂を含有する光カチオン重合性樹脂材料としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、市販のエポキシ樹脂としてはダイセル化学工業製「セロキサイド2021」、「GT−300シリーズ」、「GT−400シリーズ」、「EHPE3150」(商品名)、ジャパンエポキシレジン社製「157S70」(商品名)、大日本インキ化学工業株式会社製「エピクロンN−865」(商品名)、日本化薬株式会社製「SU8」(商品名)等が挙げられる。これらの材料は一種のみを用いてもよく、二種以上を併用してもよい。該エポキシ樹脂のエポキシ当量としては、2000以下であることが好ましく、1000以下であることがより好ましい。エポキシ当量が2000以下であることにより、硬化反応の際に十分な架橋密度が得られ、硬化物のガラス転移温度が低下せず、高い密着性が得られる。該エポキシ樹脂のエポキシ当量は、50以上であることが好ましい。なお、エポキシ当量はJISK−7236により測定した値とする。また、塗膜の流動性が高いと解像性が低下する場合があるため、前記光カチオン重合性樹脂材料としては35℃以下で固体である材料が好ましい。
また、前記光カチオン重合性樹脂材料は光重合開始剤を含むことができる。光重合開始剤としては、一般的に知られているイオン性のスルホニウム塩やヨードニウム塩等のオニウム塩、スルホン酸化合物等を使用することができる。市販品では(株)ADEKA製「アデカオプトマーSP−170」、「アデカオプトマーSP−172」、「SP−150」(商品名)、みどり化学(株)製「BBI−103」、「BBI−102」(商品名)、(株)三和ケミカル製「IBPF」、「IBCF」、「TS−01」、「TS−91」(商品名)等が挙げられる。これらの光重合開始剤は一種のみを用いてもよく、二種以上を併用してもよい。
さらに上記エポキシ樹脂組成物には、フォトリソグラフィー性能や密着性能等の向上を目的に、アミン類などの塩基性物質、アントラセン誘導体などの光増感物質、シランカップリング剤などを含むことができる。
また、ネガ型レジストとして市販されている化薬マイクロケム社製「SU−8シリーズ」、「KMPR−1000」(商品名)、東京応化工業株式会社製「TMMR S2000」、「TMMF S2000」(商品名)等も光カチオン重合性樹脂材料として用いることができる。
光カチオン重合性樹脂層4の形成方法としては、例えば、前記光カチオン重合性樹脂材料を適宜溶媒に溶解した溶液を、スピンコート法にてインク流路パターン3及び基板1上に塗布することで形成することができる。溶媒を使用する場合には、インク流路パターン3を溶解しにくい溶媒を選択して使用することができる。
インク流路パターン3上における光カチオン重合性樹脂層4の厚さは、特に限定されないが、例えば、5〜100μmとすることができる。
次に、未硬化の光カチオン重合性樹脂層4上に、エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物とを縮合させて得られる縮合物を含む層5を形成する(図2(c))。以下、エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物とを縮合させて得られる縮合物を含む層5を、縮合物を含む層5と示す。
未硬化の光カチオン重合性樹脂層4上に、縮合物を溶液として塗布した場合、表面自由エネルギーの低いパーフルオロポリエーテル基は空気界面側の最表層に多く配向する。一方、パーフルオロポリエーテル基が最表層に配向した分だけ最表層以外の部分では、パーフルオロポリエーテル以外の成分であるエポキシ基とシロキサン成分が増加し、光開始剤から発生した酸と熱により、エポキシ基の架橋とシラノール基の脱水縮合が進行する。このエポキシ基とシロキサン成分の硬化反応により、縮合物を含む層5は、高い耐久性を発現することができる。
さらに、縮合物を含む層5が未硬化の光カチオン重合性樹脂層4上に形成された場合、縮合物を含む層5の中で光カチオン重合性樹脂層4側に存在するエポキシ基は、光カチオン重合性樹脂層4中のエポキシ基と反応し、光カチオン重合性樹脂層4と縮合物を含む層5との間に結合を生じることができる。また、塗布溶剤と樹脂の種類によっては、光カチオン重合性樹脂層4と縮合物を含む層5との界面に相溶が生じ、界面の結合をより強固にすることができる。これにより、高い撥水性と、擦りに対する高い耐久性を付与することができる。
次にエポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物とを縮合させて得られる縮合物について説明する。エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物としては、特に限定されないが、下記式(1)で表される化合物であることが好ましい。
Figure 2013237259
前記式(1)中、RCはエポキシ基を有する非加水分解性置換基、Rは非加水分解性置換基、Xは加水分解性置換基を示す。bは0から2の整数である。bは0または1であることが好ましく、0であることがより好ましい。
前記式(1)中、RCは1つ以上のエポキシ基を有する有機基である。RCの具体例としては、グリシドキシプロピル基、エポキシシクロヘキシルエチル基等が挙げられる。非加水分解性置換基Rとしては、メチル基、エチル基などのアルキル基、フェニル基などが挙げられる。加水分解性置換基Xとしては、ハロゲン原子、アルコキシ基、アミノ基、水素原子等が挙げられる。その中でも、加水分解反応により脱離した基がカチオン重合反応を阻害せず、反応性を制御しやすいという観点から、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシ基が好ましい。また、加水分解性基の一部が加水分解によって水酸基となったりシロキサン結合を形成したりしているものを用いても良い。前記式(1)で表されるエポキシ基を有する加水分解性シラン化合物であって、Xがアルコキシ基の場合の例として具体的には、グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、エポキシシクロヘキシルエチルトリエトキシシラン、グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、グリシドキシプロピルジメチルメトキシシラン、グリシドキシプロピルジメチルエトキシシラン等が挙げられる。これらのエポキシ基を有する加水分解性シラン化合物は、一種のみを用いてもよく、二種以上を併用してもよい。
パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物としては、特に限定されないが、下記式(2)、(3)、(4)及び(5)で表される化合物の少なくとも一種であることが好ましい。
Figure 2013237259
Figure 2013237259
Figure 2013237259
Figure 2013237259
前記式(2)、(3)、(4)及び(5)中、Rpはパーフルオロポリエーテル基、Aは炭素数1から12の有機基、Xは加水分解性置換基、Yは非加水分解性置換基、Zは水素原子又はアルキル基、Rは非加水分解性置換基、Qは2価又は3価の結合基であり、Qが2価のときn=1、Qが3価のときn=2である。aは1から3の整数、mは1から4の整数である。
前記式(2)、(3)、(4)及び(5)中のXとしては、例えばハロゲン原子、アルコキシ基、アミノ基、水素原子等が挙げられる。その中でも、加水分解反応により脱離した基がカチオン重合反応を阻害せず、反応性を制御しやすいという観点から、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等のアルコキシ基が好ましい。Yとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、フェニル基等が挙げられる。Zのアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。Rとしては、炭素数1から20のアルキル基、フェニル基等が挙げられる。Qとしては、炭素原子、窒素原子等が挙げられる。Aの炭素数1から12の有機基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基等が挙げられる。また置換基を有するアルキル基も用いられる。
前記式(2)、(3)、(4)及び(5)において、Rp内の繰り返し単位数は1から30の整数であることが好ましい。なお、Rp内の繰り返し単位数とは、Rpに含まれるパーフルオロポリエーテル基の繰り返し単位の数を示す。パーフルオロポリエーテル基であるRpは下記式(6)で表される基であることが好ましい。
Figure 2013237259
前記式(6)中、o、p、q及びrはそれぞれ0又は1以上の整数であり、o、p、q及びrの少なくとも一つは1以上の整数である。o、p、q又はrは、1から30の整数であることが好ましい。式(6)中のo、p、q又はrが、前述の繰り返し単位数に相当する。
前記式(2)、(3)、(4)及び(5)中のパーフルオロポリエーテル基であるRpの平均分子量は、500〜5000であることが好ましく、500〜2000であることがより好ましい。Rpの平均分子量が500以上であることにより、十分な撥水性が得られる。また、Rpの平均分子量が5000以下であることにより、十分な溶媒への溶解性が得られる。なお、パーフルオロポリエーテル基は、その特性上、繰り返し単位数(式(6)中のo、p、q、r等)の異なるものの混合物であるが、パーフルオロポリエーテル基の平均分子量とは、前記式(6)の繰り返し単位で示される部分の総和の分子量の平均を示す。
