JP2009231619A - 現像装置および現像方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】まず、基板Wの回転速度が低い状態で、基板Wの中心部にリンス液が供給される。この場合、リンス液が表面張力によってほぼ一定の領域内で保持される。基板Wの回転速度が上昇すると、基板W上に保持されているリンス液に遠心力が働き、リンス液が基板Wの周縁部に向けて拡がろうとする。そのとき、基板Wの中心部に現像液が供給される。この場合、現像液がリンス液とともに基板W上の全体に瞬間的に拡がる。
【選択図】図6
Description
図1は、現像装置の構成を示す平面図であり、図2は図1の現像装置のQ−Q線断面図である。
次に、現像装置100の動作について説明する。図5は、基板Wの現像処理時における基板Wの回転速度、現像液の流量およびリンス液の流量の変化を示すタイミング図である。本実施の形態では、現像処理の工程が、液層形成工程、現像工程および洗浄工程に分けられる。なお、以下に説明する現像処理は、基板W上に形成されたレジスト膜に露光処理が施された後に行われる。
次に、図5〜図7を参照しながら液層形成工程における現像装置100の動作の詳細について説明する。図6および図7は、液層形成工程における基板W上の状態について説明するための模式的平面図および側面図である。
上記の例では、時点t3〜t7の期間において、現像液ノズル21が基板Wの中心部の上方に位置する状態で継続して現像液を吐出するが、現像液ノズル21が基板Wの上方を移動ししつつ基板Wに現像液を吐出してもよい。
上記の例では、現像処理工程において基板Wの回転を停止しているが、これに限らず、現像処理工程において基板の回転を維持してもよい。その場合、基板Wの回転速度が例えば200rpm以下に調整される。また、その場合、回転する基板Wに継続的に現像液を供給してもよい。
上記実施の形態では、リンス液吐出ノズル19がスピンチャック10の外方に独立して設けられるが、リンス液吐出ノズル19が現像液ノズル21と一体的に設けられてもよい。図10は、リンス液吐出ノズルの他の例を示す外観斜視図である。
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
11 モータ
16 ガイドレール
17 アーム駆動部
18 ノズルアーム
19 リンス液吐出ノズル
21 現像液ノズル
22 現像液吐出口
100 現像装置
W 基板
Claims (5)
- 基板を略水平に保持しつつその基板に垂直な軸の周りで回転させる回転保持手段と、
前記回転保持手段により回転する基板にリンス液を供給するリンス液供給手段と、
前記回転保持手段により回転する基板に現像液を供給する現像液供給手段とを備え、
前記リンス液供給手段は、第1の期間に基板の中心部にリンス液を供給し、
前記回転保持手段は、前記リンス液供給手段により供給されたリンス液が基板上で保持されるように前記第1の期間に基板を第1の回転速度で回転させ、前記第1の期間の後に基板の回転速度を前記第1の回転速度よりも高い第2の回転速度に上昇させ、
前記現像液供給手段は、前記回転駆動手段により基板の回転速度が前記第1の回転速度から前記第2の回転速度に上昇する際に、基板の中心部に現像液を供給することを特徴とする現像装置。 - 前記回転保持手段は、基板の回転速度を前記第1の回転速度から前記第2の回転速度に上昇させた後の第2の期間に、基板を前記第2の回転速度よりも低い第3の回転速度で回転させ、
前記現像液供給手段は、前記第2の期間中に継続的に基板に現像液を供給することを特徴とする請求項1記載の現像装置。 - 前記回転保持手段は、前記第2の期間の後に基板の回転速度を前記第2の回転速度から段階的に下降させることを特徴とする請求項2記載の現像装置。
- 前記現像液供給手段は、基板の中心部から周縁部に連続的に現像液を供給した後、基板の周縁部から中心部に連続的に現像液を供給することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の現像装置。
- 基板を略水平に保持しつつ基板に垂直な軸の周りで第1の回転速度で回転させる工程と、
前記第1の回転速度で回転する基板上にリンス液を供給する工程と、
基板の回転速度を前記第1の回転速度から第2の回転速度に上昇させる工程と、
基板の回転速度が前記第1の回転速度から前記第2の回転速度に上昇する際に基板上に現像液を供給する工程とを備えることを特徴とする現像方法。
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