JPH1133439A - 処理液吐出ノズル、基板処理装置および処理液供給方法 - Google Patents

処理液吐出ノズル、基板処理装置および処理液供給方法

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JPH1133439A
JPH1133439A JP9195999A JP19599997A JPH1133439A JP H1133439 A JPH1133439 A JP H1133439A JP 9195999 A JP9195999 A JP 9195999A JP 19599997 A JP19599997 A JP 19599997A JP H1133439 A JPH1133439 A JP H1133439A
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processing liquid
discharge
passage
liquid
discharge nozzle
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JP9195999A
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English (en)
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Manabu Yabe
学 矢部
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Nozzles (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 吐出流量が少ない場合でも吐出流の乱れが生
じることのない処理液吐出ノズルおよびそれを備えた基
板処理装置並びに処理液供給方法を提供する。 【解決手段】 処理液吐出ノズル5のノズル本体部5a
の先端に吐出口可変部材10を配置する。吐出口可変部
材10は、ノズル本体部5aの先端に挿入した円筒部材
12の下部に中空環状部材13を挿入して形成される。
円筒状部材12および中空環状部材13はゴム等の伸縮
性材料からなる。中空部13a内が大気圧の場合、開口
部15の径がノズル本体部5aの出口よりも小径とな
り、中空部13a内に空気が圧入されると、中空環状部
材13が外方へ膨出し、開口部15の径がノズル本体部
5aの出口の径にまで拡大される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、処理液吐出ノズル
およびそれを備えた基板処理装置、ならびに処理液供給
方法に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基
板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の
基板に所定の処理を行うために基板処理装置が用いられ
ている。このような基板処理装置では、基板を水平姿勢
で回転させながらその表面に処理液吐出ノズルからレジ
スト液、現像液、洗浄液等の処理液を供給することによ
り基板の表面処理を行う。
【0003】処理液吐出ノズルは、処理液の粘性等の特
性に応じて種々の形態のものが用いられている。例え
ば、回転式塗布装置では、図10(a)に示すようなス
トレートノズル30が用いられている。また、回転式現
像装置では、図10(b)に示すようなストレートノズ
ル31あるいはスリット状の吐出口を有するスリットノ
ズル(図示せず)が用いられている。
【0004】処理液吐出ノズルには処理液を導く処理液
供給配管が接続されており、この処理液配管中には開閉
弁が設けられている。処理液は、処理液供給源から所定
の圧力が付与され、開閉弁の開閉動作に応じて基板の表
面に所定量吐出される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】処理液は、基板の表面
に一定の吐出量で一様に供給されることが望ましい。し
かしながら、従来の処理液吐出ノズルでは、処理液の吐
出初期や吐出終期に処理液の液切れや気泡の巻き込みに
よるいわゆるマイクロバブリング現象が生じやすい。
【0006】すなわち、処理液の吐出時には、処理液供
給配管中の開閉弁が開かれる。開閉弁の開き始めでは、
