JP2012532343A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012532343A5 JP2012532343A5 JP2012517906A JP2012517906A JP2012532343A5 JP 2012532343 A5 JP2012532343 A5 JP 2012532343A5 JP 2012517906 A JP2012517906 A JP 2012517906A JP 2012517906 A JP2012517906 A JP 2012517906A JP 2012532343 A5 JP2012532343 A5 JP 2012532343A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- per inch
- layer
- lines per
- lpi
- resolution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 11
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 claims description 5
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 5
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N oxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 4
- 230000000149 penetrating Effects 0.000 claims description 4
- 239000003211 photoinitiator Substances 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 229920001721 Polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive Effects 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium(0) Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton(0) Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon(0) Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon(0) Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Description
これらの結果は、凸版印刷フォームにおいて、低い走査解像度で高い空間解像度(例えばインチ当たり4,000走査線で400/600DPI)の構造(すなわち、浮出し面要素)を正確に製造するのが困難であることを示した。また、好適な画像形成解像度を用いて、凸版印刷フォームの非常に高い空間解像度(600ドット毎インチ)で小さい構造(約21μm)を得ることができる。さらに、コーティング材料の層を印刷するのに十分である、凸版印刷フォームにおける浮出し面要素の構造を、本発明の方法を用いて得ることができる。
以下に、本発明の好ましい態様を示す。
[1] 基板上に材料を印刷するための方法であって:
a)バインダー、エチレン性不飽和化合物、および光開始剤を含有する光重合性組成物の層を含む感光性要素から凸版印刷フォームを提供する工程であって:
i)前記光重合性層に隣接し、化学線に対して不透過性の領域を貫く複数の開口を有するin−situマスクを形成する工程であって、前記開口がインチ当たり250線以上のスクリーン線数解像度を有する工程と;
ii)不活性ガスおよび190,000百万分率(ppm)〜100ppmの濃度の酸素を有する環境において、前記マスク開口を介して、前記光重合性層を化学線に露光する工程と;
iii)工程ii)から得られる要素を処理して、インチ当たり250線以上のスクリーン線数解像度を有する複数の浮出し面を有するレリーフ構造を形成する工程と
を含む工程と;
b)前記複数の浮出し面に前記材料を塗布する工程と;
c)前記材料を前記複数の浮出し面から前記基板に接触させ、それによって前記材料を前記基板に転写する工程と
を含むことを特徴とする方法。
[2] 前記接触工程が、前記基板上に前記材料の層を形成することを特徴とする[1]に記載の方法。
[3] 前記材料の層の2つ以上の領域を有するパターンが、前記基板上に形成されることを特徴とする[2]に記載の方法。
[4] 前記基板上の前記材料が、50〜5000オングストロームの厚さを有することを特徴とする[1]に記載の方法。
[5] 前記基板上の前記材料の層が、約200〜1500オングストロームの厚さを有することを特徴とする[2]に記載の方法。
[6] 前記マスクの前記開口が、全画素面積の20〜80%であるドット面積を有することを特徴とする[2]に記載の方法。
[7] 前記接触工程が、前記材料のグラフィック画像を前記基板上に形成し、前記グラフィック画像は、中間調の図、テキスト、線特徴、およびそれらの組合せからなる群から選択されることを特徴とする[1]に記載の方法。
[8] 前記レリーフ構造の前記複数の浮出し面のスクリーン線数解像度が、前記マスクのスクリーン線数解像度と同一または実質的に同一であることを特徴とする[1]に記載の方法。
[9] 前記マスク開口の解像度が、250線毎インチ(LPI)、300LPI、350LPI、400LPI、および600LPIからなる群から選択されることを特徴とする[1]に記載の方法。
[10] 前記浮出し面の解像度が、400線毎インチ以上であることを特徴とする[1]に記載の方法。
[11] 各浮出し面が、約10〜約90マイクロメートルの直径を有する上面を有することを特徴とする[1]に記載の方法。
[12] 前記材料が液晶配列材料であることを特徴とする[1]に記載の方法。
[13] 前記材料がポリイミドであることを特徴とする[1]に記載の方法。
[14] 前記材料が、ワニス、インク、および接着剤からなる群から選択されることを特徴とする[1]に記載の方法。
[15] 前記環境における酸素の濃度が、80,000ppm以下であることを特徴とする[1]に記載の方法。