パーフルオロポリエーテル基を有するシラン化合物の好ましい具体例としては、下記式(7)、(8)、(9)、(10)及び(11)で表される化合物が挙げられる。
Figure 2013237259
(式(7)中、sは1〜30の整数、mは1〜4の整数である。)
Figure 2013237259
(式(8)中、tは1〜30の整数である。)
Figure 2013237259
(式(9)中、eおよびfは1〜30の整数である。)
Figure 2013237259
(式(10)中、gは1〜30の整数である。)
Figure 2013237259
(式(11)中、Rmはメチル基または水素原子、hは1〜30の整数である。)
式(7)〜式(11)において、繰り返し単位数である、s、t、e、f、g、hは、3〜20であることが好ましい。3よりも小さいと撥水性が低下する傾向があり、20よりも大きいと溶剤に対する溶解性が低下する。特にアルコール等の非フッ素系汎用溶媒中で縮合反応を行う際には、3〜10であることが好ましい。
市販のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物としては、ダイキン工業(株)製「オプツールDSX」、「オプツールAES」、信越化学工業(株)製「KY−108」、「KY−164」、住友スリーエム製「Novec1720」、ソルベイソレクシス製「フルオロリンクS10」などが挙げられる。
前記縮合物は、エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物とパーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物に加えて、さらに下記式(12)で表される加水分解性シラン化合物を縮合させて得られる縮合物であることが好ましい。
Figure 2013237259
前記式(12)中、Rdはアルキル基または芳香族基、Xは式(1)と同様の加水分解性置換基である。aは1から3の整数である。Rdとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、フェニル基等が挙げられる。前記式(12)で表される加水分解性シラン化合物としては、具体的には、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、プロピルトリプロポキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等が挙げられる。これらの前記式(12)で表される加水分解性シラン化合物は、一種のみを用いてもよく、二種以上を併用してもよい。
前記式(12)で表される加水分解性シラン化合物の存在により、縮合物の極性や架橋密度の制御が可能となる。また非反応性のRdを導入することで縮合物中の置換基の自由度が向上する。このため、パーフルオロポリエーテル基の空気界面側への配向、エポキシ基の光カチオン重合性樹脂層4側への配向が促進される。また、アルキル基の存在により、シロキサン結合の開裂が抑制され、撥水性、耐久性が向上する。
前記縮合物には、さらにパーフルオロポリエーテル基とは異なるフッ素含有基を有する加水分解性シラン化合物を併用することが有用である。パーフルオロポリエーテル基が樹脂溶液中あるいは樹脂塗膜上に存在する場合、パーフルオロポリエーテル基部分が凝集し材料の均一性が損なわれることがある。しかし、このフッ素含有加水分解性シラン化合物の存在により、前述のパーフルオロポリエーテル基の凝集を防止し、均一な塗膜を安定して得ることができるようになる。下記式(13)に一般式を示す。
Figure 2013237259
前記式(13)中、Rfはフッ素原子を有するアルキル基またはアリール基、Xは加水分解性置換基、Rは非加水分解性置換基、aは1または2の整数、bは0から2の整数、a+bは1から3の整数である。
ここで、フッ素原子を有するアルキル基またはアリール基は、フッ素原子を1から10個有するものが好ましい。フッ素原子を3から5個有するものは特に好ましい。フッ素原子を含むことで、パーフルオロポリエーテル基とそれ以外の成分の分離を防ぎ、パーフルオロポリエーテル基の凝集を防止する。一方フッ素原子を多く有し撥水撥油性を示すような化合物では、それ自身が凝集する可能性があり、パーフルオロポリエーテル基の凝集を防止する効果が低下する。
フッ素原子を有するアルキル基またはアリール基の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、フェニル基、ナフチル基などの一部または全部の水素原子がフッ素原子に置換されたものが挙げられる。市販されている試薬では、3,3,3−トリフルオロプロピル基、ペンタフルオロフェニル基、パーフルオロブチル基を有する加水分解性シラン化合物などは容易に入手が可能である。これらの前記式(13)で表される加水分解性シラン化合物は、一種のみを用いてもよく、二種以上を併用してもよい。
本発明に係る縮合物の調製に用いる加水分解性シラン化合物の配合比は、その使用形態に応じて適宜決定される。しかしながら、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物の配合比は、用いられる加水分解性シラン化合物のモル数の合計量を100mol%として計算した場合、0.01〜5mol%であることが好ましい。該配合比は、0.05〜3mol%であることがより好ましい。該配合比が0.01mol%以下である場合十分な撥水性が得られない場合がある。また、該配合比が5mol%以上であると、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物の凝集、析出が発生し均一な塗布溶液又は塗膜が得られない場合がある。
また、下地である光カチオン重合性樹脂層4との接着性、撥水層の耐久性を得る観点から、エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物の配合量も制御することが好ましい。エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物の配合量は、用いられる加水分解性シラン化合物のモル数の合計量を100mol%として計算した場合、10〜90mol%であることが好ましく、30〜70mol%であることがより好ましい。該配合比が10mol%以下である場合、十分な塗膜の耐久性が得られず、該配合比が90mol%以上である場合、エポキシ基の極性による撥水性の低下が起きることがある。
前記式(12)で表される加水分解性シラン化合物を用いる場合には、前記式(12)で表される加水分解性シラン化合物の配合量は、用いられる加水分解性シラン化合物のモル数の合計量を100mol%として計算した場合、5〜70mol%であることが好ましく、10〜50mol%であることがより好ましい。
また前記式(13)で表される加水分解性シラン化合物を用いる場合には、前記式(13)で表される加水分解性シラン化合物の配合量は、用いられる加水分解性シラン化合物のモル数の合計量を100mol%として計算した場合、5〜70mol%であることが好ましく、10〜50mol%であることがより好ましい。
なお、パーフルオロポリエーテル基とは異なるフッ素含有加水分解性シラン化合物は、パーフルオロポリエーテル基の凝集を防ぐものであるから、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物との比率が重要である。パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物のモル比率に対してパーフルオロポリエーテル基とは異なるフッ素含有加水分解性シラン化合物のモル比率は2倍から100倍が好ましい。それぞれのフッ素原子数にもよるが、5倍から50倍であることがより好ましい。パーフルオロポリエーテル基とは異なるフッ素含有加水分解性シラン化合物がそれよりも少なくなるとパーフルオロポリエーテル基の凝集を防ぐ効果が低下し、塗膜表面の凹凸や現像残渣などが発生する場合がある。
一方、パーフルオロポリエーテル基とは異なるフッ素含有加水分解性シラン化合物は、それ自体では撥水撥油や防汚の機能は示さないものが多い。そのためパーフルオロポリエーテル基とは異なるフッ素含有加水分解性シラン化合物の添加量が多くなりすぎると、撥水撥油や防汚の機能は低下する傾向がある。
本発明では、各加水分解性シラン化合物を単独で用いるのではなく、縮合させて縮合物として用いる。これにより、光カチオン重合性樹脂層4と縮合物との相溶性や、塗布時の成膜性が良好となり、光カチオン重合によりパターニングを行う場合にも良好な特性を得ることが可能となる。
この縮合反応は、水の存在下で加熱することにより、加水分解と縮合反応とを進行させることによって行われる。加水分解および/または縮合反応を温度、時間、濃度、pH等で適宜制御することで、所望の縮合度を得ることができる。
ここで、縮合反応の進行度合い(縮合度)は、縮合可能な官能基数に対する縮合した官能基数の割合で定義することができる。縮合可能な官能基は前述の加水分解性置換基に相当する。縮合度は29Si−NMR測定によって見積もることができる。例えば一分子中に3つの加水分解性置換基を有するシラン化合物の場合、以下の比率から下記式に従って計算される。
T0体:他のシラン化合物とは結合していないSi原子
T1体:1つのシラン化合物と酸素を介して結合しているSi原子
T2体:2つのシラン化合物と酸素を介して結合しているSi原子
T3体:3つのシラン化合物と酸素を介して結合しているSi原子
Figure 2013237259