処理液吐出ノズルに供給される処理液の流量は少なく、
開閉弁の開度に応じて漸次増加する。このため、吐出初
期の流量が少ない間は処理液が処理液吐出ノズルの吐出
口全体に充填されず、処理液の吐出流の形状が乱れやす
い。このため、処理液が途中で切れる液切れや、液滴と
なって落下するぼた落ち等が生じる。あるいは、吐出し
た処理液中に周囲の空気を微小な気泡として巻き込むマ
イクロバブリング現象が生じる。このような液切れやマ
イクロバブリング現象が生じると、基板上に吐出された
処理液による処理に欠陥が生じたり、処理の均一性が損
なわれるおそれがある。また、このような現象は、処理
液の吐出終期にも生じる。
【0007】本発明の目的は吐出流量の少ない場合でも
吐出流の乱れが生じることのない処理液吐出ノズルおよ
びそれを備えた基板処理装置ならびに処理液供給方法を
提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段および発明の効果】第1の
発明に係る処理液吐出ノズルは、処理液を通過させる液
体通路を有する本体部の先端に、前記液体通路から導か
れる処理液の通過領域の大きさを変化させる可変手段を
設けたものである。
【0009】第1の発明に係る処理液吐出ノズルにおい
ては、可変手段により処理液の通過領域の大きさを変化
させることができる。このため、外部から供給される処
理液の流量が少ない吐出初期あるいは吐出終期におい
て、処理液の通過領域を小さくすることによって処理液
の吐出流速を高めることができる。これにより、狭めら
れた処理液の通過領域から処理液が勢いよく吐出し、処
理液の流量が少ないことによる液切れや周囲の空気の巻
き込み現象を防止することができる。
【0010】第2の発明に係る処理液吐出ノズルは、第
1の発明に係る処理液吐出ノズルの構成において、本体
部の液体通路は円管状通路からなり、可変手段は、円管
状通路の出口に連通する中央開口部を有しかつ内部に供
給される流体の圧力に応じて中央開口部の大きさが変化
する中空環状部材を有するものである。
【0011】中空環状部材の内部の流体の圧力を低くす
ると、中央開口部が小さくなるように中空環状部材が変
形し、処理液の通過領域が小さくなる。したがって、処
理液の吐出初期あるいは吐出終期に中空環状部材の中央
開口部を小さくすることにより処理液の吐出流速を高
め、処理液の液切れや周囲の空気の巻き込み現象を防止
することができる。また、中空環状部材の内部に供給さ
れる流体の圧力を高めることにより、中央開口部が大き
くなるように中空環状部材が変形する。これにより、処
理液の吐出の主要期間において、十分な流量の処理液を
吐出することができる。
【0012】第3の発明に係る処理液吐出ノズルは、第
1の発明に係る処理液吐出ノズルの構成において本体部
の液体通路が、所定方向に延びるスリット状出口を有
し、可変手段は、スリット状出口の周囲を取り囲む周壁
部材と、周壁部材のスリット状出口を挟んで対向する壁
面間の間隔を変化させるように周壁部材を押圧する押圧
手段とを備えたものである。
【0013】押圧手段が周壁部材の壁面を押圧すると、
壁面間の間隔が小さくなり、処理液の通過領域が小さく
なる。また、押圧部材による押圧を解除すると、周壁部
材の壁面間の間隔が大きくなり、処理液の通過領域が大
きくなる。これにより、処理液の流量が小さい吐出初期
あるいは吐出終期において周壁部材の壁面を押圧する
と、処理液は狭い通過領域を通過することにより吐出流
速が高められる。これにより、処理液の液切れや周囲の
空気の巻き込み現象を防止することができる。また、処
理液の流量が大きい吐出の主要期間において周壁部材の
押圧を解除すると、処理液の通過領域が大きくなり、処
理液を所定の流量で吐出することができる。
【0014】第4の発明に係る基板処理装置は、基板を
水平姿勢に保持して回転駆動される回転保持部と、基板
に処理液を吐出する処理液吐出ノズルと、処理液吐出ノ
ズルに処理液を導くとともに、開閉弁が設けられた処理
液供給配管と、開閉弁の開閉動作を制御する制御手段と
を備え、処理液吐出ノズルは、処理液を通過させる液体
通路を有する本体部と、本体部の先端に設けられ、液体
通路から導かれる液体の通過領域の大きさを変化させる
可変手段とを有するものである。
【0015】第4の発明に係る基板処理装置において
