JP2012256628A - Igbtおよびダイオード - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本願発明は、裏面側のP型コレクタ領域に接して設けられN−型ドリフト領域よりも高濃度のN型バッファ領域、および、このN型バッファ領域と前記N−型ドリフト領域の境界付近に設けられた欠陥残留領域を有するIGBTにおいて、この欠陥残留領域よりも表面側の前記N−型ドリフト領域には、これよりも高濃度のN型フィールドストップ領域が設けられている。
【選択図】図8
Description
先ず、本願において開示される発明の代表的な実施の形態について概要を説明する。
(a)第1の主面、第2の主面を有する半導体基板;
(b)前記半導体基板の主要部を占有する第1導電型のドリフト領域;
(c)前記ドリフト領域の前記第1の主面側表面領域に設けられた前記第1導電型と反対導電型の第2導電型のチャネル領域;
(d)前記チャネル領域の前記第1の主面側表面領域に設けられた前記第1導電型のエミッタ領域;
(e)前記ドリフト領域の前記第2の主面側表面領域に設けられた前記第2導電型のコレクタ領域;
(f)前記コレクタ領域に接するように、その内側の前記ドリフト領域に設けられ、これよりも濃度が高い前記第1導電型のバッファ領域;
(g)前記バッファ領域に沿って、その境界近傍から前記ドリフト領域の近接する部分に設けられた結晶欠陥領域;
(h)前記結晶欠陥領域に沿って、これよりも前記第1の主面側の前記ドリフト領域内に設けられ、これよりも濃度が高い前記第1導電型のフィールドストップ領域。
(i)前記半導体基板の前記第2の主面上に設けられたメタルコレクタ電極;
(j)前記コレクタ領域の前記メタルコレクタ電極側に設けられ、前記コレクタ領域と同一導電型を有し、不純物濃度がより高い高濃度コレクタコンタクト領域、
ここで、前記高濃度コレクタコンタクト領域は、アルミニウムがドープされた領域である。
(a)第1の主面、第2の主面を有する半導体基板;
(b)前記半導体基板の主要部を占有する第1導電型のドリフト領域;
(c)前記半導体基板の前記第1の主面上に設けられたアノードメタル電極;
(d)前記ドリフト領域の前記第2の主面側表面領域に設けられ、これよりも濃度が高い前記第1導電型のカソード領域;
(e)前記カソード領域に沿って、その境界近傍から前記ドリフト領域の近接する部分に設けられた結晶欠陥領域;
(f)前記結晶欠陥領域に沿って、これよりも前記第1の主面側の前記ドリフト領域内に設けられ、これよりも濃度が高い前記第1導電型のフィールドストップ領域。
1.本願において、実施の態様の記載は、必要に応じて、便宜上複数のセクションに分けて記載する場合もあるが、特にそうでない旨明示した場合を除き、これらは相互に独立別個のものではなく、単一の例の各部分、一方が他方の一部詳細または一部または全部の変形例等である。また、原則として、同様の部分は繰り返しを省略する。また、実施の態様における各構成要素は、特にそうでない旨明示した場合、理論的にその数に限定される場合および文脈から明らかにそうでない場合を除き、必須のものではない。
実施の形態について更に詳述する。各図中において、同一または同様の部分は同一または類似の記号または参照番号で示し、説明は原則として繰り返さない。
以下では、モータドライブ回路を応用例として具体的に説明するが、本願の各実施の形態の半導体装置(IGBT、ダイオード)等の応用分野は、これに限定されないことはいうまでもない。
このセクションでは、具体的な例を示して、先の定義等を補足するとともに、本願の代表的具体例を抜き出して、その概要を説明するとともに、全体の予備的な説明を行う。
まず、本セクションにおける説明の主な対象であるIE型トレンチゲートIGBTのデバイスチップ2の内部領域(終端構造の最外部であるガードリング等の内側の部分、すなわち、チップ2の主要部)の上面図を図3に示す。図3に示すように、チップ2(半導体基板)の内部領域の主要部は、セル領域10によって占有されている。セル領域10には、外周部には、これを取り巻くように、環状を呈し、P型のセル周辺接合領域35が設けられている。このセル周辺接合領域35の外側には、間隔を置いて、単数又は複数の環状を呈し、P型のフローティングフィールドリング36(すなわちフィールドリミッティングリング)が設けられており、セル周辺接合領域35、ガードリング4(図6参照)等とともに、セル領域10に対する終端構造を構成している。
