JP2016038468A - 感光性樹脂層のパターニング方法 - Google Patents
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Abstract
Description
(式(9)中、sは1〜30の整数、mは1〜4の整数である。)
(式(10)中、tは1〜30の整数である。)
(式(11)中、eおよびfは1〜30の整数である。)
(式(12)中、gは1〜30の整数である。)
(式(13)中、Rmはメチル基または水素原子、hは1〜30の整数である。)
シリコン基板を用意し、シリコン基板1の上に第1の感光性樹脂層を形成した。まず、第1の樹脂として光重合性樹脂(商品名:157S70、三菱化学製)100質量部と、光酸発生剤(商品名:CPI−410S、サンアプロ製)3質量部とを、溶媒であるプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート(以下、PGMEA)80質量部に溶解させ、塗工液を得た。この塗工液をシリコン基板上にスピンコートにより膜厚10μmとなるように塗布し、90℃で5分間加熱処理して、第1の感光性樹脂層を形成した。
第2の感光性樹脂層に関して、第2の樹脂をEP4000S(商品名、ADEKA製)とし、光酸発生剤の含有量を0.2質量部とした以外は、実施例1と同様の方法でパターンを形成した。
第2の感光性樹脂層に関して、第2の樹脂をEX−321L(商品名、ナガセケムテックス製)とし、光酸発生剤の含有量を0.2質量部とした以外は、実施例1と同様の方法でパターンを形成した。
第2の感光性樹脂層に関して、光酸発生剤をSP172(商品名、ADEKA製)とし、光酸発生剤の含有割合を0.2質量部とした以外は、実施例1と同様の方法でパターンを形成した。
第2の感光性樹脂層に関して、各加水分解性シラン化合物からなる縮合物と第2の樹脂と光酸発生剤の含有割合を表1に示した値とした以外は、実施例1と同様の方法でパターンを形成した。
第1の感光性樹脂層が含有する第1の樹脂をVG3101(商品名、プリンテック製)とした。これ以外は、実施例1と同様の方法でパターンを形成した。
第1の感光性樹脂層が含有する第1の樹脂をN865(商品名、大日本インキ化学工業製)とした。これ以外は、実施例1と同様の方法でパターンを形成した。
第1の感光性樹脂層が含有する第1の樹脂をEHPE−3150(商品名、ダイセル製)とした。これ以外は、実施例1と同様の方法でパターンを形成した。
第1の感光性樹脂層が含有する第1の樹脂と、第2の感光性樹脂層が含有する第2の樹脂とを入れ替えた。これ以外は実施例1と同様の方法でパターンを形成した。
円柱形状のパターンを形成した位置で切断を行い、断面の形状を走査型電子顕微鏡(商品名;S−4300、日立ハイテクノロジーズ製)を用いて観察した。この結果を以下の基準で評価した。
A:図2(b)のように第1の感光性樹脂層4と第2の感光性樹脂層5との境界12が直線となっており良好にパターニングされているもの。
B:図2(c)のように階段形状となっているか、図2(d)のように突起が形成されているもの。
Claims (7)
- 感光性樹脂層のパターニング方法であって、
第1の樹脂を含有する第1の感光性樹脂層の上に、前記第1の樹脂とは異なる第2の樹脂と溶媒とを含有する第2の感光性樹脂層を積層させる積層工程と、
前記第1の感光性樹脂層と前記第2の感光性樹脂層とを一括して露光及び現像することで前記第1の感光性樹脂層と前記第2の感光性樹脂層とをパターニングするパターニング工程と、を有し、
前記第2の樹脂は前記第1の樹脂よりも前記溶媒に対する溶解性が高いことを特徴とする感光性樹脂層のパターニング方法。 - 前記第2の感光性樹脂層は光酸発生剤を含有する請求項1に記載の感光性樹脂層のパターニング方法。
- 前記第1の感光性樹脂層は光酸発生剤を含有する請求項1または2に記載の感光性樹脂層のパターニング方法。
- 前記第1の樹脂は多官能の光カチオン重合性基を有する光重合性樹脂である請求項1乃至3のいずれか1項に記載の感光性樹脂層のパターニング方法。
- 前記第2の樹脂は多官能の光カチオン重合性基を有する光重合性樹脂である請求項1乃至4のいずれか1項に記載の感光性樹脂層のパターニング方法。
- 前記第2の感光性樹脂層は、パーフルオロポリエーテル基を有する加水分解性シラン化合物と、エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物とを縮合させて得られる縮合物を含有する請求項1乃至5のいずれか1項に記載の感光性樹脂層のパターニング方法。
- 前記第2の感光性樹脂層が含有する光酸発生剤が、下記式(7)で表されるカチオン部構造と、下記式(8)で表されるアニオン部構造を含む光酸発生剤である請求項1乃至6のいずれかに記載の感光性樹脂層のパターニング方法。
(式(7)中、R1からR3は、それぞれ置換基を有してもよい炭素数1〜30の有機基を表す。但し、R1からR3の全構成原子中に、酸素原子を少なくとも2つ以上含有する。式(8)中、R4は、フッ素原子で置換してもよい炭素数1から30の炭化水素基を表す。Dは炭素原子、窒素原子、リン原子、ホウ素原子、アンチモン原子から選ばれ、Eは−S(=O)2−、フッ化アルキル基、−CF2−O−、−CF2−C(=O)−、−CF2−C(=O)−O−、−CF2−O−C(=O)−、単結合から選ばれる。R4はフッ素原子で置換してもよい炭素数1〜30の炭化水素基を表す。mとnは、Dが炭素原子の場合m+n=3、かつn=0〜2の整数、Dが窒素原子の場合m+n=2、かつn=0、1の整数を表す。また、Dがリン原子またはアンチモン原子の場合m+n=6、かつn=0〜6の整数、Dがホウ素原子の場合m+n=4、かつn=0〜3の整数を表す。)
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