JP2012522891A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012522891A5 JP2012522891A5 JP2012502857A JP2012502857A JP2012522891A5 JP 2012522891 A5 JP2012522891 A5 JP 2012522891A5 JP 2012502857 A JP2012502857 A JP 2012502857A JP 2012502857 A JP2012502857 A JP 2012502857A JP 2012522891 A5 JP2012522891 A5 JP 2012522891A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- support structure
- substrate
- shadow mask
- deposition
- opening
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 24
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 22
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims 21
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 8
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP09157249 | 2009-04-03 | ||
| EP09157249.5 | 2009-04-03 | ||
| EP10154410 | 2010-02-23 | ||
| EP10154410.4 | 2010-02-23 | ||
| PCT/IB2010/051356 WO2010113102A1 (en) | 2009-04-03 | 2010-03-29 | An arrangement for holding a substrate in a material deposition apparatus |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012522891A JP2012522891A (ja) | 2012-09-27 |
| JP2012522891A5 true JP2012522891A5 (enExample) | 2013-04-04 |
| JP5642153B2 JP5642153B2 (ja) | 2014-12-17 |
Family
ID=42285443
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012502857A Expired - Fee Related JP5642153B2 (ja) | 2009-04-03 | 2010-03-29 | 材料堆積装置において基板を保持する装置 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8808402B2 (enExample) |
| EP (1) | EP2425034B1 (enExample) |
| JP (1) | JP5642153B2 (enExample) |
| KR (1) | KR101629995B1 (enExample) |
| CN (1) | CN102482759B (enExample) |
| TW (1) | TW201105809A (enExample) |
| WO (1) | WO2010113102A1 (enExample) |
Families Citing this family (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101629995B1 (ko) * | 2009-04-03 | 2016-06-13 | 오스람 오엘이디 게엠베하 | 재료 증착 장치에서 기판을 홀딩하는 장치 |
| CN103203551B (zh) * | 2012-01-16 | 2015-08-12 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 去除掩模板辅助图形的方法 |
| TWI470110B (zh) * | 2012-09-07 | 2015-01-21 | Manz Taiwan Ltd | 用於化學沉積設備的夾固裝置 |
| KR102112751B1 (ko) * | 2013-02-01 | 2020-05-19 | 삼성디스플레이 주식회사 | 레이저 빔을 이용한 마스크 제조 방법 및 마스크 제조 장치 |
| KR102060366B1 (ko) * | 2013-04-17 | 2019-12-31 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광층 형성장치 및 그것을 이용한 유기 발광층의 제조 방법 |
| JP6078818B2 (ja) | 2013-07-02 | 2017-02-15 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 成膜マスク及び成膜マスクの製造方法 |
| KR101537967B1 (ko) * | 2013-12-30 | 2015-07-20 | 주식회사 에스에프에이 | 기판과 마스크의 어태치 장치 및 방법 |
| CN106784394B (zh) * | 2013-12-30 | 2018-10-09 | Sfa工程股份有限公司 | 用于附着玻璃与掩模的设备及方法、以及用于装载基板的系统及方法 |
| JP6418440B2 (ja) * | 2014-06-03 | 2018-11-07 | Tianma Japan株式会社 | メタルマスク及びメタルマスクの製造方法並びにメタルマスクを用いた成膜方法 |
| US10644239B2 (en) | 2014-11-17 | 2020-05-05 | Emagin Corporation | High precision, high resolution collimating shadow mask and method for fabricating a micro-display |
| TWI564408B (zh) * | 2015-02-02 | 2017-01-01 | 鴻海精密工業股份有限公司 | 蒸鍍遮罩、蒸鍍方法及蒸鍍遮罩之製造方法 |
| KR20160097444A (ko) | 2015-02-06 | 2016-08-18 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 |
| JP2017008342A (ja) * | 2015-06-17 | 2017-01-12 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 成膜マスク及び成膜マスクの製造方法 |
| KR101638344B1 (ko) * | 2015-12-04 | 2016-07-11 | 주식회사 유아이디 | 스퍼터링용 원판패널 고정 장치 및 방법 |
| TWI721170B (zh) * | 2016-05-24 | 2021-03-11 | 美商伊麥傑公司 | 蔽蔭遮罩沉積系統及其方法 |
| US10386731B2 (en) | 2016-05-24 | 2019-08-20 | Emagin Corporation | Shadow-mask-deposition system and method therefor |
| CN109642313B (zh) * | 2016-05-24 | 2021-03-09 | 埃马金公司 | 高精准度蔽荫掩模沉积系统及其方法 |
| JP2019516865A (ja) | 2016-05-24 | 2019-06-20 | イマジン・コーポレイション | 高精度シャドーマスク堆積システム及びその方法 |
| KR101797927B1 (ko) * | 2016-06-01 | 2017-11-15 | (주)브이앤아이솔루션 | 정전척 |
| DE102017106160B4 (de) | 2017-03-22 | 2025-03-20 | VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG | Substratträger, Transportanordnung, Vakuumanordnung und Verfahren |
| JP7134095B2 (ja) * | 2017-05-17 | 2022-09-09 | イマジン・コーポレイション | 高精度シャドーマスク堆積システム及びその方法 |
| JP6998139B2 (ja) * | 2017-06-28 | 2022-01-18 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 蒸着マスク |
| KR102411538B1 (ko) * | 2017-09-04 | 2022-06-22 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조방법 |
| CN113646668A (zh) | 2019-04-11 | 2021-11-12 | 应用材料公司 | 用于光学装置的多深度膜 |
| US11613802B2 (en) * | 2020-04-17 | 2023-03-28 | Rockwell Collins, Inc. | Additively manufactured shadow masks for material deposition control |