[16] 前記不活性ガスが、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、およびそれらの組合せからなる群から選択されることを特徴とする[1]に記載の方法。
[17] 化学線不透過性材料の層が、前記光重合性層上または前記光重合性層に隣接して配置され、工程i)が、前記化学線不透過性層をレーザー放射線で像様露光して、前記in−situマスクを形成する工程を含むことを特徴とする[1]に記載の方法。
[18] レーザー放射線での前記像様露光工程が、(a)前記光重合性層から前記化学線不透過性層を選択的に融除する工程、および(b)前記化学線不透過性層の部分を前記光重合性層に選択的に転写する工程からなる群から選択されることを特徴とする[17]に記載の方法。
[19] 前記処理工程iii)が:
a)工程ii)の要素を、溶剤溶液、水溶液、半水溶液、および水からなる群から選択される少なくとも1種の洗浄溶液で処理する工程;および
b)工程ii)の要素を、領域を溶融、流動、または軟化させるのに十分な温度に加熱し、前記領域を除去する工程
からなる群から選択されることを特徴とする[1]に記載の方法。
[20] 250線毎インチ以上のスクリーン線数解像度を有する複数の浮出し面を含むレリーフ構造を有するエラストマー層を有する凸版印刷フォームを作製するための方法であって:
a)バインダー、エチレン性不飽和化合物、および光開始剤を含む光重合性材料のエラストマー層を含む感光性要素を提供する工程と;
b)前記光重合性層に隣接し、化学線に対して不透過性の領域を貫く複数の開口を有するin−situマスクを形成する工程であって、前記開口が、250線毎インチ以上のスクリーン線数解像度を有する工程と;
c)不活性ガスおよび190,000百万分率(ppm)〜100ppmの濃度の酸素を有する環境において、前記マスク開口を介して、前記光重合性層を化学線に露光する工程と;
d)工程c)から得られる要素を処理して、250線毎インチ以上のスクリーン線数解像度を有する複数の浮出し面を有するレリーフ構造を形成する工程と
を含むことを特徴とする方法。
以下に、本発明の好ましい態様を示す。
[1] 基板上に材料を印刷するための方法であって:
a)バインダー、エチレン性不飽和化合物、および光開始剤を含有する光重合性組成物の層を含む感光性要素から凸版印刷フォームを提供する工程であって:
i)前記光重合性層に隣接し、化学線に対して不透過性の領域を貫く複数の開口を有するin−situマスクを形成する工程であって、前記開口がインチ当たり250線以上のスクリーン線数解像度を有する工程と;
ii)不活性ガスおよび190,000百万分率(ppm)〜100ppmの濃度の酸素を有する環境において、前記マスク開口を介して、前記光重合性層を化学線に露光する工程と;
iii)工程ii)から得られる要素を処理して、インチ当たり250線以上のスクリーン線数解像度を有する複数の浮出し面を有するレリーフ構造を形成する工程と
を含む工程と;
b)前記複数の浮出し面に前記材料を塗布する工程と;
c)前記材料を前記複数の浮出し面から前記基板に接触させ、それによって前記材料を前記基板に転写する工程と
を含むことを特徴とする方法。
[2] 前記接触工程が、前記基板上に前記材料の層を形成することを特徴とする[1]に記載の方法。
[3] 前記材料の層の2つ以上の領域を有するパターンが、前記基板上に形成されることを特徴とする[2]に記載の方法。
[4] 前記基板上の前記材料が、50〜5000オングストロームの厚さを有することを特徴とする[1]に記載の方法。
[5] 前記基板上の前記材料の層が、約200〜1500オングストロームの厚さを有することを特徴とする[2]に記載の方法。
[6] 前記マスクの前記開口が、全画素面積の20〜80%であるドット面積を有することを特徴とする[2]に記載の方法。
[7] 前記接触工程が、前記材料のグラフィック画像を前記基板上に形成し、前記グラフィック画像は、中間調の図、テキスト、線特徴、およびそれらの組合せからなる群から選択されることを特徴とする[1]に記載の方法。
[8] 前記レリーフ構造の前記複数の浮出し面のスクリーン線数解像度が、前記マスクのスクリーン線数解像度と同一または実質的に同一であることを特徴とする[1]に記載の方法。
[9] 前記マスク開口の解像度が、250線毎インチ(LPI)、300LPI、350LPI、400LPI、および600LPIからなる群から選択されることを特徴とする[1]に記載の方法。
[10] 前記浮出し面の解像度が、400線毎インチ以上であることを特徴とする[1]に記載の方法。
[11] 各浮出し面が、約10〜約90マイクロメートルの直径を有する上面を有することを特徴とする[1]に記載の方法。
[12] 前記材料が液晶配列材料であることを特徴とする[1]に記載の方法。
[13] 前記材料がポリイミドであることを特徴とする[1]に記載の方法。
[14] 前記材料が、ワニス、インク、および接着剤からなる群から選択されることを特徴とする[1]に記載の方法。
[15] 前記環境における酸素の濃度が、80,000ppm以下であることを特徴とする[1]に記載の方法。
[16] 前記不活性ガスが、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、およびそれらの組合せからなる群から選択されることを特徴とする[1]に記載の方法。
[17] 化学線不透過性材料の層が、前記光重合性層上または前記光重合性層に隣接して配置され、工程i)が、前記化学線不透過性層をレーザー放射線で像様露光して、前記in−situマスクを形成する工程を含むことを特徴とする[1]に記載の方法。
[18] レーザー放射線での前記像様露光工程が、(a)前記光重合性層から前記化学線不透過性層を選択的に融除する工程、および(b)前記化学線不透過性層の部分を前記光重合性層に選択的に転写する工程からなる群から選択されることを特徴とする[17]に記載の方法。
[19] 前記処理工程iii)が:
a)工程ii)の要素を、溶剤溶液、水溶液、半水溶液、および水からなる群から選択される少なくとも1種の洗浄溶液で処理する工程;および
b)工程ii)の要素を、領域を溶融、流動、または軟化させるのに十分な温度に加熱し、前記領域を除去する工程
からなる群から選択されることを特徴とする[1]に記載の方法。
[20] 250線毎インチ以上のスクリーン線数解像度を有する複数の浮出し面を含むレリーフ構造を有するエラストマー層を有する凸版印刷フォームを作製するための方法であって:
