JP2013138177A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
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- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
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- H01L2224/75252—Means for applying energy, e.g. heating means in the upper part of the bonding apparatus, e.g. in the bonding head
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- H01L2224/75745—Suction holding means in the upper part of the bonding apparatus, e.g. in the bonding head
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- H01L2224/81815—Reflow soldering
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- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
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- H01L2225/0651—Wire or wire-like electrical connections from device to substrate
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- H01L2225/06513—Bump or bump-like direct electrical connections between devices, e.g. flip-chip connection, solder bumps
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- H01L2225/06541—Conductive via connections through the device, e.g. vertical interconnects, through silicon via [TSV]
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- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06555—Geometry of the stack, e.g. form of the devices, geometry to facilitate stacking
- H01L2225/06565—Geometry of the stack, e.g. form of the devices, geometry to facilitate stacking the devices having the same size and there being no auxiliary carrier between the devices
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- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
- H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
- H01L23/3121—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation
- H01L23/3128—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation the substrate having spherical bumps for external connection
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- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
- H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
- H01L23/3135—Double encapsulation or coating and encapsulation
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- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
- H01L23/49811—Additional leads joined to the metallisation on the insulating substrate, e.g. pins, bumps, wires, flat leads
- H01L23/49816—Spherical bumps on the substrate for external connection, e.g. ball grid arrays [BGA]
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- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/10—Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L24/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
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- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/10—Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L24/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
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- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L24/10, H01L24/18, H01L24/26, H01L24/34, H01L24/42, H01L24/50, H01L24/63, H01L24/71
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- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01029—Copper [Cu]
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- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/153—Connection portion
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- H01L2924/15311—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA
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Abstract
【課題】本発明は、フィレット部の形状ばらつきに起因するアンダーフィル材付きチップ積層体の外形ばらつきを抑制可能であり、ハンドリング時の外力に起因するストレスに対するアンダーフィル材付きチップ積層体の耐性を向上させることが可能で、かつ半導体装置の小型化を図ることの可能な半導体装置の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】貫通電極を介して、半導体チップ35〜39を積み重ねて実装することで、積層された複数の半導体チップよりなるチップ積層体33を形成する工程と、チップ積層体33の周囲にフィレット部が形成されるように、チップ積層体を構成する複数の半導体チップ間の隙間を充填するアンダーフィル材34を形成する工程と、フィレット部をトリミングすることで、アンダーフィル材付きチップ積層体13を形成する工程と、を有する。
【選択図】図10A
【解決手段】貫通電極を介して、半導体チップ35〜39を積み重ねて実装することで、積層された複数の半導体チップよりなるチップ積層体33を形成する工程と、チップ積層体33の周囲にフィレット部が形成されるように、チップ積層体を構成する複数の半導体チップ間の隙間を充填するアンダーフィル材34を形成する工程と、フィレット部をトリミングすることで、アンダーフィル材付きチップ積層体13を形成する工程と、を有する。
【選択図】図10A
Description
本発明は、半導体装置の製造方法に関する。
近年、半導体チップの集積度が年々向上し、それに伴ってチップサイズの大型化や、配線の微細化及び多層化などが進んでいる。一方、高密度実装化のためには、半導体装置の小型化及び薄型化が必要となっている。
このような要求に対して、MCP(Multi Chip Package)と呼ばれる1つの配線基板の上に複数の半導体チップを高密度実装する技術が開発されている。
その中でも、TSV(Through Silicon Via)と呼ばれる貫通電極を有する半導体チップ(例えば厚さが50μm以下とされた半導体チップ)が積層されたチップ積層体を配線基板の一面に実装したCoC(Chip on Chip)型の半導体装置が注目されている。
その中でも、TSV(Through Silicon Via)と呼ばれる貫通電極を有する半導体チップ(例えば厚さが50μm以下とされた半導体チップ)が積層されたチップ積層体を配線基板の一面に実装したCoC(Chip on Chip)型の半導体装置が注目されている。
特許文献1には、複数の半導体チップをそれぞれの貫通電極を接続しつつ積載し、積載された複数の半導体チップ(以下、「チップ積層体」という)の周囲を覆うと共に半導体チップ間の隙間を埋める第1の封止樹脂層(アンダーフィル材)を形成し、第1の封止樹脂層が形成されたチップ積層体を所定の配線が形成された配線基板に接続固定するCoC型の半導体装置の製造方法が開示されている。
しかしながら、特許文献1に記載の半導体装置の製造方法では、アンダーフィル材(第1の封止樹脂層)の充填されたチップ積層体の周辺に、アンダーフィル材によるフィレットが形成され、このフィレットの広がり具合によっては、アンダーフィル材が形成されたチップ積層体(言い換えれば、アンダーフィル材及びチップ積層体よりなる構造体)の外形寸法が不揃いになってしまい、外形寸法を管理できない。
また、上記フィレットが大きい場合、アンダーフィル材が形成されたチップ積層体を配線基板に搭載する工程、及びこれ以降の工程において、チップ積層体が加熱される度に、フィレット部分が膨張収縮するため、チップ積層体を構成している厚さの薄い半導体チップに応力が加わる恐れがあった。
このような応力がチップ積層体に加わると、チップクラックが発生したり、半導体チップ間を接合するバンプ接合部が破断したりする恐れがあった。
このような応力がチップ積層体に加わると、チップクラックが発生したり、半導体チップ間を接合するバンプ接合部が破断したりする恐れがあった。
本発明の一観点によれば、貫通電極を介して、複数の半導体チップを積み重ねて実装することで、積層された複数の前記半導体チップよりなるチップ積層体を形成する工程と、前記チップ積層体の周囲にフィレット部が形成されるように、前記チップ積層体を構成する複数の前記半導体チップ間の隙間を充填するアンダーフィル材を形成する工程と、前記フィレット部をトリミングすることで、アンダーフィル材付きチップ積層体を形成する工程と、を有することを特徴とする半導体装置の製造方法が提供される。
本発明の半導体装置の製造方法によれば、貫通電極を介して、複数の半導体チップを積み重ねて実装することで、積層された複数の半導体チップよりなるチップ積層体を形成し、次いで、チップ積層体の周囲にフィレット部が形成されるように、チップ積層体を構成する複数の半導体チップ間の隙間を充填するアンダーフィル材を形成し、その後、フィレット部をトリミングすることで、アンダーフィル材付きチップ積層体を形成することにより、フィレット部の形状ばらつきを抑制可能となるので、フィレット部の形状ばらつきに起因するアンダーフィル材付きチップ積層体の外形ばらつきを抑制できる。
