JP3044689B2 - 感光性エラストマー組成物及び感光性ゴム版 - Google Patents
感光性エラストマー組成物及び感光性ゴム版Info
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- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、感光性ゴム版及び感光
性エラストマー組成物に関する。さらに詳しくは、版強
度及び画像再現性が高い感光性ゴム版及びこれを得るた
めの感光性エラストマー組成物に関する。
性エラストマー組成物に関する。さらに詳しくは、版強
度及び画像再現性が高い感光性ゴム版及びこれを得るた
めの感光性エラストマー組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】フレキソ印刷版は、感光性の版面にネガ
またはポジフィルムを密着させ、活性光を照射して感光
層の一部分を露光した後、未露光部分を洗浄除去してレ
リーフを形成する方法により、製造される。このような
フレキソ印刷版のごとき感光性ゴム版の感光層製材に
は、引張強度、伸びなどの版強度が高いこと及び感光洗
浄後のレリーフの凸細線が狭く及び凹細線の彫り溝が深
い（画像再現性が高い）ことが要求される。感光層製材
としては、熱可塑性エラストマーと光重合性エチレン性
単量体とを必須成分とする感光性エラストマー組成物が
知られている。この組成物に用いる光重合性エチレン性
単量体は、感光性エラストマー組成物を均一なものにす
るために熱可塑性エラストマーとの相溶性が高いことが
必須要件のものであった。具体的にはポリエチレングリ
コールジアクリレートのごときポリアルキレングリコー
ルのジアクリレートやこれに対応するジメタクリレー
ト；１，６−ヘキサンジオールジアクリレートのごとき
炭素数６個以下の炭化水素の多価オールとアクリル酸も
しくはメタクリル酸とのエステルなどが知られている。
しかし、これら感光性エラストマー組成物を用いたゴム
版は、版強度が低く、また画像再現性も満足できるもの
でなかった。
またはポジフィルムを密着させ、活性光を照射して感光
層の一部分を露光した後、未露光部分を洗浄除去してレ
リーフを形成する方法により、製造される。このような
フレキソ印刷版のごとき感光性ゴム版の感光層製材に
は、引張強度、伸びなどの版強度が高いこと及び感光洗
浄後のレリーフの凸細線が狭く及び凹細線の彫り溝が深
い（画像再現性が高い）ことが要求される。感光層製材
としては、熱可塑性エラストマーと光重合性エチレン性
単量体とを必須成分とする感光性エラストマー組成物が
知られている。この組成物に用いる光重合性エチレン性
単量体は、感光性エラストマー組成物を均一なものにす
るために熱可塑性エラストマーとの相溶性が高いことが
必須要件のものであった。具体的にはポリエチレングリ
コールジアクリレートのごときポリアルキレングリコー
ルのジアクリレートやこれに対応するジメタクリレー
ト；１，６−ヘキサンジオールジアクリレートのごとき
炭素数６個以下の炭化水素の多価オールとアクリル酸も
しくはメタクリル酸とのエステルなどが知られている。
しかし、これら感光性エラストマー組成物を用いたゴム
版は、版強度が低く、また画像再現性も満足できるもの
でなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、版強度及び
画像再現性が高い感光性ゴム版及びこれを得るための感
光性エラストマー組成物を提供することを目的とするも
のである。本発明者らは、この目的を達成すべく鋭意研
究を重ねた結果、特定の光重合性エチレン性単量体を含
有する感光性エラストマー組成物を用いることによっ
て、前記目的を達成できることを見いだし、この知見に
基づいて、本発明を完成するに到った。
画像再現性が高い感光性ゴム版及びこれを得るための感
光性エラストマー組成物を提供することを目的とするも
のである。本発明者らは、この目的を達成すべく鋭意研
究を重ねた結果、特定の光重合性エチレン性単量体を含
有する感光性エラストマー組成物を用いることによっ
て、前記目的を達成できることを見いだし、この知見に
基づいて、本発明を完成するに到った。
【０００４】
【課題を解決するための手段】かくして本発明によれ
ば、熱可塑性エラストマー（１）１００重量部、エチレ
ン性不飽和酸と炭素数７〜１４個からなる直鎖状炭化水
素の多価オールとのエステル（２）５〜１００重量部及
び光重合開始剤（３）０．１〜１０重量部を含有する感
光性エラストマー組成物が提供される。また、本発明に
よれば、支持体とその主要面上に形成された前記の感光
性エラストマー組成物の層とからなる積層構造の感光性
ゴム版が提供される。
ば、熱可塑性エラストマー（１）１００重量部、エチレ
ン性不飽和酸と炭素数７〜１４個からなる直鎖状炭化水
素の多価オールとのエステル（２）５〜１００重量部及
び光重合開始剤（３）０．１〜１０重量部を含有する感
光性エラストマー組成物が提供される。また、本発明に
よれば、支持体とその主要面上に形成された前記の感光
性エラストマー組成物の層とからなる積層構造の感光性
ゴム版が提供される。
【０００５】本発明の感光性エラストマー組成物は、エ
チレン性不飽和酸と多価オールとのエステル（２）、熱
可塑性エラストマー（１）及び光重合開始剤（３）を含
有するものである。
チレン性不飽和酸と多価オールとのエステル（２）、熱
可塑性エラストマー（１）及び光重合開始剤（３）を含
有するものである。
【０００６】本発明の組成物の一成分のエチレン性不飽
和酸と多価オールとのエステル（２）はエチレン性不飽
和酸と多価オールとがエステル結合したものであって、
光重合開始剤により重合反応を起こすものである。多価
オールは、炭素数７〜１４個、好ましくは８〜１２個か
らなる直鎖状炭化水素を構成する２個以上の水素原子
が、水酸基に置換されたものである。炭素数７個未満で
は版強度が不十分である。１４個を超えると、エステル
が熱可塑性エラストマーに均一に分散せず、光感度に分
布ができるので、版強度及び画像再現性ともに不十分と
なる。多価オールとして好適なものは、一の水酸基が結
合する炭素原子と、他の水酸基が結合する炭素原子との
間に炭素数４以上の飽和直鎖炭化水素残基が存在するも
のである。多価オールの具体例としては、１，７−ヘプ
タンジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノ
ナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−
ドデカンジオール、１，１４−テトラデカンジオール、
１，９−テトラデカンジオールなどが挙げられる。これ
らのうち、１，９−ノナンジオールが好適である。
和酸と多価オールとのエステル（２）はエチレン性不飽
和酸と多価オールとがエステル結合したものであって、
光重合開始剤により重合反応を起こすものである。多価
オールは、炭素数７〜１４個、好ましくは８〜１２個か
らなる直鎖状炭化水素を構成する２個以上の水素原子
が、水酸基に置換されたものである。炭素数７個未満で
は版強度が不十分である。１４個を超えると、エステル
が熱可塑性エラストマーに均一に分散せず、光感度に分
布ができるので、版強度及び画像再現性ともに不十分と
なる。多価オールとして好適なものは、一の水酸基が結
合する炭素原子と、他の水酸基が結合する炭素原子との
間に炭素数４以上の飽和直鎖炭化水素残基が存在するも
のである。多価オールの具体例としては、１，７−ヘプ
タンジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノ
ナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−
ドデカンジオール、１，１４−テトラデカンジオール、
１，９−テトラデカンジオールなどが挙げられる。これ
らのうち、１，９−ノナンジオールが好適である。
【０００７】エチレン性不飽和酸は、光重合性の炭素−
炭素不飽和結合を有する酸である。エチレン性不飽和酸
の具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸のごとき
エチレン性モノ不飽和カルボン酸；マレイン酸、イタコ
ン酸、フマル酸のごときエチレン性不飽和多価カルボン
酸；マレイン酸モノエチル、イタコン酸モノメチル、フ
マル酸モノエチルのごときエチレン性不飽和多価カルボ
ン酸の部分エステル；等が挙げられる。これらのうち、
エチレン性不飽和モノカルボン酸、特にメタクリル酸が
好適である。
炭素不飽和結合を有する酸である。エチレン性不飽和酸
の具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸のごとき
エチレン性モノ不飽和カルボン酸；マレイン酸、イタコ
ン酸、フマル酸のごときエチレン性不飽和多価カルボン
酸；マレイン酸モノエチル、イタコン酸モノメチル、フ
マル酸モノエチルのごときエチレン性不飽和多価カルボ
ン酸の部分エステル；等が挙げられる。これらのうち、