a)バインダー、エチレン性不飽和化合物、および光開始剤を含む光重合性材料のエラストマー層を含む感光性要素を提供する工程と;
b)前記光重合性層に隣接し、化学線に対して不透過性の領域を貫く複数の開口を有するin−situマスクを形成する工程であって、前記開口が、250線毎インチ以上のスクリーン線数解像度を有する工程と;
c)不活性ガスおよび190,000百万分率(ppm)〜100ppmの濃度の酸素を有する環境において、前記マスク開口を介して、前記光重合性層を化学線に露光する工程と;
d)工程c)から得られる要素を処理して、250線毎インチ以上のスクリーン線数解像度を有する複数の浮出し面を有するレリーフ構造を形成する工程と
を含むことを特徴とする方法。
Claims (3)
- 基板上に材料を印刷するための方法であって:
a)バインダー、エチレン性不飽和化合物、および光開始剤を含有する光重合性組成物の層を含む感光性要素から凸版印刷フォームを提供する工程であって:
i)前記光重合性層に隣接し、化学線に対して不透過性の領域を貫く複数の開口を有するin−situマスクを形成する工程であって、前記開口がインチ当たり250線以上のスクリーン線数解像度を有する工程と;
ii)不活性ガスおよび190,000百万分率(ppm)〜100ppmの濃度の酸素を有する環境において、前記マスク開口を介して、前記光重合性層を化学線に露光する工程と;
iii)工程ii)から得られる要素を処理して、インチ当たり250線以上のスクリーン線数解像度を有する複数の浮出し面を有するレリーフ構造を形成する工程と
を含む工程と;
b)前記複数の浮出し面に前記材料を塗布する工程と;
c)前記材料を前記複数の浮出し面から前記基板に接触させ、それによって前記材料を前記基板に転写する工程と
を含むことを特徴とする方法。 - 前記マスク開口の解像度が、250線毎インチ(LPI)、300LPI、350LPI、400LPI、および600LPIからなる群から選択されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 250線毎インチ以上のスクリーン線数解像度を有する複数の浮出し面を含むレリーフ構造を有するエラストマー層を有する凸版印刷フォームを作製するための方法であって:
a)バインダー、エチレン性不飽和化合物、および光開始剤を含む光重合性材料のエラストマー層を含む感光性要素を提供する工程と;
b)前記光重合性層に隣接し、化学線に対して不透過性の領域を貫く複数の開口を有するin−situマスクを形成する工程であって、前記開口が、250線毎インチ以上のスクリーン線数解像度を有する工程と;
c)不活性ガスおよび190,000百万分率(ppm)〜100ppmの濃度の酸素を有する環境において、前記マスク開口を介して、前記光重合性層を化学線に露光する工程と;
d)工程c)から得られる要素を処理して、250線毎インチ以上のスクリーン線数解像度を有する複数の浮出し面を有するレリーフ構造を形成する工程と
を含むことを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US22266909P | 2009-07-02 | 2009-07-02 | |
US61/222,669 | 2009-07-02 | ||
PCT/US2010/040723 WO2011002967A1 (en) | 2009-07-02 | 2010-07-01 | Method for printing a material onto a substrate |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012532343A JP2012532343A (ja) | 2012-12-13 |
JP2012532343A5 true JP2012532343A5 (ja) | 2013-06-27 |
JP5778141B2 JP5778141B2 (ja) | 2015-09-16 |
Family
ID=42697258
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012517906A Active JP5778141B2 (ja) | 2009-07-02 | 2010-07-01 | 基板上に材料を印刷するための方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8899148B2 (ja) |
EP (1) | EP2448764B1 (ja) |
JP (1) | JP5778141B2 (ja) |
WO (1) | WO2011002967A1 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8241835B2 (en) | 2008-01-30 | 2012-08-14 | E I Du Pont De Nemours And Company | Device and method for preparing relief printing form |
US8652761B2 (en) * | 2011-02-18 | 2014-02-18 | David A. Recchia | Photosensitive resin laminate and thermal processing of the same |
EP2748678B1 (en) * | 2011-08-26 | 2018-07-04 | E. I. du Pont de Nemours and Company | Method for preparing a relief printing form |
US9097974B2 (en) | 2012-08-23 | 2015-08-04 | E I Du Pont De Nemours And Company | Method for preparing a relief printing form |
JP6592246B2 (ja) * | 2015-01-27 | 2019-10-16 | 株式会社コムラテック | 電子回路基板およびその製造方法 |
CN104536210B (zh) * | 2015-02-03 | 2017-09-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种配向膜印刷板的制备方法 |
