JPH1167622A

JPH1167622A - 現像装置

Info

Publication number: JPH1167622A
Application number: JP21637297A
Authority: JP
Inventors: Masahiro Mimasaka; 昌宏美作; Akiko Tanaka; 晶子田中; Yukihiro Takamura; 幸宏高村
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1997-08-11
Filing date: 1997-08-11
Publication date: 1999-03-09
Anticipated expiration: 2017-08-11
Also published as: JP4024351B2

Abstract

(57)【要約】【課題】基板上の感光性膜に少量の現像液で均一な現
像処理を行うことができる現像装置を提供することであ
る。【解決手段】現像液吐出ノズル１１は基板１００に向
かって移動開始した後、現像液の吐出を開始する。基板
１００の前方に液除去部材１６が配置されている。液除
去部材１６は基板１００の外周端縁に沿って円弧状に形
成されている。現像液吐出ノズル１１が液除去部材１６
上を通過する際、現像液吐出ノズル１１の先端に付着し
た現像液は液除去部材１６により除去される。その後、
現像液吐出ノズル１１は基板１００上に達し、走査方向
Ａに沿って移動しつつ現像液を吐出する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板上の感光性膜
に現像液を供給して現像処理を行う現像装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基
板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の
基板上に形成された感光性膜に現像処理を行うために現
像装置が用いられる。

【０００３】例えば、回転式現像装置は、基板を水平に
保持して鉛直軸の周りで回転させる回転保持部と、基板
の表面に現像液を供給する現像液吐出ノズルとを備え
る。現像液吐出ノズルは、水平面内で回動自在に設けら
れたノズルアームの先端に取り付けられており、基板の
上方位置と待機位置との間を移動することができる。

【０００４】現像処理時には、現像液吐出ノズルが待機
位置から基板の上方に移動した後、基板上の感光性膜に
現像液を供給する。供給された現像液は、基板の回転に
よって基板の全面に塗り広げられ、感光性膜と接触す
る。表面張力により基板上に現像液を保持した状態（液
盛り）で一定時間基板を静止させることにより感光性膜
の現像が行われる。現像液の供給が終了すると、現像液
吐出ノズルはノズルアームの回動により基板の上方から
退いた待機位置に移動する。

【０００５】現像液吐出ノズルの吐出口付近の現像液が
大気に晒されると、現像液中の水分が蒸発することによ
る現像液の濃度の変化や空気と接触することによる変質
が起こる。そのため、現像処理を行う前に、予め待機位
置で現像液吐出ノズルの吐出口付近の現像液を吐出する
ことにより（プリディスペンス処理）、現像液吐出ノズ
ル内に供給されている現像液を均一化させている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来の回転式現像装置では、回転する基板に吐出開始時
の現像液が当たることにより基板上の感光性膜が大きな
衝撃を受ける。その衝撃で現像液中に気泡が生じ、感光
性膜の表面に残留する微小な気泡が現像欠陥となる場合
がある。また、吐出開始時の現像液による衝撃で感光性
膜が損傷するおそれもある。

【０００７】また、プリディスペンス処理の後、現像液
吐出ノズルが待機位置から基板の上方へ移動する間に、
現像液吐出ノズルの吐出口付近の現像液が空気と接触す
ることになる。そのため、吐出開始直後に基板上に供給
される現像液は、その後連続的に供給される現像液に比
べて多少変質している可能性がある。それにより、吐出
開始直後の現像液が接触する基板上に現像欠陥が発生す
るおそれがある。また、現像液が空気との接触により乾
燥し、乾燥した現像液がパーティクルとなって基板上に
付着するおそれもある。

【０００８】さらに、基板上に滴下された現像液が遠心
力により基板の全面に塗り広げられる過程で現像液にむ
らが生じるため、基板上の現像液が均一になるまで多量
の現像液を供給する必要がある。

【０００９】本発明の目的は、基板上の感光性膜に少量
の現像液で均一な現像処理を行うことができる現像装置
を提供することである。

【００１０】

【課題を解決するための手段および発明の効果】上記課
題を解決するために鋭意検討を行った結果、本発明者ら
は、現像液吐出ノズルの移動開始後であって静止した基
板上に達する前に現像液吐出ノズルから現像液の吐出を
開始し、その状態で現像液吐出ノズルを移動させて基板
に現像液を供給することによって、吐出された現像液が
基板に衝撃を与えることを回避する方法を見い出した。

