JP2016043515A - インクジェット記録ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】液体を吐出するエネルギーを発生するエネルギー発生素子2を有する基板1と、液体を吐出するための吐出口12、および前記吐出口と連通する液体流路13を有するインクジェット記録ヘッドにおいて、吐出口12を形成する部材4の表面に、撥液層5を形成する工程と、撥液層5に対して部分的に撥液層中の撥液成分の分解波長を含む光9を照射して、撥液層5の同一面内に撥液領域10と非撥液領域11を形成する。
【選択図】図2
Description
すなわち、本発明の一形態によれば、液体を吐出するエネルギーを発生するエネルギー発生素子を有する基板と、液体を吐出するための吐出口、および前記吐出口と連通する液体流路を有するインクジェット記録ヘッドの製造方法であって、前記吐出口を形成する部材の吐出口形成面全面に撥液層を形成する工程と、前記撥液層の撥液性を部分的に低下させて、前記撥液層の同一面内に、純水に対する接触角が80度以上となる撥液領域と、純水に対する接触角が前記撥液領域よりも30度以上低い非撥液領域を形成する工程と、を含むことを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法が提供される。
具体的には、パーフルオロアルキル基として式(2)、パーフルオロポリエーテル基として式(3)で表される基を含有するフッ素化合物等が挙げられる。
特に、式(6)〜(8)のモノマーユニットは、Qが炭素数1のメチレンであり、Aが酸素原子をカルボニル基側に有する(メタ)アクリレートユニットであることが好ましい。また、式(7)中のRcで表されるカチオン重合性基とは、エポキシ基、ビニルエーテル基、オキセタニル基等のカチオン重合性樹脂と同様の官能基が挙げられる。
図2に示す工程により、インジェット記録ヘッドを作製した。まず、エネルギー発生素子2を設けた基板1上に、インク流路13の型となるポジ型感光性樹脂としてポリメチルイソプロペニルケトン(商品名、「ODUR−1010」、東京応化工業(株)製)をスピンコート法により塗布した。続いて、120℃で6分間熱処理を行うことで、厚さ14μmのポジ型感光性樹脂層を形成した。次いで、露光装置UX3000(商品名、ウシオ電機(株)製)によってインク流路のパターンを露光し、MIBK(メチルイソブチルケトン)を用いてポジ型感光性樹脂層の露光部を現像した後に、IPA(イソプロピルアルコール)でリンス処理を行うことで型材3を形成した(図2(a))。
次いで、第2の露光工程を行った。吐出口12に対応する領域を除き、非撥液領域11を形成する領域を、第2のマスク8を介して、MA200compact(商品名、ズース・マイクロテック(株)製)により、270nm以下の波長を用いて、150J/m2で露光した(図2(e))。
次に、アルカリ溶液であるTMAH(テトラメチルアンモニウムヒドロキシド)を用いて基板1に対して異方性エッチングを行い、供給路14を形成した。その後、基板1を乳酸メチルに浸漬することで、型材3を溶解除去し、流路13を形成した(図2(h))。
その後、エネルギー発生素子2を駆動させるための電気的接合を行った。さらに、インク供給のためのインク供給部材等を接続し、インクジェット記録ヘッドを作製した。後述する評価方法で、このインクジェット記録ヘッドを評価した。なお、作製したインクジェット記録ヘッドの撥液領域および非撥液領域について、DropMeasure(商品名、(株)マイクロジェット製)を用いて、純水に対する動的後退接触角θrの測定を行ったところ、撥液領域は97度、非撥液領域は56度であった。
インクジェット記録ヘッドの吐出口表面を、図7に示す模式図のように吐出口12に対して、撥液領域10と非撥液領域11を形成した以外は、実施例1と同様にインクジェット記録ヘッドを作製し、評価した。作製したインクジェット記録ヘッドの撥液領域および非撥液領域の純水に対する動的後退接触角θrはそれぞれ、97度と54度であった。
フッ素含有化合物として、下式(9)の各モノマー単位を25:25:50のモル比で含む共重合体を用いた以外は、実施例1と同様にインクジェット記録ヘッドを作製し、評価した。作製したインクジェット記録ヘッドの撥液領域および非撥液領域の純水に対する動的後退接触角θrはそれぞれ、95度と55度であった。
図3に示すように、第2のマスク8を用いた第2の露光工程を、吐出口12を形成した後に行った(図3(g))以外は、実施例1と同様にインジェット記録ヘッドを作製し、評価した。作製したインクジェット記録ヘッドの撥液領域および非撥液領域の純水に対する動的後退接触角θrはそれぞれ、97度と60度であった。
図4(a)〜(e)に示すように、吐出口形成部材4に吐出口12を形成した。次に、撥液材層5Pをスリットコート法で形成(図4(f))し、全面に第1露光光7を照射して撥液層5を形成した(図4(g))。第3のマスク15を用いて、第2露光光9を照射する第2の露光工程を行った(図4(h))。その後は、実施例1と同様にして供給路14,流路13を形成してインジェット記録ヘッドを作製し(図4(i))、評価した。作製したインクジェット記録ヘッドの撥液層5における撥液領域10および非撥液領域11の純水に対する動的後退接触角θrはそれぞれ、95度と60度であった。
比較のために、図5に示すように撥液層55を部分的に除去することにより形成した非撥液領域58を設けたインクジェット記録ヘッドを作製した。以下に図5を用いて、非撥液領域58を設けたインクジェット記録ヘッドについて説明する。なお、基板51,エネルギー発生素子52、型材53、光カチオン重合性樹脂層54Pおよび撥液材層55Pは、実施例1と同様のものを用いた。