次に、図3のセル領域端部切り出し領域R1のA−A’断面を図4に示す。図4に示すように、チップ2の裏面1b(半導体基板の裏側主面または第2の主面)の半導体領域(この例では、シリコン単結晶領域)には、P+型コレクタ領域18が設けられており、その表面にはメタルコレクタ電極17が設けられている。半導体基板2の主要部を構成するN−型ドリフト領域20(第1導電型のドリフト領域)とP+型コレクタ領域18(第2導電型のコレクタ領域)との間には、N−型ドリフト領域20よりも高濃度のN型バッファ領域19(第1導電型のバッファ領域)が設けられている。すなわち、N型バッファ領域19は、P+型コレクタ領域18に接するように、その内側のN−型ドリフト領域20に設けられている。また、このN型バッファ領域19に沿って、その境界(N型バッファ領域19とN−型ドリフト領域20の境界)近傍からN−型ドリフト領域20の近接する部分に、結晶欠陥領域41が設けられており、更に、この結晶欠陥領域41に沿うように、これよりも第1の主面側のN−型ドリフト領域20に、N−型ドリフト領域20よりも高濃度のN型フィールドストップ領域42が設けられている。
図3の線状単位セル領域主要部およびその周辺切り出し領域R5の詳細平面構造の一例を図5に示す。図5に示すように、線状アクティブセル領域40aの長さ方向の全域にN+型エミッタ領域12が設けられている。すなわち、線状アクティブセル領域40aの長さ方向の全域が、アクティブセクション40aaとなっている。ここで、アクティブセクション40aaとは、N+型エミッタ領域12が設けられている線状アクティブセル領域40aの長さ方向の区画をいう。
このセクションでは、セクション1および2の説明を踏まえて、前記一実施の形態に対応する具体的チップ上面レイアウトおよび単位セル構造の一例(セクション2の図3から図5に対応するアクティブセル1次元間引き構造を例に取る)を説明する。このセクションで説明するセル構造は、交互配列方式の狭アクティブセル型単位セルである。
このセクションでは、セクション3で説明したデバイス構造に対する製造方法の一例を示す。以下では、セル領域10を中心に説明するが、周辺部等については、必要に応じて図3から図5等を参照する。
このセクションでは、セクション4に続き、本願の前記一実施の形態のIGBTに関する裏面デバイス形成プロセス等について説明する。
セクション2から5の説明では、主にIE型トレンチゲートIGBTを例にとり、具体的に説明したが、本願の各実施の形態は、その他の単位セル構造、たとえば、フルアクティブ型トレンチゲートIGBTの単位セル構造にも適用できることは言うまでもない。従って、このセクションでは、フルアクティブ型トレンチゲートIGBTの単位セル構造を説明する。
このセクションの例は、このセクション以外の他の全ての例に適用できる。また、そのほかの一般的な表面側構造を有するIGBT等にも適用できることは言うまでもない。
セクション4および5では、エピタキシプロセスを使用しない非エピタキシプロセスを説明したが、本願に説明する各種デバイスは、エピタキシプロセスを使用する各種のエピタキシプロセスによっても製造することができる。このセクションでは、セクション4および5に対応するエピタキシプロセスの一例を説明する。
セクション2から8に於いては、本願発明の基本的考え方をIGBTに適用した場合を主に説明したが、本セクション9からセクション13までにおいては、それをダイオードに適用した場合を主に説明する。
このセクションでは、IGBTの製造方法に関してセクション4および5で説明したものに対応するダイオード製造プロセス(非エピタキシプロセス)を説明する。
このセクションでは、セクション9で説明したダイオード構造に対する変形例1を説明する。製法に関しては、セクション10で説明したところと本質的な違いはないので、ここでは原則として説明を繰り返さない。
このセクションでは、セクション9で説明したダイオード構造に対する変形例2を説明する。製法に関しては、セクション10で説明したところと本質的な違いはないので、ここでは原則として説明を繰り返さない。
このセクションでは、IGBTに対する製造プロセス(セクション8)を参照しながら、ダイオードに対するエピタキシプロセスを説明する。
このセクションでは、本願の全般に関する考察並びに本願の各実施の形態(変形例を含む)等に対する補足的説明を行う。なお、ここでは、主にIGBTを例に取り具体的に説明するが、ここで述べることは、ほぼそのままダイオードについても当てはまる。
以上本発明者によってなされた発明を実施形態に基づいて具体的に説明したが、本発明はそれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能であることは言うまでもない。
1a ウエハ又はチップの表面(第1の主面)
1b ウエハ又はチップの裏面(第2の主面)
1e N−型シリコンエピタキシャル領域
1s N−型単結晶シリコン基板
2 半導体チップ(半導体基板)
3 ガードリング
4 フィールドプレート
5 メタルゲート電極
6 ゲートパッド
7 メタルゲート配線
8 メタルエミッタ電極
9 メタルエミッタパッド
10 セル領域(ダイオードの主PN接合領域)
11 コンタクト溝(またはコンタクトホール)
12 N+型エミッタ領域
14 トレンチゲート電極
15 P型ボディ領域(P型チャネル領域)
16 P型フローティング領域
17 メタルコレクタ電極(またはメタルカソード電極)
17a アルミニウム裏面メタル膜
17b チタン裏面メタル膜
17c ニッケル裏面メタル膜
17d 金裏面メタル膜
18 P+型コレクタ領域