これにより、アンダーフィル材付きチップ積層体の外形寸法を管理することが可能となる。
これにより、アンダーフィル材付きチップ積層体の外形寸法を管理することが可能となる。
また、アンダーフィル材付きチップ積層体の外形寸法が安定することで、ハンドリング時の外力に起因するストレスに対するアンダーフィル材付きチップ積層体の耐性を向上できる。
さらに、フィレット部がトリミングされることで、アンダーフィル材付きチップ積層体を加熱した際のアンダーフィル材の応力を低減することが可能となる。
これにより、厚さが薄い半導体チップ(例えば、厚さが50μm以下)の破損(チップクラック)や半導体チップ間の接続部分(接合部)の破断を抑制できる。
これにより、厚さが薄い半導体チップ(例えば、厚さが50μm以下)の破損(チップクラック)や半導体チップ間の接続部分(接合部)の破断を抑制できる。
また、フィレット部をトリミングすることで、アンダーフィル材付きチップ積層体を小型化することが可能となるので、アンダーフィル材付きチップ積層体を有する半導体装置の小型化を図ることができる。
以下、図面を参照して本発明を適用した実施の形態について詳細に説明する。なお、以下の説明で用いる図面は、本発明の実施の形態の構成を説明するためのものであり、図示される各部の大きさや厚さや寸法等は、実際の半導体装置の寸法関係とは異なる場合がある。
(第1の実施の形態)
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置の断面図である。
図1を参照するに、第1の実施の形態の半導体装置10は、CoC型(Chip onChip)の半導体装置であり、配線基板11と、ワイヤバンプ12と、アンダーフィル材付きチップ積層体13と、第1の封止樹脂14と、第2の封止樹脂15と、外部接続端子17と、を有する。
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置の断面図である。
図1を参照するに、第1の実施の形態の半導体装置10は、CoC型(Chip onChip)の半導体装置であり、配線基板11と、ワイヤバンプ12と、アンダーフィル材付きチップ積層体13と、第1の封止樹脂14と、第2の封止樹脂15と、外部接続端子17と、を有する。
配線基板11は、配線基板本体21と、接続パッド22と、配線24と、第1のソルダーレジスト25と、外部接続用パッド26と、貫通電極28と、第2のソルダーレジスト29と、を有する。
配線基板本体21は、矩形とされた絶縁基板であり、平坦な表面21a(配線基板11の主面)、及び裏面21bを有する。配線基板本体21としては、例えば、ガラスエポキシ基板を用いることができる。
接続パッド22は、配線基板本体21の表面21aの中央部に設けられている。接続パッド22は、アンダーフィル材付きチップ積層体13を構成する第2の半導体チップ39の表面バンプ電極56と対向するように配置されている。
接続パッド22は、第2の半導体チップ39の表面バンプ電極56と対向するバンプ載置面22aを有する。
接続パッド22は、配線基板本体21の表面21aの中央部に設けられている。接続パッド22は、アンダーフィル材付きチップ積層体13を構成する第2の半導体チップ39の表面バンプ電極56と対向するように配置されている。
接続パッド22は、第2の半導体チップ39の表面バンプ電極56と対向するバンプ載置面22aを有する。
配線24は、再配線であり、接続パッド22と接続されている。第1のソルダーレジスト25は、配線24を覆うように、配線基板本体21の表面21aに設けられている。第1のソルダーレジスト25は、接続パッド22のバンプ載置面22aを露出している。
外部接続用パッド26は、配線基板本体21の裏面21bに設けられている。外部接続用パッド26は、端子載置面26aを有する。
外部接続用パッド26は、配線基板本体21の裏面21bに設けられている。外部接続用パッド26は、端子載置面26aを有する。
貫通電極28は、配線24と外部接続用パッド26との間に位置する配線基板本体21を貫通している。貫通電極28は、その一端が配線24と接続されており、他端が外部接続用パッド26と接続されている。
第2のソルダーレジスト29は、外部接続用パッド26の端子載置面26aを露出するように、配線基板本体21の裏面21bに設けられている。
ワイヤバンプ12は、接続パッド22のバンプ載置面22aに配置されている。ワイヤバンプ12としては、例えば、Auバンプを用いることができる。
第2のソルダーレジスト29は、外部接続用パッド26の端子載置面26aを露出するように、配線基板本体21の裏面21bに設けられている。
ワイヤバンプ12は、接続パッド22のバンプ載置面22aに配置されている。ワイヤバンプ12としては、例えば、Auバンプを用いることができる。
アンダーフィル材付きチップ積層体13は、チップ積層体33と、アンダーフィル材34と、を有する。
チップ積層体33は、複数の半導体チップである第1の半導体チップ35及び第2の半導体チップ36〜39を有した構成とされている。
チップ積層体33は、複数の半導体チップである第1の半導体チップ35及び第2の半導体チップ36〜39を有した構成とされている。
第1の半導体チップ35は、配線基板11にアンダーフィル材付きチップ積層体13が実装された状態(図1に示す状態)において、最上層に配置される半導体チップである。
第1の半導体チップ35としては、例えば、メモリ用半導体チップを用いることができる。この場合、第1の半導体チップ35としては、例えば、DRAM(Dynamic Random Access Memory)を用いることができる。
以下、第1の半導体チップ35としてDRAMを用いた場合を例に挙げて説明する。
第1の半導体チップ35としては、例えば、メモリ用半導体チップを用いることができる。この場合、第1の半導体チップ35としては、例えば、DRAM(Dynamic Random Access Memory)を用いることができる。
以下、第1の半導体チップ35としてDRAMを用いた場合を例に挙げて説明する。
第1の半導体チップ35は、平坦な一面43a及び他面43bを有する第1のチップ本体43と、表面バンプ電極45(第1のバンプ電極)と、を有する。第1のチップ本体43は、矩形とされており、半導体基板47と、回路素子層48と、を有する。
半導体基板47は、薄板化(例えば、厚さが50μm以下)された基板である。半導体基板47としては、例えば、単結晶シリコン基板を用いることができる。半導体基板47は、平坦な面とされた表面47a及び裏面47bを有する。
回路素子層48は、半導体基板47の表面47aに形成されている。回路素子層48は、図示していないトランジスタ、積層された複数の層間絶縁膜、及び該複数の層間絶縁膜に形成された配線パターン(ビア及び配線)等を有する。回路素子層48にはDRAM素子(図示せず)が形成される。
表面バンプ電極45は、回路素子層48の表面48a(第1のチップ本体43の他面43b)に設けられている。表面バンプ電極45は、回路素子層48に形成されたDRAM素子と電気的に接続されている。
アンダーフィル材付きチップ積層体13が配線基板11に実装された状態において、表面バンプ電極45は、配線基板本体21の表面21aと対向している。
表面バンプ電極45としては、例えば、回路素子層48の表面48aに、Cu膜と、Ni膜と、Au膜と、を順次積層させたCu/Ni/Au積層膜を用いることができる。また、該Cu/Ni/Au積層膜は、めっき法により形成することができる。
アンダーフィル材付きチップ積層体13が配線基板11に実装された状態において、表面バンプ電極45は、配線基板本体21の表面21aと対向している。
表面バンプ電極45としては、例えば、回路素子層48の表面48aに、Cu膜と、Ni膜と、Au膜と、を順次積層させたCu/Ni/Au積層膜を用いることができる。また、該Cu/Ni/Au積層膜は、めっき法により形成することができる。
上記第1の半導体チップ35は、後述する図4に示す工程(チップ積層体33を形成する工程)において、最下層に配置される半導体チップである。
第2の半導体チップ36は、第1の半導体チップ35の直下に配置されている。第2の半導体チップ36としては、例えば、メモリ用半導体チップを用いることができる。この場合、第2の半導体チップ36としては、例えば、DRAM(Dynamic Random Access Memory)を用いることができる。
以下、第2の半導体チップ36としてDRAMを用いた場合を例に挙げて説明する。
以下、第2の半導体チップ36としてDRAMを用いた場合を例に挙げて説明する。
第2の半導体チップ36は、第2のチップ本体52と、貫通電極54と、裏面バンプ電極55(一方の第2のバンプ電極)と、表面バンプ電極56(アンダーフィル材34から露出された他方の第2のバンプ電極)と、を有する。
第2のチップ本体52は、第1の半導体チップ35に設けられた第1のチップ本体43と同様な構成とされている。つまり、第2のチップ本体52は、半導体基板47及び回路素子層48を有すると共に、矩形とされた第1のチップ本体43と同じ大きさの外形とされている。
第2のチップ本体52は、第1の半導体チップ35に設けられた第1のチップ本体43と同様な構成とされている。つまり、第2のチップ本体52は、半導体基板47及び回路素子層48を有すると共に、矩形とされた第1のチップ本体43と同じ大きさの外形とされている。
貫通電極54は、第2のチップ本体52のうち、表面バンプ電極45の下方に位置する部分を貫通するように設けられている。貫通電極54は、第2のチップ本体52の回路素子層48に設けられたDRAM素子と電気的に接続されている。
裏面バンプ電極55は、貫通電極54の一端に設けられている。裏面バンプ電極55は、第1の半導体チップ35の表面バンプ電極45と接続(接合)されている。つまり、第1及び第2の半導体チップ35,36は、フリップチップ実装されている。
裏面バンプ電極55としては、例えば、貫通電極54の一端に、Cu膜と、SnAgはんだ膜と、を順次積層させたCu/SnAg積層膜を用いることができる。また、該Cu/SnAg積層膜は、めっき法により形成できる。
裏面バンプ電極55としては、例えば、貫通電極54の一端に、Cu膜と、SnAgはんだ膜と、を順次積層させたCu/SnAg積層膜を用いることができる。また、該Cu/SnAg積層膜は、めっき法により形成できる。
表面バンプ電極56は、貫通電極54の他端(言い換えれば、回路素子層48の表面48a)に設けられている。これにより、表面バンプ電極56は、貫通電極54を介して、裏面バンプ電極55及びDRAM素子と電気的に接続されている。
アンダーフィル材付きチップ積層体13が配線基板11に実装された状態において、表面バンプ電極56は、配線基板本体21の表面21aと対向している。
表面バンプ電極56としては、例えば、回路素子層48の表面48aに、Cu膜と、Ni膜と、Au膜と、を順次積層させたCu/Ni/Au積層膜を用いることができる。また、該Cu/Ni/Au積層膜は、めっき法により形成できる。
アンダーフィル材付きチップ積層体13が配線基板11に実装された状態において、表面バンプ電極56は、配線基板本体21の表面21aと対向している。
表面バンプ電極56としては、例えば、回路素子層48の表面48aに、Cu膜と、Ni膜と、Au膜と、を順次積層させたCu/Ni/Au積層膜を用いることができる。また、該Cu/Ni/Au積層膜は、めっき法により形成できる。
第2の半導体チップ37は、第2の半導体チップ36の直下に配置されている。第2の半導体チップ37は、第2の半導体チップ36と同様な構成とされている。
第2の半導体チップ37の裏面バンプ電極55は、第2の半導体チップ36の表面バンプ電極56と接続(接合)されている。つまり、第2の半導体チップ36,37は、フリップチップ実装されている。
これにより、第2の半導体チップ37は、第1及び第2の半導体チップ35,36と電気的に接続されている。
第2の半導体チップ37の裏面バンプ電極55は、第2の半導体チップ36の表面バンプ電極56と接続(接合)されている。つまり、第2の半導体チップ36,37は、フリップチップ実装されている。
これにより、第2の半導体チップ37は、第1及び第2の半導体チップ35,36と電気的に接続されている。
アンダーフィル材付きチップ積層体13が配線基板11に実装された状態において、第2の半導体チップ37の表面バンプ電極56は、配線基板本体21の表面21aと対向している。
第2の半導体チップ38は、第2の半導体チップ37の直下に配置されている。第2の半導体チップ38は、第2の半導体チップ36と同様な構成とされている。
第2の半導体チップ38の裏面バンプ電極55は、第2の半導体チップ37の表面バンプ電極56と接続(接合)されている。つまり、第2の半導体チップ37,38は、フリップチップ実装されている。
これにより、第2の半導体チップ38は、第1及び第2の半導体チップ35,36,37と電気的に接続されている。
第2の半導体チップ38の裏面バンプ電極55は、第2の半導体チップ37の表面バンプ電極56と接続(接合)されている。つまり、第2の半導体チップ37,38は、フリップチップ実装されている。
これにより、第2の半導体チップ38は、第1及び第2の半導体チップ35,36,37と電気的に接続されている。