US9678429B2 (en) | 2015-08-18 | 2017-06-13 | Macdermid Printing Solutions, Llc | Method of creating hybrid printing dots in a flexographic printing plate |
JP6278942B2 (ja) * | 2015-10-21 | 2018-02-14 | 日本航空電子工業株式会社 | フレキソ印刷による絶縁膜の形成方法 |
KR102645662B1 (ko) * | 2016-02-26 | 2024-03-07 | 트리오 랩스 인코포레이티드 | 인 시추 인퓨전을 활용하여 물체들의 솔리드 프리폼 제조를 위한 방법 및 장치 |
Family Cites Families (91)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB574244A (en) | 1958-07-25 | 1945-12-28 | Sparklets Ltd | Improvements in or relating to means for producing a spray of atomised liquid |
NL101499C (ja) | 1951-08-20 | |||
BE552701A (ja) | 1955-12-23 | |||
NL287134A (ja) | 1959-08-05 | |||
BE611541A (ja) | 1961-01-13 | |||
US3264103A (en) | 1962-06-27 | 1966-08-02 | Du Pont | Photopolymerizable relief printing plates developed by dry thermal transfer |
CA1099435A (en) | 1971-04-01 | 1981-04-14 | Gwendyline Y. Y. T. Chen | Photosensitive block copolymer composition and elements |
US4323636A (en) | 1971-04-01 | 1982-04-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive block copolymer composition and elements |
US3796602A (en) | 1972-02-07 | 1974-03-12 | Du Pont | Process for stripping polymer masks from circuit boards |
US4045231A (en) | 1975-03-15 | 1977-08-30 | Tokyo Ohka Kogyo Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin composition for flexographic printing plates |
JPS538655A (en) | 1976-07-13 | 1978-01-26 | Teijin Ltd | Method of removing nonnset resin |
US4177074A (en) | 1978-01-25 | 1979-12-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Butadiene/acrylonitrile photosensitive, elastomeric polymer compositions for flexographic printing plates |
JPS55135838A (en) | 1979-04-12 | 1980-10-23 | Asahi Chem Ind Co Ltd | Surface treating method for photosensitive elastomer printing plate |
DE3137416A1 (de) | 1981-09-19 | 1983-03-31 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Fotopolymerisierbare gemische und elemente daraus |
US4431723A (en) | 1981-09-21 | 1984-02-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous processible, alcohol resistant flexographic printing plates |
JPS5863939A (ja) * | 1981-10-13 | 1983-04-16 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 印刷原版及びその製造方法 |
US4427759A (en) | 1982-01-21 | 1984-01-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing an overcoated photopolymer printing plate |
US4460675A (en) | 1982-01-21 | 1984-07-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing an overcoated photopolymer printing plate |
US4517279A (en) | 1982-08-31 | 1985-05-14 | Uniroyal, Inc. | Photosensitive elastomeric polymer composition for flexographic printing plates - processable in semi-aqueous basic solution or solvent systems |
US4540649A (en) | 1984-09-12 | 1985-09-10 | Napp Systems (Usa) Inc. | Water developable photopolymerizable composition and printing plate element containing same |