【００１１】また、この発明の過程において、図９に示
すように、基板１００の手前で現像液吐出ノズル２０か
ら現像液の吐出を開始し、一定の移動速度で現像液吐出
ノズル２０を基板１００の一方の端縁から他方の端縁側
に走査させると、基板１００上の現像液の膜２１に膜厚
の不均一な領域が生じることが判明した。図１０は、現
像液が吐出された基板の平面模式図である。図中、矢印
Ａは現像液吐出ノズル２０の走査方向を示す。基板１０
０の表面上では、現像液吐出ノズル２０が初期に通過す
る部分に現像液の膜厚が大きい領域２２が形成される。
このため、現像液の膜厚が大きい領域２２と他の領域と
で現像状態が異なり、現像の不均一が生じる。

【００１２】このような現象の原因について種々の検討
を行った結果、現像液吐出ノズル２０の走査初期では、
現像液吐出ノズル２０から吐出される現像液に加え、現
像液吐出ノズル２０の先端部に表面張力の作用により付
着していた現像液が基板１００の表面に供給されること
が判明した。このため、現像液吐出ノズル２０の走査初
期では基板１００の表面の単位面積当たりに供給される
現像液が多くなり、膜厚の不均一が生じるものである。

【００１３】上記のような知見に基づいて、本発明者ら
は以下の発明を案出したものである。

【００１４】第１の発明に係る現像装置は、基板を水平
姿勢で保持する基板保持手段と、現像液を吐出する現像
液吐出ノズルと、基板保持手段に静止状態で保持された
基板外の一方側の移動開始位置から基板上を通過して基
板外の他方側の停止位置まで現像液吐出ノズルを移動さ
せる移動手段と、現像液吐出ノズルの移動開始位置と基
板の一方側の端縁との間に設けられ、現像液吐出ノズル
の先端に付着した現像液を除去する液除去部材とを備え
たものである。

【００１５】第１の発明に係る現像装置においては、基
板の外方から移動を開始した現像液吐出ノズルは液除去
部材を通過した後、基板上に達し、基板に現像液を供給
する。液除去部材を通過する際には、現像液吐出ノズル
の先端に付着した現像液が除去される。これにより、現
像液吐出ノズルの先端に付着した現像液が基板に供給さ
れることを防止される。それにより、現像液吐出ノズル
の先端に付着して変質した現像液が基板に供給されるこ
とにより現像むらが生じたり、現像液吐出ノズルの先端
に付着した現像液が供給されることにより基板上への現
像液の供給が過剰となり現像液の膜厚不均一が生じ、そ
れに起因する現像むらが生じたりすることが防止され
る。

【００１６】第２の発明に係る現像装置は、第１の発明
に係る現像装置の構成において、現像液吐出ノズルが、
基板保持手段に保持された基板の表面に平行なスリット
状吐出口を有し、移動手段が、スリット状吐出口の長手
方向にほぼ直交する方向に現像液吐出ノズルを移動させ
るものである。

【００１７】この場合、現像液吐出ノズルのスリット状
吐出口の周辺には表面張力の作用により現像液が付着す
る。この状態で移動手段が現像液吐出ノズルを移動させ
ると、液除去部材を通過する際に、スリット状吐出口周
辺の現像液が除去される。これにより、スリット状吐出
口から基板上に現像液が均一に供給され、現像むらの発
生が防止される。

【００１８】第３の発明に係る現像装置は、第２の発明
に係る現像装置の構成において、前記液除去部材が、現
像液吐出ノズルの先端に付着した現像液に接触して現像
液を除去する上端部を有するものである。

【００１９】この場合、液除去部材の上端部は、移動手
段により移動される現像液吐出ノズルの先端に付着した
現像液に接触することにより現像液吐出ノズルの先端か
ら現像液を除去する。これにより、変質した現像液や過
剰な現像液が基板上に供給されることが防止され、現像
むらの発生が防止される。

【００２０】第４の発明に係る現像装置は、第３の発明
に係る現像装置の構成において、液除去部材の上端部
が、基板の外周端縁から等距離隔てて配置されたもので
ある。

【００２１】この場合には、液除去部材の上端部によっ
て現像液吐出ノズルの先端に付着した現像液が除去され
てから基板の外周端縁に達するまでの時間が、現像液吐
出ノズルの先端の各部でほぼ均一となる。このため、基
板の外周端縁に到達した時点の現像液吐出ノズルの先端
における現像液の付着状態がほぼ均一となり、それによ
って基板上に均一に現像液を供給することができる。