エチレン性不飽和モノカルボン酸、特にメタクリル酸が
好適である。
【０００８】多価オールとエチレン性不飽和酸とのエス
テル（２）の具体例としては、１，７−ヘプタンジオー
ルジアクリレート、１，７−ヘプタンジオールジメタク
リレート、１，８−オクタンジオールジアクリレート，
１，８−オクタンジオールジメタクリレート、１，９−
ノナンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオー
ルジメタクリレート、１，１０−デカンジオールジアク
リレート、１，１０−デカンジオールジメタクリレー
ト、１，１２−ドデカンジオールジアクリレート、１，
１２−ドデカンジオールジメタクリレート、１，１４−
テトラデカンジオールジアクリレート、１，１４−テト
ラデカンジオールジメタクリレートのごとき多価オール
とエチレン性不飽和カルボン酸とのエステル；１，７−
ヘプタンジオールモノアクリレート、１，７−ヘプタン
ジオールモノメタクリレート、１，８−オクタンジオー
ルモノアクリレート，１，８−オクタンジオールモノメ
タクリレート、１，９−ノナンジオールモノアクリレー
ト、１，９−ノナンジオールモノメタクリレート、１，
１０−デカンジオールモノアクリレート、１，１０−デ
カンジオールモノメタクリレート、１，１２−ドデカン
ジオールモノアクリレート、１，１２−ドデカンジオー
ルモノメタクリレート、１，１４−テトラデカンジオー
ルモノアクリレート、１，１４−テトラデカンジオール
モノメタクリレートのごとき多価オールとエチレン性不
飽和カルボン酸との部分エステル；などが挙げられる。
これらエステルのうち多価アルコールとメタクリル酸と
のエステル、特に１，９−ノナンジオールジメタクリレ
ートが好適である。
テル（２）の具体例としては、１，７−ヘプタンジオー
ルジアクリレート、１，７−ヘプタンジオールジメタク
リレート、１，８−オクタンジオールジアクリレート，
１，８−オクタンジオールジメタクリレート、１，９−
ノナンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオー
ルジメタクリレート、１，１０−デカンジオールジアク
リレート、１，１０−デカンジオールジメタクリレー
ト、１，１２−ドデカンジオールジアクリレート、１，
１２−ドデカンジオールジメタクリレート、１，１４−
テトラデカンジオールジアクリレート、１，１４−テト
ラデカンジオールジメタクリレートのごとき多価オール
とエチレン性不飽和カルボン酸とのエステル；１，７−
ヘプタンジオールモノアクリレート、１，７−ヘプタン
ジオールモノメタクリレート、１，８−オクタンジオー
ルモノアクリレート，１，８−オクタンジオールモノメ
タクリレート、１，９−ノナンジオールモノアクリレー
ト、１，９−ノナンジオールモノメタクリレート、１，
１０−デカンジオールモノアクリレート、１，１０−デ
カンジオールモノメタクリレート、１，１２−ドデカン
ジオールモノアクリレート、１，１２−ドデカンジオー
ルモノメタクリレート、１，１４−テトラデカンジオー
ルモノアクリレート、１，１４−テトラデカンジオール
モノメタクリレートのごとき多価オールとエチレン性不
飽和カルボン酸との部分エステル；などが挙げられる。
これらエステルのうち多価アルコールとメタクリル酸と
のエステル、特に１，９−ノナンジオールジメタクリレ
ートが好適である。
【０００９】多価オールとエチレン性不飽和酸とのエス
テル（２）の量は、感光性エラストマー組成物の一成分
の熱可塑性エラストマー（１）１００重量部に対して５
〜１００重量部、好ましくは７〜７０重量部である。５
重量部未満では光による感光性組成物の硬化が不十分と
なるため、ゴム版の版強度が低下する。逆に１００重量
部を超えるとゴム版の版強度及び耐溶剤性が低下する。
テル（２）の量は、感光性エラストマー組成物の一成分
の熱可塑性エラストマー（１）１００重量部に対して５
〜１００重量部、好ましくは７〜７０重量部である。５
重量部未満では光による感光性組成物の硬化が不十分と
なるため、ゴム版の版強度が低下する。逆に１００重量
部を超えるとゴム版の版強度及び耐溶剤性が低下する。
【００１０】本発明の感光性組成物においては、必要に
応じて、前記エステル（２）以外に他のエチレン性不飽
和単量体を配合してもよい。前記エステル（２）以外の
エチレン性不飽和単量体としては、スチレン、ｏ−メチ
ルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレ
ン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルスチレン、１，３−ジメチル
スチレン、ビニルトルエン、クロロスチレン、ビニルナ
フタレン、ビニルアントラセン、ジビニルベンゼン、ト
リビニルベンゼン等の芳香族ビニル単量体；アクリロニ
トリル、メタクリロニトリル等のエチレン性不飽和ニト
リル単量体；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ア
クリル酸プロピル、アクリル酸ｎ−アミル、アクリル酸
イソアミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸エチルヘ
キシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸グリシジル、
メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル
酸プロピル、メタクリル酸ｎ−アミル、メタクリル酸イ
ソアミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸エチル
ヘキシル、メタクリル酸オクチル、アクリル酸ヒドロキ
シエチル、アクリル酸ヒドロキシプロピル、メタクリル
酸ヒドロキシエチル、メタクリル酸ヒドロキシプロピ
ル、メタクリル酸グリシジル、エチレングリコールジア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，４−
ブタンジオールジメタクリレート、プロピレングリコー
ルジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリ
レート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、
メトキシエチレングリコールアクリレート、メトキシプ
ロピレングリコールメタクリレート、メトキシエチレン
グリコールメタクリレート、メトキシプロピレングリコ
ールアクリレート、マレイン酸ジエチル、イタコン酸ジ
メチル等のエチレン性不飽和カルボン酸エステル単量
体；アリルグリシジルエーテル等のエチレン性不飽和グ
リシジルエーテル；アクリル酸、メタクリル酸等のエチ
レン性不飽和モノカルボン酸；マレイン酸、フマル酸、
シトラコン酸、イタコン酸等のエチレン性不飽和多価カ
ルボン酸；マレイン酸モノエチル、イタコン酸モノメチ
ルなどのエチレン性不飽和多価カルボン酸の部分エステ
ル化物；燐酸エチレンアクリレート、燐酸トリメチレン
アクリレート、燐酸プロピレンアクリレート、燐酸テト
ラメチレンアクリレート、燐酸（ビス）エチレンアクリ
レート、燐酸（ビス）トリメチレンアクリレート、燐酸
（ビス）テトラメチレンアクリレート、燐酸ジエチレン
グリコールアクリレート、燐酸トリエチレングリコール
アクリレート、燐酸（ビス）ジエチレングリコールアク
リレート、燐酸（ビス）トリエチレングリコールアクリ
レート、燐酸（ビス）ポリエチレングリコールアクリレ
ート、燐酸（ビス）ポリエチレングリコールメタクリレ
ート及びこれらに対応するメタクリレート等の燐酸エス
テル基含有エチレン性不飽和単量体などが挙げられる。
応じて、前記エステル（２）以外に他のエチレン性不飽
和単量体を配合してもよい。前記エステル（２）以外の
エチレン性不飽和単量体としては、スチレン、ｏ−メチ
ルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレ
ン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルスチレン、１，３−ジメチル
スチレン、ビニルトルエン、クロロスチレン、ビニルナ
フタレン、ビニルアントラセン、ジビニルベンゼン、ト
リビニルベンゼン等の芳香族ビニル単量体；アクリロニ
トリル、メタクリロニトリル等のエチレン性不飽和ニト
リル単量体；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ア
クリル酸プロピル、アクリル酸ｎ−アミル、アクリル酸
イソアミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸エチルヘ
キシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸グリシジル、
メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル
