JP2012512819A - 重合可能光開始剤及び放射線硬化性組成物 - Google Patents
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Abstract
【化1】
[式中、R1、R2及びR3は、水素、場合により置換されていることができるアルキル基及び場合により置換されていることができるアリール基より成る群から独立して選ばれるか、あるいはR1及びR3は5〜8員環の形成に必要な原子を示し;p、w、y及びzはすべて整数であり、yは1〜6の値を示し;pはwとzの和を示し;pは1〜6の値を示し;w=1〜(p−z)であり、且つz=0〜(p−w)であり;Lは、1〜14個の炭素原子を含んでなる場合により置換されていることができる(p+y)−価の連結基を示し;Aはアクリレート基、メタクリレート基、スチレン基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、マレート基、フマレート基、イタコネート基、ビニルエーテル基、アリルエーテル基、アリルエステル基及びビニルエステル基より成る群から選ばれるラジカル重合可能な基を示し;そしてXは、化学線に暴露されるとフリーラジカル重合反応を開始させることができる少なくとも1個の基を含む光開始部分を示す]
により示される重合可能光開始剤。重合可能光開始剤を含む放射線硬化性組成物及び重合可能光開始剤の製造方法も開示されている。
Description
本発明は、特に食品にやさしい放射線硬化性調製物に適した新しい種類の重合可能光開始剤ならびに光開始剤の製造方法に関する。
フリーラジカル光開始剤は、化学線に暴露された時にフリーラジカルの生成によりモノマーの重合を開始させる。光開始剤は、多くの場合にUV−硬化性組成物、例えばUV−硬化性インキジェットインキ中で用いられる。
特許文献6(CIBA)中で開示されている。
発明の目的
本発明の目的は、簡単且つ原価効率の高い合成法を介して入手可能な新しい種類の重合可能光開始剤を提供することである。
少なくとも1個のヒドロキシル基を有する光開始剤を触媒の存在下で特別なモノマーと反応させることを介し、単離の必要なく重合可能光開始剤を製造することにより、上記の問題を解決するための驚くほど簡単な方法が見出された。有機溶媒は必要でなく、それにより非生態学的な溶媒の除去が避けられる。これは例えば有機溶媒を含まない放射線硬化性インキジェットインキを可能にし、それは結局、潜在時間(latency)の増加及び欠陥ノズル(failing nozzles)の減少により、プリンターにおいて向上した噴射性能を示す。
本発明の開示において用いられる「染料」という用語は、それが適用される媒体中で、且つ関係する周囲条件下で10mg/Lかもしくはそれより高い溶解度を有する着色剤を意味する。
本発明に従う重合可能光開始剤は、式(I):
R1、R2及びR3は、水素、場合により置換されていることができるアルキル基及び場合により置換されていることができるアリール基より成る群から独立して選ばれるか、あるいはR1及びR3は5〜8員環の形成に必要な原子を示し;
p、w、y及びzはすべて整数であり、yは1〜6の値を示し;pはwとzの和を示し;pは1〜6の値を示し;w=1〜(p−z)であり、且つz=0〜(p−w)であり;
Lは、1〜14個の炭素原子を含んでなる場合により置換されていることができる(p+y)−価の連結基を示し;
Aはアクリレート基、メタクリレート基、スチレン基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、マレート基、フマレート基、イタコネート基、ビニルエーテル基、アリルエーテル基、アリルエステル基及びビニルエステル基より成る群から選ばれるラジカル重合可能な基を示し;そして
Xは、化学線に暴露されるとフリーラジカル重合反応を開始させることができる少なくとも1個の基を含んでなる光開始部分を示す]
により示される。
INIは場合により置換されていることができるベンゾフェノン基、場合により置換されていることができるチオキサントン基、置換もしくは非置換アントラキノン基、カンファーキノン基、α−ヒドロキシアルキルフェノン基、α−アミノアルキルフェノン基、アシルホスフィンオキシド基、ビスアシルホスフィンオキシド基、アシルホスフィンスルフィド基、フェニルグリオキサレート基、ベンゾインエーテル基、ベンジルケタール基、α−ジアルコキシアセトフェノン基、カルバゾリル−O−アシル−オキシム基、α−ハロアリールケトン基及びα−ハロアリールスルホン基より成る群から選ばれる基を示し;
L1及びL2は独立して、1〜14個の炭素原子を含んでなる置換もしくは非置換2価連結基を示し;
Aは、アクリレート、メタクリレート、スチレン、アクリルアミド、メタクリルアミド、マレート、フマレート、イタコネート、ビニルエーテル、アリルエーテル、アリルエステル及びビニルエステルより成る群から選ばれるラジカル重合可能な官能基を示し;
nは0又は1を示し;そして
R4は、場合により置換されていることができるアルキル基を示す]
に従う光開始剤である。
本発明に従う重合可能光開始剤の製造のために、式(II):
R1、R2及びR3は、水素、場合により置換されていることができるアルキル基及び場合により置換されていることができるアリール基より成る群から独立して選ばれるか、あるいはR1及びR3は5〜8員環の形成に必要な原子を示し;
pは1〜6の値を有する整数であり;
yは1〜6の値を有する整数であり;
Lは、1〜14個の炭素原子を含んでなる場合により置換されていることができる(p+y)−価の連結基を示し;そして
Aはアクリレート基、メタクリレート基、スチレン基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、マレート基、フマレート基、イタコネート基、ビニルエーテル基、アリルエーテル基、アリルエステル基及びビニルエステル基より成る群から選ばれるラジカル重合可能な基を示す]
に従う少なくとも1種のモノマーが用いられる。
重合可能光開始剤の製造のために、式(II)に従うモノマー中のR1、R2、R3、L、A、p及びyに関する値は、式(I)に従う重合可能光開始剤に関して定義された値と同じである。
a)式(II):
b)少なくとも1個のヒドロキシル基を含んでなる光開始剤を準備し;そして
c)触媒を用いて、モノマーと光開始剤の間の反応を触媒して、式(I):
R1、R2及びR3は、水素、場合により置換されていることができるアルキル基及び場合により置換されていることができるアリール基より成る群から独立して選ばれるか、あるいはR1及びR3は5〜8員環の形成に必要な原子を示し;
p、w、y及びzはすべて整数であり、yは1〜6の値を示し;pはwとzの和であり;pは1〜6の値を有し;w=1〜(p−z)であり、且つz=0〜(p−w)であり;
Lは、1〜14個の炭素原子を含んでなる場合により置換されていることができる(p+y)−価の連結基を示し;
Aはアクリレート基、メタクリレート基、スチレン基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、マレート基、フマレート基、イタコネート基、ビニルエーテル基、アリルエーテル基、アリルエステル基及びビニルエステル基より成る群から選ばれるラジカル重合可能な基を示し;そして
Xは、化学線に暴露されるとフリーラジカル重合反応を開始させることができる少なくとも1個の基を含んでなる光開始部分を示す]
に従う重合可能光開始剤を生成する
段階を含む方法に従って製造される。
アルケニル−エーテル、好ましくはビニルエーテルへのアルコールの付加による非対称アセタールの製造に用いられる触媒には、十分に低いpKaを有するプロトン酸、例えば塩酸、リン酸、スルホン酸、硫酸ならびにフッ素及び塩素のような電子吸引性基で置換さ
れたカルボン酸が含まれる。