19 N型バッファ領域
20 N−型ドリフト領域
21 トレンチ
22 ゲート絶縁膜
23 P+型ラッチアップ防止領域
24 N型ホールバリア領域
25 P+型ボディコンタクト領域
25d ダミーセルのP+型ボディコンタクト領域
25p セル周辺接合領域のP+型ボディコンタクト領域
25r フローティングフィールドリングのP+型ボディコンタクト領域
26 層間絶縁膜
27 ポリシリコン膜
28 コンタクト溝形成用レジスト膜
30 アルミニウムドープ領域(高濃度コレクタコンタクト領域または高濃度裏面コンタクト領域)
31 N型ホールバリア領域導入用レジスト膜
32 トレンチ形成用ハードマスク膜
33 トレンチハードマスク膜加工用レジスト膜
34 ダミーセル領域(線状ダミーセル領域)
35 セル周辺接合領域
36 フローティングフィールドリング(フィールドリミッティングリング)
38 イオン注入用の薄い酸化シリコン膜
40 線状単位セル領域
40a 線状アクティブセル領域
40aa アクティブセクション
40i 線状インアクティブセル領域
41 結晶欠陥領域
42 N型フィールドストップ領域
43 バックグラインド位置
44 アノードメタル電極
45 アノード開口
46 P型アノード領域
47 N型カソード領域
48 P−型表面領域
A アノード端子
C コレクタ端子
D,Da,Db,Dc,Dd,De,Df フライバックダイオード
E エミッタ端子
G ゲート端子
K カソード端子
M モータ
Pa,Pb,Pc,Pd,Pe,Pf IGBTおよびダイオードペア
Q,Qa,Qb,Qc,Qd,Qe,Qf IGBT
R1 セル領域端部切り出し領域
R3 セル領域内部切り出し領域
R5 線状単位セル領域主要部およびその周辺切り出し領域
Vs 直流電源
Wa 線状アクティブセル領域の幅
Wi 線状インアクティブセル領域の幅
Claims (12)
- 以下を含むIGBT:
(a)第1の主面、第2の主面を有する半導体基板;
(b)前記半導体基板の主要部を占有する第1導電型のドリフト領域;
(c)前記ドリフト領域の前記第1の主面側表面領域に設けられた前記第1導電型と反対導電型の第2導電型のチャネル領域;
(d)前記チャネル領域の前記第1の主面側表面領域に設けられた前記第1導電型のエミッタ領域;
(e)前記ドリフト領域の前記第2の主面側表面領域に設けられた前記第2導電型のコレクタ領域;
(f)前記コレクタ領域に接するように、その内側の前記ドリフト領域に設けられ、これよりも濃度が高い前記第1導電型のバッファ領域;
(g)前記バッファ領域に沿って、その境界近傍から前記ドリフト領域の近接する部分に設けられた結晶欠陥領域;
(h)前記結晶欠陥領域に沿って、これよりも前記第1の主面側の前記ドリフト領域内に設けられ、これよりも濃度が高い前記第1導電型のフィールドストップ領域。 - 前記1項のIGBTにおいて、前記半導体基板は、単結晶シリコン基板である。
- 前記2項のIGBTにおいて、単結晶シリコン基板は、FZ法によるものである。
- 前記3項のIGBTにおいて、前記フィールドストップ領域は、水素イオン又はヘリウムイオン注入によって形成されたものである。
- 前記2項のIGBTにおいて、前記IGBTは、トレンチゲート型である。
- 前記5項のIGBTにおいて、前記IGBTは、IE型トレンチゲートIGBTである。
- 前記2項のIGBTにおいて、更に以下を含む:
(i)前記半導体基板の前記第2の主面上に設けられたメタルコレクタ電極;
(j)前記コレクタ領域の前記メタルコレクタ電極側に設けられ、前記コレクタ領域と同一導電型を有し、不純物濃度がより高い高濃度コレクタコンタクト領域、
ここで、前記高濃度コレクタコンタクト領域は、アルミニウムがドープされた領域である。 - 前記7項のIGBTにおいて、前記メタルコレクタ電極の内、前記高濃度コレクタコンタクト領域に接する部分は、アルミニウムを主要な成分とするメタル膜である。
- 以下を含むダイオード:
(a)第1の主面、第2の主面を有する半導体基板;
(b)前記半導体基板の主要部を占有する第1導電型のドリフト領域;
(c)前記半導体基板の前記第1の主面上に設けられたアノードメタル電極;
(d)前記ドリフト領域の前記第2の主面側表面領域に設けられ、これよりも濃度が高い前記第1導電型のカソード領域;
(e)前記カソード領域に沿って、その境界近傍から前記ドリフト領域の近接する部分に設けられた結晶欠陥領域;
(f)前記結晶欠陥領域に沿って、これよりも前記第1の主面側の前記ドリフト領域内に設けられ、これよりも濃度が高い前記第1導電型のフィールドストップ領域。 - 前記9項のダイオードにおいて、前記半導体基板は、単結晶シリコン基板である。
- 前記10項のダイオードにおいて、単結晶シリコン基板は、FZ法によるものである。
- 前記11項のダイオードにおいて、前記フィールドストップ領域は、水素イオン又はヘリウムイオン注入によって形成されたものである。
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