| KR102787867B1 (ko) * | 2020-07-03 | 2025-04-01 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법 |
| CN117467930A (zh) * | 2023-05-18 | 2024-01-30 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 掩模版及显示面板 |
Family Cites Families (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3801390A (en) * | 1970-12-28 | 1974-04-02 | Bell Telephone Labor Inc | Preparation of high resolution shadow masks |
| US4615781A (en) * | 1985-10-23 | 1986-10-07 | Gte Products Corporation | Mask assembly having mask stress relieving feature |
| JP3024641B1 (ja) * | 1998-10-23 | 2000-03-21 | 日本電気株式会社 | シャドウマスク及びその製造方法並びにシャドウマスクを用いた有機elディスプレイの製造方法 |
| KR100490534B1 (ko) * | 2001-12-05 | 2005-05-17 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기 전자 발광 소자의 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 |
| KR100467553B1 (ko) * | 2002-05-21 | 2005-01-24 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 고분자 유기전기발광 디스플레이 소자와 그 제조방법 |
| WO2005027584A1 (en) * | 2003-09-16 | 2005-03-24 | Daewoo Electronics Service Co., Ltd. | Organic electroluminescent display and method of making the same |
| JP2005232474A (ja) * | 2004-02-17 | 2005-09-02 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 蒸着用マスク |
| US20060011137A1 (en) * | 2004-07-16 | 2006-01-19 | Applied Materials, Inc. | Shadow frame with mask panels |
| JP4375232B2 (ja) * | 2005-01-06 | 2009-12-02 | セイコーエプソン株式会社 | マスク成膜方法 |
| JP2006216289A (ja) * | 2005-02-02 | 2006-08-17 | Seiko Epson Corp | マスク及び有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法 |
| JP4616667B2 (ja) | 2005-03-01 | 2011-01-19 | 京セラ株式会社 | マスク構造体およびそれを用いた蒸着方法、並びに有機発光素子の製造方法 |
| US7674148B2 (en) * | 2006-02-10 | 2010-03-09 | Griffin Todd R | Shadow mask tensioning method |
| KR20080045886A (ko) * | 2006-11-21 | 2008-05-26 | 삼성전자주식회사 | 유기막 증착용 마스크 및 그 제조방법, 이를 포함하는유기전계 발광표시장치의 제조방법 |
| KR101266489B1 (ko) * | 2006-12-26 | 2013-05-23 | 삼성디스플레이 주식회사 | 쉐도우 마스크 장치 및 이를 이용한 유기 전계발광표시장치의 제조 방법 |
| JP2008240088A (ja) | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Seiko Epson Corp | 蒸着装置、蒸着方法、電気光学装置及び電子機器 |
| JP2010196126A (ja) * | 2009-02-26 | 2010-09-09 | Canon Inc | 真空蒸着装置の重石板およびそれを用いた真空蒸着装置 |
| KR101629995B1 (ko) * | 2009-04-03 | 2016-06-13 | 오스람 오엘이디 게엠베하 | 재료 증착 장치에서 기판을 홀딩하는 장치 |
| WO2011111134A1 (ja) * | 2010-03-09 | 2011-09-15 | シャープ株式会社 | 蒸着マスク、蒸着装置及び蒸着方法 |
-
2010
- 2010-03-29 KR KR1020117026030A patent/KR101629995B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2010-03-29 JP JP2012502857A patent/JP5642153B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2010-03-29 WO PCT/IB2010/051356 patent/WO2010113102A1/en not_active Ceased
- 2010-03-29 US US13/262,776 patent/US8808402B2/en active Active
- 2010-03-29 CN CN201080015151.4A patent/CN102482759B/zh active Active
- 2010-03-29 EP EP10713005.6A patent/EP2425034B1/en active Active
- 2010-03-31 TW TW099109979A patent/TW201105809A/zh unknown
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2012522891A5 (enExample) | ||
| EP2548225A4 (en) | PACKAGED SYSTEM WITH CORELESS SUBSTRATES WITH EMBEDDED MATRICES AND PROCESS FOR THEIR FORMATION | |
| JP2011222960A5 (enExample) | ||
| JP2012028760A5 (ja) | 半導体装置の作製方法 | |
| FR2925039B1 (fr) | Procede de fabrication collective de nanofibres de carbone a la surface de micromotifs elabores a la surface d'un substrat et structure comprenant des nanofibres a la surface de micromotifs | |
| JP2011512683A5 (enExample) | ||
| JP2014502053A5 (enExample) | ||
| EP2521180A4 (en) | ACTIVE MATRIX SUBSTRATE AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF | |
| FR2912259B1 (fr) | Procede de fabrication d'un substrat du type "silicium sur isolant". | |
| FR2944645B1 (fr) | Procede d'amincissement d'un substrat silicium sur isolant | |
| JP2014509038A5 (enExample) | ||
| JP2013536602A5 (enExample) | ||
| JP2019516866A5 (enExample) | ||
| JP2012082510A5 (enExample) | ||
| EP2495641A3 (en) | Touch sensitive device and fabrication method thereof | |
| JP2009081357A5 (enExample) | ||
| FR2912258B1 (fr) | "procede de fabrication d'un substrat du type silicium sur isolant" | |
| JP2009526148A5 (enExample) | ||
| JP2011256409A5 (enExample) | ||
| JP2006128211A5 (enExample) | ||
| FR2941302B1 (fr) | Procede de test sur le substrat support d'un substrat de type "semi-conducteur sur isolant". | |
| JP2008042023A5 (enExample) | ||
| FR2954582B1 (fr) | Dispositif electromecanique a base d'electret, et son procede de fabrication | |
| JP2013159691A5 (enExample) | ||
| JP2012164884A5 (enExample) |