19,1989年,901;Kantam,M著;Synth Commun 23,1993年,2225;Bhuma,V著;Synth Commun 22,1992年,2941;Ma,S著;Tetrahedron Lett 34,1993年,5269;Molnar,A著;Tetrahedron Lett 37,1996年,
8597)。
本発明に従う放射線硬化性組成物は、式(I)又は(Ib)に従う少なくとも1種の重合可能光開始剤を含み、最も好ましくは式(II)に従う少なくとも1種のモノマーも含む。
ない。
density)インキの組み合わせによってCMYK−インキセットを増量し、粒状性を低下させることにより画質を向上させることもできる。
characteristics)を得るために、さらに少なくとも1種の界面活性剤を含有することもできる。
本発明に従う放射線硬化性組成物は、1種もしくはそれより多い共開始剤を含有することができる。共開始剤の好ましい量は、放射線硬化性組成物の合計重量の1〜30重量%、より好ましくは2〜20重量%、そして最も好ましくは5〜10重量%である。
R1及びR2は独立して、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アルカリール基、アリール基及びヘテロアリール基より成る群から選ばれ;
R3からR6は独立して、水素、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アシル基、チオアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン、アラルキル基、アルカリール基、アリール基及びヘテロアリール基より成る群から選ばれ;
R7は、水素、アルデヒド基、ケトン基、エステル基、アミド基、アシル基、チオアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン、ニトリル基、スルホネート基、スルホンアミド基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アルカリール基、アリール基及びヘテロアリール基より成る群から選ばれ;
R1とR2、R1とR3、R2とR5、R3とR4、R4とR7、R5とR6及びR6とR7は、5−〜8−員環の形成に必要な原子を示すことができ;且つ但し、芳香族アミンは少なくとも1個のα−水素を有し;そして
R1からR7の少なくとも1個は、アクリレート、置換アクリレート、メタクリレート、スチレン、アクリルアミド、メタクリルアミド、アリルエステル、アリルエーテル、ビニルエステル、ビニルエーテル、フマレート、マレート、マレイミド及びビニルニトリルより成る群から選ばれる重合可能エチレン性不飽和官能基を含む]
に従う共開始剤である。重合可能共開始剤において、好ましくは、R7は、アルデヒド、ケトン、エステル及びアミドより成る群から選ばれる電子求引性基を示し、そしてより好ましくは、R3、R4、R5及びR6はすべて水素を示す。
R1からR6は式(C−I)に関して定義したと同じ意味を有し;
XはO、S及びNR9より成る群から選ばれ;
R8及びR9は独立して、水素、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アルカリール基、アリール基及びヘテロアリール基より成る群から選ばれ;
R1とR2、R1とR3、R2とR5、R3とR4、R5とR6、R4とR8、R6とR8及びR8とR9は、5−〜8−員環の形成に必要な原子を示すことができ;そしてR1からR6及びR8の少なくとも1個は、アクリレート、置換アクリレート、メタクリレート、スチレン、アクリルアミド、メタクリルアミド、アリルエステル、アリルエーテル、ビニルエステル、ビニルエーテル、フマレート、マレート、マレイミド及びビニルニトリルより成る群から選ばれる重合可能エチレン性不飽和官能基を含んでなる]
に相当する。重合可能共開始剤において、好ましくは、R3、R4、R5及びR6はすべて水素を示す。
R1及びR2は独立して、メチル、エチル、プロピル及びブチルより成る群から選ばれ;Lは少なくとも1個の炭素原子を含んでなる2価の連結基を示し;そして
R10は水素、メチル、エチル、プロピル又はブチルを示す]
に相当する。
特に食品包装用途のための放射線硬化性組成物及びインキ中で用いられるモノマー及びオリゴマーは、好ましくは全くもしくはほとんど不純物を有していない、さらに特定的に毒性又は発がん性不純物を有していない精製された化合物である。不純物は通常、重合可能化合物の合成の間に得られる誘導化合物である。しかしながら、純粋な重合可能化合物にいくつかの化合物、例えば重合抑制剤又は安定剤を無害な量で故意に加えることができ
ることもある。
放射線硬化性組成物及びインキは、重合抑制剤を含有することができる。適した重合抑制剤には、フェノール型酸化防止剤、ヒンダードアミン光安定剤、蛍りん光体型酸化防止剤、(メタ)アクリレートモノマーにおいて通常用いられるヒドロキノンモノメチルエーテルが含まれ、ヒドロキノン、t−ブチルカテコール、ピロガロール、2,6−ジ−tert.ブチル−4−メチルフェノールも使用することができる。
S領域(S100、S110、S120及びS130)である。
放射線硬化性組成物及びインキは、界面活性剤を含有することができる。界面活性剤はアニオン性、カチオン性、非イオン性又は両性イオン性であることができ、通常、放射線硬化性組成物又はインキの合計重量に基づいて10重量%より少ない合計量で、そして特に放射線硬化性組成物又はインキの合計重量に基づいて5重量%より少ない合計量で加えられる。
放射線硬化性インキ中で用いられる着色剤は染料、顔料又はそれらの組み合わせであることができる。有機及び/又は無機顔料を用いることができる。着色剤は、好ましくは顔料又は高分子染料、最も好ましくは顔料である。
GRAPHICS)の[0116]中の表2により示されている。ホワイト顔料は、好ましくは1.60より大きい屈折率を有する顔料である。ホワイト顔料を単独で、又は組み合わせて用いることができる。好ましくは、1.60より大きい屈折率を有する顔料として二酸化チタンを用いる。適した二酸化チタン顔料は、、国際公開第2008/074548号パンフレット(AGFA GRAPHICS)の[0117]及び[0118]中に開示されているものである。
分散剤は、好ましくは高分子分散剤である。典型的な高分子分散剤は、2種のモノマーのコポリマーであるが、3、4、5種又はそれより多種のモノマーさえ含有することができる。高分子分散剤の性質は、モノマーの性質及びポリマー中におけるそれらの分布の両方に依存する。適したコポリマー分散剤は、以下のポリマー組成を有する:
ランダム重合したモノマー(例えばモノマーA及びBがABBAABABに重合した);交互重合したモノマー(例えばモノマーA及びBがABABABABに重合した);
勾配(gradient)(テーパード(tapered))重合したモノマー(例えばモノマーA及びBがAAABAABBABBBに重合した);
それぞれのブロックのブロック長(2、3、4、5又はそれより多くさえ)が高分子分散剤の分散能力に重要であるブロックコポリマー(例えばモノマーA及びBがAAAAABBBBBBに重合した);
グラフトコポリマー(グラフトコポリマーは、主鎖に結合した高分子側鎖を有する高分子主鎖から成る);ならびに
これらのポリマーの混合形態、例えばブロック様勾配コポリマー。
BYK CHEMIE GMBHから入手可能なDISPERBYKTM分散剤;
NOVEONから入手可能なSOLSPERSETM分散剤;
DEGUSSAからのTEGOTMDISPERSTM分散剤;
MUENZING CHEMIEからのEDAPLANTM分散剤;
LYONDELLからのETHACRYLTM分散剤;
ISPからのGANEXTM分散剤;
CIBA SPECIALTY CHEMICALS INCからのDISPEXTM及びEFKATM分散剤;
DEUCHEMからのDISPONERTM分散剤;及び
JOHNSON POLYMERからのJONCRYLTM分散剤。