アンダーフィル材付きチップ積層体13が配線基板11に実装された状態において、第2の半導体チップ38の表面バンプ電極56は、配線基板本体21の表面21aと対向している。
第2の半導体チップ39は、第2の半導体チップ38の直下に配置されており、配線基板11にアンダーフィル材付きチップ積層体13が実装された状態(図1に示す状態)において、最下層に配置される半導体チップである。
第2の半導体チップ39としては、例えば、インターフェイス用半導体チップを用いることができる。以下、第2の半導体チップ39としてインターフェイス用半導体チップを用いた場合を例に挙げて説明する。
第2の半導体チップ39としては、例えば、インターフェイス用半導体チップを用いることができる。以下、第2の半導体チップ39としてインターフェイス用半導体チップを用いた場合を例に挙げて説明する。
第2の半導体チップ39は、第2の半導体チップ36に設けられた第2のチップ本体52の替わりに、第2のチップ本体58を設けた以外は、第2の半導体チップ52と同様に構成される。
第2のチップ本体58は、矩形とされており、第2のチップ本体52よりも小さい外形とされている。第2のチップ本体58は、半導体基板61と、回路素子層62と、を有する。
第2のチップ本体58は、矩形とされており、第2のチップ本体52よりも小さい外形とされている。第2のチップ本体58は、半導体基板61と、回路素子層62と、を有する。
半導体基板61は、薄板化(例えば、厚さが50μm以下)された基板である。半導体基板61としては、例えば、単結晶シリコン基板を用いることができる。半導体基板61は、平坦な面とされた表面61a及び裏面61bを有する。
回路素子層62は、半導体基板61の表面61aに形成されている。回路素子層62は、図示していないトランジスタ、積層された複数の層間絶縁膜、及び該複数の層間絶縁膜に形成された配線パターン(ビア及び配線)等を有する。回路素子層62は、インターフェイス用素子(図示せず)を有する。
第2の半導体チップ39の裏面バンプ電極55は、半導体基板61の裏面61b側に位置する貫通電極54の一端に設けられている。第2の半導体チップ39の裏面バンプ電極55は、第2の半導体チップ38の表面バンプ電極56と接続(接合)されている。つまり、第2の半導体チップ38,39は、フリップチップ実装されている。
第2の半導体チップ39の表面バンプ電極56は、回路素子層62の表面62a側に位置する貫通電極54の他端に設けられている。第2の半導体チップ39の表面バンプ電極56は、回路素子層62に形成されたインターフェイス用素子と電気的に接続されている。
第2の半導体チップ39の表面バンプ電極56は、接続パッド22のバンプ載置面22aと対向するように配置されている。
第2の半導体チップ39の表面バンプ電極56は、接続パッド22のバンプ載置面22aと対向するように配置されている。
第2の半導体チップ39の表面バンプ電極56は、アンダーフィル材付きチップ積層体13の外部接続端子として機能する電極であり、ワイヤバンプ12を介して、配線基板11の接続パッド22と電気的に接続されている。
これにより、アンダーフィル材付きチップ積層体13は、配線基板11に対してフリップチップ実装されている。
これにより、アンダーフィル材付きチップ積層体13は、配線基板11に対してフリップチップ実装されている。
第2の半導体チップ39は、第2の半導体チップ39上に積み重ねられて実装されたメモリ用半導体チップ35〜38と配線基板11との間の情報のやり取りを仲介するための半導体チップである。
また、第2の半導体チップ39は、後述する図4に示す工程(チップ積層体33を形成する工程)において、最上層に配置される半導体チップである。
また、第2の半導体チップ39は、後述する図4に示す工程(チップ積層体33を形成する工程)において、最上層に配置される半導体チップである。
チップ積層体33を構成する第1及び第2の半導体チップ35〜38の側面35a,36a,37a,38aは、配線基板本体21の表面21aに対して直交する平面Aに対して面一とされている。
言い換えれば、第1及び第2の半導体チップ35〜38の側面35a,36a,37a,38aは、同一平面A上に配置されている。
言い換えれば、第1及び第2の半導体チップ35〜38の側面35a,36a,37a,38aは、同一平面A上に配置されている。
また、積み重ねられて実装された第1及び第2の半導体チップ35〜39間には、狭い隙間が形成される。また、チップ積層体33を構成する第2の半導体チップ39と配線基板11との間にも隙間が形成される。
アンダーフィル材34は、チップ積層体33を構成する第1及び第2の半導体チップ35〜39間の隙間を充填すると共に、第1及び第2の半導体チップ35〜38の側面35a,36a,37a,38aを覆うように配置されている。
また、アンダーフィル材34は、第2の半導体チップ39を構成する表面バンプ電極56及び回路素子層62の表面62aを露出している。
また、アンダーフィル材34は、第2の半導体チップ39を構成する表面バンプ電極56及び回路素子層62の表面62aを露出している。
アンダーフィル材34は、毛細管現象により形成されており、チップ積層体33の4つの側壁に配置されたフィレット部34−1がトリミングされている。トリミングされたフィレット部34−1は、トリミングされる前のフィレット部よりも幅が狭く、かつ第1及び第2の半導体チップ35〜39の側面35a,36a,37a,38a,39aに対して平行な平面34aを有する。
該平面34aは、チップ積層体33の各側壁(4つの側壁)と対向するように、チップ積層体33の周囲に4つ設けられている。
該平面34aは、チップ積層体33の各側壁(4つの側壁)と対向するように、チップ積層体33の周囲に4つ設けられている。
アンダーフィル材34の平面34aは、第1及び第2の半導体チップ35〜38の側面35a,36a,37a,38aの近傍に配置されている。
第1及び第2の半導体チップ35〜38の側面35a,36a,37a,38a(平面A)からアンダーフィル材34の平面34aまでの距離Bは、例えば、50μmとすることができる。
第1及び第2の半導体チップ35〜38の側面35a,36a,37a,38a(平面A)からアンダーフィル材34の平面34aまでの距離Bは、例えば、50μmとすることができる。
このように、フィレット部34−1がトリミングされ、第1及び第2の半導体チップ35〜39の側面35a,36a,37a,38a,39aに対して平行で、かつ第1及び第2の半導体チップ35〜38の側面35a,36a,37a,38aの近傍に配置された4つの平面34aを有するアンダーフィル材34を設けることにより、フィレット部34−1の形状ばらつきを抑制可能となるので、フィレット部34−1の形状ばらつきに起因するアンダーフィル材付きチップ積層体13の外形ばらつきを抑制できる。
これにより、アンダーフィル材付きチップ積層体13の外形寸法を管理することが可能となる。
これにより、アンダーフィル材付きチップ積層体13の外形寸法を管理することが可能となる。
また、アンダーフィル材付きチップ積層体13の外形寸法が安定することで、ハンドリング時の外力に起因するストレスに対するアンダーフィル材付きチップ積層体13の耐性を向上できる。
さらに、フィレット部34−1がトリミングされることで、アンダーフィル材付きチップ積層体13を加熱した際のアンダーフィル材34の応力を低減することが可能となる。
これにより、厚さの薄い第1及び第2の半導体チップ35〜39(例えば、厚さが50μm以下の半導体チップ)の破損(チップクラック)や第1及び第2の半導体チップ35〜39間の接続部分(接合部)の破断を抑制できる。
これにより、厚さの薄い第1及び第2の半導体チップ35〜39(例えば、厚さが50μm以下の半導体チップ)の破損(チップクラック)や第1及び第2の半導体チップ35〜39間の接続部分(接合部)の破断を抑制できる。
アンダーフィル材34としては、例えば、熱硬化性樹脂(具体的には、例えば、熱硬化性エポキシ樹脂)を用いることができる。
第1の封止樹脂14は、アンダーフィル材付きチップ積層体13(具体的には、第2の半導体チップ39)と配線基板11との隙間を充填すると共に、アンダーフィル材34から露出された第2の半導体チップ39を覆うように配置されている。
これにより、第1の封止樹脂14は、アンダーフィル材付きチップ積層体13と配線基板11との接続部分(接合部)を補強している。
第1の封止樹脂14としては、例えば、NCP(Non−Conductive Paste)を用いることができる。
これにより、第1の封止樹脂14は、アンダーフィル材付きチップ積層体13と配線基板11との接続部分(接合部)を補強している。
第1の封止樹脂14としては、例えば、NCP(Non−Conductive Paste)を用いることができる。
第2の封止樹脂15は、アンダーフィル材付きチップ積層体13及び第1の封止樹脂14を覆うように、配線基板11を構成する第1のソルダーレジスト25の上面25a(配線基板11の主面)に設けられている。第2の封止樹脂15の上面15aは、平坦な面とされている。
第2の封止樹脂15としては、例えば、モールド樹脂を用いることができる。
第2の封止樹脂15としては、例えば、モールド樹脂を用いることができる。
外部接続端子17は、外部接続用パッド26の端子載置面26aに設けられている。外部接続端子17は、半導体装置10をマザーボード等の基板に実装する際、該基板のパッドと接続される端子である。
外部接続端子17としては、例えば、はんだボールを用いることができる。
外部接続端子17としては、例えば、はんだボールを用いることができる。
第1の実施の形態の半導体装置によれば、第1及び第2の半導体チップ35〜38が積み重ねられて実装されたチップ積層体33と、フィレット部34−1がトリミングされ、第1及び第2の半導体チップ35〜39の側面35a,36a,37a,38a,39aに対して平行で、かつ第1及び第2の半導体チップ35〜38の側面35a,36a,37a,38aの近傍に配置された4つの平面34aを有するアンダーフィル材34と、を有したアンダーフィル材付きチップ積層体13を設けることにより、フィレット部34−1の形状ばらつきを抑制可能となるので、フィレット部34−1の形状ばらつきに起因するアンダーフィル材付きチップ積層体13の外形ばらつきを抑制できる。
これにより、アンダーフィル材付きチップ積層体13の外形寸法を管理することが可能となる。
これにより、アンダーフィル材付きチップ積層体13の外形寸法を管理することが可能となる。
また、アンダーフィル材付きチップ積層体13の外形寸法が安定することで、ハンドリング時の外力に起因するストレスに対するアンダーフィル材付きチップ積層体13の耐性を向上できる。
さらに、フィレット部34−1がトリミングされることで、アンダーフィル材付きチップ積層体13を加熱した際のアンダーフィル材34の応力を低減することが可能となる。
これにより、厚さの薄い第1及び第2の半導体チップ35〜39(例えば、厚さが50μm以下の半導体チップ)の破損(チップクラック)や第1及び第2の半導体チップ35〜39間の接続部分(接合部)の破断を抑制できる。
これにより、厚さの薄い第1及び第2の半導体チップ35〜39(例えば、厚さが50μm以下の半導体チップ)の破損(チップクラック)や第1及び第2の半導体チップ35〜39間の接続部分(接合部)の破断を抑制できる。
また、フィレット部34−1をトリミングすることで、アンダーフィル材付きチップ積層体13を小型化することが可能となる。これにより、アンダーフィル材付きチップ積層体13が実装される配線基板11を小型化できる。
さらに、配線基板11を小型化することで、配線基板11及びアンダーフィル材付きチップ積層体13を有する半導体装置10の小型化を図ることができる。
さらに、配線基板11を小型化することで、配線基板11及びアンダーフィル材付きチップ積層体13を有する半導体装置10の小型化を図ることができる。
図2〜図5、図6A、図6B、図7A、図7B、図8〜図9、図10A、図10B、及び図11〜図16は、本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置の製造工程を示す図である。
図2〜図5、図6A、図8〜図9、及び図11〜図15は、製造途中の半導体装置10の断面図を示しており、図6Bは、図6Aに示す製造途中の半導体装置10の平面図を示している。
図2〜図5、図6A、図8〜図9、及び図11〜図15は、製造途中の半導体装置10の断面図を示しており、図6Bは、図6Aに示す製造途中の半導体装置10の平面図を示している。
また、図7Aは、製造途中の半導体装置10の平面図を示しており、図7Bは、図7Aに示す構造体のE−E線方向の断面図を示している。
また、図10Aは、図10Bに示す製造途中の半導体装置のC−C線方向の断面図であり、図10Bは、製造途中の半導体装置10の平面図である。図17は、製造された複数の半導体装置10の断面図を示している。
図2〜図5、図6A、図6B、図7A、図7B、図8〜図9、図10A、図10B、及び図11〜図16において、第1の実施の形態の半導体装置10と同一構成部分には、同一符号を付す。