US4753865A (en) | 1986-01-22 | 1988-06-28 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive compositions containing microgels |
US4726877A (en) | 1986-01-22 | 1988-02-23 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Methods of using photosensitive compositions containing microgels |
GB8700599D0 (en) | 1987-01-12 | 1987-02-18 | Vickers Plc | Printing plate precursors |
US4806506A (en) | 1987-09-14 | 1989-02-21 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for detackifying photopolymer flexographic printing plates |
US4894315A (en) | 1988-08-30 | 1990-01-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for making flexographic printing plates with increased flexibility |
US4956252A (en) | 1988-08-30 | 1990-09-11 | E. I. Dupont De Nemours And Company | Aqueous processible photosensitive compositions containing core shell microgels |
NL8900784A (nl) | 1989-03-30 | 1990-10-16 | Grafische Handelsonderneming G | Belichtingsinrichting voor het kopieren van beeldoriginelen. |
JPH03239263A (ja) * | 1990-02-16 | 1991-10-24 | Fujitsu Ltd | 光硬化性樹脂組成物 |
JPH0427113A (ja) | 1990-04-23 | 1992-01-30 | Tadahiro Omi | レジスト処理装置、レジスト処理方法及びレジストパターン |
US5330882A (en) | 1990-06-05 | 1994-07-19 | Nippon Paint Co., Ltd. | Process for exposing a photosensitive resin composition to light |
US5015556A (en) | 1990-07-26 | 1991-05-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Flexographic printing plate process |
US5175072A (en) | 1990-07-26 | 1992-12-29 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Flexographic printing plate process |
US5215859A (en) | 1990-07-26 | 1993-06-01 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Backside ionizing irradiation in a flexographic printing plate process |
EP0469735B1 (en) | 1990-07-31 | 1998-06-10 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Device for forming flexographic printing plate |
ES2110987T3 (es) | 1990-11-05 | 1998-03-01 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | Composiciones fotopolimerizables. |
SE502087C2 (sv) | 1991-05-28 | 1995-08-07 | Misomex Ab | Förfarande och anordning för laserkopiering med höj- och sänkbar laserenhet |
DE4133290A1 (de) | 1991-10-08 | 1993-04-15 | Herberts Gmbh | Verfahren zur herstellung von mehrschichtlackierungen unter verwendung von radikalisch und/oder kationisch polymerisierbaren klarlacken |
JP3150746B2 (ja) | 1992-03-06 | 2001-03-26 | 大阪酸素工業株式会社 | 立体構造物の表面に樹脂被膜を形成するための装置 |
US5262275A (en) | 1992-08-07 | 1993-11-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Flexographic printing element having an IR ablatable layer and process for making a flexographic printing plate |
US5719009A (en) | 1992-08-07 | 1998-02-17 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Laser ablatable photosensitive elements utilized to make flexographic printing plates |
US5607814A (en) | 1992-08-07 | 1997-03-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process and element for making a relief image using an IR sensitive layer |