縮合度は、用いる加水分解性シラン化合物の種類、合成条件によっても異なるが、樹脂との相溶性、塗布性の観点から20%以上であることが好ましく、30%以上であることがより好ましく、40%以上であることがさらに好ましい。また、縮合度は析出やゲル化などを防止する観点から90%以下であることが好ましい。ただし、溶液中に溶解した状態で90%を超えることは稀である。さらに、未反応シランの比率が高いと塗布膜の均一性が低下する場合があるため、未反応シラン(T0体)の比率は20%以下であることが好ましい。また、加水分解性基が全て縮合したシランが増加すると、撥水防汚性が低下したり、溶液中にゲルが析出したりする場合がある。例えば溶液中でT3体となったシランでは、置換基の自由度が低下し、塗膜にしたときにフッ素の表面配向を妨げることがあるために撥水防汚性が低下する場合がある。そのため、T3量は50%以下に制御することが好ましい。
なお、一つのシラン原子に対して2つの加水分解性置換基を有するシラン化合物の場合も同様に、以下の式にしたがって縮合度を計算することができる。
D0体:他のシラン化合物とは結合していないSi原子
D1体:1つのシラン化合物と酸素を介して結合しているSi原子
D2体:2つのシラン化合物と酸素を介して結合しているSi原子
Figure 2013237259
同様に、一つのシラン原子に対して1つまたは4つの加水分解性置換基を有するシラン化合物の場合も、それらの加水分解性置換基(縮合可能な基)に対する縮合した基の数の比率で計算する。
また、加水分解および/または縮合反応に際して、金属アルコキシドや酸、アルカリ等を加水分解の触媒として利用し、縮合度を制御することも可能である。金属アルコキシドとしては、アルミニウムアルコキシド、チタニウムアルコキシド、ジルコニアアルコキシド及びそれらの錯体(アセチルアセトン錯体等)等が挙げられる。これらの金属アルコキシドは一種のみを用いてもよく、二種以上を併用してもよい。また、酸やアルカリによりpHを調製することも有用である。アルカリ触媒では溶液中でゲル等の固形物が析出する場合があることから、酸触媒のほうが好ましい。ただし塩酸や硫酸など、無機の強酸が残留した場合、基材など周囲の部材に影響を及ぼすことがある。またpHが低すぎると、縮合生成物中のエポキシ基が開環してしまい塗膜の特性が低下する可能性もある。そのため、カルボン酸などの弱酸で、さらに低分子で揮発性のあるものが好ましい。具体例としては、酢酸、グリコール酸、ギ酸などの低分子の有機酸が好適である。なお、これらの有機酸は合成時に添加するが、原料となるシラン化合物に微量含まれることが多いため、酸を添加しなくとも合成には問題ない場合が多い。
本発明では、複数のシラン化合物を併用するため、シラン化合物の種類によって加水分解および/または縮合反応の速度が大きく異なる場合には注意が必要である。反応速度の速いものだけ縮合反応が進行し、遅いものが未反応で残った場合、塗膜の均一性や撥水性が低下することがある。各々のシラン化合物をできるだけ均一に反応させるためには、酸などの触媒を用いることが好ましい。
前記縮合物は、水酸基、カルボニル基、エーテル結合等の酸素原子を有する非フッ素系の極性有機溶媒中で合成される。具体例としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノールなどのアルコール類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、ジグライム、テトラヒドロフランなどのエーテル類、ジエチレングリコールなどのグリコール類などの非フッ素系の極性溶媒が挙げられる。中でも、水の溶解性が高いアルコール類が最適である。また水分量制御の観点からは、加熱は100℃以下で行うことが好ましい。そのため、加熱還流で反応を行う場合には、沸点が50℃〜100℃である極性溶媒が好適である。これらの極性溶媒は一種のみを用いてもよく、二種以上を併用してもよい。シラン化合物の加水分解縮合反応には、アルコール等の極性溶媒が使用されることが一般的である。本発明でも合成に水や、エポキシ基などの極性基を有するシラン化合物を用いるため、極性溶媒を用いる必要がある。しかし一方で、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物は、極性溶媒に対する溶解性は低い傾向にある。本発明者らは非フッ素系の極性溶媒とフッ素系溶媒との混合溶媒を用いること、パーフルオロポリエーテル基の長さを適性化することで、均一な縮合生成物が合成できることを見出した。
前述のパーフルオロポリエーテル基の繰り返し単位数が多い場合には、非フッ素系溶媒に対する溶解性が低下するため、非フッ素系の極性溶媒とフッ素系溶媒との混合液中で、エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物とを加熱することにより縮合物を得ることが好ましい。パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物は、フッ素原子数が増加するにつれて極性溶媒に対する溶解性が低下する。しかし、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物をよく溶解するフッ素系溶媒中では、水の含有量が低くなってしまうため反応が進行しにくい。本発明者らは非フッ素系の極性溶媒とフッ素系溶媒の混合溶媒を用いることで、溶解性の低いパーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物を用いる場合でも、均一な縮合物が合成できることを見出した。
ここで、非フッ素系の極性溶媒と併用するフッ素系溶媒としては、例えばハイドロフルオロカーボン、パーフルオロカーボン、ハイドロフルオロエーテル、ハイドロフルオロポリエーテル、パーフルオロポリエーテル等が挙げられる。加水分解には水の添加が必要であるため、酸素原子を有しており水との親和性がある、ハイドロフルオロエーテル、ハイドロフルオロポリエーテル、パーフルオロポリエーテル等が好ましい。これらのフッ素系溶媒は一種のみを用いてもよく、二種以上を併用してもよい。
なお、非フッ素系有機溶媒、フッ素系溶媒のいずれにおいても、窒素原子や硫黄原子等の所謂ヘテロ原子を有する溶媒は、塗膜の硬化プロセスに影響を及ぼす可能性があるため好ましくない。
フッ素系溶媒と非フッ素系有機溶媒を混合して用いる場合の組み合わせとしては、特に限定されないが、アルコールとハイドロフルオロエーテルとの組み合わせであることが好ましい。
非フッ素系有機溶媒とフッ素系溶媒との混合比率(体積比)は、2:8〜9:1であることが好ましく、3:7〜8:2であることがより好ましい。なお、エポキシ基を含有する加水分解性シラン化合物は、フッ素系溶媒単独には溶解しにくく、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物は、アルコールには溶解しにくい。また、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物は、保存安定性の観点からフッ素系溶媒に溶解して用いられることが多く、フッ素系溶媒を混合することで使用前の不要な縮合反応を抑制することができる。
反応溶液中における有効成分濃度は、5質量%以上、60質量%以下であることが好ましく、10質量%以上、50質量%以下であることがより好ましい。有効成分濃度が5質量%以上であることにより、十分な反応速度が得られる。有効成分濃度が60質量%以下であることにより、ゲル化、析出の発生を抑制することができる。なお加水分解性シラン化合物の加水分解性基がアルコキシ基の場合、加水分解および/または縮合反応によって、アルコールと水が生成する。そのため、実際の溶液中の成分濃度を算出することは困難である。そこで、全てのアルコキシ基が加水分解され、全てのシラノール基が縮合した、縮合度100%の状態を想定して計算した値をここでは有効成分濃度と定義する。
反応に用いられる水の添加量は、加水分解性シラン化合物の加水分解性置換基に対して、0.5〜3当量であることが好ましく、0.8〜2当量であることがより好ましい。水の添加量が0.5当量以上であることにより、十分な加水分解、縮合反応における反応速度が得られる。水の添加量が3当量以下であることにより、パーフルポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物の析出を抑制することができる。
縮合物を含む層5は、未硬化の光カチオン重合性樹脂層4上に、得られた縮合物を含む溶液をスピンコーター、ダイコーター、スリットコーター、スプレーコーターなど汎用の塗布装置を使用して所望の塗膜を作製することができる。また、材料の濃度を調整すればディップコートも適用できる。
得られた縮合物を溶液として塗布する場合、縮合物を含む溶液の濃度については、縮合物を含む層5の材料や、塗布方法、使用用途によって適宜決定される。例えばスピンコーターやスリットコーターで塗布する場合、縮合物を含む溶液中の縮合物の濃度としては、0.1〜20質量%であることが好ましく、1〜10質量%であることがより好ましい。縮合物の濃度が前記範囲内であれば、十分な撥水性、耐久性が得られ、塗布膜表面全体で均一な撥水性が得られる。
縮合物を含む層5の厚みとしては、50〜10000nmであることが好ましく、80〜5000nmであることがさらに好ましい。膜厚が50nmより小さいと、均一な撥水性が得られにくく、耐久性が不十分な場合がある。また膜厚が厚すぎると、パターンの変形や解像性の低下などのパターニング特性の低下が起こる場合がある。本発明の構成によれば、塗膜の硬化反応にカチオン重合と、熱によるシランの縮重合を併用することで、薄膜でも高い耐久性を発現することができる。