作製したそれぞれのインクジェット記録ヘッドに黒インクを充填し、ブレードワイピング後の連続印字試験を行った。ブレードワイピングを表2に示す回数行った後、それぞれA4サイズの記録紙11枚に対して、全吐出口からインクを吐出させるベタ印字を連続で行い、インクミストから生成したインク滴がノズルに引き込まれる事で不吐出が発生するか観察した。不吐出の観察は、ベタ印字の白スジ(不吐出)を目視確認することで行った。評価の基準は以下の通りである。
○:白スジが0本ないし1本しか認識できない。
△:2本から4本の白スジが認識される。
×:5本以上の白スジが認識される。
評価結果を表2に示す。
2 エネルギー発生素子
3 型材
4 吐出口形成部材
4P 光カチオン重合性樹脂層
5 撥液層
5P 撥液材層
6 第1のマスク
7 第1の露光光 (i線)
8 第2のマスク
9 第2の露光光(フッ素含有化合物の分解波長)
10 撥液領域
11 非撥液領域
12 吐出口
13 流路
14 供給路
15 第3のマスク
Claims (13)
- 液体を吐出するエネルギーを発生するエネルギー発生素子を有する基板と、液体を吐出するための吐出口、および前記吐出口と連通する液体流路を有するインクジェット記録ヘッドの製造方法であって、
前記吐出口を形成する部材の吐出口形成面全面に、撥液層を形成する工程と、
前記撥液層の撥液性を部分的に低下させて、前記撥液層の同一面内に、純水に対する接触角が80度以上となる撥液領域と、純水に対する接触角が前記撥液領域よりも30度以上低い非撥液領域を形成する工程と、
を含むことを特徴とするインクジェット記録ヘッドの製造方法。 - 前記撥液層に対して、前記撥液層中の撥液成分の分解波長を含む光を照射して撥液性を部分的に低下させる請求項1に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
- 前記撥液層が、撥液成分としてフッ素含有基との結合を有するカルボニル基を含むフッ素含有化合物を含む請求項1または2に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
- 前記フッ素含有化合物がパーフルオロアルキル基もしくはパーフルオロポリエーテル基を有する請求項3に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
- 前記重合体は、前記式(6)で示すモノマーユニットに加えて、下記式(7)および式(8)に示すモノマーユニットを含む共重合体からなる請求項5に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
- 前記フッ素含有化合物は反応性シラン基を有する請求項3ないし6のいずれか1項に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
- 前記撥液層中の撥液成分の分解波長が300nm以下である請求項2ないし7のいずれか1項に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
- 前記吐出口の周囲に前記撥液領域が形成される請求項1ないし8のいずれか1項に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
- 前記吐出口を形成する部材は、光カチオン重合開始剤とカチオン重合性樹脂を含む光カチオン重合性樹脂層を前記基板上に形成した後、前記吐出口を形成する領域以外の領域を露光硬化して、現像することにより前記吐出口が形成される請求項1ないし9のいずれか1項に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
- 前記基板上に形成した光カチオン重合性樹脂層の上に撥液成分を含む撥液材層を形成した後、前記吐出口を形成する領域以外の領域に前記撥液成分の分解波長を含まない第1の露光光を照射する第1の露光工程と、前記非撥液領域に前記撥液成分の分解波長を含む第2の露光光を照射する第2の露光工程とを有する請求項10に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
- 液体を吐出するエネルギーを発生するエネルギー発生素子を有する基板と、液体を吐出するための吐出口、および前記吐出口と連通する液体流路を有するインクジェット記録ヘッドであって、前記吐出口を形成する部材の吐出口形成面全面に撥液層を備え、前記撥液層の同一面内に純水に対する接触角が80度以上となる撥液領域と、純水に対する接触角が前記撥液領域よりも30度以上低い非撥液領域を有することを特徴とするインクジェット記録ヘッド。
- 前記吐出口の周囲に前記撥液領域が形成されている請求項12に記載のインクジェット記録ヘッド。
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Cited By (2)
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---|---|---|---|---|
CN107953672A (zh) * | 2016-10-17 | 2018-04-24 | 船井电机株式会社 | 流体喷射头及制作流体喷射头的方法 |
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Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20190056659A1 (en) * | 2017-08-21 | 2019-02-21 | Funai Electric Co., Ltd. | Method for manufacturing mems devices using multiple photoacid generators in a composite photoimageable dry film |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008050321A (ja) * | 2006-08-28 | 2008-03-06 | Univ Kanagawa | 光分解性カップリング剤 |