分散相乗剤は通常アニオン性部分及びカチオン性部分から成る。分散相乗剤のアニオン性部分は有色顔料とのある種の分子類似性を示し、分散相乗剤のカチオン性部分は、分散相乗剤のアニオン性部分の電荷を補償するために、1個もしくはそれより多いプロトン及び/又はカチオンから成る。
GRAPHICS)、国際公開第2007/060255号パンフレット(AGFA GRAPHICS)及び欧州特許第1790695A号明細書(AGFA GRAPHICS)に開示されているものが含まれる。
平均粒度及び分布は、インキジェットインキに関する重要な特徴である。分散媒中で分散剤の存在下に、顔料を沈降させるか又は磨砕することにより、インキを調製することができる。
終的な粒度などに依存する。本発明において、100nmより小さい平均粒度を有する顔料分散系を調製することができる。
本発明に従う硬化性組成物及びインキを、インキの小滴を噴出させる1個もしくはそれより多い印刷ヘッドにより、印刷ヘッドに相対的に動いているインキ受容体表面上に、制御されたやり方でノズルを介して噴射することができる。
本発明に従う硬化性組成物及びインキを、それらを化学線に暴露することにより、好ましくは紫外線により硬化することができる。
tube)のような柔軟性放射線伝導手段により放射線源に連結された静止固定放射線源、例えば硬化UV−光源を用いることができる。
・UV−A:400nm〜320nm
・UV−B:320nm〜290nm
・UV−C:290nm〜100nm。
以下の実施例において用いられるすべての材料は、他に特定しなければ、Aldrich Chemical Co.(Belgium)から容易に入手可能であった。用いられた水は、脱イオン水であった。
31.08g(202ミリモル)のチオサリチル酸及び50g(202ミリモル)の4−ヨード−安息香酸を410mLの10%NaOHに加えた。12.3gの銅粉末及び2.04gの亜鉛粉末を加え、混合物を激しく撹拌しながら6時間還流させた。発泡を抑制するのは困難であった。反応混合物を室温に冷ました。銅及び亜鉛粉末を濾過により除去した。反応混合物を800mLの水で希釈し、600mLの2N HClで中和した。沈殿したジフェニルスルフィド−2,4’−ジカルボン酸を濾過により単離し、水で3回洗浄し、乾燥した。55gのジフェニルスルフィド−2,4’−ジカルボン酸が単離された。(融点 235−237℃)
52.74(192ミリモル)のジフェニルスルフィド−2,4’−ジカルボン酸を1Lの濃硫酸中に溶解し、反応を室温で24時間続けさせた。反応混合物を12Lの熱湯にゆっくり加えた。混合物を100℃にさらに1時間保った。混合物を室温に冷ました。混合物から沈殿した粗9−オキソ−9H−チオキサンテン−2−カルボン酸を濾過により単離し、水で3回及びエタノールで1回洗浄し、乾燥した。41.76gの粗9−オキソ−9H−チオキサンテン−2−カルボン酸を417mLの2N NaOH中に溶解し、室温で30分間撹拌し、600mLの2N HClを用いてゆっくり酸性化した。混合物を30分間撹拌し、沈殿した9−オキソ−9H−チオキサンテン−2−カルボン酸を濾過により単離し、水で2回及びエタノールで2回洗浄し、乾燥した。31.5g(64%)の9−オキソ−9H−チオキサンテン−2−カルボン酸が単離された(融点:310−316℃)。
0.03モル)の溶液に、メタノール(40mL)中のメタノール中のナトリウムメトキシド(30重量%)(6.1mL,0.033モル)の溶液を滴下し、反応混合物を室温で30分間撹拌した。トルエン−4−スルホン酸 2−[4−(2−ヒドロキシ−2メチル−プロピオニル)−フェノキシ]−エチルエステル(11.4g,0.03モル)を加え、反応混合物を室温で24時間撹拌した。溶媒を減圧下で蒸発させ、残留油をジクロロメタン(100mL)で処理し、濾過した。溶媒の蒸発は黄色油を与え、それをProchrom LC80カラム上で、溶離剤としてジクロロメタン/酢酸エチル(50/50)を用い、シリカとしてKromasil Si60 10μmを用いて精製し、4.7gの淡黄色の固体を与えた。
al.著,Synthetic Communications,19(3−4),1989年,529−35。
,N−ビス−(2−ヒドロキシ−エチル)−2−(9−オキソ−9H−チオキサンテン−2−イルオキシ)−アセトアミドを濾過により単離し、蒸留水及びメタノールで洗浄して4.35gの黄色の固体を与えた。
1.1H−NMRスペクトルの測定
1H−NMRスペクトルは以下の通りに記録された:100mgの各予備−調製物の試料を0.7mLのCDCl3中に溶解した。シフト参照標準としてTMSを加えた。スペクトルを600MHz Varian分光計上で記録した(スペクトルウィンドウ 10924Hz(〜18ppm),取得時間 5秒,緩和遅延(relaxation delay) 10秒,パルス幅 45度,トランジエント(transients)の数:32)。
1F−NMRスペクトルは以下の通りに記録された:100mgの各予備−調製物の試料を0.7mLのCDCl3中に溶解した。標準として2mgの4−フルオロ−安息香酸
エチルエステルを加えた。スペクトルを400MHz Varian分光計上で記録した(スペクトルウィンドウ 50000Hz(〜132ppm),取得時間 0.6秒,緩和遅延 10秒,パルス幅:45度,トランジエントの数:16)。
Brookfield DV−II+粘度計を用い、25℃において6RPMで調製物の粘度を測定した。
UV光を用いる硬化の直後に、コーティングについて硬化度を調べた。硬化したコーティングをQチップによりこする。表面が損傷を受けなかったら、コーティングは完全に硬化している。硬化したコーティングのいくらかが損傷を受け得たら、コーティングは部分的にしか硬化していない。硬化したコーティング全体が損傷を受けたら、コーティングは硬化していない。
試料の硬化に必要なランプの最大出力のパーセンテージとして硬化速度を定義した。数が低いほど、硬化速度が高い。試料は、Q−チップを用いる引っ掻きが視覚的損傷を引き起こさない時点に完全に硬化したと考えられた。
25gのLewatitTM M600 MBを75mLの1N水酸化ナトリウム溶液で処理し、2時間撹拌した。濾過によりイオン交換樹脂を単離し、水で数回洗浄し、一定
の重量になるまで乾燥した。
表3に規定される量のヒドロキシル基を含有する光開始剤(=出発開始剤)を、表3に規定される量の2−(2−ビニルオキシエトキシ)エチルアクリレート(Ether−1)中に溶解し、2−(2−ビニルオキシエトキシ)エチルアクリレートに対して1モル%のBHTを加え、続いてヒドロキシル含有光開始部分に対して5モル%のトリフルオロ酢酸を加えた。表3に規定される特定の反応時間の間、50℃で反応を続けさせた。25gの予備処理されたイオン交換樹脂を加え、反応混合物を室温で1時間撹拌した。濾過によりイオン交換樹脂を除去した。1H−NMRを用いて転換の程度を決定した。19F−NMRを用いて残留触媒の存在を決定した。得られる重合可能開始剤をEther−1中に溶解し、予備−調製物と呼んだ。
表4に規定される量のヒドロキシル含有光開始性光開始剤(=出発開始剤)を、表4に規定される量のビニルエーテル含有モノマー中に溶解し、ビニルエーテル含有モノマーに対して1モル%のBHTを加え、続いてヒドロキシル含有光開始部分に対して5モル%のトリフルオロ酢酸を加えた。規定される反応時間の間、50℃で反応を続けさせた。25gの予備処理されたイオン交換樹脂を加え、反応混合物を室温で1時間撹拌した。濾過によりイオン交換樹脂を除去した。1H−NMRを用いて転換の程度を決定した。19F−NMRを用いて残留触媒の存在を決定した。得られる重合可能開始剤を、反応物として用いられたモノマー中に溶解し、予備−調製物と呼んだ。
4種の出発開始剤の1組を、表5に規定される通りに反応させた。TLCクロマトクラフィーを用いて転換の程度を決定した。
a)4−ヒドロキシ−ベンゾフェノン(STIN−15)の誘導体化