酸プロピル、メタクリル酸ｎ−アミル、メタクリル酸イ
ソアミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸エチル
ヘキシル、メタクリル酸オクチル、アクリル酸ヒドロキ
シエチル、アクリル酸ヒドロキシプロピル、メタクリル
酸ヒドロキシエチル、メタクリル酸ヒドロキシプロピ
ル、メタクリル酸グリシジル、エチレングリコールジア
クリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，４−
ブタンジオールジメタクリレート、プロピレングリコー
ルジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリ
レート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、
メトキシエチレングリコールアクリレート、メトキシプ
ロピレングリコールメタクリレート、メトキシエチレン
グリコールメタクリレート、メトキシプロピレングリコ
ールアクリレート、マレイン酸ジエチル、イタコン酸ジ
メチル等のエチレン性不飽和カルボン酸エステル単量
体；アリルグリシジルエーテル等のエチレン性不飽和グ
リシジルエーテル；アクリル酸、メタクリル酸等のエチ
レン性不飽和モノカルボン酸；マレイン酸、フマル酸、
シトラコン酸、イタコン酸等のエチレン性不飽和多価カ
ルボン酸；マレイン酸モノエチル、イタコン酸モノメチ
ルなどのエチレン性不飽和多価カルボン酸の部分エステ
ル化物；燐酸エチレンアクリレート、燐酸トリメチレン
アクリレート、燐酸プロピレンアクリレート、燐酸テト
ラメチレンアクリレート、燐酸（ビス）エチレンアクリ
レート、燐酸（ビス）トリメチレンアクリレート、燐酸
（ビス）テトラメチレンアクリレート、燐酸ジエチレン
グリコールアクリレート、燐酸トリエチレングリコール
アクリレート、燐酸（ビス）ジエチレングリコールアク
リレート、燐酸（ビス）トリエチレングリコールアクリ
レート、燐酸（ビス）ポリエチレングリコールアクリレ
ート、燐酸（ビス）ポリエチレングリコールメタクリレ
ート及びこれらに対応するメタクリレート等の燐酸エス
テル基含有エチレン性不飽和単量体などが挙げられる。
【００１１】本発明の感光性エラストマー組成物の一成
分の熱可塑性エラストマー（１）は、特に限定されず、
例えば、共役ジエン単量体の単独重合体、共役ジエンと
これと共重合可能なモノエン単量体とのランダム共重合
体；共役ジエン単量体の重合体ブロックとモノエン単量
体の重合体ブロックとからなるブロック共重合体等が挙
げられる。
分の熱可塑性エラストマー（１）は、特に限定されず、
例えば、共役ジエン単量体の単独重合体、共役ジエンと
これと共重合可能なモノエン単量体とのランダム共重合
体；共役ジエン単量体の重合体ブロックとモノエン単量
体の重合体ブロックとからなるブロック共重合体等が挙
げられる。
【００１２】熱可塑性エラストマーを構成する共役ジエ
ン単量体としては、１，３−ブタジエン、イソプレン、
２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、１，３−ペン
タジエン、１，３−ヘキサジエン、クロロプレン等が挙
げられる。これら共役ジエンのうち、ブタジエン、イソ
プレンが好適である。
ン単量体としては、１，３−ブタジエン、イソプレン、
２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、１，３−ペン
タジエン、１，３−ヘキサジエン、クロロプレン等が挙
げられる。これら共役ジエンのうち、ブタジエン、イソ
プレンが好適である。
【００１３】熱可塑性エラストマーを構成するモノエン
単量体としては、スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−
メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔ−
ブチルスチレン、１，３−ジメチルスチレン、ビニルト
ルエン、クロロスチレン、ビニルナフタレン、ビニルア
ントラセン等の芳香族ビニル単量体；アクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル
酸ｎ−アミル、アクリル酸イソアミル、アクリル酸ヘキ
シル、アクリル酸エチルヘキシル、アクリル酸オクチ
ル、アクリル酸ヒドロキシエチル、アクリル酸ヒドロキ
シプロピル、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸メチ
ル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタ
クリル酸ｎ−アミル、メタクリル酸イソアミル、メタク
リル酸ヘキシル、メタクリル酸エチルヘキシル、メタク
リル酸オクチル、メタクリル酸ヒドロキシエチル、メタ
クリル酸ヒドロキシプロピル、メタクリル酸グリシジル
等のエチレン性不飽和カルボン酸エステル単量体；メタ
クリロニトリル、アクリロニトリル等のシアン化ビニル
単量体；アリルグリシジルエーテル等のエチレン性不飽
和グリシジルエーテル；アクリルアミド、メタクリルア
ミド等のエチレン性不飽和カルボン酸アミド単量体；塩
化ビニル等のハロゲン化ビニル；酢酸ビニル等のカルボ
ン酸ビニルエステル；アクリル酸、メタクリル酸等のエ
チレン性不飽和モノカルボン酸；マレイン酸、フマル
酸、シトラコン酸等のエチレン性不飽和多価カルボン
酸；マレイン酸モノエチル、イタコン酸モノメチルなど
のエチレン性不飽和多価カルボン酸の部分エステル化
物；燐酸エチレンアクリレート、燐酸トリメチレンアク
リレート、燐酸プロピレンアクリレート、燐酸テトラメ
チレンアクリレート、燐酸（ビス）エチレンアクリレー
ト、燐酸（ビス）トリメチレンアクリレート、燐酸（ビ
ス）テトラメチレンアクリレート、燐酸ジエチレングリ
コールアクリレート、燐酸トリエチレングリコールアク
リレート、燐酸ポリエチレングリコールアクリレート、
燐酸（ビス）ジエチレングリコールアクリレート、燐酸
（ビス）トリエチレングリコールアクリレート、燐酸
（ビス）ポリエチレングリコールアクリレート及びこれ
らに対応するメタクリレート等の燐酸エステル基含有エ
チレン性不飽和単量体などが挙げられる。モノエン単量
体のうち、共役ジエン単量体と共重合させる単量体とし
て又はモノエン重合体ブロックを構成する単量体として
好適なものは、芳香族ビニル単量体、特にスチレンであ
る。
単量体としては、スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−
メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔ−
ブチルスチレン、１，３−ジメチルスチレン、ビニルト
ルエン、クロロスチレン、ビニルナフタレン、ビニルア
ントラセン等の芳香族ビニル単量体；アクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル
酸ｎ−アミル、アクリル酸イソアミル、アクリル酸ヘキ
シル、アクリル酸エチルヘキシル、アクリル酸オクチ
ル、アクリル酸ヒドロキシエチル、アクリル酸ヒドロキ
シプロピル、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸メチ
ル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタ
クリル酸ｎ−アミル、メタクリル酸イソアミル、メタク
リル酸ヘキシル、メタクリル酸エチルヘキシル、メタク
リル酸オクチル、メタクリル酸ヒドロキシエチル、メタ
クリル酸ヒドロキシプロピル、メタクリル酸グリシジル
等のエチレン性不飽和カルボン酸エステル単量体；メタ
クリロニトリル、アクリロニトリル等のシアン化ビニル
単量体；アリルグリシジルエーテル等のエチレン性不飽
和グリシジルエーテル；アクリルアミド、メタクリルア
ミド等のエチレン性不飽和カルボン酸アミド単量体；塩
化ビニル等のハロゲン化ビニル；酢酸ビニル等のカルボ
ン酸ビニルエステル；アクリル酸、メタクリル酸等のエ
チレン性不飽和モノカルボン酸；マレイン酸、フマル
酸、シトラコン酸等のエチレン性不飽和多価カルボン
酸；マレイン酸モノエチル、イタコン酸モノメチルなど
のエチレン性不飽和多価カルボン酸の部分エステル化
物；燐酸エチレンアクリレート、燐酸トリメチレンアク
リレート、燐酸プロピレンアクリレート、燐酸テトラメ
チレンアクリレート、燐酸（ビス）エチレンアクリレー
ト、燐酸（ビス）トリメチレンアクリレート、燐酸（ビ
ス）テトラメチレンアクリレート、燐酸ジエチレングリ
コールアクリレート、燐酸トリエチレングリコールアク
リレート、燐酸ポリエチレングリコールアクリレート、
燐酸（ビス）ジエチレングリコールアクリレート、燐酸
（ビス）トリエチレングリコールアクリレート、燐酸
（ビス）ポリエチレングリコールアクリレート及びこれ
らに対応するメタクリレート等の燐酸エステル基含有エ
チレン性不飽和単量体などが挙げられる。モノエン単量