US20080170101A1 (en) * | 2007-01-17 | 2008-07-17 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Ink-jet printhead and manufacturing method thereof |
JP2008227294A (ja) * | 2007-03-14 | 2008-09-25 | Ricoh Co Ltd | 積層構造体及びその製造方法 |
JP2008287251A (ja) * | 2007-04-18 | 2008-11-27 | Daikin Ind Ltd | 撥液レジスト組成物 |
JP2009034988A (ja) * | 2007-07-10 | 2009-02-19 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッドユニット及びその製造方法 |
JP2010036580A (ja) * | 2008-07-09 | 2010-02-18 | Canon Inc | 液体吐出ヘッドおよびその製造方法 |
JP2013237259A (ja) * | 2012-04-18 | 2013-11-28 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッド及びその製造方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3679668B2 (ja) | 1999-12-20 | 2005-08-03 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッドの製造方法 |
US8087747B2 (en) * | 2007-07-10 | 2012-01-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet recording head unit and production process thereof |
JP5560996B2 (ja) * | 2009-07-31 | 2014-07-30 | 大日本印刷株式会社 | 正孔注入輸送層用デバイス材料、正孔注入輸送層形成用インク、正孔注入輸送層を有するデバイス、及びその製造方法 |
JP5783854B2 (ja) * | 2011-09-01 | 2015-09-24 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッドの製造方法、および液体吐出ヘッド |
JP2013187203A (ja) * | 2012-03-05 | 2013-09-19 | Fujifilm Corp | パターン形成方法 |
JP6217170B2 (ja) * | 2013-06-23 | 2017-10-25 | 株式会社リコー | 液体吐出ヘッド及び画像形成装置 |
-
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008050321A (ja) * | 2006-08-28 | 2008-03-06 | Univ Kanagawa | 光分解性カップリング剤 |
US20080170101A1 (en) * | 2007-01-17 | 2008-07-17 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Ink-jet printhead and manufacturing method thereof |
JP2008227294A (ja) * | 2007-03-14 | 2008-09-25 | Ricoh Co Ltd | 積層構造体及びその製造方法 |
JP2008287251A (ja) * | 2007-04-18 | 2008-11-27 | Daikin Ind Ltd | 撥液レジスト組成物 |
JP2009034988A (ja) * | 2007-07-10 | 2009-02-19 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッドユニット及びその製造方法 |
JP2010036580A (ja) * | 2008-07-09 | 2010-02-18 | Canon Inc | 液体吐出ヘッドおよびその製造方法 |
JP2013237259A (ja) * | 2012-04-18 | 2013-11-28 | Canon Inc | インクジェット記録ヘッド及びその製造方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107953672A (zh) * | 2016-10-17 | 2018-04-24 | 船井电机株式会社 | 流体喷射头及制作流体喷射头的方法 |
JP2018065381A (ja) * | 2016-10-17 | 2018-04-26 | 船井電機株式会社 | 流体吐出ヘッドと流体吐出ヘッドの製造方法 |
JP7003556B2 (ja) | 2016-10-17 | 2022-01-20 | 船井電機株式会社 | 流体吐出ヘッドと流体吐出ヘッドの製造方法 |
US11077658B2 (en) | 2018-09-05 | 2021-08-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid ejection head and method of manufacturing the same |
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