【００２２】第５の発明に係る現像装置は、第４の発明
に係る現像装置の構成において、液除去部材の上端部
が、基板の外周端縁に沿う円弧状に形成されたものであ
る。

【００２３】この場合、半導体ウエハ等の基板に対し
て、円弧状の上端部を有する液除去部材を配置すること
によって現像液吐出ノズルの先端に付着した現像液が除
去されてから基板の外周端縁に到達するまでの時間が均
一化され、現像液吐出ノズルから基板上への現像液の供
給状態が均一化される。それにより、基板に対して現像
処理を均一に行わせることができる。

【００２４】第６の発明に係る現像装置は、第３の発明
に係る現像装置の構成において、液除去部材の上端部
が、現像液吐出ノズルのスリット状吐出口に平行な直線
状に形成されたものである。

【００２５】この場合には、直線状の液除去部材の上端
部が現像液吐出ノズルの先端に付着した現像液を除去す
る。これにより、基板上に現像液を均一に供給すること
が可能となる。

【００２６】第７の発明に係る現像装置は、第２の発明
に係る現像装置の構成において、液除去部材が、現像液
吐出ノズルの先端に付着した現像液を吸引する吸引口を
有するものである。

【００２７】この場合、液除去部材の吸引口を通して現
像液吐出ノズルの先端に付着した現像液が吸引されて現
像液吐出ノズルの先端から除去される。これにより、変
質した現像液や過剰な現像液が基板上に供給されること
が防止され、現像むらの発生を防止することができる。

【００２８】第８の発明に係る現像装置は、第７の発明
に係る現像装置の構成において、液除去部材の吸引口
が、基板の外周端縁から等距離隔てて配置されたもので
ある。

【００２９】この場合には、液除去部材の吸引口によっ
て現像液吐出ノズルの先端に付着した現像液が除去され
てから基板の外周端縁に達するまでの時間が、現像液吐
出ノズルの先端の各部でほぼ均一となる。このため、基
板の外周端縁に到達した時点の現像液吐出ノズルの先端
における現像液の付着状態がほぼ均一となり、それによ
って基板上に均一に現像液を供給することができる。

【００３０】第９の発明に係る現像装置は、第８の発明
に係る現像装置の構成において、液除去部材の吸引口
が、基板の外周端縁に沿う円弧状に形成されたものであ
る。

【００３１】この場合、半導体ウエハ等の基板に対して
円弧状の吸引口を有する液除去部材を配置することによ
って、現像液吐出ノズルの先端に付着した現像液が除去
されてから基板の外周端縁に到達するまでの時間が均一
化され、現像液吐出ノズルから基板上への現像液の供給
状態が均一化する。それにより、基板に対して現像処理
を均一に行わせることができる。

【００３２】第１０の発明に係る現像装置は、第７の発
明に係る現像装置の構成において、液除去部材の吸引口
が、現像液吐出ノズルのスリット状吐出口に平行な直線
状に形成されたものである。

【００３３】この場合には、直線状の液除去部材の吸引
口が現像液吐出ノズルの先端に付着した現像液を除去す
る。これにより、基板上に現像液を均一に供給すること
が可能となる。

【００３４】

【発明の実施の形態】図１は本発明の一実施例における
現像装置の平面図、図２は図１の現像装置の主要部のＸ
−Ｘ線断面図、図３は図１の現像装置の主要部のＹ−Ｙ
線断面図である。

【００３５】図２および図３に示すように、現像装置
は、基板１００を水平姿勢で吸引保持する基板保持部
（基板保持手段）１を備える。基板保持部１は、モータ
２の回転軸３の先端部に固定され、鉛直方向の軸の周り
で回転可能に構成されている。基板保持部１の周囲に
は、基板１００を取り囲むように円形の内側カップ４が
上下動自在に設けられている。また、内側カップ４の周
囲には、正方形の外側カップ５が設けられている。

【００３６】図１に示すように、外側カップ５の両側に
はそれぞれ待機ポット６，７が配置され、外側カップ５
の一方の側部側にはガイドレール８が配設されている。
また、ノズルアーム９がアーム駆動部１０によりガイド
レール８に沿って走査方向Ａおよびその逆方向に移動可
能に設けられている。外側カップ５の他方の側部側に
は、純水を吐出する純水吐出ノズル１２が矢印Ｒの方向
に回動可能に設けられている。