7.5g(38ミリモル)の4−ヒドロキシ−ベンゾフェノンを30mLの2−(2−ビニルオキシエトキシ)エチルアクリレート中に溶解した。40mgのBHTを加えた。2%のジビニルベンゼンで架橋された0.9gの架橋ポリ(ビニルピリジン)トシレート(Aldrichにより供給された)を加えた。反応混合物を55℃に加熱し、16時間反応を続けさせた。TLC分析は、フェノール性基の完全な転換を示した(Partisil KC18F,Whatmanにより供給された,溶離剤:MeOH/NaCl 0.5M;Rf=0.39)。濾過により触媒を除去し、2−(2−ビニルオキシエトキシ)エチルアクリレート中のINI−1の溶液を、放射線硬化性組成物の調製に直接用いることができる。
7.5g(38ミリモル)の4−ヒドロキシ−ベンゾフェノンを30mLの2−(2−ビニルオキシエトキシ)エチルアクリレート中に溶解した。40mgのBHTを加えた。2%のジビニルベンゼンで架橋された0.9gの架橋ポリ(ビニルピリジン)クロロハイドレート(Aldrichにより供給された)を加えた。反応混合物を55℃に加熱し、16時間反応を続けさせた。TLC分析は、フェノール性基の完全な転換を示した(Partisil KC18F,Whatmanにより供給された,溶離剤 MeOH/NaCl 0.5M 80/20)。濾過により触媒を除去し、2−(2−ビニルオキシエトキシ)エチルアクリレート中のINI−1の溶液を、放射線硬化性組成物の調製に直接用いることができる。
7.5g(38ミリモル)のSTIN−1を30mLの2−(2−ビニルオキシエトキシ)エチルアクリレート中に溶解した。70mgのBHTを加えた。反応混合物を55℃に加熱した。2%のジビニルベンゼンで架橋された0.9gの架橋ポリ(ビニルピリジン)トシレート(Aldrichにより供給された)を加え、16時間反応を続けさせた。TLC分析は、第1級アルコール及び第3級アルコールの両方の完全な転換を示した(Partisil KC18F,Whatmanにより供給された,溶離剤:MeOH/NaCl 0.5M;Rf=0.37)。濾過により触媒を除去し、2−(2−ビニルオキ
シエトキシ)エチルアクリレート中のINI−4の溶液を、放射線硬化性組成物の調製に直接用いることができる。
段階1:コハク酸 モノ−{2−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−フェノキシ]−エチル}エステル
還流し、且つこの温度で24時間撹拌した。反応混合物を室温に冷まし、沈殿した残留物を濾過により取り出した。沈殿した残留物をアセトンで洗浄した。溶媒の蒸発の後、残留物を酢酸エチル(300mL)中に溶解し、蒸留水(250mL)と塩酸の水溶液(6N)(50mL)の混合物で抽出した。有機層を単離し、MgSO4上で乾燥し、濾過し、蒸発させて、83gの黄色の油を与えた。
ロ酢酸(0.1g,0.85モル)を加え、反応混合物を55℃に加熱し、3.5時間撹拌した。反応混合物を、予備処理されたLewatitTM M600 MBで1時間処理した。濾過によりイオン交換樹脂を除去し、Ether−1中のPGの35.5重量%溶液を与えた(FVEEA−20)。
合成:
表7に従って、比較用放射線硬化性組成物COMP−1〜COMP−3ならびに本発明の放射線硬化性組成物INV−1〜INV−4を調製した。重量%(wt%)は、放射線硬化性組成物の合計重量に基づいた。フタル酸ジブチルを、抽出可能な残留物の分析を可能にするための内部参照標準として放射線硬化性組成物に加えた。先行実施例中で調製された予備−調製物を、放射線硬化性組成物中で直接用いた。比較用開始剤は、純粋な化合物として用いられた。
本発明の放射線硬化性組成物INV−1〜INV−4及び比較用放射線硬化性組成物COMP−1〜COMP−3の硬化度を評価した。バーコーター及び10μmのワイアバー(wired bar)を用い、本発明の放射線硬化性組成物INV−1〜INV−4及び比較用放射線硬化性組成物COMP−1〜COMP−3をPET100基質上にコーティングした。Fusion VPS/I600ランプ(D−バルブ)が備えられたFusion DRSE−120コンベアを用いてコーティングを硬化させ、コンベアはコンベアベルト上のUV−ランプの下に20m/分の速度で試料を輸送した。ランプは全出力で用いられた。窒素不活性化を用いて試料を硬化させた。コーティングされた試料をコンベアベルト上に置く前に、コーティングされた試料を金属板上に載せ、板の上に非UV−吸収性石英ガラス窓を有する1cmの高さの金属枠を置いて、コーティングされた試料を内側に有する密封された室が形成されるようにした。次いで室内に純粋な窒素ガスを30秒間導入することにより、室内に捕獲された空気を窒素ガスで置き換えた。硬化度を決定し
た。
表9に従って、比較用放射線硬化性組成物COMP−4ならびに本発明の放射線硬化性組成物INV−5〜INV−11を調製した。重量%(wt%)は、放射線硬化性組成物の合計重量に基づいた。フタル酸ジブチルを、抽出可能な残留物の分析を可能にするための内部参照標準として放射線硬化性組成物に加えた。先行実施例中で調製された予備−調製物を、放射線硬化性組成物中で直接用いた。
フリーラジカル硬化性液COMP−4及びINV−5〜INV−11を、バーコーター及び10mmのワイアバーを用い、PET100基質上にコーティングした。Fusion VPS/I600ランプ(D−バルブ)が備えられたFusion DRSE−120コンベアを用いて各コーティングされた試料を硬化させ、コンベアはコンベアベルト上のUV−ランプの下に20m/分の速度で試料を輸送した。硬化速度及び粘度を決定した。
表11及び表12に従って、比較用放射線硬化性組成物COMP−5ならびに本発明の放射線硬化性組成物INV−12〜INV−22を調製した。重量%(wt%)は、放射線硬化性組成物の合計重量に基づいた。フタル酸ジブチルを、抽出可能な残留物の分析を可能にするための内部参照標準として放射線硬化性組成物に加えた。先行実施例中で調製された予備−調製物を、放射線硬化性組成物中で直接用いた。
フリーラジカル硬化性組成物COMP−5及びINV−12〜INV−22を、バーコーター及び10mmのワイアバーを用い、PET100基質上にコーティングした。Fusion VPS/I600ランプ(D−バルブ)が備えられたFusion DRSE−120コンベアを用いて各コーティングされた試料を硬化させ、コンベアはコンベアベルト上のUV−ランプの下に20m/分の速度で試料を輸送した。硬化速度を決定した。
バーコーター及び10μmのワイアバーを用い、本発明の放射線硬化性組成物INV−1、INV−5、INV−11及びINV−17ならびに比較用放射線硬化性組成物COMP−4をPET100基質上にコーティングした。Fusion VPS/I600ランプ(D−バルブ)が備えられたFusion DRSE−120コンベアを用いて、各コーティングされた試料を硬化させ、コンベアはコンベアベルト上のUV−ランプの下に20m/分の速度で試料を輸送した。ランプは全出力で用いられた。窒素不活性化条件下で試料を硬化させた。コーティングされた試料をコンベアベルト上に置く前に、コーティングされた試料を金属板上に載せ、板の上に非UV−吸収性石英ガラス窓を有する1cmの高さの金属枠を置いて、コーティングされた試料を内側に有する密封された室が形成されるようにした。次いで室内に純粋な窒素ガスを30秒間導入することにより、室内に捕獲された空気を窒素ガスで置き換えた。すべての硬化した試料は、完全に硬化したことが見出された。
Claims (18)
- 式(I):
式中、
R1、R2及びR3は、水素、場合により置換されていることができるアルキル基及び場合により置換されていることができるアリール基より成る群から独立して選ばれるか、あるいはR1及びR3は5〜8員環の形成に必要な原子を示し;
p、w、y及びzはすべて整数であり、yは1〜6の値を示し;pはwとzの和を示し;pは1〜6の値を示し;w=1〜(p−z)であり、且つz=0〜(p−w)であり;