また、図10Aは、図10Bに示す製造途中の半導体装置のC−C線方向の断面図であり、図10Bは、製造途中の半導体装置10の平面図である。図17は、製造された複数の半導体装置10の断面図を示している。
図2〜図5、図6A、図6B、図7A、図7B、図8〜図9、図10A、図10B、及び図11〜図16において、第1の実施の形態の半導体装置10と同一構成部分には、同一符号を付す。
図2〜図5、図6A、図6B、図7A、図7B、図8〜図9、図10A、図10B、及び図11〜図16を参照して、第1の実施の形態の半導体装置10の製造方法について説明する。
始めに、図2に示す工程では、複数の半導体チップとして、一面43a(半導体基板47の裏面47b)が平坦な面とされた第1のチップ本体43、及び第1のチップ本体43の他面43b(回路素子層48の表面48a)に配置された表面バンプ電極45を有する第1の半導体チップ35と、第2のチップ本体52、第2のチップ本体52を貫通する貫通電極54、貫通電極54の一端に配置された裏面バンプ電極55、及び貫通電極54の他端に配置された表面バンプ電極56を有する第2の半導体チップ36〜38と、第2のチップ本体58、第2のチップ本体58を貫通する貫通電極54、貫通電極54の一端に配置された裏面バンプ電極55、及び貫通電極54の他端に配置された表面バンプ電極56を有する第2の半導体チップ39と、を準備する。
このとき、第1及び第2の半導体チップ35〜38としては、矩形とされたメモリ用半導体チップ(具体的には、例えば、DRAM)を用いる。また、第2の半導体チップ39としては、矩形とされたインターフェイス用半導体チップを用いる。
次いで、図3に示す工程を説明する前に、図3に示す工程で使用するボンディング装置66の概略構成について説明する。
図3を参照するに、ボンディング装置66は、ステージ67と、ボンディングツール68と、を有する。ステージ67は、基板載置面67aと、第1の吸着孔71と、を有する。
基板載置面67aは、半導体チップ或いは配線基板が載置される面であり、平坦な面とされている。
図3を参照するに、ボンディング装置66は、ステージ67と、ボンディングツール68と、を有する。ステージ67は、基板載置面67aと、第1の吸着孔71と、を有する。
基板載置面67aは、半導体チップ或いは配線基板が載置される面であり、平坦な面とされている。
第1の吸着孔71は、基板載置面67aから露出されており、基板載置面67aに載置された半導体チップや配線基板等の基板を吸着する。
なお、図示していないが、ステージ67は、基板載置面67aに吸着された該基板を加熱するヒーターを有する。
なお、図示していないが、ステージ67は、基板載置面67aに吸着された該基板を加熱するヒーターを有する。
ボンディングツール68は、吸着面68aと、第2の吸着孔73と、ヒーター74と、を有する。吸着面68aは、ボンディングツール68が吸着した半導体チップと接触する面である。第2の吸着孔73は、吸着面68aから露出されており、半導体チップを吸着する。ヒーター74は、吸着した半導体チップを加熱する。
次に、図3に示す工程について説明する。
図3に示す工程では、ボンディング装置66のステージ67の基板載置面67aと第1のチップ本体43の一面43a(半導体基板47の裏面47b)とが接触するように、ステージ67上に第1の半導体チップ35を吸着させる。
図3に示す工程では、ボンディング装置66のステージ67の基板載置面67aと第1のチップ本体43の一面43a(半導体基板47の裏面47b)とが接触するように、ステージ67上に第1の半導体チップ35を吸着させる。
次いで、ボンディングツール68を用いて、回路素子層48の表面48aと吸着面68aとが対向するように、第2の半導体チップ36を吸着する。次いで、ボンディングツール68を移動させることで、第2の半導体チップ36の裏面バンプ電極55と第1の半導体チップ35の表面バンプ電極45とを対向配置させる。
次いで、第1及び第2の半導体チップ35,36を高温(例えば、300℃程度)で加熱して、裏面バンプ電極55を構成するSnAgはんだ膜を溶融させた状態で、ボンディングツール68を下方に移動させることで、裏面バンプ電極55と表面バンプ電極45とを接触させ、荷重を印加することで、裏面バンプ電極55と表面バンプ電極45とを熱圧着する。
これにより、第1の半導体チップ35に対して、第2の半導体チップ36がフリップチップ実装されると共に、第1及び第2の半導体チップ35,36間に隙間が形成される。
これにより、第1の半導体チップ35に対して、第2の半導体チップ36がフリップチップ実装されると共に、第1及び第2の半導体チップ35,36間に隙間が形成される。
次いで、図4に示す工程では、第1の半導体チップ35に第2の半導体チップ36をフリップチップ実装する手法と同様な方法により、第2の半導体チップ36の表面バンプ電極56と第2の半導体チップ36の裏面バンプ電極55とを熱圧着することで、第2の半導体チップ36に対して、第2の半導体チップ37をフリップチップ実装する。このとき、第2の半導体チップ36,37間に隙間が形成される。
次いで、第1の半導体チップ35に第2の半導体チップ36をフリップチップ実装する手法と同様な方法により、第2の半導体チップ37の表面バンプ電極56と第2の半導体チップ38の裏面バンプ電極55とを熱圧着することで、第2の半導体チップ37に対して、第2の半導体チップ38をフリップチップ実装する。このとき、第2の半導体チップ37,38間に隙間が形成される。
次いで、第1の半導体チップ35に第2の半導体チップ36をフリップチップ実装する手法と同様な方法により、第2の半導体チップ38の表面バンプ電極56と第2の半導体チップ39の裏面バンプ電極55とを熱圧着することで、第2の半導体チップ38に対して第2の半導体チップ39がフリップチップ実装されると共に、第2の半導体チップ38,39間に隙間が形成される。
このように、貫通電極54、裏面バンプ電極55、及び表面バンプ電極56を介して、第1の半導体チップ35上に第2の半導体チップ36〜39を積み重ねて実装することで、積層実装された第1及び第2の半導体チップ35〜39よりなるチップ積層体33が形成される。
また、第1の半導体チップ35に対して第2の半導体チップ36〜39を実装する際、同じ大きさの外形とされた第1及び第2の半導体チップ35〜38の側面35a,36a,37a,38aを、ステージ67の基板載置面67aに対して直交する平面Aに一致させる。
なお、第2の半導体チップ35〜39をフリップチップ実装する際、荷重だけでなく、超音波を印加してもよい。
なお、第2の半導体チップ35〜39をフリップチップ実装する際、荷重だけでなく、超音波を印加してもよい。
次いで、図5に示す工程では、チップ積層体33の周囲にフィレット部34−1が形成されるように、チップ積層体33を構成する第1及び第2の半導体チップ35〜39間の隙間を充填するアンダーフィル材34(例えば、熱硬化性樹脂)を形成する。
これにより、チップ積層体33、及びフィレット部34−1を有するアンダーフィル材34を含む構造体82(言い換えれば、フィレット部34−1がトリミングされる前のアンダーフィル材付きチップ積層体13)が形成される。
これにより、チップ積層体33、及びフィレット部34−1を有するアンダーフィル材34を含む構造体82(言い換えれば、フィレット部34−1がトリミングされる前のアンダーフィル材付きチップ積層体13)が形成される。
アンダーフィル材34として熱硬化性樹脂を用いる場合、具体的には、以下の方法によりアンダーフィル材34を形成する。
始めに、ステージ77の平坦な面77aに貼り付けられたシート材78と第1のチップ本体43の一面43aとが接触するように、チップ積層体33を配置する。
次いで、ディスペンサー79を介して、チップ積層体33の4つの側壁のうちの1つに、液状とされたアンダーフィル材34を滴下し、毛細管現象により第1及び第2の半導体チップ35〜39間の隙間を封止する。
始めに、ステージ77の平坦な面77aに貼り付けられたシート材78と第1のチップ本体43の一面43aとが接触するように、チップ積層体33を配置する。
次いで、ディスペンサー79を介して、チップ積層体33の4つの側壁のうちの1つに、液状とされたアンダーフィル材34を滴下し、毛細管現象により第1及び第2の半導体チップ35〜39間の隙間を封止する。
このとき、図5に示す状態において、最上層に配置された第2の半導体チップ39の回路素子層62の上面62a及び表面バンプ電極56を、液状とされたアンダーフィル材34から露出させる。
また、シート材78と第1のチップ本体43の一面43a(半導体基板47の裏面47b)とが接触するようにチップ積層体33を配置しているため、半導体基板47の裏面47bにはアンダーフィル材34が形成されない。
その後、液状とされたアンダーフィル樹脂34を所定の温度(例えば、140℃)で硬化させることで、フィレット部34−1を有したアンダーフィル材34が形成される。
また、シート材78と第1のチップ本体43の一面43a(半導体基板47の裏面47b)とが接触するようにチップ積層体33を配置しているため、半導体基板47の裏面47bにはアンダーフィル材34が形成されない。
その後、液状とされたアンダーフィル樹脂34を所定の温度(例えば、140℃)で硬化させることで、フィレット部34−1を有したアンダーフィル材34が形成される。
次いで、図6A及び図6Bに示す工程では、シート材78からフィレット部34−1を有した図5に示す構造体82をピックアップする。
この段階では、図6Aに示すように、チップ積層体33の周囲4つの側壁に、トリミングされていないフィレット部34−1が形成されている。
この段階では、図6Aに示すように、チップ積層体33の周囲4つの側壁に、トリミングされていないフィレット部34−1が形成されている。
また、図5に示す工程において、図6Aに示すチップ積層体33の右側に位置する1辺(側壁)から液状とされたアンダーフィル樹脂34を滴下することで、図6Bに示すD方向に液状とされたアンダーフィル樹脂34が流動する。
このため、図6Aに示すチップ積層体33の右側に形成されたフィレット部34−1が、チップ積層体33の左側に形成されたフィレット部34−1よりも幅広形状となる。
なお、図1〜図5、図6A、及び図6Bに示す工程の処理を行うことで、複数の構造体82を形成する。
このため、図6Aに示すチップ積層体33の右側に形成されたフィレット部34−1が、チップ積層体33の左側に形成されたフィレット部34−1よりも幅広形状となる。
なお、図1〜図5、図6A、及び図6Bに示す工程の処理を行うことで、複数の構造体82を形成する。
次いで、図7A及び図7Bに示す工程では、リング状の治具85の内側にダイシングテープ86を取り付け、ダイシングテープ86の上面86aに所定の間隔(具体的には、後述する図8及び図9に示す工程において、ダイシングブレード89を用いてフィレット部34−1のトリミングを良好に行える間隔)で複数の構造体82を貼り付ける。
このとき、ダイシングテープ86の上面86aと第1のチップ本体43の一面43a(半導体基板47の裏面47b)とが接触するように、ダイシングテープ86の上面86aに複数の構造体82を貼り付ける。
次いで、図8に示す工程では、ダイシングブレード89を用いて、チップ積層体33の4つの側壁に形成された4つのフィレット部34−1のうち、1つのフィレット部34−1をトリミングすることで、第1及び第2の半導体チップ35〜38の側面35a,36a,37a,38aの近傍に配置され、かつ第1及び第2の半導体チップ35〜39の側面35a,36a,37a,38a,39aに対して平行な平面34aを形成する。
このとき、第1及び第2の半導体チップ35〜38の側面35a,36a,37a,38a(言い換えれば、平面A)からアンダーフィル材34の平面34aまでの距離Bは、例えば、50μmとすることができる。
このとき、第1及び第2の半導体チップ35〜38の側面35a,36a,37a,38a(言い換えれば、平面A)からアンダーフィル材34の平面34aまでの距離Bは、例えば、50μmとすることができる。
次いで、図9に示す工程では、図8に示す工程と同様な手法により、トリミングが完了していない残り3つのフィレット部34−1を順次トリミングすることで、3つの平面34aを形成する。
これにより、積層実装された第1及び第2の半導体チップ35〜39よりなるチップ積層体33と、第1及び第2の半導体チップ35〜39間の隙間を封止し、かつトリミングされた4つのフィレット部34−1にそれぞれ平面34aを有するアンダーフィル材34と、を備えたアンダーフィル材付きチップ積層体13が形成される。
これにより、積層実装された第1及び第2の半導体チップ35〜39よりなるチップ積層体33と、第1及び第2の半導体チップ35〜39間の隙間を封止し、かつトリミングされた4つのフィレット部34−1にそれぞれ平面34aを有するアンダーフィル材34と、を備えたアンダーフィル材付きチップ積層体13が形成される。
このように、チップ積層体33の4つの側壁に形成されたフィレット部34−1をトリミングして、第1及び第2の半導体チップ35〜38の側面35a,36a,37a,38aに対して平行な平面34aを形成することにより、アンダーフィル材付きチップ積層体13の外形寸法のばらつきを抑制することができる。
これにより、アンダーフィル材付きチップ積層体13の外形寸法を管理することが可能となる。
