JP2009231617A - 現像装置および現像方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】現像液ノズル21が基板Wの中心部の上方に位置する状態で現像液の吐出を開始する。そして、現像液ノズル21が現像液を吐出しつつ基板Wの中心部の上方から周縁部の上方まで移動する。これにより、基板W上の全体に十分に現像液が供給される。続いて、基板Wの回転速度が下降するとともに、現像液ノズル21が現像液を吐出しつつ基板Wの周縁部の上方から中心部の上方まで移動する。この場合、基板Wの外方に振り切られる現像液の量が減少し、供給された現像液が基板W上で保持される。それにより、基板W上に現像液の液層が形成される。
【選択図】図6
Description
図1は、現像装置の構成を示す平面図であり、図2は図1の現像装置のQ−Q線断面図である。
次に、現像装置100の動作について説明する。図5は、基板Wの現像処理時における基板Wの回転速度、現像液の流量およびリンス液の流量の変化を示すタイミング図である。本実施の形態では、現像処理の工程が、液層形成工程、現像工程および洗浄工程に分けられる。なお、以下に説明する現像処理は、基板W上に形成されたレジスト膜に露光処理が施された後に行われる。
次に、図5および図6を参照しながら液層形成工程における現像装置100の動作の詳細について説明する。図6は、液層形成工程における現像装置100の動作について説明するための模式的平面図および側面図である。
次に、液層形成工程における現像装置100の他の動作例について説明する。図8は、本例の液層形成工程における基板Wの回転速度、現像液の流量およびリンス液の流量の変化を示すタイミング図である。
上記の例では、現像処理工程において基板Wの回転を停止しているが、これに限らず、現像処理工程において基板の回転を維持してもよい。その場合、基板Wの回転速度が例えば200rpm以下に調整される。また、その場合、回転する基板Wに継続的に現像液を供給してもよい。
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
11 モータ
16 ガイドレール
17 アーム駆動部
18 ノズルアーム
19 リンス液吐出ノズル
21 現像液ノズル
22 現像液吐出口
100 現像装置
W 基板
Claims (6)
- 基板を略水平に保持しつつその基板に垂直な軸の周りで回転させる回転保持手段と、
基板が前記回転保持手段により回転する状態で、基板の中心部から周縁部に連続的に現像液を供給した後に基板の周縁部から中心部に連続的に現像液を供給する現像液供給手段とを備えることを特徴とする現像装置。 - 前記現像液供給手段は、基板の外周端部より外側に現像液を供給しないことを特徴とする請求項1記載の現像装置。
- 前記現像液供給手段は、基板が第1の回転速度で回転する状態で基板の中心部から周縁部に連続的に現像液を供給し、基板が第1の回転速度より低い第2の回転速度で回転する状態で基板の周縁部から中心部に連続的に現像液を供給することを特徴とする請求項1または2記載の現像装置。
- 前記回転保持手段は、基板の回転速度を前記第2の回転速度から段階的に下降させることを特徴とする請求項3記載の現像装置。
- 前記現像液供給手段は、基板が前記第1の回転速度より低い第3の回転速度で回転する状態で基板の中心部に継続的に現像液を供給し、基板の回転速度が前記第3の回転速度から前記第1の回転速度に上昇した後に基板の中心部から周縁部に連続的に現像液を供給することを特徴とする請求項3または4記載の現像装置。
- 基板を略水平に保持しつつその基板に垂直な軸の周りで回転させる工程と、
回転する基板の中心部から周縁部に連続的に現像液を供給した後に基板の周縁部から中心部に連続的に現像液を供給する工程とを備えることを特徴とする現像方法。
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