Lは、1〜14個の炭素原子を含んでなる場合により置換されていることができる(p+y)−価の連結基を示し;
Aはアクリレート基、メタクリレート基、スチレン基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、マレート基、フマレート基、イタコネート基、ビニルエーテル基、アリルエーテル基、アリルエステル基及びビニルエステル基より成る群から選ばれるラジカル重合可能な基を示し;そして
Xは、化学線に暴露されるとフリーラジカル重合反応を開始させることができる少なくとも1個の基を含んでなる光開始部分を示す
重合可能光開始剤。 - R2及びR3が両方とも水素を示す請求項1に従う重合可能光開始剤。
- R1が水素を示す請求項1又は2に従う重合可能光開始剤。
- 光開始部分Xが、場合により置換されていることができるベンゾフェノン基、場合により置換されていることができるチオキサントン基、置換もしくは非置換アントラキノン基、カンファーキノン基、α−ヒドロキシアルキルフェノン基、α−アミノアルキルフェノン基、アシルホスフィンオキシド基、ビスアシルホスフィンオキシド基、アシルホスフィンスルフィド基、フェニルグリオキサレート基、ベンゾインエーテル基、ベンジルケタール基、α−ジアルコキシアセトフェノン基、カルバゾリル−O−アシル−オキシム基、α−ハロアリールケトン基及びα−ハロアリールスルホン基より成る群から選ばれる少なくとも1つの基を含む請求項1〜3のいずれか1つに従う重合可能光開始剤。
- 2価の連結基Lが、場合により置換されていることができるアルキレン基及び脂肪族エーテル含有基より成る群から選ばれる請求項1〜4のいずれか1つに従う重合可能光開始剤。
- 式(Ib):
INIは、場合により置換されていることができるベンゾフェノン基、場合により置換されていることができるチオキサントン基、置換もしくは非置換アントラキノン基、カンファーキノン基、α−ヒドロキシアルキルフェノン基、α−アミノアルキルフェノン基、アシルホスフィンオキシド基、ビスアシルホスフィンオキシド基、アシルホスフィンスルフィド基、フェニルグリオキサレート基、ベンゾインエーテル基、ベンジルケタール基、α−ジアルコキシアセトフェノン基、カルバゾリル−O−アシル−オキシム基、α−ハロアリールケトン基及びα−ハロアリールスルホン基より成る群から選ばれる基を示し;
L1及びL2は独立して、1〜14個の炭素原子を含んでなる置換もしくは非置換2価連結基を示し;
Aは、アクリレート、メタクリレート、スチレン、アクリルアミド、メタクリルアミド、マレート、フマレート、イタコネート、ビニルエーテル、アリルエーテル、アリルエステル及びビニルエステルより成る群から選ばれるラジカル重合可能な官能基を示し;
nは0又は1を示し;そして
R4は、場合により置換されていることができるアルキル基を示す]
を有する請求項1に従う重合可能光開始剤。 - R4がメチル基を示す請求項6に従う重合可能光開始剤。
- L2が置換アルキレン基、非置換アルキレン基及び脂肪族エーテル含有基より成る群から選ばれる請求項6又は7に従う重合可能光開始剤。
- ラジカル重合可能な基Aがアクリレート基である請求項1〜8のいずれか1つに従う重合可能光開始剤。
- 請求項1〜9のいずれか1つにより定義される式(I)又は(Ib)に従う重合可能光開始剤を含んでなる放射線硬化性組成物。
- 式(II)に従うモノマーが2−(2−ビニルオキシエトキシ)エチルアクリレートである請求項11に従う放射線硬化性組成物。
- 放射線硬化性組成物が放射線硬化性インキである請求項11又は12に従う放射線硬化性組成物。
- 放射線硬化性組成物が放射線硬化性インキジェット組成物である請求項11〜13のいずれか1つに従う放射線硬化性組成物。
- 実質的に有機溶媒を含まない請求項11〜14のいずれか1つに従う放射線硬化性組成物。
- a)請求項11又は15で定義された式(II)に従うモノマーを準備し;
b)少なくとも1個のヒドロキシル基を含んでなる1種もしくはそれより多い光開始剤を準備し;そして
c)触媒を用いて、請求項1〜9のいずれか1つにより定義される式(I)又は(Ib)に従う重合可能光開始剤へのモノマーと光開始剤の間の反応を触媒する
段階を含んでなる重合可能光開始剤の製造方法。 - 触媒がトリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、ピリジニウムトシレート、架橋ポリ(ビニルピリジン)ヒドロクロリド、ポリ(ビニルピリジニウム)トシレート及びスルホン酸置換イオン交換樹脂より成る群から選ばれる請求項16に従う方法。
- 有機溶媒の不在下で反応を行う請求項16〜17のいずれか1つに従う方法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014030515A1 (ja) * | 2012-08-22 | 2014-02-27 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、画像形成方法、及び印画物 |
JP2020504774A (ja) * | 2016-12-28 | 2020-02-13 | ヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェンHenkel AG & Co. KGaA | チオキサントン誘導体光開始剤 |
JP2020138990A (ja) * | 2019-02-26 | 2020-09-03 | 株式会社リコー | 活性エネルギー線重合性開始剤、活性エネルギー線重合性組成物、活性エネルギー線重合性インク、インク収容容器、画像形成方法および画像形成装置 |
JP2022513646A (ja) * | 2018-11-26 | 2022-02-09 | アグフア-ゲヴエルト,ナームローゼ・フエンノートシヤツプ | プリント基板の製造のための放射線硬化性インキジェットインキ |
Families Citing this family (55)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA2808881C (en) * | 2010-05-03 | 2019-03-05 | Dentsply International Inc. | Low stress flowable dental composition |
TWI403501B (zh) * | 2010-05-13 | 2013-08-01 | Double Bond Chemical Ind Co Ltd | 光敏感劑 |
JP5803258B2 (ja) * | 2010-09-30 | 2015-11-04 | セイコーエプソン株式会社 | 紫外線硬化型インクジェット用インク組成物、インクジェット記録方法 |
EP2447259B1 (en) | 2010-10-20 | 2016-03-16 | Agfa Graphics N.V. | Polymerisable photoinitiators for LED curable compositions |
EP2444429B1 (en) | 2010-10-20 | 2016-09-07 | Agfa Graphics N.V. | Led curable compositions |
US9056986B2 (en) | 2010-11-09 | 2015-06-16 | Seiko Epson Corporation | Ultraviolet curable type ink-jet ink composition, recording method and recording apparatus using same |
RU2584165C2 (ru) | 2010-11-12 | 2016-05-20 | Колопласт А/С | Новые полимерные фотоинициаторы |