次に、光カチオン重合性樹脂層4及び縮合物を含む層5の硬化領域に対して、マスク6を介して、光8によるパターン露光を行う(図2(d))。光8としては、紫外線を用いることができ、例えばi線(365nm)による単波長での露光を用いることができる。照射領域では、光カチオン重合性樹脂層4に存在する光カチオン重合開始剤より発生した酸が、縮合物を含む層5に拡散する。
また、縮合物を含む層5のパターニング特性の改良を目的に、光重合開始剤、光吸収剤、増感剤、エポキシ樹脂などを縮合物を含む層5に添加することも好適である。
次に、光カチオン重合性樹脂層4及び縮合物を含む層5の露光部分を一括硬化するため、加熱処理を行う(図2(e))。加熱処理を行うことで、露光部分の反応が進行し、後の現像工程での耐性を付与することができる。このとき、光カチオン重合性樹脂層4と縮合物を含む層5との間に、エポキシ基の反応により、エーテル結合が生成する。また、光カチオン重合性樹脂層4と縮合物を含む層5との間では、シラノール基と水酸基との脱水縮合反応も進行すると考えられる。その結果、光カチオン重合性樹脂層4と縮合物を含む層5との間には、より強固な結合が形成され、密着性が確保される。また、光カチオン重合性樹脂層4と縮合物を含む層5との界面で相溶が生じ、樹脂層4と縮合物を含む層5とが混ざり合っている層が存在する場合には、さらに強固な結合が形成され、耐久性が飛躍的に向上する。
次に、光カチオン重合性樹脂層4及び縮合物を含む層5の現像を行い、未露光部を除去して、吐出口9を形成する(図2(f))。また、これにより、部材4及び撥水層5が形成される。現像に用いる現像液としては、光カチオン重合性樹脂層4及び縮合物を含む層5の未露光部を現像可能な溶液であれば特に限定されない。例えば、現像液としては、MIBK(メチルイソブチルケトン)とキシレンとの混合液を用いることができる。現像処理を行った後、イソプロパノール等によりリンス処理を行ってもよい。
次に、基板1の裏面にインク供給口10を形成する。更に、インク流路パターン3を除去することにより、インク流路11を形成する(図2(g))。インク供給口10の形成方法としては、特に限定されないが、例えばアルカリ溶液による異方性エッチングやレーザー照射により形成することができる。インク流路パターン3の除去方法としては、例えば、インク流路パターン3を溶解可能な溶媒に基板1を浸漬し、除去する方法等が挙げられる。また、必要に応じて、インク流路パターン3を分解可能な活性エネルギー線を露光して、インク流路パターン3の溶解性を高めてもよい。
その後、エネルギー発生素子2を駆動させるための電気的接合を行う。さらに、インク供給のためのインク供給部材等を接続して、インクジェット記録ヘッドを完成させることができる。
以下に実施例、比較例を示すが、本発明はこれらに限定されない。各種測定、評価は以下に示す方法により行った。
(縮合度)
調製した縮合物の縮合度は、核磁気共鳴装置(製品名:AVANCE II 500MHz、ブルカーバイオスピン(株)製)を用いて29Si−NMR測定を行い、前記定義より算出した。
(外観)
調製した縮合物を含む溶液と該溶液の塗膜の外観を光学顕微鏡により評価した。
(純水接触角)
作製したインクジェット記録ヘッドの評価として、微小接触角計(製品名:DropMeasure、(株)マイクロジェット製)を用いて、純水に対する動的後退接触角θrの測定を行い、初期撥水性の評価を行った。また、ノズル表面の耐久性評価として、インクに浸漬して60℃で1週間保持した後、水洗し、吐出口付近の純水動的後退接触角θrを測定した。さらに擦りに対する耐久性評価として、ノズル表面に顔料インクを吹き付けながらHNBR(水素化ニトリルゴム)のブレードを用いて拭き取り操作を2000回実施し、その後の純水に対する動的後退接触角θrを測定した。これにより、拭き取りに対する耐久性を調べた。
[実施例1]
エネルギー発生素子2が形成されたシリコンからなる基板1を準備した。基板1上に、ポジ型感光性樹脂材料であるポリメチルイソプロペニルケトンをアセト酢酸エチルに溶解した溶液を、スピンコート法により塗布した。その後、ベークすることによりポジ型感光性樹脂層を形成した。ポジ型感光性樹脂層の厚さは14μmであった。
次に、前記ポジ型感光性樹脂層を感光可能なUV光を、マスクを介して照射し、パターン露光した。その後、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートとメチルイソブチルケトンの混合溶剤を用いて露光部を溶解し現像することで、インク流路パターン3を形成した。
光カチオン重合性樹脂材料(商品名:EHPE−3150、(株)ダイセル製)100質量部と、光カチオン重合開始剤(商品名:SP−172、(株)ADEKA製)6質量部とを、溶媒であるキシレン80質量部に溶解した。この溶液を、スピンコート法にてインク流路パターン3及び基板1上に塗布し、光カチオン重合性樹脂層4を形成した。
エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物とを縮合させて得られる縮合物を以下に示す方法により調製した。γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン12.53g(0.045mol)、メチルトリエトキシシラン8.02g(0.045mol)、前記式(10)で表される化合物1.05g(0.00091mol)、水5.95g及びエタノール13.4g、ハイドロフルオロエーテル4.20g(商品名:HFE7200、住友スリーエム(株)製)を、冷却管を備えるフラスコ内で、室温で5分間撹拌した。その後、24時間加熱還流することによって、縮合物を調製した。
得られた縮合物を、2−ブタノール/エタノールを用いて有効成分濃度が7質量%となるように希釈した。この希釈した溶液を、スリットコーターを用いて未硬化の光カチオン重合性樹脂層4上に塗布し、縮合物を含む層5を形成した。
次に、光カチオン重合性樹脂層4及び縮合物を含む層5に対してマスク6を介してi線を照射した。その後、90℃で4分間加熱処理を行い、照射領域を硬化させた。MIBKとキシレンとの混合液で現像処理を行った後、イソプロパノールでリンス処理を行い、吐出口9を形成した。
次に、基板1の裏面からアルカリ溶液による異方性エッチングを行い、インク供給口10を形成した。その後、基板1にインク流路パターン3を分解させるためのUV光を照射した後に乳酸メチルに浸漬し、インク流路パターン3を溶解除去することにより、インク流路11を形成した。
その後、エネルギー発生素子2を駆動させるための電気的接合を行った。さらに、インク供給のためのインク供給部材を接続し、インクジェット記録ヘッドを完成させた。得られたインクジェット記録ヘッドを前記方法により評価した。結果を表1に示す。
[実施例2〜24]
表1に示すシラン化合物の種類と配合比、及び溶媒比率を用いた以外は、実施例1と同様にインクジェット記録ヘッドを作製し、評価した。結果を表1に示す。
[比較例1及び2]
表1に示す加水分解性シラン化合物の種類と配合比、触媒、及び溶媒の配合比を用いた以外は、実施例1と同様にインクジェット記録ヘッドを作製し、評価した。結果を表1に示す。
[比較例3]
エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物とを縮合させずに混合のみ行ったこと以外は、実施例1と同様にインクジェット記録ヘッドを作製し、評価した。結果を表1に示す。
Figure 2013237259
表1中の略号は以下の通りである。
(i):前記式(10)で表される化合物
(ii):前記式(11)で表される化合物
(iii):前記式(7)で表される化合物
(iv):前記式(8)で表される化合物
(v):前記式(9)で表される化合物
(vi):トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン
GPTES:γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン
GPMDMS:γ−グリシドキシプロピルメチルトリメトキシシラン
MTEOS:メチルトリエトキシシラン
DMDES:ジメチルジエトキシシラン
PhTES:フェニルトリエトキシシラン
HETES:n−ヘキシルトリエトキシシラン
TMES:トリメチルエトキシシラン
TFPTMS:3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン
PFPTES:ペンタフルオロフェニルトリエトキシシラン
C4FTMS:ノナフルオロヘキシルトリメトキシシラン
C6FTES:(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル)トリエトキシシラン
表1より、本実施例で作製したインクジェット記録ヘッドは、表面の平滑性が良好で初期のθrが大きく良好な撥水性を示すことが確認された。また、耐久試験後も高い撥水性を示すことが確認された。以上から、実施例1〜24のいずれの条件においても、撥水層5と部材4との密着力が向上し、拭き取りに対する耐久性が向上していることが示された。さらに、該インクジェット記録ヘッドを用いて印字評価を行ったところ、印字ヨレ等は観察されず、高い印字品位を示した。
一方、比較例1、2及び3においては、いずれも撥水性、耐久性が低かった。
1 基板
2 エネルギー発生素子
3 インク流路パターン
4 部材(光カチオン重合性樹脂層)
5 撥水層(縮合物を含む層)
6 マスク
7 遮光部
8 光
9 吐出口
10 インク供給口
11 インク流路