【００３７】ノズルアーム９には、下端部にスリット状
吐出口１５を有する現像液吐出ノズル１１がガイドレー
ル８と垂直に取り付けられている。これにより、現像液
吐出ノズル１１は、待機ポット６の位置から基板１００
上を通過して待機ポット７の位置まで走査方向Ａに沿っ
て直線状に平行移動可能となっている。

【００３８】図２に示すように、現像液吐出ノズル１１
には、現像液供給系１３により現像液が供給される。現
像液供給系１３は、現像液吐出ノズル１１に導く現像液
の流量を調整する流量調整弁を有する。制御部１４は、
モータ２の回転動作、アーム駆動部１０による現像液吐
出ノズル１１の走査および現像液吐出ノズル１１からの
現像液の吐出を制御する。

【００３９】図４は現像液吐出ノズル１１のスリット状
吐出口１５を示す図である。スリット状吐出口１５のス
リット幅ｔは０．０２〜０．５ｍｍであり、本実施例で
は０．１ｍｍである。また、スリット状吐出口１５の吐
出幅Ｌは処理対象となる基板１００の直径と同じかまた
はそれよりも大きく設定されている。このスリット状吐
出口１５は現像液吐出ノズル１１の走査方向Ａと直交す
る方向に配置される。

【００４０】現像液吐出ノズル１１は、スリット状吐出
口１５が基板１００の上面に対して０．２〜５ｍｍ、よ
り好ましくは０．５〜１．５ｍｍの間隔を保つように走
査される。本実施例では、現像液吐出ノズル１１のスリ
ット状吐出口１５と基板１００の上面との間隔が１．０
±０．１ｍｍに設定される。

【００４１】内側カップ４の内側には、液除去部材１６
が配置されている。液除去部材１６は現像液吐出ノズル
１１の移動開始位置側に基板１００の端縁から僅かに離
れて円弧状に形成されている。液除去部材１６の上端部
は現像液吐出ノズル１１のスリット状吐出口１５の周辺
に付着する現像液に接触しうる高さに配置される。ま
た、現像液吐出ノズル１１のスリット状吐出口１５に沿
う方向の液除去部材１６の大きさは、スリット状吐出口
の吐出幅Ｌよりも大きく形成されている。

【００４２】図７は液除去部材の液除去動作の説明図で
ある。液除去部材１６と基板１００の端縁との水平距離
Ｄは液除去部材１６により除去した現像液が基板１００
と液除去部材１６との隙間に貯留しない程度に設定され
る。例えば、この水平距離Ｄは２〜２０ｍｍの範囲に設
定され、本実施例では１０ｍｍに設定される。液除去部
材１６は図示しない昇降機構により昇降自在に設けられ
る。現像処理時には上昇して現像液吐出ノズル１１の先
端の現像液を除去し、基板１００の搬入搬出時には下降
して基板保持部１に対する基板１００の搬入および搬出
を可能とする。

【００４３】次に図５を参照しながら図１の現像装置の
動作を説明する。図５は図１の現像装置の動作の説明図
である。以下の現像処理時には、基板１００は基板保持
部１により静止状態で保持されている。

【００４４】図５に示すように、待機時には、現像液吐
出ノズル１１は、待機ポット６内の位置Ｐ０に待機して
いる。現像処理時には、現像液吐出ノズル１１が上昇し
た後、走査方向Ａに移動し、外側カップ５内の走査開始
位置Ｐ１で下降する。

【００４５】その後、現像液吐出ノズル１１は、走査開
始位置Ｐ１から所定の走査速度で走査を開始する。この
時点では、現像液吐出ノズル１１からまだ現像液の吐出
は行わない。

【００４６】現像液吐出ノズル１１の走査開始後、現像
液吐出ノズル１１のスリット状吐出口１５が基板１００
上に到達する前に、吐出開始位置Ｐ２にて所定の流量で
現像液吐出ノズル１１による現像液の吐出を開始する。

【００４７】現像液吐出ノズル１１は現像液を吐出しな
がら吐出開始位置Ｐ２から基板１００に向かって移動
し、液除去部材１６の上方を通過する。このとき、液除
去部材１６により現像液吐出ノズル１１の先端に表面張
力により付着した現像液を除去する。この現像液の除去
動作については後に詳述する。