これにより、アンダーフィル材付きチップ積層体13の外形寸法を管理することが可能となる。
また、アンダーフィル材付きチップ積層体13の外形寸法が安定することで、ハンドリング時の外力に起因するストレスに対するアンダーフィル材付きチップ積層体13の耐性を向上できる。
さらに、フィレット部34−1をトリミングすることで、アンダーフィル材付きチップ積層体13を加熱した際のアンダーフィル材34の応力を低減することが可能となる。
これにより、厚さの薄い(例えば、50μm以下)第1及び第2の半導体チップ35〜39の破損(チップクラック)や第1及び第2の半導体チップ35〜39間の接続部分(接合部)の破断を抑制できる。
これにより、厚さの薄い(例えば、50μm以下)第1及び第2の半導体チップ35〜39の破損(チップクラック)や第1及び第2の半導体チップ35〜39間の接続部分(接合部)の破断を抑制できる。
また、フィレット部34−1をトリミングすることで、アンダーフィル材付きチップ積層体13を小型化することが可能となる。これにより、アンダーフィル材付きチップ積層体13が実装される配線基板11(図1参照)を小型化できる。
さらに、配線基板11を小型化することで、配線基板11及びアンダーフィル材付きチップ積層体13を有する半導体装置10(図1参照)の小型化を図ることができる。
さらに、配線基板11を小型化することで、配線基板11及びアンダーフィル材付きチップ積層体13を有する半導体装置10(図1参照)の小型化を図ることができる。
なお、図8及び図9に示す工程では、切削によりフィレット部34−1をトリミングする場合の一例として、ダイシング装置(ダイシングブレード89)を使用する場合を例に挙げて説明したが、ダイシング装置以外の切削装置を用いて、フィレット部34−1をトリミングしてもよい。
また、研磨装置を用いてフィレット部34−1を研磨することでトリミングしてもよい。さらに、切削と研磨を組み合わせてフィレット部34−1をトリミングしてもよい。
また、研磨装置を用いてフィレット部34−1を研磨することでトリミングしてもよい。さらに、切削と研磨を組み合わせてフィレット部34−1をトリミングしてもよい。
次いで、図10A及び図10Bに示す工程では、図9に示す4つの平面34aが形成されたアンダーフィル材付きチップ積層体13を、ダイシングテープ86からピックアップする。
次いで、図11に示す工程では、複数の配線基板形成領域F、及び複数の配線基板形成領域Fを区画するダイシングラインGを有した絶縁基材92を準備する。
次いで、周知の手法により、絶縁基材92に、接続パッド22、配線24、第1のソルダーレジスト25、外部接続用パッド26、貫通電極28、及び第2のソルダーレジスト29を形成する。
これにより、複数の配線基板形成領域Fにそれぞれ配線基板11が形成された配線母基板93が形成される。この段階では、複数の配線基板11は、連結されており、個片化されていない。
次いで、周知の手法により、絶縁基材92に、接続パッド22、配線24、第1のソルダーレジスト25、外部接続用パッド26、貫通電極28、及び第2のソルダーレジスト29を形成する。
これにより、複数の配線基板形成領域Fにそれぞれ配線基板11が形成された配線母基板93が形成される。この段階では、複数の配線基板11は、連結されており、個片化されていない。
次いで、接続パッド22のバンプ載置面22aに、ワイヤバンプ12としてAuバンプを形成する。
具体的には、Auワイヤの先端を放電溶融させてボールを形成し、このボールを接続パッド22のバンプ載置面22aに超音波によって接合させ、次いで、Auワイヤを切断することで形成する。なお、必要に応じて、Auバンプの高さをそろえるためレベリングを行ってもよい。
具体的には、Auワイヤの先端を放電溶融させてボールを形成し、このボールを接続パッド22のバンプ載置面22aに超音波によって接合させ、次いで、Auワイヤを切断することで形成する。なお、必要に応じて、Auバンプの高さをそろえるためレベリングを行ってもよい。
次いで、アンダーフィル材付きチップ積層体13の実装領域に対応する第1のソルダーレジスト25の上面25aに、ディスペンサー95を介して、液状とされた第1の封止樹脂14(例えば、NCP(Non−Conductive Paste))を供給する。
これにより、配線基板11に形成された複数の接続パッド22及びワイヤバンプ12が、液状とされた第1の封止樹脂14に覆われる。
この液状とされた第1の封止樹脂14は、配線母基板93を構成する全ての配線基板11に形成する。
これにより、配線基板11に形成された複数の接続パッド22及びワイヤバンプ12が、液状とされた第1の封止樹脂14に覆われる。
この液状とされた第1の封止樹脂14は、配線母基板93を構成する全ての配線基板11に形成する。
次いで、図12に示す工程では、ワイヤバンプ12及び液状とされた第1の封止樹脂14が形成された配線母基板93をステージ67の基板載置面67aに載置する。このとき、絶縁基材92の裏面92bがステージ67の基板載置面67aと対向するように、配線母基板93を載置する。
次いで、ボンディングツール68により、図10Aに示すアンダーフィル材付きチップ積層体13を構成する半導体基板47の裏面47bを吸着することで、アンダーフィル材付きチップ積層体13をピックアップする。
次いで、ボンディングツール68により、図10Aに示すアンダーフィル材付きチップ積層体13を構成する半導体基板47の裏面47bを吸着することで、アンダーフィル材付きチップ積層体13をピックアップする。
次いで、ボンディングツール68を移動させることで、ワイヤバンプ12とアンダーフィル材付きチップ積層体13の表面バンプ電極56とを対向配置させる。
次いで、ボンディングツール68により、アンダーフィル材付きチップ積層体13を高温(例えば、300℃)で加熱しながら、アンダーフィル材付きチップ積層体13に荷重を印加することで、アンダーフィル材付きチップ積層体13を液状とされた第1の封止樹脂14に押圧する。
次いで、ボンディングツール68により、アンダーフィル材付きチップ積層体13を高温(例えば、300℃)で加熱しながら、アンダーフィル材付きチップ積層体13に荷重を印加することで、アンダーフィル材付きチップ積層体13を液状とされた第1の封止樹脂14に押圧する。
これにより、表面バンプ電極56とワイヤバンプ12とが熱圧着され、配線基板11に対してアンダーフィル材付きチップ積層体13がフリップチップ実装されると共に、配線基板11とアンダーフィル材付きチップ積層体13との間の隙間が硬化した第1の封止樹脂14で封止される。
なお、図12に示す工程では、配線母基板93を構成する全ての配線基板11にアンダーフィル材付きチップ積層体13をフリップチップ実装する。
なお、図12に示す工程では、配線母基板93を構成する全ての配線基板11にアンダーフィル材付きチップ積層体13をフリップチップ実装する。
次いで、図13に示す工程では、図12に示すボンディング装置66から複数のアンダーフィル材付きチップ積層体13及び第1の封止樹脂14が形成された配線母基板93を取り出す。
次いで、配線母基板93を構成する第1のソルダーレジスト25の上面25aに、複数のアンダーフィル材付きチップ積層体13及び第1の封止樹脂14を封止すると共に、上面15aが平坦な面とされた第2の封止樹脂15を形成する。
第2の封止樹脂15としては、例えば、モールド樹脂を用いることができる。この場合、第2の封止樹脂15は、例えば、トランスファーモールド法により形成することができる。
次いで、配線母基板93を構成する第1のソルダーレジスト25の上面25aに、複数のアンダーフィル材付きチップ積層体13及び第1の封止樹脂14を封止すると共に、上面15aが平坦な面とされた第2の封止樹脂15を形成する。
第2の封止樹脂15としては、例えば、モールド樹脂を用いることができる。この場合、第2の封止樹脂15は、例えば、トランスファーモールド法により形成することができる。
上記トランスファーモールド法を用いる場合、上部金型と下部金型との間に形成された空間内に、図12に示す構造体(但し、ボンディング装置66は除く)を収容し、次いで、該空間内に加熱溶融された樹脂(第2の封止樹脂15の母材)を注入する。
次いで、溶融した樹脂を所定の温度(例えば、180℃程度)で加熱(キュア)し、その後、所定の温度でベークしてモールド樹脂を完全に硬化させることで、第2の封止樹脂15を形成する。第2の封止樹脂15の母材となる樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂を用いることができる。
次いで、図14に示す工程では、図13に示す構造体の上下を反転させ、その後、複数の配線基板11(言い換えれば、配線母基板93)に形成された複数の外部接続用パッド26に外部接続端子17を形成する。外部接続端子17としては、例えば、はんだボールを用いることができる。
外部接続端子17としてはんだボールを用いる場合、以下の方法により、複数の外部接続用パッド26に外部接続端子17を形成する。
始めに、ボールマウンターのマウントツール98により、複数のはんだボールを吸着保持しながら、複数のはんだボールにフラックスを転写形成する。
次いで、配線母基板93に形成された複数の外部接続用パッド26に、はんだボールを載置し、その後、はんだボールが形成された配線母基板81を熱処理(リフロー処理)することで、外部接続用パッド26に外部接続端子17となるはんだボールを形成する。
始めに、ボールマウンターのマウントツール98により、複数のはんだボールを吸着保持しながら、複数のはんだボールにフラックスを転写形成する。
次いで、配線母基板93に形成された複数の外部接続用パッド26に、はんだボールを載置し、その後、はんだボールが形成された配線母基板81を熱処理(リフロー処理)することで、外部接続用パッド26に外部接続端子17となるはんだボールを形成する。
これにより、配線基板11、アンダーフィル材付きチップ積層体13、第1の封止樹脂14、第2の封止樹脂15、及び外部接続端子17を有し、かつ連結された複数の半導体装置10が形成される。
次いで、図15に示す工程では、図14に示す構造体(但し、マウントツール98は除く)を構成する第2の封止樹脂15の上面15aにダイシングテープ99を貼着する。
次いで、ダイシングブレード89により、図14に示す構造体をダイシングラインGに沿って切断することで、複数の半導体装置10が個片化される。このとき、複数の配線基板11も個片化される。
次いで、ダイシングブレード89により、図14に示す構造体をダイシングラインGに沿って切断することで、複数の半導体装置10が個片化される。このとき、複数の配線基板11も個片化される。
次いで、図16に示す工程では、図15に示す構造体(但し、ダイシングブレード89は除く)を上下反転させた後、図15に示す構造体からダイシングテープ99を剥離することで、CoC型の半導体装置10が複数製造される。
第1の実施の形態の半導体装置の製造方法によれば、貫通電極54を介して、第1及び第2の半導体チップ35〜39を積み重ねて実装することで、積層された第1及び第2の半導体チップ35〜39よりなるチップ積層体33を形成し、次いで、チップ積層体33の周囲にフィレット部34−1が形成されるように、第1及び第2の半導体チップ35〜39間の隙間を充填するアンダーフィル材34を形成し、その後、チップ積層体33の周囲に形成されたフィレット部34−1をトリミングすることで、チップ積層体33及びアンダーフィル材34よりなるアンダーフィル材付きチップ積層体13を形成することで、フィレット部34−1の形状ばらつきを抑制可能となるので、フィレット部34−1の形状ばらつきに起因するアンダーフィル材付きチップ積層体13の外形ばらつきを抑制できる。
これにより、アンダーフィル材付きチップ積層体13の外形寸法を管理することが可能となる。
これにより、アンダーフィル材付きチップ積層体13の外形寸法を管理することが可能となる。
また、アンダーフィル材付きチップ積層体13の外形寸法が安定することで、ハンドリング時の外力に起因するストレスに対するアンダーフィル材付きチップ積層体13の耐性を向上できる。
さらに、フィレット部34−1がトリミングされることで、アンダーフィル材付きチップ積層体13を加熱した際のアンダーフィル材34の応力を低減することが可能となる。
これにより、厚さの薄い第1及び第2の半導体チップ35〜39(例えば、厚さが50μm以下の半導体チップ)の破損(チップクラック)や第1及び第2の半導体チップ35〜39間の接続部分(接合部)の破断を抑制できる。
これにより、厚さの薄い第1及び第2の半導体チップ35〜39(例えば、厚さが50μm以下の半導体チップ)の破損(チップクラック)や第1及び第2の半導体チップ35〜39間の接続部分(接合部)の破断を抑制できる。
また、フィレット部34−1をトリミングすることで、アンダーフィル材付きチップ積層体13を小型化することが可能となる。これにより、アンダーフィル材付きチップ積層体13が実装される配線基板11を小型化できる。
さらに、配線基板11を小型化することで、配線基板11及びアンダーフィル材付きチップ積層体13を有する半導体装置10の小型化を図ることができる。