Claims (16)

  1. インクを吐出する吐出口が設けられた部材を備えるインクジェット記録ヘッドであって、
    前記吐出口が開口している側の前記部材の表面に、エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物とを縮合させて得られる縮合物の硬化物を含む撥水層を備えるインクジェット記録ヘッド。
  2. 前記撥水層が、さらに、エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物とを縮合させて得られる縮合物と、エポキシ樹脂とを硬化反応させて得られる硬化物を含む請求項1に記載のインクジェット記録ヘッド。
  3. 前記エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物が、下記式(1)で表される請求項1または2に記載のインクジェット記録ヘッド。
    Figure 2013237259
    (式(1)中、RCはエポキシ基を有する非加水分解性置換基、Rは非加水分解性置換基、Xは加水分解性置換基である。bは0から2の整数である。)
  4. 前記パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物が、下記式(2)、(3)、(4)及び(5)で表される化合物の少なくとも一種である請求項1から3のいずれか1項に記載のインクジェット記録ヘッド。
    Figure 2013237259
    Figure 2013237259
    Figure 2013237259
    Figure 2013237259
    (式(2)、(3)、(4)及び(5)中、Rpはパーフルオロポリエーテル基、Aは炭素数1から12の有機基、Xは加水分解性置換基、Yは非加水分解性置換基、Zは水素原子又はアルキル基、Rは非加水分解性置換基、Qは2価の時にn=1、3価の時にn=2となる結合基である。aは1から3の整数、mは1から4の整数である。)
  5. 前記式(2)、(3)、(4)及び(5)において、Rpが下記式(6)で表される請求項4に記載のインクジェット記録ヘッド。
    Figure 2013237259
    (式(6)中、o、p、q及びrはそれぞれ0又は1以上の整数であり、o、p、q及びrの少なくとも一つは1以上の整数である。)
  6. 前記式(2)、(3)、(4)及び(5)におけるRp内の繰り返し単位数、又は、前記式(6)におけるo、p、qもしくはrが、1から30の整数である請求項4または5に記載のインクジェット記録ヘッド。
  7. 前記縮合物が、エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物に加えて、さらに、下記式(12)で表される加水分解性シラン化合物を縮合させて得られる縮合物である請求項3から6のいずれか1項に記載のインクジェット記録ヘッド。
    Figure 2013237259
    (式(12)中、Rdはアルキル基または芳香族基、Xは加水分解性置換基である。aは1から3の整数である。)
  8. 前記縮合物が、エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物に加えて、さらにパーフルオロポリエーテル基とは異なるフッ素含有基を有する加水分解性シラン化合物を縮合させて得られる縮合物である請求項3から6のいずれか1項に記載のインクジェット記録ヘッド。
  9. 前記パーフルオロポリエーテル基とは異なるフッ素含有基を有する加水分解性シラン化合物が下記式(13)で表される加水分解性シラン化合物である請求項8に記載のインクジェット記録ヘッド。
    Figure 2013237259
    (式(13)中、Rfはフッ素原子を有するアルキル基またはアリール基、Xは加水分解性置換基、Rは非加水分解性置換基、aは1または2の整数、bは0から2の整数、a+bは1から3の整数である。)
  10. 前記エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物とを縮合させて得られる縮合物が、非フッ素系有機溶媒とフッ素系溶媒との混合液中で、前記エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、前記パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物とを加熱することにより得られる請求項1から9のいずれか1項に記載のインクジェット記録ヘッド。
  11. 前記非フッ素系有機溶媒とフッ素系溶媒との混合液が、アルコールとハイドロフルオロエーテルとの混合液である請求項10に記載のインクジェット記録ヘッド。
  12. 前記エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、前記パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物とを縮合させる際に、加水分解および/または縮合反応の触媒として有機酸を用いる請求項10または11に記載のインクジェット記録ヘッド。
  13. 前記有機酸が酢酸またはギ酸である請求項12に記載のインクジェット記録ヘッド。
  14. 基板と、インクを吐出する吐出口が設けられた部材と、該吐出口が開口している側の該部材の表面に設けられた撥水層とを備えるインクジェット記録ヘッドの製造方法であって、
    (1)基板上にエポキシ基を有する光カチオン重合性樹脂材料を含む光カチオン重合性樹脂層を形成する工程と、
    (2)未硬化の前記光カチオン重合性樹脂層上に、エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物とを縮合させて得られる縮合物を含む層を形成する工程と、
    (3)前記光カチオン重合性樹脂層及び前記縮合物を含む層を同時にパターン露光する工程と、
    (4)前記光カチオン重合性樹脂層及び前記縮合物を含む層の露光部分を、一括硬化する工程と、
    (5)前記光カチオン重合性樹脂層及び前記縮合物を含む層の未露光部を除去して、吐出口を形成し、部材及び撥水層とする工程と、
    を含むインクジェット記録ヘッドの製造方法。
  15. 前記工程(2)において、前記縮合物を含む層が、エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物と、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物とを縮合させて得られる縮合物を含む溶液を、前記未硬化の光カチオン重合性樹脂層上に塗布することによって形成される請求項14に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
  16. 前記縮合物の縮合度が40%以上、90%以下である請求項1から9のいずれか1項に記載のインクジェット記録ヘッド。
JP2013041650A 2012-04-18 2013-03-04 インクジェット記録ヘッド Active JP5591361B2 (ja)

