JP2012070002A5 - - Google Patents

Description

本発明はこのような問題を解決するためになされたものであり、その目的は、レジストが塗布され、露光された後の基板を現像するにあたり、安定して基板に現像液を供給するために、速やかに現像液を吐出するノズルの切り替えを行うことができる現像方法、現像装置及び記憶媒体を提供することにある。

本発明の現像方法によれば、レジストが塗布され、露光された後の基板を基板保持部に水平に保持する工程と、
前記基板保持部を介して前記基板を鉛直軸の周りに回転させながら、第１の現像液ノズルに設けられる第１の吐出口から現像液を帯状にかつその帯状領域の一端側が基板の中央に向くように基板の表面の周縁部に供給する工程と、
続いて前記現像液の帯状領域の一端側が基板の中央に向いた状態で、前記現像液の供給位置を基板の表面における周縁部から中央部に向けて移動させることにより、基板の表面に現像液の液膜を形成する工程と、
第１の現像液ノズルからの現像液の吐出を停止する工程と、
第２の現像液ノズルに設けられる第２の吐出口の前記基板への投影領域が前記第１の吐出口の前記基板への投影領域に重なった状態で、前記現像液の液膜の乾燥を防止するために前記第２の吐出口から基板の中央部へ現像液の供給を行う工程と、
前記基板保持部を介して基板を鉛直軸の周りに回転させて、前記第２の吐出口から前記基板の中央部に供給された現像液を遠心力により基板の周縁部に展伸させる工程と、を含むことを特徴とする。

本発明の現像装置は、レジストが塗布され、露光された後の基板を基板保持部に水平に保持する基板保持部と、
前記基板を保持した前記基板保持部を鉛直軸の周りに回転させる回転駆動機構と、
第１の吐出口が設けられ、現像液の液膜を形成するために前記第１の吐出口から現像液を基板の表面に帯状にかつその帯状領域の一端側が基板の中央に向くように供給する第１の現像液ノズルと、
前記現像液の帯状領域の一端側が基板の中央に向いた状態で、第１の現像液ノズルを移動させ、現像液の供給位置を基板の表面における周縁部から中央部に向けて移動させる駆動機構と、
第２の吐出口が設けられ、前記第１の吐出口の前記基板への投影領域に、前記第２の吐出口の基板への投影領域が重なった状態で、前記現像液の液膜の乾燥を防止するために当該第２の吐出口から基板の中央部に現像液を吐出する第２の現像液ノズルと、
を備えることを特徴とする。

例えば洗浄液供給ノズルに設けられる第３の吐出口の前記基板への投影領域が、前記第２の吐出口の当該基板への投影領域に重なった状態で、前記洗浄液供給ノズルから基板の中央部に洗浄液を供給してもよく、また例えば第２の現像液ノズルは、前記基板の中央部に円形状または第１の現像液ノズルから供給される現像液よりも長さが短い帯状に現像液を供給する。また、例えば前記第１の吐出口の基板への投影領域と、前記第２の吐出口の基板への投影領域とが互いに重なって当該基板の周縁部側から中央部へ移動するように、第１の現像液ノズル及び第２の現像液ノズルが移動する。

本発明の記憶媒体は、レジストが塗布され、露光された後の基板に対する現像を行う現像装置に用いられるコンピュータプログラムが記憶された記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、上記の現像方法を実施するためのものである。

本発明によれば、基板に現像液の液膜を形成する工程を、基板表面に現像液を帯状にかつその帯状領域の一端側が基板の中央に向くように供給する第１の現像液ノズルを用いて行い、現像液の液膜の乾燥を防止するために現像液を供給する工程を第２の現像液ノズルを用いて行い、各現像液ノズルの吐出口の基板への投影領域が互いに重なった状態で、第２の現像液ノズルからの現像液の吐出を開始する。このように処理に応じて現像液ノズルを使い分けることにより、例えば第１の現像液ノズルのみを用いて、そのノズルからの吐出量を変化させて基板に現像液を供給する場合に比べて、その基板への現像液の供給が不安定になることが抑えられる。また各ノズルごとにその吐出される現像液の形状に合わせて、基板への現像液の供給量を調整することができるので、基板へ供給する現像液の省液化を図ることができる。そして、上記のようにノズルを配置して現像液の供給の切り替えを行うことで、当該切り替えを速やかに行い、現像液膜の乾燥を抑えることができる。