JPH06214377A (ja) * | 1993-01-19 | 1994-08-05 | Toshiba Corp | Apr印刷版 |
EP0699961B1 (en) | 1993-03-31 | 2000-11-15 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Photosensitive composition, photosensitive rubber plate and process for producing the plate, and flexographic plate and process for producing the plate |
US5301610A (en) | 1993-04-30 | 1994-04-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method and apparatus for making spiral wound sleeves for printing cylinders and product thereof |
US6210854B1 (en) | 1993-08-27 | 2001-04-03 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous developable flexographic printing plate |
JP3044689B2 (ja) | 1994-10-14 | 2000-05-22 | 日本ゼオン株式会社 | 感光性エラストマー組成物及び感光性ゴム版 |
CA2165015A1 (en) | 1994-12-13 | 1996-06-14 | Douglas R. Leach | Soft relief photopolymer printing plates for flexographic printing |
US5863704A (en) | 1995-04-26 | 1999-01-26 | Nippon Zeon Company, Ltd. | Photosensitive composition and photosensitive rubber plate |
US5506086A (en) | 1995-05-01 | 1996-04-09 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for making a flexographic printing plate |
US6238837B1 (en) | 1995-05-01 | 2001-05-29 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Flexographic element having an infrared ablatable layer |
US5654125A (en) | 1995-05-01 | 1997-08-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Laser apparatus and process of use |
JPH11504850A (ja) | 1995-05-04 | 1999-05-11 | ネッレ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 下地の上の層を硬化させる方法及び装置 |
US5798019A (en) | 1995-09-29 | 1998-08-25 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Methods and apparatus for forming cylindrical photosensitive elements |
DE19536805A1 (de) | 1995-10-02 | 1997-04-03 | Basf Lacke & Farben | Zur Herstellung von Flexodruckplatten durch digitale Informationsübertragung geeignetes mehrschichtiges Aufzeichnungselement |
US5766819A (en) | 1995-11-29 | 1998-06-16 | E. I. Dupont De Nemours And Company | Donor elements, assemblages, and associated processes with flexible ejection layer(s) for laser-induced thermal transfer |
US5888697A (en) | 1996-07-03 | 1999-03-30 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Flexographic printing element having a powder layer |
US5771809A (en) | 1996-10-18 | 1998-06-30 | Hecht; Myer H. | Method of making a coating plate with raised printing areas |
US6143451A (en) | 1996-11-26 | 2000-11-07 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Imaged laserable assemblages and associated processes with high speed and durable image-transfer characteristics for laser-induced thermal transfer |
US6217965B1 (en) | 1997-05-23 | 2001-04-17 | Creo Srl | Flexographic varnishing plates |