WO2012084786A1 (en) | 2010-12-20 | 2012-06-28 | Agfa Graphics Nv | A curable jettable fluid for making a flexographic printing master |
US20130269558A1 (en) * | 2010-12-20 | 2013-10-17 | Agfa Graphics Nv | Curable jettable fluid for making a flexographic printing master |
JP5895392B2 (ja) * | 2011-01-24 | 2016-03-30 | セイコーエプソン株式会社 | 紫外線硬化型インクジェット用インク組成物 |
JP6120477B2 (ja) | 2011-03-29 | 2017-04-26 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 活性エネルギー線硬化型インクジェットインク組成物 |
CN102120783B (zh) * | 2011-04-26 | 2012-11-28 | 盐城工学院 | 含脂肪族叔胺基的硫杂蒽酮光引发剂及其制备方法 |
US9738800B2 (en) | 2011-04-28 | 2017-08-22 | Seiko Epson Corporation | Photocurable ink composition, recording method, recording apparatus, photocurable ink jet recording ink composition, and ink jet recording method |
EP3255110B1 (en) | 2011-07-08 | 2022-08-17 | Seiko Epson Corporation | Photocurable ink composition for ink jet recording and ink jet recording method |
US9670373B2 (en) * | 2011-08-24 | 2017-06-06 | Lambson Limited | Polymers comprising photoinitiator moieties and dye moieties |
WO2013103153A1 (ja) * | 2012-01-06 | 2013-07-11 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置、及び、その製造方法 |
EP2617783A1 (en) * | 2012-01-20 | 2013-07-24 | Cytec Surface Specialties, S.A. | Photo-reactive Binder |
EP2617705A1 (en) | 2012-01-20 | 2013-07-24 | Cytec Surface Specialties, S.A. | Amino Photo-Reactive Binder |
EP2644405B1 (en) | 2012-03-28 | 2015-06-17 | Seiko Epson Corporation | Ink jet recording method and ink jet recording apparatus |
JP6191120B2 (ja) | 2012-03-29 | 2017-09-06 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット記録方法、インクジェット記録装置 |
US10029483B2 (en) | 2012-04-25 | 2018-07-24 | Seiko Epson Corporation | Ink jet recording method, ultraviolet-ray curable ink, and ink jet recording apparatus |
JP6236768B2 (ja) | 2012-04-27 | 2017-11-29 | セイコーエプソン株式会社 | インクジェット記録方法、インクジェット記録装置 |
EP2850112B1 (en) | 2012-05-16 | 2018-11-21 | Coloplast A/S | Novel polymeric photoinitiators and photoinitiator monomers |
TWI501030B (zh) * | 2012-06-12 | 2015-09-21 | Cheil Ind Inc | 光可固化型組成物、包含該組成物之保護層及包含該組成物之封裝裝置 |
PL2684876T3 (pl) | 2012-07-10 | 2017-03-31 | Agfa Graphics N.V. | Polimeryzowalne tioksantony |
EP2703457B1 (en) | 2012-08-31 | 2018-03-07 | Agfa Nv | Low migration free radical radiation curable inkjet inks |
JP6065535B2 (ja) | 2012-11-15 | 2017-01-25 | セイコーエプソン株式会社 | 紫外線硬化型インクジェット記録用インク組成物、インク収容体、及びインクジェット記録装置 |
EP2796516B1 (en) | 2013-04-24 | 2018-06-13 | Agfa Nv | Maintenance liquid for inkjet printers |
WO2015010729A1 (en) | 2013-07-23 | 2015-01-29 | Allnex Belgium S.A. | Polymeric photoinitiators |
PL2848659T3 (pl) | 2013-09-16 | 2018-02-28 | Agfa Graphics Nv | Kompozycje utwardzalne radiacyjnie do opakowań żywności |
EP2868721B1 (en) | 2013-10-29 | 2018-01-17 | Agfa Nv | Radiation curable brown inkjet ink |
EP2868650B1 (en) * | 2013-10-30 | 2018-08-08 | Agfa Nv | Synthesis of acetal compounds using zwitterionic catalysts |
US10329440B2 (en) * | 2014-04-15 | 2019-06-25 | Agfa Nv | Aqueous resin based inkjet inks |
EP3148980B1 (en) | 2014-05-29 | 2020-12-09 | Sun Chemical Corporation | Water-based uv inkjet ink |
CA2959118A1 (en) | 2014-10-01 | 2016-04-07 | Halliburton Energy Services, Inc. | Polymerizable ionic liquids for use in subterranean formation operations |
JP2017003966A (ja) * | 2015-06-12 | 2017-01-05 | Jsr株式会社 | 感光性組成物、及びメッキ造形物の製造方法 |
EP3173249A1 (en) | 2015-11-30 | 2017-05-31 | Agfa-Gevaert | Laser markable compositions and methods to manufacture a packaging therewith |