は、処理液供給配管に設けられた開閉弁が開かれること
により、処理液吐出ノズルから処理液が基板に吐出さ
れ、開閉弁が閉じられることにより処理液の吐出が終了
する。この処理液の吐出初期および吐出終期に可変手段
は処理液の通過領域を小さくする。これにより、狭い通
過領域を通過させることにより処理液の吐出流速を高め
ることができ、処理液の流量が少ないことによる処理液
の液切れや周囲の空気の巻き込み現象を防止することが
できる。
【0016】第5の発明に係る基板処理装置は、第4の
発明に係る基板処理装置の構成において、処理液吐出ノ
ズルの本体部の液体通路が円管状通路からなり、可変手
段は、円管状通路の出口に連通する中央開口部を有しか
つ内部に供給される流体の圧力に応じて中央開口部の大
きさが変化する中空環状部材と、中空環状部材の内部に
流体を供給または排出する給排手段とを備え、制御手段
が、処理液供給配管の開閉弁を開閉させる際に、給排手
段により中空環状部材の内部に流体を供給または排出さ
せるものである。
【0017】給排手段により中空環状部材の内部の流体
の圧力を低くすると、中央開口部が小さくなるように中
空環状部材が変形する。このため、処理液の通過領域が
小さくなる。したがって、処理液の吐出初期あるいは吐
出終期に中空環状部材の中央開口部を小さくすることに
より処理液の吐出流速が高められ、処理液の液切れや周
囲の空気の巻き込み現象を防止することができる。ま
た、給排手段により中空環状部材の内部に供給される流
体の圧力を高めると、中央開口部が大きくなるように中
空環状部材が変形する。これにより、処理液の吐出の主
要期間において、十分な流量の処理液を吐出することが
できる。
【0018】第6の発明に係る基板処理装置は、第4の
発明に係る基板処理装置の構成において、処理液吐出ノ
ズルの本体部の流体通路は、所定方向に延びるスリット
状出口を有し、可変手段が、スリット状出口の周囲を取
り囲む周壁部材と、周壁部材のスリット状出口を挟んで
対向する壁面間の間隔を変化させるように周壁部材を押
圧する押圧手段とを備えたものである。
【0019】押圧手段が周壁部材の壁面を押圧すると、
壁面間の間隔が小さくなり、処理液の通過領域が小さく
なる。また、押圧部材による押圧を解除すると、周壁部
材の壁面間の間隔が大きくなる。これにより、処理液の
流量が小さい吐出初期あるいは吐出終期において周壁部
材の壁面を押圧すると、処理液は狭い通過領域を通過す
ることにより吐出流速が高められる。これによって、処
理液の液切れや周囲の空気の巻き込み現象を防止するこ
とができる。また、処理液の流量が大きい吐出の主要期
間において周壁部材の押圧を解除すると、処理液の通過
領域が大きくなり、処理液を所定の流量で吐出すること
ができる。
【0020】第7の発明に係る処理液供給方法は、処理
液供給ノズルを用いて水平に保持された基板の表面に処
理液を供給する処理液供給方法であって、処理液を通過
させる液体通路を有する処理液供給ノズルの本体部の先
端に、液体通路から導かれる処理液の通過領域の大きさ
を変化させる可変手段を設け、処理液の吐出初期および
吐出終期において、可変手段によって処理液の通過領域
を縮小するとともに、吐出初期と吐出終期との間の期間
において、可変手段によって処理液の通過領域を拡大す
るものである。
【0021】第7の発明に係る処理液供給方法において
は、可変手段を用いて処理液の通過領域の大きさを変化
させることができる。このため、外部から供給される処
理液の流量が少ない吐出初期あるいは吐出終期におい
て、処理液の通過領域を小さくすることによって処理液
の吐出流速を高めることができる。これにより、狭めら
れた通過領域から処理液を勢いよく吐出することが可能
となり、液切れや周囲の空気の巻き込み現象を防止する
ことができる。また、吐出初期と吐出終期との間の期間
において、処理液の通過領域を大きくすることによって
所定の流量で処理液を供給することができる。
【0022】
【発明の実施の形態】図1は本発明の実施例による基板
処理装置の概略断面図である。図1では、回転式塗布装
置、回転式現像装置および回転式洗浄装置等の基板処理
装置に共通する主要部の構成のみを示している。
【0023】図1において、基板処理装置は、モータ1
の回転軸2の先端に取り付けられた回転保持部3を備え
る。回転保持部3は、基板Wを水平姿勢で保持し、モー