体のうち、共役ジエン単量体と共重合させる単量体とし
て又はモノエン重合体ブロックを構成する単量体として
好適なものは、芳香族ビニル単量体、特にスチレンであ
る。
【００１４】本発明の感光性エラストマー組成物を構成
する熱可塑性エラストマーの具体例としては、ポリスチ
レン−ポリブタジエン−ポリスチレン型ブロック共重合
体、ポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチレン型ブ
ロック共重合体のごときブロック共重合体；スチレン−
ブタジエンランダム共重合体、アクリロニトリル−ブタ
ジエンランダム共重合体；燐酸エチレンアクリレート、
燐酸プロピレンアクリレート、燐酸エチレンメタクリレ
ート、燐酸プロピレンメタクリレートのごとき燐酸エス
テル基含有モノエン単量体と、１，３−ブタジエンとの
ランダム共重合体、燐酸エステル基含有モノエン単量体
と、１，３−ブタジエンと、エチレン性不飽和カルボン
酸アルキルエステルとのランダム共重合体のごとき親水
基含有ランダム共重合体が挙げられる。
する熱可塑性エラストマーの具体例としては、ポリスチ
レン−ポリブタジエン−ポリスチレン型ブロック共重合
体、ポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチレン型ブ
ロック共重合体のごときブロック共重合体；スチレン−
ブタジエンランダム共重合体、アクリロニトリル−ブタ
ジエンランダム共重合体；燐酸エチレンアクリレート、
燐酸プロピレンアクリレート、燐酸エチレンメタクリレ
ート、燐酸プロピレンメタクリレートのごとき燐酸エス
テル基含有モノエン単量体と、１，３−ブタジエンとの
ランダム共重合体、燐酸エステル基含有モノエン単量体
と、１，３−ブタジエンと、エチレン性不飽和カルボン
酸アルキルエステルとのランダム共重合体のごとき親水
基含有ランダム共重合体が挙げられる。
【００１５】本発明の感光性エラストマー組成物におい
て、これを水現像タイプの感光性ゴム版を得るためのも
のに適用するためには、組成物の一成分である熱可塑性
エラストマーとして、親水基を有するランダム共重合体
もしくはブロック共重合体と、親水基を有しないランダ
ム共重合体もしくはブロック共重合体とからなる混合
物、好適には親水基を有するランダム共重合体と、親水
基を有しないブロック共重合体とからなる混合物を用い
る。ここで、親水基とは−ＯＨ基、−ＣＯＯＨ基、−Ｎ
Ｈ2基、−ＣＯＯ−基、−ＳＯ3−基、−ＰＯ(ＯＨ)
2基、−ＰＯ(ＯＨ)−基、＞ＰＯ−基などの親水基、好
適には−ＰＯ(ＯＨ)2基、−ＰＯ(ＯＨ)−基、＞ＰＯ−
基のごとき燐酸エステル基のことをいう。親水基を有す
るランダム共重合体もしくはブロック共重合体として
は、親水基を有するモノエン単量体とこれと共重合可能
なモノエン単量体もしくは共役ジエン単量体とを共重合
してなるものなどが挙げられる。親水基を有するモノエ
ン単量体としては、燐酸エステル基含有エチレン性不飽
和単量体、エチレン性不飽和モノカルボン酸、エチレン
性不飽和多価カルボン酸、エチレン性不飽和多価カルボ
ン酸の部分エステル化物、シアン化ビニル単量体、エチ
レン性不飽和カルボン酸のヒドロキシアルキルエステ
ル；などが挙げられる。親水基を有するモノエン単量体
の量は、親水基を有するランダムもしくはブロック共重
合体を得るために用いる全単量体の、通常、５〜３０重
量％、好ましくは５〜２０重量％である。５重量％未満
では、感光性組成物を用いて得られる感光性ゴム版の洗
浄速度が低下する傾向になる。３０重量％を超えると感
光性組成物の加工性、感光性ゴム版の水性インキ耐性が
低下する傾向になる。
て、これを水現像タイプの感光性ゴム版を得るためのも
のに適用するためには、組成物の一成分である熱可塑性
エラストマーとして、親水基を有するランダム共重合体
もしくはブロック共重合体と、親水基を有しないランダ
ム共重合体もしくはブロック共重合体とからなる混合
物、好適には親水基を有するランダム共重合体と、親水
基を有しないブロック共重合体とからなる混合物を用い
る。ここで、親水基とは−ＯＨ基、−ＣＯＯＨ基、−Ｎ
Ｈ2基、−ＣＯＯ−基、−ＳＯ3−基、−ＰＯ(ＯＨ)
2基、−ＰＯ(ＯＨ)−基、＞ＰＯ−基などの親水基、好
適には−ＰＯ(ＯＨ)2基、−ＰＯ(ＯＨ)−基、＞ＰＯ−
基のごとき燐酸エステル基のことをいう。親水基を有す
るランダム共重合体もしくはブロック共重合体として
は、親水基を有するモノエン単量体とこれと共重合可能
なモノエン単量体もしくは共役ジエン単量体とを共重合
してなるものなどが挙げられる。親水基を有するモノエ
ン単量体としては、燐酸エステル基含有エチレン性不飽
和単量体、エチレン性不飽和モノカルボン酸、エチレン
性不飽和多価カルボン酸、エチレン性不飽和多価カルボ
ン酸の部分エステル化物、シアン化ビニル単量体、エチ
レン性不飽和カルボン酸のヒドロキシアルキルエステ
ル；などが挙げられる。親水基を有するモノエン単量体
の量は、親水基を有するランダムもしくはブロック共重
合体を得るために用いる全単量体の、通常、５〜３０重
量％、好ましくは５〜２０重量％である。５重量％未満
では、感光性組成物を用いて得られる感光性ゴム版の洗
浄速度が低下する傾向になる。３０重量％を超えると感
光性組成物の加工性、感光性ゴム版の水性インキ耐性が
低下する傾向になる。
【００１６】水現像タイプの感光性ゴム版を得るための
感光性エラストマー組成物に適用するために特に好適な
熱可塑性エラストマーの態様は、親水基非含有ブロック
共重合体としてポリスチレン−ポリブタジエン−ポリス
チレン型ブロック共重合体もしくはポリスチレン−ポリ
イソプレン−ポリスチレン型ブロック共重合体を用い且
つ親水基含有ランダム共重合体として燐酸エステル基含
有モノエン単量体と１，３−ブタジエンとエチレン性不
飽和カルボン酸アルキルエステルとのランダム共重合体
を用いた混合物である。親水性基非含有ブロック共重合
体と親水基含有ランダム共重合体との重量比率（ブロッ
ク共重合体／親水基含有共重合体）は、通常、２０／８
０〜６５／３５、好ましくは３０／７０〜６０／４０で
ある。
感光性エラストマー組成物に適用するために特に好適な
熱可塑性エラストマーの態様は、親水基非含有ブロック
共重合体としてポリスチレン−ポリブタジエン−ポリス
チレン型ブロック共重合体もしくはポリスチレン−ポリ
イソプレン−ポリスチレン型ブロック共重合体を用い且
つ親水基含有ランダム共重合体として燐酸エステル基含
有モノエン単量体と１，３−ブタジエンとエチレン性不
飽和カルボン酸アルキルエステルとのランダム共重合体
を用いた混合物である。親水性基非含有ブロック共重合
体と親水基含有ランダム共重合体との重量比率（ブロッ
ク共重合体／親水基含有共重合体）は、通常、２０／８
０〜６５／３５、好ましくは３０／７０〜６０／４０で
ある。
【００１７】本発明の感光性エラストマー組成物の一成
分の光重合開始剤（３）は、紫外線などの活性光を照射
することによりラジカルを発生し、エチレン性不飽和単
量体の重合反応を開始させるものである。具体例として
はジアセチル、ベンジル等のα−ジケトン；ベンゾイ
ン、ピバロイン等のアシロイン；ベンゾインメチルエー
テル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロ
ピルエーテル等のアシロインエーテル；アントラキノ
ン、１，４−ナフトキノン等の多核キノン；などが挙げ
られる。
分の光重合開始剤（３）は、紫外線などの活性光を照射
することによりラジカルを発生し、エチレン性不飽和単
量体の重合反応を開始させるものである。具体例として
はジアセチル、ベンジル等のα−ジケトン；ベンゾイ
ン、ピバロイン等のアシロイン；ベンゾインメチルエー
テル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロ
ピルエーテル等のアシロインエーテル；アントラキノ
ン、１，４−ナフトキノン等の多核キノン；などが挙げ
られる。
【００１８】光重合開始剤（３）の量は、熱可塑性エラ
ストマー（１）１００重量部に対して、０．１〜１０重
量部、好ましくは１〜７重量部である。０．１重量部未
満では活性光による感光性組成物の硬化が不十分となる
ため、ゴム版の版強度が低下する。逆に１０重量部を超
えると光重合速度が低下する。
ストマー（１）１００重量部に対して、０．１〜１０重
量部、好ましくは１〜７重量部である。０．１重量部未
満では活性光による感光性組成物の硬化が不十分となる
ため、ゴム版の版強度が低下する。逆に１０重量部を超
えると光重合速度が低下する。
【００１９】本発明の感光性エラストマー組成物には、
必要に応じて、前記のエステル（２）、熱可塑性エラス
トマー（１）及び光重合開始剤（３）以外に、可塑剤、
保存安定剤、耐オゾン性剤などを配合することができ
る。
必要に応じて、前記のエステル（２）、熱可塑性エラス
トマー（１）及び光重合開始剤（３）以外に、可塑剤、
保存安定剤、耐オゾン性剤などを配合することができ
る。
【００２０】可塑剤としては、ナフテン油、パラフィン
油等の炭化水素油；分子量３０００以下のポリスチレ
