JP2008527736A5

JP2008527736A5 -

Info

Publication number: JP2008527736A5
Application number: JP2007551243A
Authority: JP
Filing date: 2005-10-18
Publication date: 2008-09-04

Claims

複数のマスクを形成する方法であって、
１つ又は複数の位置合せフィーチャを含む参照テンプレートを作成するステップと、
リソグラフィを用いて、前記参照テンプレートの少なくとも１つのコピーを、所与のチップ・セットの複数のマスク・ブランクの全部の上にプリントするステップと、
前記複数のマスク・ブランクの各々の上にサブ・パターンをプリントして、前記サブ・パターンを前記少なくとも１つの参照テンプレート位置合せマークに位置合せするステップと
を含む方法。
前記作成するステップは、電子ビーム・リソグラフィを用いて参照テンプレートを作成するステップを含む、請求項１に記載の方法。
前記コピーは、参照テンプレートを１つ又は複数のマスク・ブランクにコピーするためにインプリント・リソグラフィを用いる、請求項１に記載の方法。
複数の位置合せマークが用意される、請求項１に記載の方法。
前記サブ・パターンをプリントするステップは、電子ビーム・リソグラフィ及びインプリント・リソグラフィの内の少なくとも１つを用いるステップを含む、請求項１に記載の方法。
前記チップ・セットの前記マスクの各々に対して同じ参照テンプレートが用いられる、請求項１に記載の方法。
前記マスクのフィーチャは、前記チップ上にプリントされるべきフィーチャと同じサイズ及び同じ位置を有する、請求項１に記載の方法。
前記少なくとも１つの参照テンプレート・マークは、光学的位置合せマークのためか、或いは前記マスク・パターンを作り上げるサブ・アレイ構成部分のためのものである、請求項１に記載の方法。
前記少なくとも１つの参照テンプレート・マークは、電子ビーム位置合せのためか、或いは前記マスク・パターンを作り上げるサブ・アレイ構成部分のためのものである、請求項１に記載の方法。
前記少なくとも１つの参照テンプレート・マークは、直接刻み込み光学的位置合せのためか、或いは前記マスク・パターンを作り上げるサブ・アレイ構成部分のためのものである、請求項１に記載の方法。
前記少なくとも１つの参照テンプレート・マークは、任意の四角形及びクロスを含む、請求項１に記載の方法。
前記参照テンプレートは、ナノ・インプリント・リソグラフィのための、ガラス製金型、石英製金型、サファイア製金型及びシリコン製金型の内の１つを含む、請求項１に記載の方法。
前記テンプレートの前記少なくとも１つのマークを、各層の前記マスク基板に伝達するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
前記伝達するステップは、ナノ・プリント・リソグラフィを実施するステップを含む、請求項１３に記載の方法。
前記各層は、サブ・アレイにグループ化されるパターンを含み、
前記パターンは、光学リソグラフィ、電子ビーム・リソグラフィ、及びナノ・インプリント・リソグラフィの内の少なくとも１つを用いて、前記位置合せマークを含む各マスク上に形成され、
前記位置合せマークは、前記各サブ・アレイの精密な位置合せを可能にし、
前記位置合せマークの配置は各レベルのマスク上で同一である、請求項１に記載の方法。
複数のマスクを形成するためのシステムであって、
１つ又は複数の位置合せフィーチャを含む参照テンプレートを構築するための構築ユニットと、
前記参照テンプレートの少なくとも１つのコピーを、所与のチップ・セットに関する複数のマスク・ブランクの全部の上にプリントするためのリソグラフィ・システムと、
前記複数のマスク・ブランクの各々の上にサブ・パターンをプリントして、前記サブ・パターンを前記少なくとも１つの参照テンプレート位置合せマークに位置合せするプリンタと
を備えるシステム。
前記各層は、サブ・アレイにグループ化されるパターンを含み、
前記パターンは、光学リソグラフィ、電子ビーム・リソグラフィ、及びナノ・インプリント・リソグラフィの内の少なくとも１つを用いて、前記位置合せマークを含む各マスク上に形成され、
前記位置合せマークは、前記各サブ・アレイの精密な位置合せを可能にし、
前記位置合せマークの配置は各レベルのマスク上で同一である、請求項１６に記載のシステム。