【００４８】液除去部材１６を通過した後、現像液吐出
ノズル１１はさらに現像液を吐出しながら基板１００上
を走査方向Ａに直線状に移動する。これにより、基板１
００の全面に現像液が連続的に供給される。供給された
現像液は、表面張力により基板１００上に保持される。

【００４９】現像液吐出ノズル１１が基板１００上を通
過した後、基板１００上から外れた吐出停止位置Ｐ３で
現像液吐出ノズル１１による現像液の吐出を停止させ
る。そして、現像液吐出ノズル１１が外側カップ５内の
走査停止位置Ｐ４に到達した時点で現像液吐出ノズル１
１の走査を停止させる。

【００５０】その後、現像液吐出ノズル１１は、走査停
止位置Ｐ４で上昇した後、他方の待機ポット７の位置Ｐ
５まで移動し、待機ポット７内に下降する。

【００５１】基板１００上に現像液が供給された状態を
一定時間（例えば６０秒間）維持し、現像を進行させ
る。このとき、モータ２により基板保持部１を回転駆動
し、基板１００を回転させてもよい。その後、純水吐出
ノズル１２により純水を基板１００上に供給しながら基
板１００を回転させることにより基板１００上の現像液
を洗い流し、純水供給を停止し、その後高速回転させる
ことにより純水を振り切り、基板１００を乾燥させて現
像処理を終了する。

【００５２】図６は現像液吐出ノズル１１からの現像液
の吐出状態を示す正面図である。現像液の吐出直後に
は、図６（ａ）に示すように、現像液がスリット状吐出
口１５から滴状に滲み出る。現像液の吐出から一定時間
が経過すると、図６（ｂ）に示すように、滴状の現像液
がつながってスリット状吐出口１５に沿って現像液が帯
状に形成される。

【００５３】上記の走査開始位置Ｐ１は、現像液吐出ノ
ズル１１が走査開始から基板１００の端縁に到達するま
でに走査速度が所定の速度に達し、かつ図６（ｂ）に示
すようにスリット状吐出口１５の現像液が帯状になるた
めの時間が確保されるように設定する。例えば、走査開
始位置Ｐ１は、基板１００の端縁から走査方向Ａと反対
方向に１０〜１００ｍｍ程度離れた位置に設定する。本
実施例では、走査開始位置Ｐ１は基板１００の端縁から
５０ｍｍ離れた位置に設定する。

【００５４】また、吐出開始位置Ｐ２は、現像液吐出ノ
ズル１１の走査速度および現像液の吐出流量に応じて、
現像液吐出ノズル１１が基板１００の端縁に到達するま
でに現像液の吐出状態が帯状になるための時間が確保さ
れるように設定する。

【００５５】走査速度が速くなれば、現像液吐出ノズル
１１が走査開始位置Ｐ１から基板１００の端縁に到達す
るまでの時間が短くなるため、吐出開始位置Ｐ２を走査
開始位置Ｐ１に近づける。例えば、走査速度が１００ｍ
ｍ／秒の場合には走査開始時点から０．３秒後に現像液
の吐出を開始し、走査速度が３０ｍｍ／秒の場合には走
査開始時点から１．３秒後に現像液の吐出を開始する。

【００５６】また、現像液の吐出流量が多い場合には、
現像液の吐出状態が短時間で帯状になるので、吐出開始
位置Ｐ２を基板１００の端縁に近づける。例えば、現像
液の吐出流量が１．５Ｌ／分であり、走査速度が７０ｍ
ｍ／秒のときには、現像液吐出ノズル１１が基板１００
の端縁に到達する０．１〜１．０秒（例えば０．２秒）
前に現像液の吐出を開始する。

【００５７】なお、現像液の無駄な消費量を低減するた
めには、現像液吐出ノズル１１が基板１００の端縁に達
するまでに現像液の吐出状態が帯状になる範囲で、吐出
開始位置Ｐ２を基板１００の端縁に近づけることが望ま
しい。