ン、石油樹脂；ポリアクリレート；液状１，２−ポリブ
タジエン、１，４−ポリブタジエン及びそれらの末端変
性物；液状アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、液
状スチレン−ブタジエン共重合体及びこれらのカルボキ
シル化物などが挙げられる。
油等の炭化水素油；分子量３０００以下のポリスチレ
ン、石油樹脂；ポリアクリレート；液状１，２−ポリブ
タジエン、１，４−ポリブタジエン及びそれらの末端変
性物；液状アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、液
状スチレン−ブタジエン共重合体及びこれらのカルボキ
シル化物などが挙げられる。
【００２１】保存安定剤としては、ヒドロキノン、ピロ
ガロール、ｐ−メトキシフェノール、ｔ−ブチルカテコ
ール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ベン
ゾキノン等のフェノール；ベンゾキノン、ｐ−トルキノ
ン、ｐ−キシロキノン等のキノン；フェニル−α−ナフ
チルアミン等のアミンなどが挙げられる。
ガロール、ｐ−メトキシフェノール、ｔ−ブチルカテコ
ール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ベン
ゾキノン等のフェノール；ベンゾキノン、ｐ−トルキノ
ン、ｐ−キシロキノン等のキノン；フェニル−α−ナフ
チルアミン等のアミンなどが挙げられる。
【００２２】本発明の感光性エラストマー組成物は、通
常、ニーダーやロールミルなどの混練機を用いて、上記
成分を混練して調製する。混練の順序は、特に限定され
ないが、均一な組成物を得るために熱可塑性エラストマ
ー（１）にエステル（２）と光重合開始剤（３）とを添
加して混練するのがよい。
常、ニーダーやロールミルなどの混練機を用いて、上記
成分を混練して調製する。混練の順序は、特に限定され
ないが、均一な組成物を得るために熱可塑性エラストマ
ー（１）にエステル（２）と光重合開始剤（３）とを添
加して混練するのがよい。
【００２３】本発明の感光性ゴム版は、支持体とその主
要面上に形成された前記感光性エラストマー組成物の層
とからなる積層構造のものである。
要面上に形成された前記感光性エラストマー組成物の層
とからなる積層構造のものである。
【００２４】支持体は、通常、可撓性フィルム又はシー
トからなり、必要に応じて離型層又は接着剤もしくはプ
ライマーからなる下塗り層を有する。この支持体は、フ
レキソ印刷版において通常用いられているものであれば
限定されず、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポ
リプロピレンフィルム、ポリイミドフィルム等の可撓性
フィルム；天然ゴム、合成ゴム、軟質塩化ビニル樹脂等
の弾性体状組成物を裏貼したポリエチレンテレフタレー
ト製、ポリプロピレン製、ポリイミド製等の可撓性シー
トなどが挙げられる。
トからなり、必要に応じて離型層又は接着剤もしくはプ
ライマーからなる下塗り層を有する。この支持体は、フ
レキソ印刷版において通常用いられているものであれば
限定されず、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポ
リプロピレンフィルム、ポリイミドフィルム等の可撓性
フィルム；天然ゴム、合成ゴム、軟質塩化ビニル樹脂等
の弾性体状組成物を裏貼したポリエチレンテレフタレー
ト製、ポリプロピレン製、ポリイミド製等の可撓性シー
トなどが挙げられる。
【００２５】支持体の主要面に感光性エラストマー組成
物の層を形成するには、従来公知の方法を採用すればよ
い。例えば、感光性エラストマー組成物を押出機、プレ
ス機、カレンダーなどの成形機を用いてシート状に成形
した後、そのシートを支持体に接着するか又は感光性エ
ラストマー組成物としてクロロホルム、四塩化炭素、ト
リクロロエタン、メチルエチルケトン、ジエチルケト
ン、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフランなどの溶
媒に前記第１〜４成分を溶解させたものを、シート状枠
型の中に注入し、次いで溶媒を蒸発させシートを成形し
た後、そのシートを支持体に接着するかする。
物の層を形成するには、従来公知の方法を採用すればよ
い。例えば、感光性エラストマー組成物を押出機、プレ
ス機、カレンダーなどの成形機を用いてシート状に成形
した後、そのシートを支持体に接着するか又は感光性エ
ラストマー組成物としてクロロホルム、四塩化炭素、ト
リクロロエタン、メチルエチルケトン、ジエチルケト
ン、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフランなどの溶
媒に前記第１〜４成分を溶解させたものを、シート状枠
型の中に注入し、次いで溶媒を蒸発させシートを成形し
た後、そのシートを支持体に接着するかする。
【００２６】本発明の感光性ゴム版には、感光性エラス
トマー組成物の層の上に被服層として非粘着性の水溶性
ポリマーの薄層を設けることが好ましい。感光性エラス
トマー組成物層の表面は、通常、粘着性が強いので、そ
の表面に直接原画フィルムを貼ると、感光性エラストマ
ー組成物とフィルムとの間に気泡が入り込み、活性光の
乱屈折が起きて、感光層の露光、硬化が進まず、結果と
してレリーフの再現性が悪化するうえ、感光性エラスト
マー組成物層表面と粘着した原画フィルムは再利用がで
きないという問題が生じることがある。非粘着性の水溶
性ポリマーの薄層を設けることにより、上記問題が解消
される。
トマー組成物の層の上に被服層として非粘着性の水溶性
ポリマーの薄層を設けることが好ましい。感光性エラス
トマー組成物層の表面は、通常、粘着性が強いので、そ
の表面に直接原画フィルムを貼ると、感光性エラストマ
ー組成物とフィルムとの間に気泡が入り込み、活性光の
乱屈折が起きて、感光層の露光、硬化が進まず、結果と
してレリーフの再現性が悪化するうえ、感光性エラスト
マー組成物層表面と粘着した原画フィルムは再利用がで
きないという問題が生じることがある。非粘着性の水溶
性ポリマーの薄層を設けることにより、上記問題が解消
される。
【００２７】本発明の感光性ゴム版には、さらにカバー
フィルムを設けることができる。カバーフィルムは可撓
性樹脂のフィルムからなるものである。カバーフィルム
は感光性エラストマー組成物層のプロテクターフィルム
層を構成するものであり、場合により離型層を兼ね備え
たものである。カバーフィルムとしては、ポリエチレン
テレフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリ
プロピレンフィルム、ポリスチレンフィルム等が挙げら
れる。フィルムの厚さは通常、７５〜２００μｍ、好ま
しくは１００〜１５０μｍである。７５μｍ未満ではフ
ィルム強度が不足し、成形した感光性ゴム版が変形しや
すい。逆に２００μｍを超えるとフィルム強度が強すぎ
るので感光性エラストマー組成物からのシートの剥離が
困難になる。
フィルムを設けることができる。カバーフィルムは可撓
性樹脂のフィルムからなるものである。カバーフィルム
は感光性エラストマー組成物層のプロテクターフィルム
層を構成するものであり、場合により離型層を兼ね備え
たものである。カバーフィルムとしては、ポリエチレン
テレフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリ
プロピレンフィルム、ポリスチレンフィルム等が挙げら
れる。フィルムの厚さは通常、７５〜２００μｍ、好ま
しくは１００〜１５０μｍである。７５μｍ未満ではフ
ィルム強度が不足し、成形した感光性ゴム版が変形しや
すい。逆に２００μｍを超えるとフィルム強度が強すぎ
るので感光性エラストマー組成物からのシートの剥離が
困難になる。
【００２８】本発明の感光性ゴム版には、支持体の、感
光性エラストマー組成物層が形成されている面とは反対
の面に発泡体を積層してもよい。発泡体積層によりフレ
キソ印刷時の印圧を調整することができる。
光性エラストマー組成物層が形成されている面とは反対
の面に発泡体を積層してもよい。発泡体積層によりフレ
キソ印刷時の印圧を調整することができる。
【００２９】本発明の感光性エラストマー組成物及び感
光性ゴム版の好適な態様を以下に示す。 （１） 熱可塑性エラストマー１００重量部、エチレン
性不飽和酸と炭素数７〜１４個からなる直鎖状炭化水素
の多価オールとのエステル５〜１００重量部及び光重合
開始剤０．１〜１０重量部を含有する感光性エラストマ
ー組成物。 （２） エチレン性不飽和酸と炭素数７〜１４個からな
る直鎖状炭化水素の多価オールとのエステルが多価アル
コールとエチレン性不飽和モノカルボン酸とのエステル
であることを特徴とする前記（１）の感光性エラストマ
ー組成物。 （３） エチレン性不飽和酸と炭素数７〜１４個からな
る直鎖状炭化水素の多価オールとのエステルが、エチレ
ン性不飽和酸と、一の水酸基が結合する炭素原子と他の
水酸基が結合する炭素原子との間に炭素数４以上の直鎖