タ1の回転により基板Wとともに回転駆動される。基板
Wの周囲には、処理液の飛散防止用のカップ4が配置さ
れている。
【0024】基板Wの上方には処理液吐出ノズル5が配
置されている。吐出ノズル5には処理液を処理液吐出ノ
ズル5に導く処理液供給配管6が接続されている。処理
液供給配管6の途中には開閉弁7が設けられている。
【0025】また、処理液吐出ノズル5は、その先端に
吐出口可変部材10を有している。さらに、吐出口可変
部材10には給排配管14が接続されており、給排配管
14の途中に三方弁11が設けられている。
【0026】制御部8は、処理液の吐出タイミング、開
閉弁7の開閉動作および三方弁11の切り換え動作を制
御する。
【0027】図2は処理液吐出ノズルの断面図であり、
図3は処理液吐出ノズルの吐出口側からの平面図であ
る。処理液吐出ノズル5は、処理液を導く円管状通路5
bを有するノズル本体5aと、ノズル本体部5aの先端
部に配置された吐出口可変部材10とを備える。さら
に、吐出口可変部材10は、円筒状部材12と中空環状
部材13とを有する。
【0028】円筒状部材12はゴム等の伸縮材料からな
り、上部がノズル本体部5aの外側に挿入され、下部の
内側には中空環状部材13が挿入されている。中空環状
部材13は、中央に開口部15が構成されている。環状
の中空部13aには給排配管14が接続され、給排配管
14を通して空気が供給され、または排出される。この
中空環状部材13はゴム等の伸縮材料から形成されてお
り、中空部13aの内部圧力に応じて開口部15の径D
が拡大し、または縮小する。
【0029】中空環状部材13に連通する給排配管14
には三方弁11が設けられている。三方弁11は中空環
状部材13の開口部15の径Dを拡大させる場合には空
気14aを中空部13a内に圧入し、開口部15aの径
Dを縮小する場合には、中空部13a内の空気14bを
排出する。
【0030】ここで、ノズル本体部5aが本発明の本体
部に相当し、吐出口可変部材10が可変手段に相当し、
開口部15が中央開口部に相当し、中空環状部材13が
中空環状部材に相当する。また、回転保持部3が本発明
の回転保持部に相当し、制御部8が制御手段に相当す
る。
【0031】次に、処理液の吐出動作について説明す
る。図4および図5は処理液吐出ノズルの吐出動作の説
明図である。また、図4および図5の(a)は処理液吐
出ノズルの断面図であり、(b)は処理液吐出ノズルの
吐出側からの平面図である。さらに、図6は処理液の吐
出流量、開閉弁の開度、吐出口可変部材の開口部の径お
よび吐出流速を示す図である。
【0032】処理液の吐出前は開閉弁7が閉じられてい
る。また、中空環状部材13の中空部13aの圧力は大
気圧に設定されている。このため、図4に示すように、
吐出口可変部材13の開口部15は最小径Dcに設定さ
れている。
【0033】この状態で制御部8により処理液の吐出開
始が指示されると、開閉弁7が開き始め、処理液が処理
液吐出ノズル10に供給され始める。図6(a)に示す
ように、初期の処理液の供給量は少ない。一方、吐出口
可変部材10の開口部15の径Dは最小径Dcに設定さ
れている。このため、吐出流量が少なくても、処理液は
吐出口可変部材10の開口部15内を充填して通過す
る。これにより、図6(d)に示すように、処理液の吐
出流速は吐出開始直後から速やかに高められ、形が整え
られた吐出流となって基板Wの表面に吐出される。
【0034】図6(b)に示すように、開閉弁7の開度
は漸次大きくなり、所定時間後に全開となる。また、制
御部8からの指示に応じて三方弁11は中空環状部材1
3の中空部13a内に空気の圧入を開始する。中空部1
3a内に空気が圧入されると、中空環状部材13は外周
側に膨出する。これにより、図5および図6(c)に示
すように、吐出口可変部材10の開口部15の径Dが漸
次増加し、最終的にノズル本体部5aの内径dと等しい
かあるいはそれ以上(Do)に拡大される。これによ
り、開口部15における処理液の通過領域が最大とな
る。
【0035】吐出口可変部材10の開口部の径Dが最大
となった状態で、処理液の吐出が継続される。
【0036】さらに、処理液の吐出終了時には、制御部
8の指示により開閉弁7が閉じ始める。同時に、三方弁
11が切り換えられ、中空環状部材13の中空部13a
内から空気が排出される。これにより、吐出口可変部材
