JP2013076171A - ホルムアルデヒドを含有しない無電解銅組成物 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】無電解銅および銅合金メッキ浴が開示される。該無電解浴は、ホルムアルデヒドを含んでおらず、環境に優しい。該無電解浴は、安定しており、基体に光沢のある銅または銅合金を堆積する。
【選択図】なし
Description
6つの水性無電解銅組成物はピルブアルデヒドおよび5,5−ジメチルヒダントインを含んでいた。これらの無電解銅組成物は、ホルムアルデヒドを含んでおらず、かつ環境に優しいものであった。それらを、それらの安定性、メッキ速度およびそれらの銅堆積物の品質について試験した。それぞれの水性無電解組成物は、少なくとも7g/Lの塩化銅(CuCl22H2O)、47g/Lのピルブアルデヒドおよび64g/Lの5,5−ジメチルヒダントインを含んでいた。これらに加え、組成物2〜6は、一以上の通常の錯化剤または追加のキレート化剤も通常の量で含んでいた。
1.各積層板の表面を、5%の水性酸性コンディショナーCIRCUPOSIT CONDITIONER(商標)3327を含有する水性浴中に50℃で6分間浸漬した。
2.その後、各積層板を冷水で6分間すすぎ洗いした。
3.この後、各積層板に、室温で1分間、プレディップを適用した。このプレディップは、ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズから入手したPre−dip(商標)3340であった。
4.その後、これらの積層板を、40℃において6分間、無電解銅メタライゼーションのための触媒で下塗りした。積層板は、それらの積層板を前述の触媒中に浸漬することにより下塗りされた。触媒は以下の配合を有していた。
6.この後、各積層板を、銅金属堆積のための上記無電解銅メッキ組成物のうちの一つに浸漬した。銅金属の堆積は20分間にわたって行われた。銅メッキが行われている間、赤色の沈殿物(Cu2Oの形成)は観測されなかった。
7.この後、銅メッキされた積層板を冷水で2分間すすぎ洗いした。
8.その後、銅メッキされた各積層板を脱イオン水で1分間すすぎ洗いした。
9.次いで、銅メッキされた各積層板を通常の対流式オーブンに入れ、105℃で20分間乾燥させた。
10.乾燥後、銅メッキされた各積層板を、20分間、すなわち積層板が室温に冷却されるまで、通常の実験用デシケーターに入れた。
11.乾燥後の銅メッキされた各積層板を、銅堆積物の品質について観測した。5の場合を除き、すべてが良好または非常に良好な外観を呈し、5での外観は暗褐色であった(以下の表参照)。
12.その後、銅メッキされた各積層板の重量を通常の秤で計量し、記録した。
13.各積層板の重量を計量し、記録した後、積層板を3%硫酸/3%過酸化水素溶液に浸漬することにより、各積層板から銅堆積物がエッチングされた。
14.その後、各積層板を冷水で3分間すすぎ洗いした。
15.この後、各積層板を105℃のオーブンに20分間戻した。
16.次いで、これらの積層板を、20分間、すなわち積層板が室温になるまで、デシケーターに入れた。
17.その後、これらの積層板の重量を計量し、エッチング前とエッチング後との重量差を決定した。それぞれの積層板での重量差が以下の表に示されている。
6つの水性無電解銅組成物はピルブアルデヒドおよびヒダントインを含んでいた。それらをそれらの安定性、メッキ速度およびそれらの銅堆積物の品質について試験した。それぞれの水性無電解組成物は、少なくとも7g/Lの塩化銅(CuCl22H2O)、47g/Lのピルブアルデヒドおよび50g/Lのヒダントインを含んでいた。これらの無電解銅組成物は、ホルムアルデヒドを含んでおらず、かつ環境に優しいものであった。これらに加え、組成物2〜6は、一以上の通常の錯化剤または追加のキレート化剤を通常の量で含んでいた。
6つの水性無電解銅組成物はピルブアルデヒドおよびアラントインを含み、これらの組成物をそれらの安定性、メッキ速度およびそれらの銅堆積物の品質について試験した。それぞれの水性無電解組成物は、少なくとも7g/Lの塩化銅(CuCl22H2O)、47g/Lのピルブアルデヒドおよび79g/Lのアラントインを含んでいた。これらに加え、組成物2〜6は、一以上の通常の錯化剤または追加のキレート化剤を通常の量で含んでいた。
Claims (8)
- 一以上の銅イオン源と、ヒダントインおよびヒダントイン誘導体から選択される一以上のキレート化剤と、ピルブアルデヒドとを含み、ホルムアルデヒドを含まない、無電解銅メッキ組成物。
- キレート化剤が、20g/L〜150g/Lの範囲である、請求項1記載の無電解銅メッキ組成物。
- ヒダントイン誘導体が、1−メチルヒダントイン、1,3−ジメチルヒダントイン、5,5−ジメチルヒダントインおよびアラントインから選択される、請求項1記載の無電解銅メッキ組成物。
- ピルブアルデヒドが、10g/L〜100g/Lの範囲である、請求項1記載の無電解銅メッキ組成物。
- 一以上の追加の金属イオンを更に含む、請求項1記載の無電解銅メッキ組成物。
- a)基体を提供し、
b)一以上の銅イオン源と、ヒダントインおよびヒダントイン誘導体から選択される一以上のキレート化剤と、ピルブアルデヒドとを含み、ホルムアルデヒドを含まない無電解銅メッキ組成物を用いて、前記基体上に銅を無電解的にメッキすること、
を含む、銅を無電解的にメッキする方法。 - a)複数のスルーホールを含むプリント配線板を提供し、
b)スルーホールをデスミア処理し、
c)一以上の銅イオン源と、ヒダントインおよびヒダントイン誘導体から選択される一以上のキレート化剤と、ピルブアルデヒドとを含み、ホルムアルデヒドを含まない無電解銅メッキ浴を用いて、スルーホールの壁上に銅を無電解的にメッキすること、
を含む、銅を無電解的にメッキする方法。 - 無電解銅メッキ浴が、一以上の追加の金属イオンを更に含む、請求項7記載の銅を無電解的にメッキする方法。
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