炭化水素残基が存在する炭素数７〜１４個からなる直鎖
状炭化水素の多価オールとのエステルであることを特徴
とする前記（１）の感光性エラストマー組成物。
光性ゴム版の好適な態様を以下に示す。 （１） 熱可塑性エラストマー１００重量部、エチレン
性不飽和酸と炭素数７〜１４個からなる直鎖状炭化水素
の多価オールとのエステル５〜１００重量部及び光重合
開始剤０．１〜１０重量部を含有する感光性エラストマ
ー組成物。 （２） エチレン性不飽和酸と炭素数７〜１４個からな
る直鎖状炭化水素の多価オールとのエステルが多価アル
コールとエチレン性不飽和モノカルボン酸とのエステル
であることを特徴とする前記（１）の感光性エラストマ
ー組成物。 （３） エチレン性不飽和酸と炭素数７〜１４個からな
る直鎖状炭化水素の多価オールとのエステルが、エチレ
ン性不飽和酸と、一の水酸基が結合する炭素原子と他の
水酸基が結合する炭素原子との間に炭素数４以上の直鎖
炭化水素残基が存在する炭素数７〜１４個からなる直鎖
状炭化水素の多価オールとのエステルであることを特徴
とする前記（１）の感光性エラストマー組成物。
【００３０】（４） エチレン性不飽和酸と炭素数７〜
１４個からなる直鎖状炭化水素の多価オールとのエステ
ルが、１，９−ノナンジオールジメタクリレートである
ことを特徴とする前記（２）の感光性エラストマー組成
物。 （５） 熱可塑性エラストマーが親水基を有するランダ
ム共重合体もしくはブロック共重合体と、親水基を有し
ないランダム共重合体もしくはブロック共重合体とから
なる混合物であることを特徴とする前記（１）または
（２）の感光性エラストマー組成物。
１４個からなる直鎖状炭化水素の多価オールとのエステ
ルが、１，９−ノナンジオールジメタクリレートである
ことを特徴とする前記（２）の感光性エラストマー組成
物。 （５） 熱可塑性エラストマーが親水基を有するランダ
ム共重合体もしくはブロック共重合体と、親水基を有し
ないランダム共重合体もしくはブロック共重合体とから
なる混合物であることを特徴とする前記（１）または
（２）の感光性エラストマー組成物。
【００３１】（６） 熱可塑性エラストマーが親水性基
非含有ブロック共重合体と親水性基含有ランダム共重合
体とからなる混合物であることを特徴とする前記（１）
の感光性エラストマー組成物。 （７） 親水性基非含有ブロック共重合体がポリスチレ
ン−ポリブタジエン−ポリスチレン型ブロック共重合体
もしくはポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチレン
型ブロック共重合体であり、親水性基含有ランダム共重
合体が燐酸エステル基含有モノエン単量体と１，３−ブ
タジエンとエチレン性不飽和カルボン酸アルキルエステ
ルとのランダム共重合体であることを特徴とする前記
（６）の感光性エラストマー組成物。
非含有ブロック共重合体と親水性基含有ランダム共重合
体とからなる混合物であることを特徴とする前記（１）
の感光性エラストマー組成物。 （７） 親水性基非含有ブロック共重合体がポリスチレ
ン−ポリブタジエン−ポリスチレン型ブロック共重合体
もしくはポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチレン
型ブロック共重合体であり、親水性基含有ランダム共重
合体が燐酸エステル基含有モノエン単量体と１，３−ブ
タジエンとエチレン性不飽和カルボン酸アルキルエステ
ルとのランダム共重合体であることを特徴とする前記
（６）の感光性エラストマー組成物。
【００３２】（８） 熱可塑性エラストマーが、ポリス
チレン−ポリブタジエン−ポリスチレン型ブロック共重
合体もしくはポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチ
レン型ブロック共重合体と、燐酸エステル基含有モノエ
ン単量体、１，３−ブタジエン及びエチレン性不飽和カ
ルボン酸アルキルエステルのランダム共重合体とからな
る混合物であり、エチレン性不飽和酸と炭素数８〜１２
個からなる炭化水素の多価オールとのエステルが多価オ
ールとエチレン性不飽和モノカルボン酸とのエステルで
あることを特徴とする前記（１）の感光性エラストマー
組成物。
チレン−ポリブタジエン−ポリスチレン型ブロック共重
合体もしくはポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチ
レン型ブロック共重合体と、燐酸エステル基含有モノエ
ン単量体、１，３−ブタジエン及びエチレン性不飽和カ
ルボン酸アルキルエステルのランダム共重合体とからな
る混合物であり、エチレン性不飽和酸と炭素数８〜１２
個からなる炭化水素の多価オールとのエステルが多価オ
ールとエチレン性不飽和モノカルボン酸とのエステルで
あることを特徴とする前記（１）の感光性エラストマー
組成物。
【００３３】（９） 支持体とその主要面上に形成され
た前記（１）の感光性エラストマー組成物の層とからな
る積層構造の感光性ゴム版。 （１０） 前記（２）、（６）または（８）の感光性エ
ラストマー組成物を積層してなる前記（９）の感光性ゴ
ム版。
た前記（１）の感光性エラストマー組成物の層とからな
る積層構造の感光性ゴム版。 （１０） 前記（２）、（６）または（８）の感光性エ
ラストマー組成物を積層してなる前記（９）の感光性ゴ
ム版。
【００３４】
【実施例】次に実施例により本発明をさらに詳細に説明
するが、本発明はこれらの例によってなんら限定される
ものではない。なお、実施例、比較例中の部及び％は重
量基準である。
するが、本発明はこれらの例によってなんら限定される
ものではない。なお、実施例、比較例中の部及び％は重
量基準である。
【００３５】感光性エラストマー組成物及び感光性ゴム
版の評価は、下記の試験法に基づいて行った。 ［レリーフ画像の評価］厚さ３．０ｍｍの各組成物のシ
ートの一方の面を、紫外線露光機（日本電子精機製ＪＥ
−Ａ2 −ＳＳ型）を用いて、硬化層の厚さが１．５ｍｍ
程度となるように露光した。次に、露光していない面の
ポリエステルフィルムをはがし、再現性評価用のネガフ
ィルムを表面に密着させて、この面を前記光源で１５分
間露光した。ネガフィルムをはがし、濃度２％、５０℃
のポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル水溶液で
未露光部分を溶解除去した。その後７０℃で２０分乾燥
し、未露光部分が除去された面を前記光源で１０分間再
露光して、再現性評価用のレリーフ画像を作成した。こ
のレリーフ画像を、５０倍の実体顕微鏡で凸画像部の細
線の再現状態と、凹画像部の細線の彫れの状態を観察
し、下記の基準により評価した。
版の評価は、下記の試験法に基づいて行った。 ［レリーフ画像の評価］厚さ３．０ｍｍの各組成物のシ
ートの一方の面を、紫外線露光機（日本電子精機製ＪＥ
−Ａ2 −ＳＳ型）を用いて、硬化層の厚さが１．５ｍｍ
程度となるように露光した。次に、露光していない面の
ポリエステルフィルムをはがし、再現性評価用のネガフ
ィルムを表面に密着させて、この面を前記光源で１５分
間露光した。ネガフィルムをはがし、濃度２％、５０℃
のポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル水溶液で
未露光部分を溶解除去した。その後７０℃で２０分乾燥
し、未露光部分が除去された面を前記光源で１０分間再
露光して、再現性評価用のレリーフ画像を作成した。こ
のレリーフ画像を、５０倍の実体顕微鏡で凸画像部の細
線の再現状態と、凹画像部の細線の彫れの状態を観察
し、下記の基準により評価した。
【００３６】０．２ｍｍ幅凸細線再現性 凸細線の形状にゆがみ、太りがなく、ネガと同一の幅で
再現している場合を「完全に再現されている状態」とみ
なし、下記の基準により評価した。 Ａ：ネガが完全に再現されている状態。 Ｂ：ネガがほぼ再現されている状態。 Ｃ：ネガの再現が不完全である状態。 評点Ａが、凸線画像再現性に優れた刷版であることを示
す。
再現している場合を「完全に再現されている状態」とみ
なし、下記の基準により評価した。 Ａ：ネガが完全に再現されている状態。 Ｂ：ネガがほぼ再現されている状態。 Ｃ：ネガの再現が不完全である状態。 評点Ａが、凸線画像再現性に優れた刷版であることを示
す。
【００３７】０．７(mm)幅凹細線再現性 凹細線の形状に波状のギザギザがなく、エッジがシャー
プであり、凹細線の溝が深く彫られている状態を「完全
に再現されている状態」とみなし、次の基準で評価し
た。 Ａ：凹細線の溝が深く、エッジもシャープに彫られてい
る。 Ｂ：凹細線の溝は若干浅いが、実用上は支障がない。 Ｃ：凹細線の溝の彫れが浅く、実用上支障がある。 評点Ａが、画像再現性に優れた刷版であることを示す。
プであり、凹細線の溝が深く彫られている状態を「完全
に再現されている状態」とみなし、次の基準で評価し
た。 Ａ：凹細線の溝が深く、エッジもシャープに彫られてい
る。 Ｂ：凹細線の溝は若干浅いが、実用上は支障がない。 Ｃ：凹細線の溝の彫れが浅く、実用上支障がある。 評点Ａが、画像再現性に優れた刷版であることを示す。