US5840463A (en) | 1997-07-14 | 1998-11-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive donor element assemblages and associated process for laser-induced thermal transfer |
EP0908778B1 (en) | 1997-09-16 | 2002-11-27 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Photosensitive element for flexographic printing |
EP0945753B1 (en) | 1998-03-25 | 2003-03-05 | Noritsu Koki Co., Ltd. | Photographic processing apparatus |
DE19909152C2 (de) | 1999-03-02 | 2001-06-07 | Du Pont Deutschland | Photopolymerisierbares Aufzeichnungselement und Verfahren zur Herstellung von flexographischen Druckformen |
US6797454B1 (en) | 1999-09-07 | 2004-09-28 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method and apparatus for thermal processing a photosensitive element |
DE19957900A1 (de) | 1999-12-01 | 2001-06-07 | Basf Ag | Lichthärtung von strahlungshärtbaren Massen unter Schutzgas |
EP1160627A3 (en) | 2000-06-01 | 2004-08-18 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
DE10061116A1 (de) | 2000-12-07 | 2002-06-13 | Basf Drucksysteme Gmbh | Fotoempfindliches flexographisches Druckelement mit mindestens zwei IR-ablativen Schichten |
US6773859B2 (en) | 2001-03-06 | 2004-08-10 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for making a flexographic printing plate and a photosensitive element for use in the process |
US7348123B2 (en) | 2001-04-18 | 2008-03-25 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Process for preparing a flexographic printing plate |
US6766740B1 (en) | 2002-02-21 | 2004-07-27 | Precision Rubber Plate Co., Inc. | Apparatus and method using a UV light collimator to expose a photopolymer plate |
WO2003079114A1 (en) | 2002-03-14 | 2003-09-25 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive element for use as flexographic printing plate |
DE10241851A1 (de) | 2002-09-09 | 2004-03-18 | Basf Drucksysteme Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Flexodruckformen durch thermische Entwicklung |
JP4080839B2 (ja) | 2002-10-21 | 2008-04-23 | シャープ株式会社 | フレキソ印刷版の製造方法および印刷物の製造方法 |
MXPA05008777A (es) | 2003-02-19 | 2005-10-18 | Asahi Kasei Chemicals Corp | Proceso para producir placa de impresion revelable con agua para el uso en implesion en relieve. |
US20040234886A1 (en) | 2003-03-12 | 2004-11-25 | Rudolph Michael Lee | Photosensitive element for use as flexographic printing plate |
JP2005017352A (ja) | 2003-06-23 | 2005-01-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | フレキソ印刷版の製版方法 |
CN1849556A (zh) | 2003-09-12 | 2006-10-18 | 东京応化工业株式会社 | 层压光敏凸版印刷原版以及制造该凸版印刷版的方法 |
JP2005283778A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 印刷版の作製方法および印刷版露光装置 |
JP2005283961A (ja) | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 印刷版露光装置 |
JP4342373B2 (ja) * | 2004-04-30 | 2009-10-14 | 東京応化工業株式会社 | 凸版印刷用感光性印刷原版、凸版印刷版の製造方法、および該製造方法用遮光インク |
US7632625B2 (en) | 2004-05-25 | 2009-12-15 | Roberts David H | Method of pre-exposing relief image printing plate |
