JP2012129557A - 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 液浸装置132は、投影光学系PLの光射出側に配置される物体(部材)表面の撥液膜上に供給される液体にその液体の比抵抗を調整する所定の物質を混入して溶解させる混入機構を有し、その所定の物質を溶解させた液体Lqを撥液膜上に供給して液浸領域を形成する。
【選択図】図1
Description
Claims (29)
- 液体を介して物体を露光する露光方法であって、
液体にその液体の比抵抗を調整する所定の物質を溶解させ、その所定の物質を溶解させた液体を前記物体上に形成された膜上に供給して液浸領域を形成する工程と、
前記液体を介して露光光を前記物体上に照射して露光し、所定のパターンを形成する工程と、
を含む露光方法。 - 請求項1に記載の露光方法において、
前記物体上の膜は、前記パターンを形成するための感応材で形成されていることを特徴とする露光方法。 - 請求項2に記載の露光方法において、
前記物体上の膜は、前記液浸領域を形成する液体に対して撥液性であることを特徴とする露光方法。 - 請求項1に記載の露光方法において、
前記物体上の膜は、前記パターンを形成するための感応材を覆うように形成されていることを特徴とする露光方法。 - 請求項4に記載の露光方法において、
前記物体上の膜は、前記液浸領域を形成する液体に対して撥液性であることを特徴とする露光方法。 - 請求項1に記載の露光方法において、
前記液体の比抵抗を調整することによって、前記液体の帯電に起因する前記物体上の膜の劣化を防止することを特徴とする露光方法。 - 請求項1に記載の露光方法において、
前記所定の物質は、二酸化炭素を含むことを特徴とする露光方法。 - 請求項1〜7のいずれか一項に記載の露光方法を用いて物体を露光することによって、前記物体上にデバイスパターンを形成するリソグラフィ工程を含むデバイス製造方法。
- 光学部材及び液体を介して物体に露光ビームを照射して、前記物体を露光することによって、該物体上に所定のパターンを形成する露光装置であって、
前記光学部材の光射出側に配置される部材表面の撥液膜と、該撥液膜上の液体とを介して、露光ビームと同一波長の光を受光するセンサと、
前記撥液膜上に供給される液体にその液体の比抵抗を調整する所定の物質を混入して溶解させる混入機構を有し、その所定の物質を溶解させた前記液体を前記撥液膜上に供給して液浸領域を形成する液浸装置と、を備える露光装置。 - 請求項9に記載の露光装置において、
前記物体が載置される物体ステージを更に備え、
前記部材が、前記物体ステージ上に設けられていることを特徴とする露光装置。 - 請求項9に記載の露光装置において、
前記物体が載置される物体ステージと、
前記部材が設けられた、前記物体ステージとは異なる計測ステージと、を更に備える露光装置。 - 請求項10に記載の露光装置において、
前記物体ステージ上の物体及び前記物体ステージ上の前記液体に接する部材の少なくとも1つが接地されていることを特徴とする露光装置。 - 請求項10に記載の露光装置において、
前記物体に接する前記物体ステージの一部が導電性材料で形成されていることを特徴とする露光装置。 - 請求項9に記載の露光装置において、
前記液体の比抵抗を調整することによって、前記液体の帯電に起因する前記撥液膜の劣化を防止することを特徴とする露光装置。 - 請求項9に記載の露光装置において、
前記所定の物質の溶解に起因する前記液体の屈折率変動を考慮して光学系の少なくとも一部を調整する調整装置を更に備える露光装置。 - 請求項9に記載の露光装置において、
前記所定の物質の溶解に起因する前記液体の前記露光ビームと同一波長の光に対する透過率変動を考慮して前記物体に対するドーズ制御を行う制御装置を更に備える露光装置。 - 請求項9に記載の露光装置において、
前記所定の物質は、二酸化炭素を含むことを特徴とする露光装置。 - 液体を介して物体に露光ビームを照射して前記物体を露光することによって、該物体上に所定のパターンを形成する露光装置であって、
前記物体が載置される物体ステージと、
前記物体ステージ上に載置された前記物体上に形成された所定の膜上に供給される液体にその液体の比抵抗を調整する所定の物質を混入して溶解させる混入機構を有し、その所定の物質を溶解させた前記液体を前記膜上に供給して液浸領域を形成する液浸装置と、を備える露光装置。 - 請求項18に記載の露光装置において、
前記液浸装置は、前記液体を前記膜上に供給する供給部材と、該供給部材に送られる液体の温度調整及び流量制御の少なくとも一方を行う液体調整機構とを更に有し、
前記混入機構は、前記液体調整機構と前記供給部材との間及び前記液体調整機構の上流側の一方で前記液体中に所定の物質を混入して溶解させることを特徴とする露光装置。 - 請求項19に記載の露光装置において、
前記物体及び前記供給部材の少なくとも1つが接地されていることを特徴とする露光装置。 - 請求項18に記載の露光装置において、
前記物体に接する前記物体ステージの一部が導電性材料で形成されていることを特徴とする露光装置。 - 請求項18に記載の露光装置において、
前記液体の比抵抗を調整することによって、前記液体の帯電に起因する前記物体上の膜の劣化を防止することを特徴とする露光装置。 - 請求項18に記載の露光装置において、
前記所定の物質の溶解に起因する前記液体の屈折率変動を考慮して光学系の少なくとも一部を調整する調整装置を更に備える露光装置。 - 請求項18に記載の露光装置において、
前記所定の物質の溶解に起因する前記液体の前記露光ビームと同一波長の光に対する透過率変動を考慮して前記物体に対するドーズ制御を行う制御装置を更に備える露光装置。 - 請求項18に記載の露光装置において、
前記所定の物質は、二酸化炭素を含むことを特徴とする露光装置。 - 請求項9〜25のいずれか一項に記載の露光装置を用いて物体上にデバイスパターンを形成するリソグラフィ工程を含むデバイス製造方法。
- 基板処理装置に接続された露光装置内で、液体を介して物体を露光し、物体上にデバイスパターンを形成するリソグラフィ工程を含むデバイス製造方法であって、
前記露光装置内に搬入される前の物体を導電性の液体でソークして、前記物体に帯電した電荷を除去することを特徴とするデバイス製造方法。 - 請求項27に記載のデバイス製造方法において、
前記導電性の液体による前記物体のソークは、前記基板処理装置内で行われることを特徴とするデバイス製造方法。 - 請求項27又は28に記載のデバイス製造方法において、
前記基板処理装置内で前記物体にレジスト膜が形成されることを特徴とするデバイス製造方法。
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