【００３８】［版強度］レリーフ画像再現性の評価に用
いたゴム刷版の平面部をＪＩＳ Ｋ−６３０１「引張試
験方法」に準拠して、引張速度５００ｍｍ／分、標線距
離２０ｍｍの条件で、破断時における引張強度と伸びと
の積（抗張積）を求めた。抗張積の値が大きい方がゴム
版強度に優れていることを示す。
いたゴム刷版の平面部をＪＩＳ Ｋ−６３０１「引張試
験方法」に準拠して、引張速度５００ｍｍ／分、標線距
離２０ｍｍの条件で、破断時における引張強度と伸びと
の積（抗張積）を求めた。抗張積の値が大きい方がゴム
版強度に優れていることを示す。
【００３９】実施例１ 燐酸エステル基含有ランダム共重合体（単量体組成＝ブ
タジエン６０％、メチルアクリレート９％、燐酸エチレ
ンメタクリレート２０％、スチレン１０％及びジビニル
ベンゼン１％）６５部、ポリスチレン−ポリブタジエン
−ポリスチレン型ブロック共重合体３５部、液状ポリブ
タジエン（日本曹達製、ニッソーＰＢ、Ｂ１０００）５
０部及び２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０．
２部をニーダーを用いて１５０℃で均一になるまで混練
した後、ニーダー温度を１２０℃に下げ、１，７−ヘプ
タンジオールジメタクリレート１５部、ベンゾインメチ
ルエーテル１部及びメチルハイドロキノン０．０２部を
添加してさらに混練し感光性エラストマー組成物を得
た。
タジエン６０％、メチルアクリレート９％、燐酸エチレ
ンメタクリレート２０％、スチレン１０％及びジビニル
ベンゼン１％）６５部、ポリスチレン−ポリブタジエン
−ポリスチレン型ブロック共重合体３５部、液状ポリブ
タジエン（日本曹達製、ニッソーＰＢ、Ｂ１０００）５
０部及び２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０．
２部をニーダーを用いて１５０℃で均一になるまで混練
した後、ニーダー温度を１２０℃に下げ、１，７−ヘプ
タンジオールジメタクリレート１５部、ベンゾインメチ
ルエーテル１部及びメチルハイドロキノン０．０２部を
添加してさらに混練し感光性エラストマー組成物を得
た。
【００４０】この感光性エラストマー組成物をスペーサ
ー厚み３．０ｍｍで、上下が開口した枠金型に入れ、枠
金型の開口部の上下に厚さ０．１ｍｍのポリエステルフ
ィルムを被覆し、プレス加工機を用いて１１０〜１３０
℃、１５０ｋｇｆで加熱加圧後、冷却して、総厚み３．
０ｍｍの感光性ゴム版を得た。この感光性エラストマー
組成物及び感光性ゴム版の評価結果を表１に示した。
ー厚み３．０ｍｍで、上下が開口した枠金型に入れ、枠
金型の開口部の上下に厚さ０．１ｍｍのポリエステルフ
ィルムを被覆し、プレス加工機を用いて１１０〜１３０
℃、１５０ｋｇｆで加熱加圧後、冷却して、総厚み３．
０ｍｍの感光性ゴム版を得た。この感光性エラストマー
組成物及び感光性ゴム版の評価結果を表１に示した。
【００４１】実施例２〜５及び比較例１〜２ 実施例１において用いた１，７−ヘプタンジオールジメ
タクリレートを表１に示した多価オールとエチレン性不
飽和酸とのエステルに変えた他は実施例１と同様にして
感光性エラストマー組成物及び感光性ゴム版を得た。こ
れらの感光性エラストマー組成物及び感光性ゴム版の評
価結果を表１に示した。
タクリレートを表１に示した多価オールとエチレン性不
飽和酸とのエステルに変えた他は実施例１と同様にして
感光性エラストマー組成物及び感光性ゴム版を得た。こ
れらの感光性エラストマー組成物及び感光性ゴム版の評
価結果を表１に示した。
【００４２】
【表１】
【００４３】以上から、炭素数６個からなる炭化水素の
多価オールとエチレン性不飽和酸とのエステル（１，６
−ヘキサンジオールジメタクリレート）を配合した組成
物（比較例１）では、版強度が低く、また炭素数１６個
からなる多価オールとエチレン性不飽和酸とのエステル
（１，１６−ヘキシルデカンジオールジメタクリレー
ト）を配合した組成物（比較例２）では画像再現性、版
強度ともに不十分であることがわかる。これに対して、
本発明の炭素数７〜１４個からなる炭化水素の多価オー
ルとエチレン性不飽和酸とのエステルを配合した組成物
（実施例１及び３）では、版強度、画像再現性に優れて
いることがわかる。特に、炭素数８〜１２個からなる炭
化水素の多価オールとメタクリル酸とのエステルを配合
した組成物（実施例２〜４）では版強度及び画像再現性
がさらに優れていることがわかる。
多価オールとエチレン性不飽和酸とのエステル（１，６
−ヘキサンジオールジメタクリレート）を配合した組成
物（比較例１）では、版強度が低く、また炭素数１６個
からなる多価オールとエチレン性不飽和酸とのエステル
（１，１６−ヘキシルデカンジオールジメタクリレー
ト）を配合した組成物（比較例２）では画像再現性、版
強度ともに不十分であることがわかる。これに対して、
本発明の炭素数７〜１４個からなる炭化水素の多価オー
ルとエチレン性不飽和酸とのエステルを配合した組成物
（実施例１及び３）では、版強度、画像再現性に優れて
いることがわかる。特に、炭素数８〜１２個からなる炭
化水素の多価オールとメタクリル酸とのエステルを配合
した組成物（実施例２〜４）では版強度及び画像再現性
がさらに優れていることがわかる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渋谷 智啓 神奈川県川崎市川崎区夜光１−２−１ 日本ゼオン株式会社 総合開発センター 内 審査官 前田 佳与子 (56)参考文献 特開 昭58−62640（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G03F 7/032 G03F 7/00 502 G03F 7/027
Claims (2)
- 【請求項１】 親水基を有するランダム共重合体と親水
基を有しないブロック共重合体とからなる混合エラスト
マー（１）１００重量部、エチレン性不飽和酸と炭素数
７〜１４個からなる直鎖状炭化水素の多価オールとのエ
ステル（２）５〜１００重量部及び光重合開始剤（３）
０．１〜１０重量部を含有する感光性エラストマー組成
物。 - 【請求項２】 支持体とその主要面上に形成された請求
項１記載の感光性エラストマー組成物の層とからなる積
層構造の感光性ゴム版。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6275885A JP3044689B2 (ja) | 1994-10-14 | 1994-10-14 | 感光性エラストマー組成物及び感光性ゴム版 |
| US08/817,429 US5830621A (en) | 1994-10-14 | 1995-10-06 | Photosensitive elastomer composition and photosensitive rubber plate |
| EP95933639A EP0786700A4 (en) | 1994-10-14 | 1995-10-06 | PHOTOSENSITIVE ELASTOMER COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE RUBBER PLATE |
| PCT/JP1995/002061 WO1996012215A1 (fr) | 1994-10-14 | 1995-10-06 | Composition elastomere photosensible et plaque a cliches en caoutchouc photosensible |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6275885A JP3044689B2 (ja) | 1994-10-14 | 1994-10-14 | 感光性エラストマー組成物及び感光性ゴム版 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08114918A JPH08114918A (ja) | 1996-05-07 |
| JP3044689B2 true JP3044689B2 (ja) | 2000-05-22 |
Family
ID=17561799
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6275885A Expired - Lifetime JP3044689B2 (ja) | 1994-10-14 | 1994-10-14 | 感光性エラストマー組成物及び感光性ゴム版 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5830621A (ja) |
| EP (1) | EP0786700A4 (ja) |
| JP (1) | JP3044689B2 (ja) |