Priority Applications (10)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013041650A JP5591361B2 (ja) 2012-04-18 2013-03-04 インクジェット記録ヘッド
PCT/JP2013/061960 WO2013157659A1 (en) 2012-04-18 2013-04-17 Ink jet recording head and manufacturing method therefor
US14/383,223 US9150697B2 (en) 2012-04-18 2013-04-17 Ink jet recording head and manufacturing method therefor
EP13722862.3A EP2838731B1 (en) 2012-04-18 2013-04-17 Ink jet recording head and manufacturing method therefor
RU2014146192/12A RU2576507C1 (ru) 2012-04-18 2013-04-17 Головка для струйной печати и способ ее изготовления
CN201380020544.8A CN104245325B (zh) 2012-04-18 2013-04-17 喷墨记录头及其制造方法
KR1020147031498A KR101666291B1 (ko) 2012-04-18 2013-04-17 잉크젯 기록 헤드 및 그의 제조 방법
BR112014025014-6A BR112014025014B1 (pt) 2012-04-18 2013-04-17 Cabeça de gravação a jato de tinta e método de fabricação da mesma
US14/719,908 US9273187B2 (en) 2012-04-18 2015-05-22 Ink jet recording head and manufacturing method therefor
US15/002,798 US9394409B2 (en) 2012-04-18 2016-01-21 Ink jet recording head