10は図5に示す開口部15が拡大された状態から図4
に示す開口部15が縮小された状態に変形する。また、
開閉弁7の閉鎖動作に伴い、処理液の吐出流量は減少す
る。しかしながら、吐出口可変部材10の開口部15の
径Dも減少している。このため、処理液吐出ノズル5を
通る処理液の吐出流速はそれまでの流速をほぼ維持した
後、開閉弁7の閉鎖とともに急激に低下する。
【0037】このように、吐出口可変部材10の動作に
より、処理液の吐出初期および吐出終期に処理液の吐出
流速を瞬時に立ち上げ、また立ち下げることができる。
これにより、処理液の液切れやマイクロバブリング現象
の発生を抑制することができる。
【0038】図7は、本発明の処理液吐出ノズルの他の
例を示す側面図であり、図8は図7の処理液吐出ノズル
の吐出口側からの平面図である。さらに、図9は図7の
処理液吐出ノズルのX−X線断面図である。
【0039】図7〜図9の処理液吐出ノズル20は、ス
リット状の吐出口を有するノズル本体部20aと、ノズ
ル本体部20aの先端に配置された吐出口可変部材22
とを有する。また、処理液吐出ノズル20には処理液供
給配管22が接続されている。
【0040】吐出口可変部材22はスリット状の吐出口
25aの周囲を取り囲むように配置された一対の弾性板
23および一対の連結部材24と、一対の弾性板23の
外側に配置された押圧部材27とから構成される。
【0041】一対の弾性板23は、樹脂等の弾性材料か
ら構成され、上方端部はノズル本体部20aに接続さ
れ、下方端部は自由な状態となっている。また連結部材
24は、押圧部材27の作用によって変形する一対の弾
性板23の動きを許容するように、ゴム等の柔軟性を有
する材料から形成されている。
【0042】押圧部材27は、一対の弾性板23を外側
から押圧する複数の押圧ピン23を有している。また、
押圧部材27には給排配管29が接続されている。給排
配管29の途中には三方弁11が配置されている。
【0043】ここで、吐出口可変部材22が本発明の可
変手段に相当し、一対の弾性板23および一対の連結部
材24が周壁部材に相当し、押圧部材27が押圧手段に
相当する。
【0044】図9(a)に示すように、三方弁11によ
って押圧部材27の内部に空気が圧入されると、押圧ピ
ン28が突出し、弾性板23を内側に変形させる。これ
により、一対の弾性板23間の開口部25bの幅Dが縮
小される。
【0045】また、9(b)に示すように、三方弁11
が切り換えられ、押圧部27の内部から空気が排出さ
れ、大気圧に設定されると、押圧ピン28はバネ等の作
用により一対の弾性板23から離れる方向に移動する。
これにより、弾性板23は自らの復元力により元の位置
に復帰する。それにより、開口部25bの幅Dが元の大
きさに復帰する。
【0046】このスリット状の吐出口25aを有する処
理液吐出ノズル20の吐出動作は、図2〜図6を用いて
説明した処理液吐出ノズル5と同様に行われる。これに
よって、処理液の吐出初期および吐出終期に、液切れや
マイクロバブリング現象の発生を防止することができ
る。
【0047】なお、図7〜図9に示す処理液吐出ノズル
において、弾性板23と連結部材24とを同一の弾性材
料を用いてその断面形状が細長いスリット状になるよう
に一体に形成してもよい。また、押圧部材27の構造も
これに限定されるものではなく、流体圧を利用して、あ
るいは機械的に弾性板23を押圧可能なものであれば他
の構造のものを適用することができる。
【0048】さらに、上記実施例における吐出口可変部
材10,20を用いることにより、一本の処理液吐出ノ
ズルから複数種類の処理液を供給することができる。す
なわち、処理液の特性によって処理液吐出ノズルの最適
な吐出口径が異なる場合がある。このような場合に対
し、本発明の処理液吐出ノズルを用いると、吐出口可変
部材10,20を用いて、処理液の種類に応じて吐出口
の径を変化させることができる。これにより、1つの処
理液供給ノズルによって複数種類の処理液を切り換えて
基板に供給することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例による基板処理装置の概略断面
図である。
【図2】処理液吐出ノズルの断面図である。
【図3】図2の処理液吐出ノズルの吐出口側からの平面
図である。
【図4】処理液吐出ノズルの吐出動作を示す断面図であ