【００５８】次に、液除去部材１６による現像液の除去
動作について説明する。現像液の吐出が開始された現像
液吐出ノズル１１では、図６（ｂ）に示すようにスリッ
ト状吐出口１５から現像液が帯状に吐出される。また、
現像液吐出ノズル１１の先端のスリット状吐出口１５の
周辺には表面張力により現像液が付着して貯留してい
る。また、現像液の吐出開始の段階では、空気に触れて
変質した現像液が付着している場合がある。このような
状態で現像液吐出ノズル１１が基板１００上に移動する
と、現像液吐出ノズル１１から吐出される現像液に加え
て、付着した現像液が基板１００に供給される。このた
め、現像液の供給量が過剰となり、初期の動作区間で現
像液の膜厚の不均一が生じたり、変質した現像液による
現像むらが生じる。

【００５９】そこで、液除去部材１６は現像液吐出ノズ
ル１１の先端に付着した現像液を除去する。図７におい
て、液除去部材１６の上端部は、現像液吐出ノズル１１
のスリット状吐出口１５に接することなく、かつ現像液
吐出ノズル１１の先端に付着した現像液に接触する高さ
に配置されている。このため、液除去部材１６上を現像
液吐出ノズル１１が通過すると、現像液吐出ノズル１１
の先端に付着した現像液が液除去部材１６の上端部に掻
き取られて現像液吐出ノズル１１から除去される。除去
された現像液は液除去部材１６の壁面を伝って落下す
る。

【００６０】液除去部材１６を通過した後、現像液吐出
ノズル１１は現像液を吐出しながら基板１００に到達す
る。このため、現像液吐出ノズル１１の先端には再び僅
かな現像液の付着が生じる。しかしながら、液除去部材
１６と基板１００との水平距離Ｄを適宜選択することに
より、この間に現像液吐出ノズル１１の先端に再付着す
る現像液の量を調整することができる。適切な現像液の
付着は基板１００上に現像液を連続して供給し、部分的
な供給不足を防止するために有益である。

【００６１】また、液除去部材１６を基板１００の外周
端縁に沿う円弧状に形成することにより、水平距離Ｄを
一定とすることができる。これにより、液除去部材１６
から基板１００の端縁に至る時間が現像液吐出ノズル１
１の先端の長手方向の全域にわたってほぼ均一となる。
したがって、現像液吐出ノズル１１の先端の現像液の付
着状態が均一となる。

【００６２】図８は液除去部材の他の例による液除去動
作の説明図である。この液除去部材１７は、その上面に
現像液を吸引するための吸引口１８が形成されている。
吸引口１８は配管を通してアスピレータ１９を介してド
レンに排出される。これにより、現像液吐出ノズル１１
が液除去部材１７の上方を通過する際、現像液吐出ノズ
ル１１の先端に付着した現像液を吸引口１８を通して吸
引除去する。このような構造により、現像液吐出ノズル
１１の先端から、表面張力により付着した現像液を除去
することができる。

【００６３】以上説明したように、本実施例の現像装置
では、現像液吐出ノズル１１が静止した基板１００上に
到達する前に現像液の吐出が開始されるので、吐出開始
時の現像液が基板１００に衝撃を与えることが回避され
る。それにより、現像液中の気泡の発生が抑制され、現
像欠陥の発生が防止される。

【００６４】さらに、現像液吐出ノズル１１の移動中に
空気に接触するスリット状吐出口１５付近の現像液が基
板１００外に廃棄され、現像液吐出ノズル１１が基板１
００上に到達した時点で現像液吐出ノズル１１から新し
い現像液が静止した基板１００上に供給される。それに
より、変質した現像液により現像欠陥が発生することが
防止されるとともに、乾燥した現像液によるパーティク
ルが基板１００上の感光性膜の表面に付着することが防
止される。

【００６５】さらに、現像液吐出ノズル１１が静止した
基板１００上をスリット状吐出口１５と基板１００の上
面とが近接した状態で水平方向に直線状に平行移動し、
スリット状吐出口１５に形成された帯状の現像液が基板
１００の表面に連続的に接触するので、基板１００の表
面に衝撃が加わることなく基板１００の全面に現像液が
均一に供給される。

【００６６】また、現像液吐出ノズル１１が基板１００
上を通過するまで現像液の供給が続けられるので、吐出
停止時の衝撃による液盛り中の現像液への悪影響が防止
される。その結果、現像欠陥の発生が抑制されるととも
に、現像後の感光性膜パターンの線幅均一性が向上す
る。

【００６７】また、現像液吐出ノズル１１が基板１００
上を通り過ぎた後に現像液の吐出が停止されるので、吐
出停止時の現像液の液だれにより基板１００上の感光性
膜に衝撃が加わることが防止される。したがって、現像
欠陥の発生や感光性膜パターンの線幅均一性の劣化が防
止される。