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012094782 2012-04-18
JP2012094782 2012-04-18
JP2013041650A JP5591361B2 (ja) 2012-04-18 2013-03-04 インクジェット記録ヘッド

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014146539A Division JP5859070B2 (ja) 2012-04-18 2014-07-17 インクジェット記録ヘッド及びその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2013237259A true JP2013237259A (ja) 2013-11-28
JP5591361B2 JP5591361B2 (ja) 2014-09-17

Family

ID=48444529

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013041650A Active JP5591361B2 (ja) 2012-04-18 2013-03-04 インクジェット記録ヘッド

Country Status (8)

Country Link
US (3) US9150697B2 (ja)
EP (1) EP2838731B1 (ja)
JP (1) JP5591361B2 (ja)
KR (1) KR101666291B1 (ja)
CN (1) CN104245325B (ja)
BR (1) BR112014025014B1 (ja)
RU (1) RU2576507C1 (ja)
WO (1) WO2013157659A1 (ja)

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015120346A (ja) * 2013-12-23 2015-07-02 ゼロックス コーポレイションXerox Corporation フッ素化オルガノシロキサン網目構造組成物
JP2015136823A (ja) * 2014-01-21 2015-07-30 キヤノン株式会社 液体吐出ヘッド及びその製造方法
JP2015136894A (ja) * 2014-01-23 2015-07-30 株式会社リコー ノズルプレート、液体吐出ヘッド及びインクジェット記録装置
JP2016038468A (ja) * 2014-08-07 2016-03-22 キヤノン株式会社 感光性樹脂層のパターニング方法
JP2016043515A (ja) * 2014-08-20 2016-04-04 キヤノン株式会社 インクジェット記録ヘッドおよびその製造方法
JP2016150522A (ja) * 2015-02-18 2016-08-22 キヤノン株式会社 液体吐出ヘッドおよびその製造方法
US20160357106A1 (en) * 2015-06-05 2016-12-08 Canon Kabushiki Kaisha Method for imparting water repellency to surface of member
US9561655B2 (en) 2015-01-16 2017-02-07 Ricoh Company, Ltd. Liquid discharging head, liquid discharging unit, and device to discharge liquid
JP2017132252A (ja) * 2016-01-27 2017-08-03 株式会社リコー ノズル板、液体吐出ヘッド、液体吐出ユニット、液体を吐出する装置、ノズル板の製造方法
JP2017154055A (ja) * 2016-02-29 2017-09-07 キヤノン株式会社 膜の製造方法
US10252526B2 (en) 2014-10-25 2019-04-09 Ricoh Company, Ltd. Nozzle plate, liquid discharge head, liquid discharge device, and apparatus for discharging liquid
US10570291B2 (en) 2016-10-20 2020-02-25 Canon Kabushiki Kaisha Method for manufacturing coating material
WO2022163319A1 (ja) * 2021-01-28 2022-08-04 ダイキン工業株式会社 フルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含有する組成物

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5591361B2 (ja) * 2012-04-18 2014-09-17 キヤノン株式会社 インクジェット記録ヘッド
JP6053580B2 (ja) 2013-03-13 2016-12-27 キヤノン株式会社 微細パターン表面の撥水処理方法
JP6207212B2 (ja) 2013-04-23 2017-10-04 キヤノン株式会社 液体吐出ヘッドの製造方法
JP6214343B2 (ja) * 2013-10-30 2017-10-18 キヤノン株式会社 インクジェット記録ヘッド用封止剤およびインクジェット記録ヘッド
JP6331688B2 (ja) * 2014-05-23 2018-05-30 株式会社リコー 液体吐出ヘッド及びその製造方法、並びに液体吐出装置及び画像形成装置
JP2018086746A (ja) 2016-11-28 2018-06-07 キヤノン株式会社 撥液面上の有機物残渣の検査方法および液体吐出ヘッドの製造方法
US11820912B2 (en) * 2017-05-25 2023-11-21 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Fluoropolyether group-containing polymer-modified organic silicon compound, surface treatment agent, and article
JP2018202805A (ja) 2017-06-08 2018-12-27 キヤノン株式会社 液体吐出ヘッド及びその製造方法並びに印字装置
US11865839B2 (en) * 2019-07-30 2024-01-09 Konica Minolta, Inc. Nozzle plate nozzle plate manufacturing method and inkjet head

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000117902A (ja) * 1998-10-12 2000-04-25 Toray Ind Inc シートまたはフィルム
JP2001246756A (ja) * 2000-03-02 2001-09-11 Ricoh Co Ltd インクジェット記録ヘッドおよび該ヘッドを用いたインクジェットプリンタ
JP2007518587A (ja) * 2003-07-22 2007-07-12 キヤノン株式会社 インクジェットヘッドおよびその製造方法
JP2008213201A (ja) * 2007-03-01 2008-09-18 Ulvac Japan Ltd 吐出装置、吐出ヘッド、吐出ヘッド製造方法
JP2009190926A (ja) * 2008-02-14 2009-08-27 Sumco Corp シリコン単結晶製造における数値解析方法
JP2010023525A (ja) * 2009-11-02 2010-02-04 Canon Inc インクジェットヘッド及びその製造方法
JP2011073442A (ja) * 2009-09-02 2011-04-14 Canon Inc 液体吐出ヘッド
JP2012081601A (ja) * 2010-10-07 2012-04-26 Canon Inc インクジェットヘッド及びその製造方法
JP2012091449A (ja) * 2010-10-28 2012-05-17 Canon Inc インクジェット記録ヘッドの製造方法
JP2012091405A (ja) * 2010-10-27 2012-05-17 Canon Inc インクジェットヘッドおよびその製造方法
JP2012126107A (ja) * 2010-12-17 2012-07-05 Canon Inc インクジェット記録ヘッドの製造方法
JP2013170170A (ja) * 2012-02-17 2013-09-02 Canon Inc 撥液膜及びその製造方法、並びにこの撥液膜を用いた微細構造体及びその製造方法

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4118184A1 (de) 1991-06-03 1992-12-10 Inst Neue Mat Gemein Gmbh Beschichtungszusammensetzungen auf der basis von fluorhaltigen anorganischen polykondensaten, deren herstellung und deren verwendung
JP3161106B2 (ja) * 1992-12-10 2001-04-25 セイコーエプソン株式会社 インクジェット記録ヘッド及びその製造方法
JPH06210857A (ja) 1993-01-21 1994-08-02 Seiko Epson Corp インクジェット記録ヘッドの製造方法
SG83635A1 (en) 1994-08-30 2001-10-16 Xaar Ltd Coating, coating composition and method of forming coating
WO1998000295A1 (de) 1996-06-28 1998-01-08 Pelikan Produktions Ag Antitrielbeschichtung für tintenstrahldruckköpfe
KR100579120B1 (ko) * 2001-08-10 2006-05-12 가부시끼가이샤 도시바 잉크젯 헤드의 제조방법, 잉크젯 헤드, 잉크 도포장치,잉크 도포방법, 유기전계발광 표시장치 및 그 제조방법
US7344235B2 (en) * 2002-01-15 2008-03-18 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Ink composition for ink jet recording, ink cartridge, nozzle plate for ink jet recording, ink jet head, and recording apparatus
KR100880753B1 (ko) * 2006-01-20 2009-02-02 캐논 가부시끼가이샤 잉크 제트 헤드 및 그의 제조 방법
JP2008214566A (ja) * 2007-03-07 2008-09-18 Shin Etsu Chem Co Ltd 硬化性フルオロポリエーテル組成物の硬化皮膜を有するゴム
JP5108565B2 (ja) * 2008-03-07 2012-12-26 株式会社リコー 液滴吐出ヘッドとその製造方法、液滴吐出ヘッドを具備した画像記録装置
US8733897B2 (en) * 2008-10-30 2014-05-27 Fujifilm Corporation Non-wetting coating on a fluid ejector
US8191992B2 (en) * 2008-12-15 2012-06-05 Xerox Corporation Protective coatings for solid inkjet applications
JP5591361B2 (ja) 2012-04-18 2014-09-17 キヤノン株式会社 インクジェット記録ヘッド
JP6053580B2 (ja) 2013-03-13 2016-12-27 キヤノン株式会社 微細パターン表面の撥水処理方法
JP6168825B2 (ja) 2013-04-11 2017-07-26 キヤノン株式会社 コーティング材料、コーティング及びその製造方法、並びにインクジェットヘッド及びその製造方法
JP6207212B2 (ja) 2013-04-23 2017-10-04 キヤノン株式会社 液体吐出ヘッドの製造方法
JP6214343B2 (ja) 2013-10-30 2017-10-18 キヤノン株式会社 インクジェット記録ヘッド用封止剤およびインクジェット記録ヘッド