PL3475370T3 (pl) | 2016-06-23 | 2021-04-06 | Agfa Nv | Fotoinicjatory polimeryzowalne |
EP3335689A1 (en) * | 2016-12-14 | 2018-06-20 | DENTSPLY DETREY GmbH | Dental composition |
EP3441115B1 (en) * | 2017-08-11 | 2020-05-27 | Procter & Gamble International Operations SA | Photosensitive microcapsules |
BR112020002377A2 (pt) * | 2017-08-17 | 2020-09-01 | Coloplast A/S | revestimento polimérico, métodos para sintetizar um revestimento polimérico e para revestir um cateter urinário, uso do revestimento polimérico, cateter urinário intermitente, e, kit. |
CN107629151B (zh) * | 2017-10-27 | 2020-06-23 | 天津久日新材料股份有限公司 | 一种可聚合自由基ⅱ型光引发剂及其制备方法 |
CN109836514B (zh) * | 2017-11-28 | 2021-10-22 | 北京鼎材科技有限公司 | 一种光阻用可聚合型光引发剂 |
CN110835307B (zh) * | 2018-08-16 | 2023-04-07 | 江苏百赛飞生物科技有限公司 | 可聚合光敏单体、基于其的光敏聚合物及生物材料表面改性方法 |
EP3686251B1 (en) | 2019-01-24 | 2021-11-17 | Agfa Nv | Radiation curable inkjet inks for interior decoration |
WO2020152037A1 (en) | 2019-01-24 | 2020-07-30 | Agfa Nv | Radiation curable inkjet inks for interior decoration |
CN113527143B (zh) * | 2020-04-20 | 2023-06-20 | 杭州光粒科技有限公司 | 书写单体及其制备方法以及光致聚合物组合物及其光栅 |
WO2022128258A1 (en) | 2020-12-16 | 2022-06-23 | Agfa Nv | Uv curable inkjet inks and inkjet printing methods |
CN112707863A (zh) * | 2020-12-25 | 2021-04-27 | 同济大学 | 丙烯酸酯取代的吡唑啉衍生物、光固化组合物以及制备方法 |
EP4050073A1 (en) | 2021-02-26 | 2022-08-31 | Agfa Nv | Ink set and inkjet printing methods |
EP4050072B1 (en) | 2021-02-26 | 2023-10-11 | Agfa Nv | Manufacturing methods of decorative surfaces |
CN117440994A (zh) | 2021-06-01 | 2024-01-23 | 爱克发有限公司 | 可uv led自由基固化喷墨油墨 |
EP4159820A1 (en) | 2021-10-04 | 2023-04-05 | Agfa Nv | Free radical curable inkjet inks |
EP4227373A1 (en) | 2022-02-10 | 2023-08-16 | Agfa Nv | Free radical curable inkjet inks and inkjet printing methods |
EP4339248A1 (en) | 2022-09-19 | 2024-03-20 | Agfa Nv | Pigmented free radical curable inkjet inks |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6281345A (ja) * | 1985-09-28 | 1987-04-14 | チバ―ガイギー アクチェンゲゼルシャフト | 共重合性光開始剤 |
JPH09504023A (ja) * | 1993-10-13 | 1997-04-22 | ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー | アクリルアミド官能性二置換アセチルアリールケトン光開始剤 |
JP2004512386A (ja) * | 1998-08-04 | 2004-04-22 | ビーエーエスエフ コーティングス アクチェンゲゼルシャフト | 水性粉体クリヤラッカー−分散液 |
JP2005512973A (ja) * | 2001-10-18 | 2005-05-12 | コーテス ブラザーズ パブリック リミティド カンパニー | 多官能チオキサントン光開始剤 |
Family Cites Families (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE611592A (ja) | 1960-12-16 | |||
CA1180486A (en) | 1980-02-05 | 1985-01-02 | Vratislav Kvita | Polymers having thioxanthone radicals as side chains |
DE3844444A1 (de) | 1988-12-31 | 1990-08-09 | Basf Ag | Strahlungsempfindliche, ethylenisch ungesaettigte, copolymerisierbare verbindungen und verfahren zu deren herstellung |
IL101993A (en) | 1991-10-23 | 1995-06-29 | Hughes Aircraft Co | Method for creating enhanced liquid crystal membranes with diffused polymer with initiating photo that can be copolymerized |
TW434456B (en) | 1994-12-30 | 2001-05-16 | Novartis Ag | A compound as functionalized photoinitiator, its production process, its corresponding oligomers or polymers and its application in coating a substrate |
GB9522683D0 (en) | 1995-11-06 | 1996-01-10 | Coates Brothers Plc | Photoinitiator |
US6310115B1 (en) | 1998-10-29 | 2001-10-30 | Agfa-Gevaert | Ink compositions for ink jet printing |
JP5602981B2 (ja) | 2000-12-18 | 2014-10-08 | 株式会社ダイセル | 高純度メタクリル酸誘導体の製造法 |
DE10206096A1 (de) | 2002-02-13 | 2003-08-14 | Basf Ag | Mono- und Bisacylphosphinderivate |