【００６８】さらに、基板１００の外方の現像液吐出ノ
ズル１１の移動開始位置側に液除去部材１６，１７を配
置したことにより、現像液吐出ノズル１１の先端に付着
した現像液が除去された後、基板１００に現像液の供給
が行われる。これにより、変質した現像液による現像欠
陥の発生が防止されるとともに、現像液吐出ノズル１１
の初期の走査区間に現像液が過剰に供給されることによ
る現像むらの発生や感光性膜パターンの線幅均一性の劣
化が防止される。

【００６９】なお、上記実施例においては、液除去部材
１６，１７が基板１００の外周端縁に沿う円弧状に形成
されたものについて説明したが、このような形状に限定
されることなく、現像液吐出ノズル１１のスリット状吐
出口１５に平行な直線状に形成してもよく、あるいは現
像液吐出ノズル１１の先端の長手方向の全幅にわたって
現像液を除去しうる形状であれば他の形状のものであっ
てもよい。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例における現像装置の平面図で
ある。

【図２】図１の現像装置の主要部のＸ−Ｘ線断面図であ
る。

【図３】図１の現像装置の主要部のＹ−Ｙ線断面図であ
る。

【図４】現像液吐出ノズルのスリット状吐出口を示す図
である。

【図５】図１の現像装置の動作を説明するための図であ
る。

【図６】現像液吐出ノズルからの現像液の吐出状態を示
す正面図である。

【図７】液除去部材の動作を示す説明図である。

【図８】液除去部材の他の例の動作を示す説明図であ
る。

【図９】現像装置の動作の説明図である。

【図１０】現像装置による基板上の現像液の状態を示す
模式図である。

【符号の説明】

１基板保持部４内側カップ５外側カップ６，７待機スポット８ガイドレール９ノズルアーム１０ノズル駆動部１１現像液吐出ノズル１３現像液供給系１４制御部１５スリット状吐出口１６，１７液除去部材１８吸引口

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板を水平姿勢で保持する基板保持手段
と、現像液を吐出する現像液吐出ノズルと、前記基板保持手段に静止状態で保持された基板外の一方
側の移動開始位置から前記基板上を通過して前記基板外
の他方側の停止位置まで前記現像液吐出ノズルを移動さ
せる移動手段と、前記現像液吐出ノズルの前記移動開始位置と前記基板の
一方側の端縁との間に設けられ、前記現像液吐出ノズル
の先端に付着した現像液を除去する液除去部材とを備え
たことを特徴とする現像装置。
【請求項２】前記現像液吐出ノズルは、前記基板保持
手段に保持された前記基板の表面に平行なスリット状吐
出口を有し、前記移動手段は、前記スリット状吐出口の長手方向にほ
ぼ直交する方向に前記現像液吐出ノズルを移動させるこ
とを特徴とする請求項１記載の現像装置。
【請求項３】前記液除去部材は、前記現像液吐出ノズ
ルの先端に付着した現像液に接触して前記現像液を除去
する上端部を有することを特徴とする請求項２記載の現
像装置。
【請求項４】前記液除去部材の上端部は、前記基板の
外周端縁から等距離隔てて配置されたことを特徴とする
請求項３記載の現像装置。
【請求項５】前記液除去部材の上端部は、基板の外周
端縁に沿う円弧状に形成されたことを特徴とする請求項
４記載の現像装置。
【請求項６】前記液除去部材の上端部は、前記現像液
吐出ノズルの前記スリット状吐出口に平行な直線状に形
成されたことを特徴とする請求項３記載の現像装置。
【請求項７】前記液除去部材は、前記現像液吐出ノズ
ルの先端に付着した現像液を吸引する吸引口を有するこ
とを特徴とする請求項２記載の現像装置。
【請求項８】前記液除去部材の吸引口は、前記基板の
外周端縁から等距離隔てて配置されたことを特徴とする
請求項７記載の現像装置。
【請求項９】前記液除去部材の吸引口は、基板の外周
端縁に沿う円弧状に形成されたことを特徴とする請求項
８記載の現像装置。
【請求項１０】前記液除去部材の吸引口は、前記現像
液吐出ノズルの前記スリット状吐出口に平行な直線状に
形成されたことを特徴とする請求項７記載の現像装置。