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000117902A (ja) * 1998-10-12 2000-04-25 Toray Ind Inc シートまたはフィルム
JP2001246756A (ja) * 2000-03-02 2001-09-11 Ricoh Co Ltd インクジェット記録ヘッドおよび該ヘッドを用いたインクジェットプリンタ
JP2007518587A (ja) * 2003-07-22 2007-07-12 キヤノン株式会社 インクジェットヘッドおよびその製造方法
JP2008213201A (ja) * 2007-03-01 2008-09-18 Ulvac Japan Ltd 吐出装置、吐出ヘッド、吐出ヘッド製造方法
JP2009190926A (ja) * 2008-02-14 2009-08-27 Sumco Corp シリコン単結晶製造における数値解析方法
JP2011073442A (ja) * 2009-09-02 2011-04-14 Canon Inc 液体吐出ヘッド
JP2010023525A (ja) * 2009-11-02 2010-02-04 Canon Inc インクジェットヘッド及びその製造方法
JP2012081601A (ja) * 2010-10-07 2012-04-26 Canon Inc インクジェットヘッド及びその製造方法
JP2012091405A (ja) * 2010-10-27 2012-05-17 Canon Inc インクジェットヘッドおよびその製造方法
JP2012091449A (ja) * 2010-10-28 2012-05-17 Canon Inc インクジェット記録ヘッドの製造方法
JP2012126107A (ja) * 2010-12-17 2012-07-05 Canon Inc インクジェット記録ヘッドの製造方法
JP2013170170A (ja) * 2012-02-17 2013-09-02 Canon Inc 撥液膜及びその製造方法、並びにこの撥液膜を用いた微細構造体及びその製造方法

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015120346A (ja) * 2013-12-23 2015-07-02 ゼロックス コーポレイションXerox Corporation フッ素化オルガノシロキサン網目構造組成物
JP2015136823A (ja) * 2014-01-21 2015-07-30 キヤノン株式会社 液体吐出ヘッド及びその製造方法
JP2015136894A (ja) * 2014-01-23 2015-07-30 株式会社リコー ノズルプレート、液体吐出ヘッド及びインクジェット記録装置
JP2016038468A (ja) * 2014-08-07 2016-03-22 キヤノン株式会社 感光性樹脂層のパターニング方法
JP2016043515A (ja) * 2014-08-20 2016-04-04 キヤノン株式会社 インクジェット記録ヘッドおよびその製造方法
US10252526B2 (en) 2014-10-25 2019-04-09 Ricoh Company, Ltd. Nozzle plate, liquid discharge head, liquid discharge device, and apparatus for discharging liquid
US9561655B2 (en) 2015-01-16 2017-02-07 Ricoh Company, Ltd. Liquid discharging head, liquid discharging unit, and device to discharge liquid
JP2016150522A (ja) * 2015-02-18 2016-08-22 キヤノン株式会社 液体吐出ヘッドおよびその製造方法
US20160357106A1 (en) * 2015-06-05 2016-12-08 Canon Kabushiki Kaisha Method for imparting water repellency to surface of member
US10274826B2 (en) * 2015-06-05 2019-04-30 Canon Kabushiki Kaisha Method for imparting water repellency to surface of member
JP2017132252A (ja) * 2016-01-27 2017-08-03 株式会社リコー ノズル板、液体吐出ヘッド、液体吐出ユニット、液体を吐出する装置、ノズル板の製造方法
JP2017154055A (ja) * 2016-02-29 2017-09-07 キヤノン株式会社 膜の製造方法
US10570291B2 (en) 2016-10-20 2020-02-25 Canon Kabushiki Kaisha Method for manufacturing coating material
WO2022163319A1 (ja) * 2021-01-28 2022-08-04 ダイキン工業株式会社 フルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含有する組成物
JP2022115807A (ja) * 2021-01-28 2022-08-09 ダイキン工業株式会社 フルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含有する組成物

Also Published As

Publication number Publication date
WO2013157659A1 (en) 2013-10-24
CN104245325A (zh) 2014-12-24
US20150251419A1 (en) 2015-09-10
JP5591361B2 (ja) 2014-09-17
US20160136954A1 (en) 2016-05-19
CN104245325B (zh) 2016-09-07
US9273187B2 (en) 2016-03-01
BR112014025014A2 (pt) 2017-06-20
KR20150008097A (ko) 2015-01-21
EP2838731A1 (en) 2015-02-25
BR112014025014B1 (pt) 2021-08-10
US9150697B2 (en) 2015-10-06
EP2838731B1 (en) 2018-11-14
KR101666291B1 (ko) 2016-10-13
RU2576507C1 (ru) 2016-03-10
US9394409B2 (en) 2016-07-19
US20150077470A1 (en) 2015-03-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5591361B2 (ja) インクジェット記録ヘッド
JP6168825B2 (ja) コーティング材料、コーティング及びその製造方法、並びにインクジェットヘッド及びその製造方法
JP4424751B2 (ja) インクジェットヘッドおよびその製造方法
JP6207212B2 (ja) 液体吐出ヘッドの製造方法
JP6700859B2 (ja) 膜の製造方法
JP6525630B2 (ja) 液体吐出ヘッドおよびその製造方法
JP2017121787A (ja) 基材上に部分撥液領域を形成する方法
JP5859070B2 (ja) インクジェット記録ヘッド及びその製造方法
JP2019064206A (ja) 液体吐出ヘッド、液体吐出ヘッドの製造方法及び記録方法
JP5539155B2 (ja) インクジェット記録ヘッドの製造方法
JP6351274B2 (ja) 液体吐出ヘッド及びその製造方法
US20160041469A1 (en) Method for patterning photosensitive resin layer
JP7475854B2 (ja) 撥液防汚膜およびその製造方法
JP7071223B2 (ja) 液体吐出ヘッド、液体吐出ヘッドの製造方法、及び記録方法
KR100880752B1 (ko) 잉크 제트 헤드 및 그의 제조 방법
JP2018161810A (ja) 液体吐出ヘッドの製造方法
KR20060036465A (ko) 잉크 제트 헤드 및 그의 제조 방법
US20160357106A1 (en) Method for imparting water repellency to surface of member
US20150309407A1 (en) Composition, method for producing film with the composition, and method for producing liquid discharge head

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140408

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20140430

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140609

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140701

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140729

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5591361

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151