さらに、配線基板11を小型化することで、配線基板11及びアンダーフィル材付きチップ積層体13を有する半導体装置10の小型化を図ることができる。
(第2の実施の形態)
図17は、本発明の第2の実施の形態に係る半導体装置を示す断面図である。図17において、第1の実施の形態の半導体装置10と同一構成部分には、同一符号を付す。
図17は、本発明の第2の実施の形態に係る半導体装置を示す断面図である。図17において、第1の実施の形態の半導体装置10と同一構成部分には、同一符号を付す。
図17を参照するに、第2の実施の形態の半導体装置110は、第1の実施の形態の半導体装置10に設けられた配線基板11の替わりに、配線基板111を設けると共に、さらに、ロジック用半導体チップ113、金属ワイヤ114、及び接着剤115を設けた以外は、半導体装置10と同様に構成される。
配線基板111は、配線基板本体21の表面21aの外周部に接続パッド22を配置し、配線基板本体21の裏面21bに配線24を配置し、接続パッド22及び配線24と貫通電極56とを接続させ、配線24と外部接続用パッド26とを接続させた以外は、第1の実施の形態で説明した配線基板11と同様に構成される。
ロジック用半導体チップ113は、平坦な一面117a及び他面117bを有する第3のチップ本体117と、表面バンプ電極118(第3のバンプ電極)と、表面バンプ電極119(第4のバンプ電極)と、を有する。
ロジック用半導体チップ113は、第3のチップ本体117の一面117aに設けられた接着剤115により、配線基板111の第1のソルダーレジスト25に接着されている。
ロジック用半導体チップ113は、第3のチップ本体117の一面117aに設けられた接着剤115により、配線基板111の第1のソルダーレジスト25に接着されている。
第3のチップ本体117は、矩形とされており、半導体基板122と、回路素子層123と、を有する。
半導体基板122としては、例えば、単結晶シリコン基板を用いることができる。半導体基板122は、平坦な面とされた表面122a及び裏面122bを有する。
半導体基板122としては、例えば、単結晶シリコン基板を用いることができる。半導体基板122は、平坦な面とされた表面122a及び裏面122bを有する。
回路素子層123は、半導体基板122の表面122aに形成されている。回路素子層123は、図示していないトランジスタ、積層された複数の層間絶縁膜、及び該複数の層間絶縁膜に形成された配線パターン(ビア及び配線)等を有する。回路素子層123には、ロジック用素子(図示せず)が形成されている。
表面バンプ電極118は、回路素子層123の表面123a(第3のチップ本体117の他面117b)に設けられている。表面バンプ電極118は、回路素子層123の表面123aの中央部(言い換えれば、アンダーフィル材付きチップ積層体13の実装領域)に配置されている。
表面バンプ電極118は、アンダーフィル材付きチップ積層体13の表面バンプ電極56と接続されている。つまり、アンダーフィル材付きチップ積層体13は、配線基板111上に接着されたロジック用半導体チップ113に対してフリップチップ実装されている。
表面バンプ電極118は、アンダーフィル材付きチップ積層体13の表面バンプ電極56と接続されている。つまり、アンダーフィル材付きチップ積層体13は、配線基板111上に接着されたロジック用半導体チップ113に対してフリップチップ実装されている。
表面バンプ電極119は、回路素子層123の表面123aに設けられている。表面バンプ電極119は、回路素子層123の表面123aの外周部に配置されている。
表面バンプ電極119は、一端が配線基板111の接続パッド22と接続された金属ワイヤ114の他端と接続されている。
つまり、ロジック用半導体チップ113は、配線基板111に対してワイヤボンディング接続されている。これにより、ロジック用半導体チップ113は、配線基板111と電気的に接続されると共に、チップ積層体33と配線基板111とを電気的に接続している。
表面バンプ電極119は、一端が配線基板111の接続パッド22と接続された金属ワイヤ114の他端と接続されている。
つまり、ロジック用半導体チップ113は、配線基板111に対してワイヤボンディング接続されている。これにより、ロジック用半導体チップ113は、配線基板111と電気的に接続されると共に、チップ積層体33と配線基板111とを電気的に接続している。
表面バンプ電極118,119としては、例えば、回路素子層123の表面123aに、Cu膜と、Ni膜と、Au膜と、を順次積層させたCu/Ni/Au積層膜を用いることができる。また、該Cu/Ni/Au積層膜は、めっき法により形成することができる。
第1の封止樹脂14は、ロジック用半導体チップ113とアンダーフィル材付きチップ積層体13との隙間を充填するように配置されている。
第2の封止樹脂15は、アンダーフィル材付きチップ積層体13、第2の封止樹脂14、ロジック用半導体チップ113、及び金属ワイヤ114を封止するように、第1のソルダーレジスト25の上面25a(配線基板111の主面)に設けられている。
第2の封止樹脂15は、アンダーフィル材付きチップ積層体13、第2の封止樹脂14、ロジック用半導体チップ113、及び金属ワイヤ114を封止するように、第1のソルダーレジスト25の上面25a(配線基板111の主面)に設けられている。
第2の実施の形態の半導体装置によれば、第1の実施の形態の半導体装置10と同様な効果を得ることができると共に、積層されたメモリ用半導体チップ(第1及び第2の半導体チップ35〜38)及びロジック用半導体チップ113を有するので、半導体装置110の高機能化を図ることができる。
なお、第2の実施の形態では、図17に示すように、ロジック用半導体チップ113と配線基板111とをワイヤボンディング接続する場合を例に挙げて説明したが、ロジック用半導体チップ113の表面バンプ電極119の替わりに、図17に示す貫通電極54及び裏面バンプ電極55を設け、該貫通電極54を介して、ロジック用半導体チップ113と配線基板111とを電気的に接続させてもよい。
第2の実施の形態の半導体装置110は、以下の方法により製造することができる。
始めに、一面117aが平坦な面とされ、かつ他面117bに表面バンプ電極118,119を有するロジック用半導体チップ113と、第1の実施の形態で説明した図2〜図5、図6A、図6B、図7A、図7B、図8〜図9、図10A、及び図10Bに示す工程と同様な処理を行うことで形成される図10A及び図10Bに示すアンダーフィル材付きチップ積層体13と、を準備する。
始めに、一面117aが平坦な面とされ、かつ他面117bに表面バンプ電極118,119を有するロジック用半導体チップ113と、第1の実施の形態で説明した図2〜図5、図6A、図6B、図7A、図7B、図8〜図9、図10A、及び図10Bに示す工程と同様な処理を行うことで形成される図10A及び図10Bに示すアンダーフィル材付きチップ積層体13と、を準備する。
次いで、接続パッド22が設けられた配線基板111の主面(第1のソルダーレジスト25の上面25a)に、ロジック用半導体チップ113の一面(半導体基板122の裏面122b)が対向するように、ロジック用半導体チップ113を接着する。
次いで、表面バンプ電極118に対して、アンダーフィル材付きチップ積層体13をフリップチップ実装すると共に、アンダーフィル材付きチップ積層体13とロジック用半導体チップ113との隙間を封止する第1の封止樹脂14を形成する。次いで、表面バンプ電極119と接続パッド22とをワイヤボンディング接続する。
次いで、表面バンプ電極118に対して、アンダーフィル材付きチップ積層体13をフリップチップ実装すると共に、アンダーフィル材付きチップ積層体13とロジック用半導体チップ113との隙間を封止する第1の封止樹脂14を形成する。次いで、表面バンプ電極119と接続パッド22とをワイヤボンディング接続する。
次いで、配線基板111の主面に、アンダーフィル材付きチップ積層体13、第1の封止樹脂14、及びロジック用半導体チップ113を封止する第2の封止樹脂15を形成する。
次いで、主面とは反対側に位置する配線基板111の面(配線基板本体21の裏面21b)に、接続パッド22と電気的に接続された外部接続用パッド26を形成する。
その後、第1の実施の形態で説明した図15及び図16に示す工程と同様な処理を行うことで、第2の実施の形態の半導体装置110が複数製造される。
次いで、主面とは反対側に位置する配線基板111の面(配線基板本体21の裏面21b)に、接続パッド22と電気的に接続された外部接続用パッド26を形成する。
その後、第1の実施の形態で説明した図15及び図16に示す工程と同様な処理を行うことで、第2の実施の形態の半導体装置110が複数製造される。
第2の実施の形態の半導体装置の製造方法によれば、第1の実施の形態の半導体装置10の製造方法と同様な効果を得ることができると共に、積層されたメモリ用半導体チップ(第1及び第2の半導体チップ35〜38)及びロジック用半導体チップ113を有するので、半導体装置110の高機能化を図ることができる。
(第3の実施の形態)
図18は、本発明の第3の実施の形態に係る半導体装置200を示す断面図である。図18において、第1の実施の形態の半導体装置10と同一構成部分には、同一符号を付す。
図18は、本発明の第3の実施の形態に係る半導体装置200を示す断面図である。図18において、第1の実施の形態の半導体装置10と同一構成部分には、同一符号を付す。
図18に示すように、本実施形態による半導体装置200は、図1に示したアンダーフィル材付きチップ積層体13がアンダーフィル材付きチップ積層体220に置き換えられ、第2の半導体チップ39が第3の半導体チップ230に置き換えられている点において、図1に示した第1の実施形態による半導体装置100と主に相違する。
アンダーフィル材付きチップ積層体220は、チップ積層体210とアンダーフィル材34とを有する。
チップ積層体210は、第1の半導体チップ35と複数の第2の半導体チップ36〜38によって構成されている。第1の実施形態と同様、これら半導体チップ35〜38としては、メモリ用半導体チップ、例えばDRAMを用いることができる。尚、第3の半導体チップ230は、チップ積層体210とは異なる構成要素である。
チップ積層体210は、第1の半導体チップ35と複数の第2の半導体チップ36〜38によって構成されている。第1の実施形態と同様、これら半導体チップ35〜38としては、メモリ用半導体チップ、例えばDRAMを用いることができる。尚、第3の半導体チップ230は、チップ積層体210とは異なる構成要素である。
第3の半導体チップ230は、半導体チップ35〜38を制御するロジックチップである。ロジックチップである第3の半導体チップ230は、主面上に形成された複数の表面バンプ電極231と裏面上に形成された複数の裏面バンプ電極232を有しており、裏面バンプ電極232はそれぞれ対応する貫通電極233に電気的に接続されている。貫通電極233及び表面バンプ電極231は、第3の半導体チップ230の図示しない内部回路に接続されている。第3の半導体チップ230は、それぞれの表面バンプ電極231が配線基板11に設けられたワイヤバンプ22に接続されるよう、配線基板11上にフリップチップ実装により搭載されている。
配線基板11と第3の半導体チップ230との間には、第1の封止樹脂14が充填されている。
配線基板11と第3の半導体チップ230との間には、第1の封止樹脂14が充填されている。
本実施形態においては、かかる第3の半導体チップ230上に、アンダーフィル材付きチップ積層体220が搭載される。第3の半導体チップ230とアンダーフィル材付きチップ積層体220との間には、第3の封止樹脂16が充填されている。第3の封止樹脂16としては、例えば、NCP(Non−Conductive Paste)を用いることができる。
チップ積層体210を構成する半導体チップ35〜38は、貫通電極56を介して互いに電気的に接続されている。チップ積層体210は、図18において最下層(プロセス上は最上層)に位置する半導体チップ38の表面を露出させると共に、半導体チップ35〜38間の隙間を充填するように、アンダーフィル材34が設けられている。そして、第1の実施形態と同様、アンダーフィル材34には、半導体チップ35〜38の側面と平行な平面34aが形成されており、平面34aがチップ積層体210の外形を構成する。そして、図18において最下層(プロセス上は最上層)に位置する半導体チップ38の表面バンプ電極56が、ロジックチップである第3の半導体チップ230の対応する裏面バンプ電極232に接続されるよう、チップ積層体210が第3の半導体チップ230上に積層搭載されている。
尚、図18において最上層(プロセス上は最下層)に位置する半導体チップ35は、他の半導体チップ36〜38と同じ機能を有するメモリチップであるが、貫通電極及び裏面バンプ電極が形成されておらず、他の半導体チップ36〜38よりも厚さが厚く構成されている。例えば半導体チップ35は例えば100μmの厚さで構成され、他の半導体チップ36〜38は例えば50μmの厚さで構成されている。かかる半導体チップ35は、ロジックチップである第3の半導体チップ230からみて最も遠い位置に配置されたメモリチップである。