る。
【図5】処理液吐出ノズルの吐出動作を示す断面図であ
る。
【図6】処理液吐出動作における吐出流量、開閉弁の開
度、吐出口可変部材の開口部の径および吐出流量を示す
図である。
【図7】本発明の処理液吐出ノズルの他の例を示す側面
図である。
【図8】図7の処理液吐出ノズルの吐出口側からの平面
図である。
【図9】図7の処理液吐出ノズルの吐出口の可変動作の
説明図である。
【図10】従来の吐出ノズルの先端部の断面模式図であ
る。
【符号の説明】
5 処理液吐出ノズル 6、29 処理液供給配管 7 開閉弁 8 制御部 10,20 吐出口可変部材 11 三方弁 12 円筒部材 13 中空環状部材 15、25b 開口部 23 弾性板 24 連結部材 27 押圧部材 28 押圧ピン

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 処理液を通過させる液体通路を有する本
    体部の先端に、前記液体通路から導かれる処理液の通過
    領域の大きさを変化させる可変手段を設けたことを特徴
    とする処理液吐出ノズル。
  2. 【請求項2】 前記本体部の前記液体通路は円管状通路
    からなり、 前記可変手段は、前記円管状通路の出口に連通する中央
    開口部を有しかつ内部に供給される流体の圧力に応じて
    前記中央開口部の大きさが変化する中空環状部材を有す
    ることを特徴とする請求項1記載の処理液吐出ノズル。
  3. 【請求項3】 前記本体部の前記液体通路は、所定方向
    に延びるスリット状出口を有し、 前記可変手段は、前記スリット状出口の周囲を取り囲む
    周壁部材と、前記周壁部材の前記スリット状出口を挟ん
    で対向する壁面間の間隔を変化させるように前記周壁部
    材を押圧する押圧手段とを備えたことを特徴とする請求
    項1記載の処理液吐出ノズル。
  4. 【請求項4】 基板を水平姿勢に保持して回転駆動され
    る回転保持部と、 前記基板に処理液を吐出する処理液吐出ノズルと、 前記処理液吐出ノズルに処理液を導くとともに、開閉弁
    が設けられた処理液供給配管と、 前記開閉弁の開閉動作を制御する制御手段とを備え、 前記処理液吐出ノズルは、処理液を通過させる液体通路
    を有する本体部と、前記本体部の先端に設けられ、前記
    液体通路から導かれる処理液の通過領域の大きさを変化
    させる可変手段とを有することを特徴とする基板処理装
    置。
  5. 【請求項5】 前記処理液吐出ノズルの前記本体部の前
    記液体通路は円管状通路からなり、 前記可変手段は、前記円管状通路の出口に連通する中央
    開口部を有しかつ内部に供給される流体の圧力に応じて
    前記中央開口部の大きさが変化する中空環状部材と、前
    記中空環状部材の内部に流体を供給または排出する給排
    手段とを備え、 前記制御手段は、前記処理液供給配管の前記開閉弁を開
    閉させる際に、前記給排手段により前記中空環状部材の
    内部に流体を供給または排出させることを特徴とする請
    求項4記載の基板処理装置。
  6. 【請求項6】 前記処理液吐出ノズルの前記本体部の前
    記流体通路は、所定方向に延びるスリット状出口を有
    し、 前記可変手段は、前記スリット状出口の周囲を取り囲む
    周壁部材と、前記周壁部材の前記スリット状出口を挟ん
    で対向する壁面間の間隔を変化させるように前記周壁部
    材を押圧する押圧手段とを備えたことを特徴とする請求
    項4記載の基板処理装置。
  7. 【請求項7】 処理液供給ノズルを用いて水平に保持さ
    れた基板の表面に処理液を供給する処理液供給方法であ
    って、 処理液を通過させる液体通路を有する処理液供給ノズル
    の本体部の先端に、液体通路から導かれる処理液の通過
    領域の大きさを変化させる可変手段を設け、 処理液の吐出初期および吐出終期において、前記可変手
    段によって前記処理液の通過領域を縮小するとともに、
    吐出初期と吐出終期との間の期間において、前記可変手
    段によって前記処理液の前記通過領域を拡大することを
    特徴とする処理液供給方法。
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