JP4010547B2 (ja) | 2003-01-27 | 2007-11-21 | 日本化薬株式会社 | 自己重合型光重合開始剤及びそれを用いた感光性樹脂組成物 |
WO2004103580A1 (en) | 2003-05-23 | 2004-12-02 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Strongly adherent surface coatings |
US7326716B2 (en) | 2003-06-06 | 2008-02-05 | Allergan, Inc. | Treatment of inflammatory bowel disease |
JP4547598B2 (ja) | 2003-09-08 | 2010-09-22 | Dic株式会社 | 調光層形成材料及び液晶デバイス |
US8301526B2 (en) * | 2004-02-06 | 2012-10-30 | The Prudential Insurance Company Of America | Method for maximizing retirement income using financial bridge products and deferred social security income |
EP1740621B1 (en) | 2004-04-21 | 2010-06-09 | Ashland Licensing and Intellectual Property LLC | Radiation-curable michael addition resins having built-in photoinitiators |
DE602004009780T2 (de) | 2004-07-15 | 2008-08-28 | Agfa Graphics N.V. | Neue strahlenhärtbare Zusammensetzungen |
US7687657B2 (en) | 2004-11-23 | 2010-03-30 | Ciba Speciality Chemicals Corporation | Process for preparing acylphosphanes and derivatives thereof |
EP1674499B1 (en) | 2004-12-21 | 2009-12-16 | Agfa Graphics N.V. | Radiation curable compositions |
US7745505B2 (en) | 2004-12-29 | 2010-06-29 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Photoinitiators and UV-crosslinkable acrylic polymers for pressure sensitive adhesives |
US7470820B2 (en) | 2005-07-19 | 2008-12-30 | Firmenich Sa | Substituted cyclohexanones |
EP1790697B1 (en) | 2005-11-28 | 2012-01-25 | Agfa Graphics N.V. | Non-aqueous pigment dispersions containing specific dispersion synergists |
DE602005012843D1 (de) | 2005-11-28 | 2009-04-02 | Agfa Graphics Nv | Nichtwässerige Chinakridondispersionen unter Verwendung von Dispersionssynergisten |
EP1790696B1 (en) | 2005-11-28 | 2013-04-10 | Agfa Graphics N.V. | Non-aqueous pigment dispersions containing specific dispersion synergists |
ATE464356T1 (de) | 2005-11-28 | 2010-04-15 | Agfa Graphics Nv | Nichtwässrige diketopyrrolo-pyrrol pigmentdispersionen unter verwendung von dispersionssynergisten |
PL1911814T5 (pl) | 2006-10-11 | 2023-12-11 | Agfa Nv | Sposoby sporządzania zestawów utwardzalnych pigmentowanych tuszów do druku atramentowego |
EP2065362A1 (en) | 2007-11-29 | 2009-06-03 | Agfa Graphics N.V. | Preparation method of copolymerizable photoinitiators |
ATE537195T1 (de) * | 2008-09-09 | 2011-12-15 | Agfa Graphics Nv | Strahlungshärtbare zusammensetzungen |
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2008
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6281345A (ja) * | 1985-09-28 | 1987-04-14 | チバ―ガイギー アクチェンゲゼルシャフト | 共重合性光開始剤 |
JPH09504023A (ja) * | 1993-10-13 | 1997-04-22 | ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー | アクリルアミド官能性二置換アセチルアリールケトン光開始剤 |
JP2004512386A (ja) * | 1998-08-04 | 2004-04-22 | ビーエーエスエフ コーティングス アクチェンゲゼルシャフト | 水性粉体クリヤラッカー−分散液 |
JP2005512973A (ja) * | 2001-10-18 | 2005-05-12 | コーテス ブラザーズ パブリック リミティド カンパニー | 多官能チオキサントン光開始剤 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014030515A1 (ja) * | 2012-08-22 | 2014-02-27 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、画像形成方法、及び印画物 |
JP2020504774A (ja) * | 2016-12-28 | 2020-02-13 | ヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェンHenkel AG & Co. KGaA | チオキサントン誘導体光開始剤 |
JP2022513646A (ja) * | 2018-11-26 | 2022-02-09 | アグフア-ゲヴエルト,ナームローゼ・フエンノートシヤツプ | プリント基板の製造のための放射線硬化性インキジェットインキ |
JP2020138990A (ja) * | 2019-02-26 | 2020-09-03 | 株式会社リコー | 活性エネルギー線重合性開始剤、活性エネルギー線重合性組成物、活性エネルギー線重合性インク、インク収容容器、画像形成方法および画像形成装置 |
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