Claims (9)

1. レジストが塗布され、露光された後の基板を基板保持部に水平に保持する工程と、
   前記基板保持部を介して前記基板を鉛直軸の周りに回転させながら、第１の現像液ノズルに設けられる第１の吐出口から現像液を帯状にかつその帯状領域の一端側が基板の中央に向くように基板の表面の周縁部に供給する工程と、
   続いて前記現像液の帯状領域の一端側が基板の中央に向いた状態で、前記現像液の供給位置を基板の表面における周縁部から中央部に向けて移動させることにより、基板の表面に現像液の液膜を形成する工程と、
   第１の現像液ノズルからの現像液の吐出を停止する工程と、
   第２の現像液ノズルに設けられる第２の吐出口の前記基板への投影領域が前記第１の吐出口の前記基板への投影領域に重なった状態で、前記現像液の液膜の乾燥を防止するために前記第２の吐出口から基板の中央部へ現像液の供給を行う工程と、
   前記基板保持部を介して基板を鉛直軸の周りに回転させて、前記第２の吐出口から前記基板の中央部に供給された現像液を遠心力により基板の周縁部に展伸させる工程と、を含むことを特徴とする現像方法。
2. 洗浄液供給ノズルに設けられる第３の吐出口の前記基板への投影領域が、前記第２の吐出口の当該基板への投影領域に重なった状態で、前記洗浄液供給ノズルから基板の中央部に洗浄液を供給する工程を含むことを特徴とする請求項１記載の現像方法。
3. 第２の現像液ノズルは、前記基板の中央部に円形状または第１の現像液ノズルから供給される現像液よりも長さが短い帯状に現像液を供給することを特徴とする請求項１または２記載の現像方法。
4. 前記液膜を形成する工程は、
   前記第１の吐出口の基板への投影領域と、前記第２の吐出口の基板への投影領域とが互いに重なって当該基板の周縁部側から中央部側へ移動するように、第１の現像液ノズル及び第２の現像液ノズルを移動させる工程を含むことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一つに記載の現像方法。
5. レジストが塗布され、露光された後の基板を基板保持部に水平に保持する基板保持部と、
   前記基板を保持した前記基板保持部を鉛直軸の周りに回転させる回転駆動機構と、
   第１の吐出口が設けられ、現像液の液膜を形成するために前記第１の吐出口から現像液を基板の表面に帯状にかつその帯状領域の一端側が基板の中央に向くように供給する第１の現像液ノズルと、
   前記現像液の帯状領域の一端側が基板の中央に向いた状態で、第１の現像液ノズルを移動させ、現像液の供給位置を基板の表面における周縁部から中央部に向けて移動させる駆動機構と、
   第２の吐出口が設けられ、前記第１の吐出口の前記基板への投影領域に、前記第２の吐出口の基板への投影領域が重なった状態で、前記現像液の液膜の乾燥を防止するために当該第２の吐出口から基板の中央部に現像液を吐出する第２の現像液ノズルと、
   を備えることを特徴とする現像装置。
6. 第３の吐出口が設けられ、前記第２の吐出口の前記基板への投影領域に、前記第３の吐出口の基板の投影領域が重なった状態で、当該第３の吐出口から基板の中央部に現像液を吐出する洗浄液ノズルを備えることを特徴とする請求項５記載の現像装置。
7. 第２の現像液ノズルは、前記基板の中央部に円形状または第１の現像液ノズルから供給される現像液よりも長さが短い帯状に現像液を供給することを特徴とする請求項５または６記載の現像装置。
8. 前記駆動機構は、前記第１の吐出口の基板への投影領域と、前記第２の吐出口の基板への投影領域とが互いに重なって当該基板の周縁部側から中央部側へ移動するように、第１の現像液ノズル及び第２の現像液ノズルを移動させることを特徴とする請求項５ないし７のいずれか一つに記載の現像装置。
9. レジストが塗布され、露光された後の基板に対する現像を行う現像装置に用いられるコンピュータプログラムが記憶された記憶媒体であって、
   前記コンピュータプログラムは、請求項１ないし４のいずれか一に記載の現像方法を実施するためのものであることを特徴とする記憶媒体。