尚、積層方向に一直線上に貫通電極56が配置されたチップ積層体210では、製造プロセスにおける温度変化等により貫通電極56の膨張や収縮の際に応力が発生し、その最大応力が、配線基板11から最も遠い位置に配置された半導体チップ35の貫通電極の部位にかかり、チップクラックを発生させる恐れがある。しかしながら、本実施形態では、配線基板11から最も遠い位置に配置された半導体チップ35に貫通電極及び裏面バンプが設けられていないため、半導体チップ35は貫通電極の設けられていない表面で応力を受けることができる。このため、配線基板11から最も遠い位置に配置された半導体チップ35にて生じやすいチップクラックの発生が抑制されるため、半導体装置200の信頼性を向上させることが可能となる。
本実施形態においても、第1の実施形態と同様、チップ積層体210の半導体チップ35〜38間の隙間を充填し、チップ積層体210の周囲に半導体チップ35〜38の側面35a〜38aと平行な平面34aを有するアンダーフィル材34を設けたことで、チップ積層体210にかかる応力を低減することができる。また配線基板11上におけるアンダーフィル材付きチップ積層体220の占める面積を低減できるため、配線基板11の小型化及び半導体装置200の小型化を図ることができる。
さらに、複数のメモリチップとロジックチップが一つのパッケージ内に積層されていることから、半導体装置200の平面サイズを小型化しつつ、高機能化を図ることができる。また、第2の実施形態とは異なり、ロジックチップが配線基板11にフリップチップ接続されていることから、半導体装置200の高速化も図れる。
本実施形態による半導体装置200の製造方法は次の通りである。
まず、図2に示した半導体チップ35〜38を用意し、図3及び図4を用いて説明した方法によりこれらを積層し、チップ積層体210を作製する。この時、図4に示す半導体チップ39は積層しない。
まず、図2に示した半導体チップ35〜38を用意し、図3及び図4を用いて説明した方法によりこれらを積層し、チップ積層体210を作製する。この時、図4に示す半導体チップ39は積層しない。
次に、図5、図6A及び図6Bを用いて説明した方法により、チップ積層体210にフィレット部34−1を有するアンダーフィル材34を導入する。この時、最上層に位置するのは半導体チップ38であり、半導体チップ38の主面に形成された表面バンプ電極56がアンダーフィル材34によって覆われることなく露出した状態を保つ。
そして、図7A及び図7Bを用いて説明した方法により、ダイシングテープ86上にチップ積層体210を貼り付け、図8及び図9を用いて説明した方法によりアンダーフィル材34のフィレット部34−1をトリミングする。これにより、アンダーフィル材付きチップ積層体220が形成される。
そして、図7A及び図7Bを用いて説明した方法により、ダイシングテープ86上にチップ積層体210を貼り付け、図8及び図9を用いて説明した方法によりアンダーフィル材34のフィレット部34−1をトリミングする。これにより、アンダーフィル材付きチップ積層体220が形成される。
次に、図11を用いて説明した方法により、配線母基板93の表面に液状である第1の封止樹脂14を供給する。そして、第1の封止樹脂14上に半導体チップ230を押し当てることにより、半導体チップ230の主面に設けられた表面バンプ電極231と、配線基板11(配線母基板93)に設けられたワイヤバンプ12とを接合する。これにより、配線基板11(配線母基板93)の表面に半導体チップ230がフリップチップ接続される。
次に、半導体チップ230の裏面に液状である第3の封止樹脂16を供給する。そして、図12を用いて説明した方法により、第3の封止樹脂16上にアンダーフィル材付きチップ積層体220を押し当て、半導体チップ230の裏面に設けられた裏面バンプ電極232と、半導体チップ38の主面に形成された表面バンプ電極56とを接合する。これにより、半導体チップ230の裏面にアンダーフィル材付きチップ積層体220がフリップチップ接続される。
その後は、図13〜図16を用いて説明した方法により、モールディングやダイシングを行うことにより、半導体装置200を得ることができる。
(第4の実施の形態)
図19は、本発明の第4の実施の形態に係る半導体装置300を示す断面図である。図19において、第3の実施の形態の半導体装置200と同一構成部分には、同一符号を付す。
図19は、本発明の第4の実施の形態に係る半導体装置300を示す断面図である。図19において、第3の実施の形態の半導体装置200と同一構成部分には、同一符号を付す。
図19に示すように、本実施形態による半導体装置300は、図18に示したロジックチップである第3の半導体チップ230が、アンダーフィル材付きチップ積層体220とは異なる平面に搭載されている点において、図18に示した第3の実施形態による半導体装置200と主に相違する。
アンダーフィル材付きチップ積層体220及び半導体チップ230は、シリコンインターポーザ240の表面の互いに異なる平面にフリップチップ接続されている。シリコンインターポーザ240は配線基板11に搭載されており、一種の再配線層として機能する。
アンダーフィル材付きチップ積層体220及び半導体チップ230は、シリコンインターポーザ240の表面の互いに異なる平面にフリップチップ接続されている。シリコンインターポーザ240は配線基板11に搭載されており、一種の再配線層として機能する。
本実施形態による半導体装置300は、上述した第3の実施形態による半導体装置200と同様の効果を得ることができるとともに、アンダーフィル材付きチップ積層体220と半導体チップ230とが互いに異なる平面に搭載されていることから、アンダーフィル材付きチップ積層体220と半導体チップ230の組み合わせ自由度が増大する。しかも、ロジックチップである第3の半導体チップ230に貫通電極を設ける必要が無くなるため、半導体チップ230の製造コストを削減することも可能となる。
本実施形態による半導体装置300の製造方法は次の通りである。
まず、図20に示すように、ダイシングラインGによって区画された複数の配線基板形成領域Fを有する配線母基板93を用意する。配線基板形成領域Fは、最終的に配線基板11となる領域である。
次に、配線基板形成領域Fに液状である第1の封止樹脂14を供給した後、第1の封止樹脂14上にシリコンインターポーザ240を押し当てることにより、シリコンインターポーザ240の主面に設けられた表面バンプ電極241と、配線母基板93に設けられたワイヤバンプ12とを接合する。これにより、配線母基板93の表面にシリコンインターポーザ240がフリップチップ接続されるとともに、配線母基板93とシリコンインターポーザ240との間に第1の封止樹脂14が充填される。
シリコンインターポーザ240は、シリコン基板に再配線層が形成されてなる基板である。シリコンインターポーザ240の表面に形成された複数の表面バンプ電極241と、裏面に形成された複数の裏面バンプ電極242とは、それぞれ対応する貫通電極243を介して電気的に接続されている。
まず、図20に示すように、ダイシングラインGによって区画された複数の配線基板形成領域Fを有する配線母基板93を用意する。配線基板形成領域Fは、最終的に配線基板11となる領域である。
次に、配線基板形成領域Fに液状である第1の封止樹脂14を供給した後、第1の封止樹脂14上にシリコンインターポーザ240を押し当てることにより、シリコンインターポーザ240の主面に設けられた表面バンプ電極241と、配線母基板93に設けられたワイヤバンプ12とを接合する。これにより、配線母基板93の表面にシリコンインターポーザ240がフリップチップ接続されるとともに、配線母基板93とシリコンインターポーザ240との間に第1の封止樹脂14が充填される。
シリコンインターポーザ240は、シリコン基板に再配線層が形成されてなる基板である。シリコンインターポーザ240の表面に形成された複数の表面バンプ電極241と、裏面に形成された複数の裏面バンプ電極242とは、それぞれ対応する貫通電極243を介して電気的に接続されている。
次に、図21に示すように、シリコンインターポーザ240上に、ロジックチップである第3の半導体チップ230と、アンダーフィル材付きチップ積層体220をフリップチップ接続する。
かかる工程は、シリコンインターポーザ240の裏面のうち、第3の半導体チップ230を搭載すべき箇所と、アンダーフィル材付きチップ積層体220を搭載すべき箇所のそれぞれに、液状である第3の封止樹脂16を供給した後、第3の封止樹脂16上に第3の半導体チップ230及びアンダーフィル材付きチップ積層体220を押し当てることにより行う。これにより、シリコンインターポーザ240の裏面に第3の半導体チップ230とアンダーフィル材付きチップ積層体220がフリップチップ接続される。
かかる工程は、シリコンインターポーザ240の裏面のうち、第3の半導体チップ230を搭載すべき箇所と、アンダーフィル材付きチップ積層体220を搭載すべき箇所のそれぞれに、液状である第3の封止樹脂16を供給した後、第3の封止樹脂16上に第3の半導体チップ230及びアンダーフィル材付きチップ積層体220を押し当てることにより行う。これにより、シリコンインターポーザ240の裏面に第3の半導体チップ230とアンダーフィル材付きチップ積層体220がフリップチップ接続される。
そして、図22に示すように配線母基板93を第2の封止樹脂15で覆った後、図23に示すようにはんだボールからなる外部接続端子17をマウントする。そして、図24に示すように、ダイシングテープ99によって配線母基板93を支持した状態で、ダイシングブレード89を用いてダイシングラインGに沿って切断することにより、複数の半導体装置300が個片化される。
以上、本発明の好ましい実施の形態について詳述したが、本発明はかかる特定の実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲内に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。
例えば、第1及び第2の実施の形態では、1つのインターフェイス用半導体チップ及び複数(具体的には、4つ)のメモリ用半導体チップによりチップ積層体33を構成した場合を例に挙げて説明し、第3及び第4の実施の形態では、複数(具体的には、4つ)のメモリ用半導体チップによりチップ積層体210を構成した場合を例に挙げて説明したが、チップ積層体33,210は、貫通電極54を介して、積み重ねられた複数の半導体チップが電気的に接続されていればよく、チップ積層体33,210を構成する半導体チップの種類は、第1乃至第4の実施の形態で説明した半導体チップの種類に限定されない。
また、第1及び第2の実施の形態では、5つの半導体チップ(第1及び第2の半導体チップ35〜39)を積み重ねてチップ積層体33を構成した場合を例に挙げて説明したが、チップ積層体33を構成する半導体チップの数(積層数)は、これに限定されない。例えば、第3及び第4の実施の形態のように、4つの半導体チップを積み重ねてチップ積層体210を構成しても構わない。
以上の説明に関し、さらに以下の項を開示する。
(付記1)
貫通電極を介して、複数の半導体チップを積み重ねて実装することで、積層された複数の前記半導体チップよりなるチップ積層体を形成する工程と、
前記チップ積層体の周囲にフィレット部が形成されるように、前記チップ積層体を構成する複数の前記半導体チップ間の隙間を充填するアンダーフィル材を形成する工程と、
前記フィレット部をトリミングすることで、アンダーフィル材付きチップ積層体を形成する工程と、
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
(付記2)
前記アンダーフィル材のうち、前記フィレット部がトリミングされた部分の面が、前記半導体チップの側面に対して平行な平面となるように、前記フィレット部をトリミングすることを特徴とする付記1記載の半導体装置の製造方法。
(付記3)
複数の前記半導体チップは、矩形とされており、
前記チップ積層体の4つの側壁に形成された前記フィレット部をトリミングすることを特徴とする付記1または2記載の半導体装置の製造方法。
(付記4)
前記フィレット部は、切削または研磨によりトリミングすることを特徴とする付記1ないし3のうち、いずれか1項記載の半導体装置の製造方法。
(付記5)
前記チップ積層体を形成する工程の前に、複数の前記半導体チップとして、一面が平坦な面とされた第1のチップ本体、及び該第1のチップ本体の他面に配置された第1のバンプ電極を有する第1の半導体チップと、第2のチップ本体、該第2のチップ本体を貫通する前記貫通電極、及び該貫通電極の両端にそれぞれ配置された第2のバンプ電極を有する複数の第2の半導体チップと、を準備する工程を有し、
前記チップ積層体を形成する工程は、ボンディング装置のステージ上と前記第1のチップ本体の一面とが接触するように、前記ステージ上に前記第1の半導体チップを吸着させる段階と、
ボンディングツールを用いて、前記貫通電極及び前記第2のバンプ電極を介して、前記第1の半導体チップ上に複数の前記第2の半導体チップを積み重ねて実装する段階と、
を含むことを特徴とする付記1ないし4のうち、いずれか1項記載の半導体装置の製造方法。
(付記6)