| WO (1) | WO1996012215A1 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| US5902714A (en) * | 1997-07-30 | 1999-05-11 | Polyfibron Technologies, Inc. | Latex-based, aqueous developable photopolymers and use thereof in printing plates |
| JP4230085B2 (ja) * | 2000-03-16 | 2009-02-25 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | 改良されたフレキソ印刷版用感光性構成体 |
| EP1311906A1 (en) * | 2000-05-22 | 2003-05-21 | KRATON Polymers Research B.V. | Process for preparing flexographic printing plates |
| US20050101014A1 (en) * | 2002-07-11 | 2005-05-12 | Keirstead Hans S. | Oligodendrocytes derived from human embryonic stem cells for remyelination and treatment of spinal cord injury |
| US7285415B2 (en) * | 2002-07-11 | 2007-10-23 | The Regents Of The University Of California | Oligodendrocytes derived from human embryonic stem cells for remyelination and treatment of spinal cord injury |
| US20050265983A1 (en) * | 2002-11-17 | 2005-12-01 | Eldad Melamed | Methods, nucleic acid constructs and cells for treating neurodegenerative disorders |
| US20060154180A1 (en) | 2005-01-07 | 2006-07-13 | Kannurpatti Anandkumar R | Imaging element for use as a recording element and process of using the imaging element |
| CN101137940B (zh) | 2005-03-08 | 2010-08-25 | 新日铁化学株式会社 | 体相位全息图记录用感光性树脂组合物和使用了其的光信息记录介质 |
| US8034514B2 (en) * | 2005-03-08 | 2011-10-11 | Nippon Steel Chemical Co., Ltd. | Photosensitive resin composition for volume phase hologram recording and optical information recording medium using the same |
| JP2008546385A (ja) | 2005-06-16 | 2008-12-25 | ラモト アット テル アヴィヴ ユニヴァーシティ リミテッド | Ｃｎｓ疾患を治療するための単離された細胞および単離された細胞を含む集団 |
| EP2026132B1 (en) | 2007-08-16 | 2013-03-13 | E. I. Du Pont de Nemours and Company | Process for making a cylindrically-shaped photosensitive element for use as a printing form |
| US8470518B2 (en) | 2007-09-14 | 2013-06-25 | E I Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive element having reinforcing particles and method for preparing a printing form from the element |
| US8236479B2 (en) | 2008-01-23 | 2012-08-07 | E I Du Pont De Nemours And Company | Method for printing a pattern on a substrate |
| EP2085820B1 (en) | 2008-01-30 | 2015-02-25 | E. I. du Pont de Nemours and Company | Apparatus and method for preparing relief printing form |
| AU2009209167B8 (en) | 2008-01-30 | 2015-04-02 | Asterias Biotherapeutics, Inc. | Synthetic surfaces for culturing stem cell derived oligodendrocyte progenitor cells |
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| WO2009144718A1 (en) | 2008-05-28 | 2009-12-03 | Ramot At Tel Aviv University Ltd. | Mesenchymal stem cells for the treatment of cns diseases |
| EP2154572B1 (en) | 2008-08-15 | 2017-05-03 | E. I. du Pont de Nemours and Company | Process for making a cylindrically-shaped photosensitive element for use as a printing form |
| US8899148B2 (en) | 2009-07-02 | 2014-12-02 | E I Du Pont De Nemours And Company | Method for printing a material onto a substrate |
| EP2748678B1 (en) | 2011-08-26 | 2018-07-04 | E. I. du Pont de Nemours and Company | Method for preparing a relief printing form |
| US20130139714A1 (en) | 2011-12-02 | 2013-06-06 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Method for making flexographic printing forms by welding edges of photosensitive elements with microwave energy |
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| US4192684A (en) * | 1976-01-24 | 1980-03-11 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Photosensitive compositions containing hydrogenated 1,2-polybutadiene |
| JPS6049892B2 (ja) * | 1976-04-26 | 1985-11-05 | 富士写真フイルム株式会社 | 光重合性組成物 |
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-
1994
- 1994-10-14 JP JP6275885A patent/JP3044689B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-10-06 WO PCT/JP1995/002061 patent/WO1996012215A1/ja not_active Application Discontinuation
- 1995-10-06 EP EP95933639A patent/EP0786700A4/en not_active Withdrawn
- 1995-10-06 US US08/817,429 patent/US5830621A/en not_active Expired - Lifetime
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