DK1801145T3 (da) | 2004-09-13 | 2009-02-16 | Asahi Kasei Chemicals Corp | Fremgangsmåde til fremstilling af et hærdet produkt af lysfölsomt resin |
US7401552B2 (en) * | 2004-09-16 | 2008-07-22 | Agfa Graphics N.V. | Method for manufacturing a flexographic printing master |
US7081331B2 (en) | 2004-11-12 | 2006-07-25 | Ryan Vest | Method for thermally processing photosensitive printing sleeves |
JP5052614B2 (ja) | 2006-09-18 | 2012-10-17 | アグファ・グラフィクス・エヌヴィ | スリーブ体の周囲表面を被覆するための装置 |
JP2009034913A (ja) * | 2007-08-02 | 2009-02-19 | Nakan Corp | フレキソ印刷版およびその製造方法、薄膜および液晶表示素子の製造方法 |
US7767383B2 (en) * | 2007-08-08 | 2010-08-03 | Roberts David H | Method of pre-exposing relief image printing plate |
JP5128210B2 (ja) * | 2007-09-03 | 2013-01-23 | イーストマン コダック カンパニー | 凸版印刷版の製造方法 |
WO2009033124A2 (en) * | 2007-09-07 | 2009-03-12 | Precision Rubber Plate Co., Inc. | System and method for exposing a digital polymer plate |
US8241835B2 (en) | 2008-01-30 | 2012-08-14 | E I Du Pont De Nemours And Company | Device and method for preparing relief printing form |
US20090245613A1 (en) * | 2008-03-31 | 2009-10-01 | Wu Judy Wailing | Method And System For Producing Digital Electronic Document Security Graphics Files |
-
2010
- 2010-07-01 US US13/320,831 patent/US8899148B2/en active Active
- 2010-07-01 WO PCT/US2010/040723 patent/WO2011002967A1/en active Application Filing
- 2010-07-01 EP EP10731880.0A patent/EP2448764B1/en active Active
- 2010-07-01 JP JP2012517906A patent/JP5778141B2/ja active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2012532343A5 (ja) | ||
JP2009276745A5 (ja) | ||
JP2014069575A5 (ja) | ||
EP2083325A3 (en) | Method for printing a pattern on a substrate | |
JP2015534098A5 (ja) | ||
JP2008527736A5 (ja) | ||
ATE518651T1 (de) | Verfahren und einrichtung zum drucken, wobei eine hydrophile schicht erzeugt und diese strukturiert wird | |
KR100969473B1 (ko) | 레이저 식각을 이용한 유리 기판의 제조방법 및 이를 위한 레이저 조사장치 | |
EP1975699B1 (en) | A method and system for patterning a mask layer | |
US20150217558A1 (en) | Apparatus for forming an image on a flexographic media | |
US20140212633A1 (en) | Printing plate and method for manufacturing same | |
JPH07102732B2 (ja) | 微細レジストパターンの形成方法 | |
JP2010155344A (ja) | 認識マークを備えたメタルマスク及びその製造方法 | |
WO2017077825A1 (ja) | オフセット印刷版、オフセット印刷装置及びオフセット印刷方法 | |
JP2009190264A (ja) | 印刷版及び缶の印刷装置 | |
KR20030080184A (ko) | 마스크 필름용 부재, 그것을 이용한 마스크 필름의제조방법 및 감광성 수지 인쇄판의 제조방법 | |
JP2009137085A (ja) | 高精細樹脂凸版印刷版 | |
JP2007090880A (ja) | 印刷版に画線部を形成するための方法 | |
JPH04239684A (ja) | 微細パターン形成方法 | |
JP2008194884A (ja) | 印刷平版およびその製造方法および印刷方法およびカラーフィルターの製造方法 | |
JP2008205417A (ja) | 機能パターン用多種レジスト塗布基板及びその基板を用いた機能パターン基板の製造方法 | |
JP2009194207A (ja) | パターン形成方法、半導体装置の製造方法及び半導体装置の製造装置 | |
JP2016193565A (ja) | 印刷方法、スクリーン版の形成方法、スクリーン版およびスクリーン印刷装置 | |
JP2005134879A (ja) | バンク構造の製造方法 | |
JP2005111788A (ja) | 精密印刷用スクリーン印版及びその製造方法 |