前記アンダーフィル材を形成する工程は、ステージの平坦な面に貼り付けられたシート材と前記第1のチップ本体の一面とが接触するように、前記チップ積層体を配置する段階と、
液状とされた前記アンダーフィル材を前記チップ積層体の側壁に滴下し、毛細管現象により複数の前記半導体チップ間の隙間を封止する段階と、
前記液状とされたアンダーフィル樹脂を硬化させる段階と、
を含むことを特徴とする付記1ないし5のうち、いずれか1項記載の半導体装置の製造方法。
(付記7)
前記チップ積層体を形成する工程において、複数の前記第2の半導体チップのうち、最上層に配置される最上層チップとしてインターフェイス用半導体チップを用いると共に、前記最上層チップ以外の前記第2の半導体チップ、及び前記第1の半導体チップとしてメモリ用半導体チップを用いることを特徴とする付記5または6記載の半導体装置の製造方法。
(付記8)
前記アンダーフィル材付きチップ積層体を、配線基板の主面に設けられた接続パッドに対してフリップチップ実装する工程を有することを特徴とする付記1ないし7のうち、いずれか1項記載の半導体装置の製造方法。
(付記9)
前記アンダーフィル材から露出された前記第2のバンプ電極と前記接続パッドとを電気的に接続することで、前記アンダーフィル材付きチップ積層体を前記配線基板の前記接続パッドにフリップチップ実装することを特徴とする付記8のうち、いずれか1項記載の半導体装置の製造方法。
(付記10)
前記アンダーフィル材付きチップ積層体と前記配線基板との間を封止する第1の封止樹脂を形成する工程を有することを特徴とする付記8または9記載の半導体装置の製造方法。
(付記11)
前記配線基板の主面に、前記アンダーフィル材付きチップ積層体、及び前記第1の封止樹脂を封止する第2の封止樹脂を形成する工程を有することを特徴とする付記10記載の半導体装置の製造方法。
(付記12)
前記主面とは反対側に位置する前記配線基板の面に、前記接続パッドと電気的に接続された外部接続用パッドを形成することを特徴とする付記8ないし11のうち、いずれか1項記載の半導体装置の製造方法。
(付記13)
一面が平坦な面とされ、かつ他面に第3及び第4のバンプ電極を有するロジック用半導体チップを準備し、接続パッドが設けられた配線基板の主面に、前記ロジック用半導体チップの一面が対向するように、前記ロジック用半導体チップを接着する工程と、
前記第3のバンプ電極に対して、前記アンダーフィル材付きチップ積層体をフリップチップ実装する工程と、
前記第4のバンプ電極と前記接続パッドとをワイヤボンディング接続する工程と、
を有することを特徴とする付記1ないし7のうち、いずれか1項記載の半導体装置の製造方法。
(付記14)
前記アンダーフィル材付きチップ積層体と前記ロジック用半導体チップとの間を封止する第1の封止樹脂を形成する工程を有することを特徴とする付記13記載の半導体装置の製造方法。
(付記15)
前記配線基板の主面に、前記アンダーフィル材付きチップ積層体、前記第1の封止樹脂、及び前記ロジック用半導体チップを封止する第2の封止樹脂を形成する工程を有することを特徴とする付記14記載の半導体装置の製造方法。
(付記16)
前記主面とは反対側に位置する前記配線基板の面に、前記接続パッドと電気的に接続された外部接続用パッドを形成することを特徴とする付記13ないし15のうち、いずれか1項記載の半導体装置の製造方法。
(付記1)
貫通電極を介して、複数の半導体チップを積み重ねて実装することで、積層された複数の前記半導体チップよりなるチップ積層体を形成する工程と、
前記チップ積層体の周囲にフィレット部が形成されるように、前記チップ積層体を構成する複数の前記半導体チップ間の隙間を充填するアンダーフィル材を形成する工程と、
前記フィレット部をトリミングすることで、アンダーフィル材付きチップ積層体を形成する工程と、
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
(付記2)
前記アンダーフィル材のうち、前記フィレット部がトリミングされた部分の面が、前記半導体チップの側面に対して平行な平面となるように、前記フィレット部をトリミングすることを特徴とする付記1記載の半導体装置の製造方法。
(付記3)
複数の前記半導体チップは、矩形とされており、
前記チップ積層体の4つの側壁に形成された前記フィレット部をトリミングすることを特徴とする付記1または2記載の半導体装置の製造方法。
(付記4)
前記フィレット部は、切削または研磨によりトリミングすることを特徴とする付記1ないし3のうち、いずれか1項記載の半導体装置の製造方法。
(付記5)
前記チップ積層体を形成する工程の前に、複数の前記半導体チップとして、一面が平坦な面とされた第1のチップ本体、及び該第1のチップ本体の他面に配置された第1のバンプ電極を有する第1の半導体チップと、第2のチップ本体、該第2のチップ本体を貫通する前記貫通電極、及び該貫通電極の両端にそれぞれ配置された第2のバンプ電極を有する複数の第2の半導体チップと、を準備する工程を有し、
前記チップ積層体を形成する工程は、ボンディング装置のステージ上と前記第1のチップ本体の一面とが接触するように、前記ステージ上に前記第1の半導体チップを吸着させる段階と、
ボンディングツールを用いて、前記貫通電極及び前記第2のバンプ電極を介して、前記第1の半導体チップ上に複数の前記第2の半導体チップを積み重ねて実装する段階と、
を含むことを特徴とする付記1ないし4のうち、いずれか1項記載の半導体装置の製造方法。
(付記6)
前記アンダーフィル材を形成する工程は、ステージの平坦な面に貼り付けられたシート材と前記第1のチップ本体の一面とが接触するように、前記チップ積層体を配置する段階と、
液状とされた前記アンダーフィル材を前記チップ積層体の側壁に滴下し、毛細管現象により複数の前記半導体チップ間の隙間を封止する段階と、
前記液状とされたアンダーフィル樹脂を硬化させる段階と、
を含むことを特徴とする付記1ないし5のうち、いずれか1項記載の半導体装置の製造方法。
(付記7)
前記チップ積層体を形成する工程において、複数の前記第2の半導体チップのうち、最上層に配置される最上層チップとしてインターフェイス用半導体チップを用いると共に、前記最上層チップ以外の前記第2の半導体チップ、及び前記第1の半導体チップとしてメモリ用半導体チップを用いることを特徴とする付記5または6記載の半導体装置の製造方法。
(付記8)
前記アンダーフィル材付きチップ積層体を、配線基板の主面に設けられた接続パッドに対してフリップチップ実装する工程を有することを特徴とする付記1ないし7のうち、いずれか1項記載の半導体装置の製造方法。
(付記9)
前記アンダーフィル材から露出された前記第2のバンプ電極と前記接続パッドとを電気的に接続することで、前記アンダーフィル材付きチップ積層体を前記配線基板の前記接続パッドにフリップチップ実装することを特徴とする付記8のうち、いずれか1項記載の半導体装置の製造方法。
(付記10)
前記アンダーフィル材付きチップ積層体と前記配線基板との間を封止する第1の封止樹脂を形成する工程を有することを特徴とする付記8または9記載の半導体装置の製造方法。
(付記11)
前記配線基板の主面に、前記アンダーフィル材付きチップ積層体、及び前記第1の封止樹脂を封止する第2の封止樹脂を形成する工程を有することを特徴とする付記10記載の半導体装置の製造方法。
(付記12)
前記主面とは反対側に位置する前記配線基板の面に、前記接続パッドと電気的に接続された外部接続用パッドを形成することを特徴とする付記8ないし11のうち、いずれか1項記載の半導体装置の製造方法。
(付記13)
一面が平坦な面とされ、かつ他面に第3及び第4のバンプ電極を有するロジック用半導体チップを準備し、接続パッドが設けられた配線基板の主面に、前記ロジック用半導体チップの一面が対向するように、前記ロジック用半導体チップを接着する工程と、
前記第3のバンプ電極に対して、前記アンダーフィル材付きチップ積層体をフリップチップ実装する工程と、
前記第4のバンプ電極と前記接続パッドとをワイヤボンディング接続する工程と、
を有することを特徴とする付記1ないし7のうち、いずれか1項記載の半導体装置の製造方法。
(付記14)
前記アンダーフィル材付きチップ積層体と前記ロジック用半導体チップとの間を封止する第1の封止樹脂を形成する工程を有することを特徴とする付記13記載の半導体装置の製造方法。
(付記15)
前記配線基板の主面に、前記アンダーフィル材付きチップ積層体、前記第1の封止樹脂、及び前記ロジック用半導体チップを封止する第2の封止樹脂を形成する工程を有することを特徴とする付記14記載の半導体装置の製造方法。
(付記16)
前記主面とは反対側に位置する前記配線基板の面に、前記接続パッドと電気的に接続された外部接続用パッドを形成することを特徴とする付記13ないし15のうち、いずれか1項記載の半導体装置の製造方法。
本発明は、半導体装置の製造方法に適用可能である。
10,110,200,300…半導体装置、11,111…配線基板、12…ワイヤバンプ、13,220…アンダーフィル材付きチップ積層体、14…第1の封止樹脂、15…第2の封止樹脂、16…第3の封止樹脂、15a,25a,86a…上面、17…外部接続端子、21…配線基板本体、21a,47a,48a,61a,62a,92a,122a,123a…表面、21b,47b,61b,92b,122b…裏面、22…接続パッド、22a…バンプ載置面、24…配線、25…第1のソルダーレジスト、26…外部接続用パッド、26a…端子載置面、28,54…貫通電極、29…第2のソルダーレジスト、33,210…チップ積層体、34…アンダーフィル材、34a…平面、34−1…フィレット部、35…第1の半導体チップ、35a,36a,37a,38a,39a…側面、36〜39…第2の半導体チップ、43…第1のチップ本体、43a,117a…一面、43b,117b…他面、45,56,118,119…表面バンプ電極、47,61,122…半導体基板、48,62,123…回路素子層、52,58…第2のチップ本体、54231,241…貫通電極、55,232,242…裏面バンプ電極、56,231,241…表面バンプ電極、66…ボンディング装置、67,77…ステージ、67a…基板載置面、68…ボンディングツール、68a…吸着面、71…第1の吸着孔、73…第2の吸着孔、74…ヒーター、77…ステージ、77a…面、78…シート材、79,95…ディスペンサー、82…構造体、85…治具、86,99…ダイシングテープ、86a…上面、89…ダイシングブレード、92…絶縁基材、93…配線母基板、98…マウントツール、113…ロジック用半導体チップ、114…金属ワイヤ、115…接着剤、117…第3のチップ本体、A…平面、B…距離、D…方向、F…配線基板形成領域、G…ダイシングライン
Claims (8)
- 貫通電極を介して、複数の半導体チップを積み重ねて実装することで、積層された複数の前記半導体チップよりなるチップ積層体を形成する工程と、
前記チップ積層体の周囲にフィレット部が形成されるように、前記チップ積層体を構成する複数の前記半導体チップ間の隙間を充填するアンダーフィル材を形成する工程と、
前記フィレット部をトリミングすることで、アンダーフィル材付きチップ積層体を形成する工程と、
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 前記アンダーフィル材のうち、前記フィレット部がトリミングされた部分の面が、前記半導体チップの側面に対して平行な平面となるように、前記フィレット部をトリミングすることを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。
- 複数の前記半導体チップは、矩形とされており、
前記チップ積層体の4つの側壁に形成された前記フィレット部をトリミングすることを特徴とする請求項1または2記載の半導体装置の製造方法。 - 前記フィレット部は、切削または研磨によりトリミングすることを特徴とする請求項1ないし3のうち、いずれか1項記載の半導体装置の製造方法。
- 前記アンダーフィル材付きチップ積層体を、配線基板の主面に設けられた接続パッドに対してフリップチップ実装する工程を有することを特徴とする請求項1ないし4のうち、いずれか1項記載の半導体装置の製造方法。
- 配線基板の主面と他の半導体チップの一方の表面とが向かい合うよう、前記他の半導体チップを前記配線基板上にフリップチップ実装する工程と、
前記他の半導体チップの他方の表面上に、前記アンダーフィル材付きチップ積層体をフリップチップ実装する工程と、
をさらに有することを特徴とする請求項1ないし4のうち、いずれか1項記載の半導体装置の製造方法。 - 配線基板の主面の第1の領域に他の半導体チップをフリップチップ実装し、前記配線基板の主面の前記第1の領域とは異なる第2の領域に前記アンダーフィル材付きチップ積層体をフリップチップ実装する工程をさらに有することを特徴とする請求項1ないし4のうち、いずれか1項記載の半導体装置の製造方法。
- 前記配線基板の主面と前記他の半導体チップ及び前記アンダーフィル材付きチップ積層体との間に、シリコンインターポーザを介在させることを特徴とする請求項7記載の半導体装置の製造方法。
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